JP2017045631A - 液状体、液状体の消泡性評価方法、および有機半導体層を含む素子の形成方法 - Google Patents

Abstract

【課題】消泡性を確保し、吐出不良の発生を抑制可能な液状体を提供すること。【解決手段】本発明の液状体は、吐出ヘッド５０に充填される、機能層形成用材料を含む液状体であって、液状体が詰められた瓶を所定の時間内において所定の方向に所定の回数で振とうさせ、瓶を静置してから所定静置時間の後に、振とうにより生じた泡が消えていることを特徴とする。【選択図】図８

Description

本発明は、液状体、液状体の消泡性評価方法、および当該液状体を用いた有機半導体層を含む素子の形成方法に関する。

従来、吐出ヘッドのノズルからインク滴を吐出して、被記録媒体上に画像などを形成する、インクジェットプリンター（液滴吐出装置）が知られていた。このインクジェットプリンターは、ｐｌ（ピコリットル）単位の微細なインク滴を吐出するために、インク中に泡（気泡）が存在するとノズルからインク滴が正常に吐出されなくなることがあった。
そのため、インクジェット用のインクにおいて、泡の立ち易さ（起泡性）や泡の消え易さ（消泡性）は重要な特性の一つとなっている。特に、消泡性は、インクの種類が水系、溶剤系、モノマー系（紫外線硬化型や電磁線硬化型）のいずれであっても、吐出不良に直結する特性に挙げることができる。例えば、特許文献１では、ポリジメチルシロキサンとポリアルキレンオキサイドとを構造単位とする、直鎖状のブロック共重合体を界面活性剤として添加したことにより、泡立ちが抑制されたインクジェット用水系顔料インクが提案されている。

特開２００６−２２５５０９号公報

しかしながら、特許文献１に記載のインクは、界面活性剤を配合して消泡性を向上させているが、有機半導体層などの素子をインクジェット法によって形成する場合では、インク（液状体）に界面活性剤を配合することが困難なため、インクの消泡性が確保し難く、吐出不良が発生し易いという課題があった。詳しくは、上記素子の有機半導体層は、電子の授受に係わっているため、界面活性剤などの添加剤は、電子の挙動に悪影響を及ぼし、上記素子の機能を阻害する可能性があった。また、上記素子の形成に用いる液状体に適した、簡易かつ安価な消泡性の評価方法の確立が求められているという課題もあった。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例］本適用例に係わる液状体は、吐出ヘッドに充填される、機能層形成用材料を含む液状体であって、液状体が詰められた瓶を所定の時間内において所定の方向に所定の回数で振とうさせ、瓶を静置してから所定静置時間の後に、振とうにより生じた泡が消えていることを特徴とする。

本適用例によれば、機能層形成用材料を含んだ素子を形成する液状体について、所定の条件で発生させた泡が所定の時間後に消泡することにより、界面活性剤などの添加剤を配合しなくても、吐出不良の発生を抑制した液状体（インク）を提供することができる。詳しくは、液状体が所定の消泡性を有することによって、吐出ヘッドにおける液状体の充填やメンテナンスなどで発生した泡が所定静置時間の後に消泡し、吐出ヘッドのノズル近傍の泡が減少する。ノズル近傍の泡を低減することで、泡に起因して不吐出が生じたり、ノズル内の液面の挙動が不安定となりノズルから液状体が所望の方向に吐出されなかったりする、吐出不良の発生を抑制することができる。

上記適用例に記載の液状体において、上記所定静置時間が、貯留部から配管経路を経て吐出ヘッドへ到達して充填されるまでの、液状体の充填時間以内であることが好ましい。

これによれば、液状体の貯留部に泡が発生しても、その泡が配管経路を経て吐出ヘッドへ到達するまでの間に消泡することになる。そのため、吐出ヘッドのノズル近傍の泡が低減され、吐出不良の発生を抑制することができる。

上記適用例に記載の液状体は、所定静置時間が５分以内であることが好ましい。

これによれば、吐出ヘッドへ液状体を５分以内で充填しても、吐出ヘッドまで到達する泡の量を低減することができる。

上記適用例に記載の液状体は、所定の方向において２０ｃｍの振とう幅で、１分間に１００回振とうさせることが好ましい。

これによれば、泡の発生に適した振動が液状体に印加され、液状体の消泡性を的確に評価し、消泡性を備えた液状体を提供することができる。

上記適用例に記載の液状体は、２３℃における粘度が、１．０ｍＰａ・ｓ（秒）以上、１５．０ｍＰａ・ｓ（秒）以下であることが好ましい。

これによれば、液状体の消泡性が向上する。これによって、吐出不良の発生を抑制することができる。詳しくは、液状体に発生した泡の接合部であるプラトー境界に向って、泡平面部から液状体が排出されるため、泡平面部の液状体の膜が次第に薄くなる。膜が薄くなる現象が進行することで泡が壊れて消失する。この消泡機構の根幹である液状体の排出は、液状体の粘度が低い程進行が速くなる。そのため、粘度が低い液状体は、粘度が高いものに比べて消泡し易くなり、消泡性を向上させる効果が得られる。

上記適用例に記載の液状体は、含まれる溶剤の２３℃における粘度が、０．５ｍＰａ・ｓ（秒）以上、１０．０ｍＰａ・ｓ（秒）以下であることが好ましい。

これによれば、２３℃における液状体の粘度を、１５．０ｍＰａ・ｓ（秒）以下とすることができる。

［適用例］本適用例に係わる液状体の消泡性評価方法において、吐出ヘッドに充填される、機能層形成用材料を含む液状体の消泡性評価方法であって、液状体が詰められた瓶を、所定の時間内において所定の方向に所定の回数で振とうさせる工程と、振とうにより生じた泡の有無を、瓶を静置してから所定静置時間の後に評価する工程と、を備えたことを特徴とする。

本適用例によれば、機能層形成用材料を含む液状体の消泡性を評価することにより、消泡性が確保され、吐出不良の発生が抑制された液状体の選択が可能となる。従って、機能層形成用材料を含む液状体に適した、消泡性評価方法を提供することができる。

上記適用例に記載の液状体の消泡性評価方法は、所定静置時間が、貯留部から配管経路を経て吐出ヘッドへ到達して充填されるまでの、液状体の充填時間以内であることが好ましい。

これによれば、液状体の貯留部に発生した泡が消泡し、吐出ヘッドまで到達しにくい液状体が選択可能となる。これにより、吐出不良を抑制する液状体の消泡性評価方法を提供できる。

上記適用例に記載の液状体の消泡性評価方法は、所定静置時間が５分以内であることが好ましい。

これによれば、吐出ヘッドに液状体を５分以内で充填しても、吐出不良が発生し難い液状体を提供できる。

上記適用例に記載の素子の形成方法は、有機半導体層を含む素子の形成方法であって、適用例１から適用例６のいずれかの液状体を用いて、有機半導体層を形成する工程を備えていることが好ましい。

これによれば、消泡性を向上させて吐出不良の発生が抑制された液状体を用いることにより、有機半導体層を形成する工程における、品質や歩留まりを改善することができる。

実施形態１に係わる有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図。 有機ＥＬ素子の構造を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 液滴吐出装置におけるインク供給機構の構成を示す概略側面図。 吐出ヘッドの構成を示す概略斜視図。 消泡性評価方法の手順を示す模式図。 実施例に係わるインクの組成を示す図表。 インクの評価結果を示す図表。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を認識可能な程度の大きさにするため、各層や各部材の尺度を実際とは異ならせしめている。

（実施形態１）
＜有機ＥＬ装置＞
まず、実施形態１の液状体に係わる有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置について、図１を参照して説明する。図１は、有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図である。本実施形態では、有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置を例に挙げ、インクジェット法によって有機ＥＬ素子の有機半導体層（機能層）を形成するための、機能層形成用材料を含む液状体（インク）について説明する。

図１に示した有機ＥＬ装置１００は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光（発光色）が得られるサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂが配置された素子基板１０１を有している。各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂは略矩形状であり、素子基板１０１の表示領域Ｅにおいてマトリックス状に配置されている。

サブ画素１１０Ｒには、赤（Ｒ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられている。同様に、サブ画素１１０Ｇには緑（Ｇ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられ、サブ画素１１０Ｂには青（Ｂ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられている。

次に、本実施形態に係わる有機ＥＬ素子について、図２を参照して説明する。図２は、有機ＥＬ素子の構造を示す概略断面図である。

上述した各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂには、図２に示した有機ＥＬ素子１３０が設けられている。有機ＥＬ素子１３０は、素子基板１０１上に設けられた反射層１０２、絶縁膜１０３、画素電極１０４、対向電極１０５、画素電極１０４と対向電極１０５との間に設けられた、発光層１３３を含む機能層１３６を有している。

機能層１３６は、画素電極１０４側から、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３、電子輸送層１３４、電子注入層１３５が順に積層されたものである。特に、発光層１３３は発光色に応じて構成材料が選ばれる。なお、機能層１３６の構成は、これに限定されるものではなく、これらの層以外に、キャリア（正孔や電子）の移動を制御する中間層などを備えていてもよい。

なお、有機ＥＬ素子１３０は、発光方式がトップエミッション方式である構成を例としている。また図２においては、画素回路の図示を省略している。

有機ＥＬ素子１３０は、画素電極１０４上に開口部１０６ａを構成する隔壁１０６を有している。この隔壁１０６は、画素電極１０４の外縁と重なっている。また、有機ＥＬ素子１３０の機能層１３６は、機能層１３６を構成する正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３のうち、少なくとも一層が液相プロセスで形成されたものである。液相プロセスとは、一層を構成する成分と溶媒とを含んだ液状体としてのインクを、隔壁１０６で囲まれた膜形成領域としての開口部１０６ａに塗布して乾燥させることにより、一層を形成する方法である。一層を所望の膜厚で形成するためには、所定量の上記インクを精度よく開口部１０６ａに塗布する必要があり、本実施形態では、液相プロセスとしてインクジェット法（液滴吐出法）を採用している。

＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
次に、インクジェット法を採用した、有機ＥＬ素子の製造方法について、図３、図４、図５を参照して説明する。図３、図４、図５は有機ＥＬ素子における機能層の形成方法を示す概略断面図である。

有機ＥＬ素子１３０の製造方法は、隔壁形成工程（ステップＳ１）、表面処理工程（ステップＳ２）、機能層形成工程（ステップＳ３）などを有している。

ステップＳ１（隔壁形成工程）では、図３に示すように、反射層１０２および画素電極１０４が形成された素子基板１０１に、感光性樹脂材料を塗布して乾燥することにより感光性樹脂層を形成する。塗布方法としては、転写法、スリットコート法などが挙げられる。形成された感光性樹脂層を、サブ画素１１０の形状に対応した露光用マスクを用いて露光・現像して、画素電極１０４の外縁と重なると共に、画素電極１０４上に開口部１０６ａを構成する隔壁１０６を形成する。

ステップＳ２（表面処理工程）では、隔壁１０６が形成された素子基板１０１に表面処理を施す。表面処理工程は、次工程で機能層１３６を構成する正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３をインクジェット法（液滴吐出法）で形成する際に、隔壁１０６で囲まれた開口部１０６ａにおいて、上記インクがむらなく濡れ広がるように、画素電極１０４の表面の隔壁残渣などの不要物を取り除く目的で行われる。表面処理方法としては、例えば、エキシマ紫外線処理が適用できる。

ステップＳ３（機能層形成工程）では、図４に示すように、正孔注入層材料を含むインク１５０を、開口部１０６ａに塗布する。インク１５０の塗布方法は、インク１５０を、吐出ヘッド５０のノズル５２からインク滴（液滴Ｄ）として吐出するインクジェット法を用いている。吐出ヘッド５０から吐出される液滴Ｄの吐出量は、ｐｌ（ピコリットル）単位で制御され、所定量を液滴Ｄの吐出量で除した数の液滴Ｄが開口部１０６ａに吐出される。以後、乾燥工程へ進む。

乾燥工程では、例えば、インク１５０が塗布された素子基板１０１を減圧化に放置し、インク１５０から溶媒を蒸発させて乾燥させる減圧乾燥を用いる（減圧乾燥工程）。その後、例えば、大気圧下で加熱・焼成処理を施すことにより、インク１５０が固化して、図５に示すように正孔注入層１３１が形成される。

次に、正孔輸送層材料を含むインク１６０を用いて、正孔輸送層１３２を形成する。正孔輸送層１３２の形成方法も、正孔注入層１３１と同様に、インクジェット法を用いて、所定量のインク１６０を吐出して行う。また、正孔注入層１３１と同様に、減圧乾燥と加熱焼成を施して正孔輸送層１３２を形成する。

次に、発光層材料を含むインク１７０を用いて、発光層１３３を形成する。発光層１３３の形成方法も、正孔注入層１３１と同様に、インクジェット法を用いて、所定量のインク１７０を吐出して行う。また、正孔注入層１３１と同様に、減圧乾燥と加熱焼成を施して発光層１３３を形成する。このとき、減圧乾燥の後、酸素や水分などが発光機能に与える影響を考慮して、例えば窒素などの不活性ガス雰囲気下で焼成して固化させることが好ましい。

この工程以降、電子輸送層１３４、電子注入層１３５、陰極としての対向電極１０５を真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し、有機ＥＬ素子１３０（図２）が製造される。

上述した機能層１３６の形成方法では、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を液相プロセス（インクジェット法）で形成したが、これらの層のうち１つを液相プロセス（インクジェット法）で形成すればよく、他の層は真空蒸着などの気相プロセスを用いて形成してもよい。

以上に述べたように、機能層１３６の形成に用いるインクジェット法においては、液滴Ｄの吐出量をｐｌ単位で制御している。そのため、液滴Ｄを継続して安定的に吐出する必要があった。

＜インク供給機構＞
次に、本実施形態に係わる液滴吐出装置におけるインク供給機構の概要について、図６を参照して説明する。図６は、インク供給機構の構成を示す概略側面図である。本実施形態では、吐出ヘッドに機能層形成用材料を含むインク（以降、単に「インク」ともいう）を供給するための、インク供給機構を例に挙げて述べる。

図６において鎖線で囲まれた範囲に含まれる構成を、インク供給機構８０としている。インク供給機構８０は、インクタンク８１と、フィルター８２と、サブタンク８５と、圧力調整弁８７と、これらを繋ぐインク配管８８と、インク１８０とを有している。このインク供給機構８０の貯留部としてのインクタンク８１は、インクを貯留するための容器となっている。インクタンク８１は、インクの配管経路としてのインク配管８８に底面において接続され、吐出ヘッド５０にインクを供給する構成としている。ここで、インク配管８８は、インクタンク８１に近い上流側から順に、インク配管８８ａ，８８ｂ，８８ｃの３つの部分から構成され、配管内部をインク１８０が流動可能な構造となっている。

インク配管８８ａは、インクタンク８１とフィルター８２を接続している。フィルター８２は、インク１８０中の異物を低減する機能を有している。このフィルター８２は、インク配管８８ｂによって、サブタンク８５と接続されている。サブタンク８５はインクタンク８１よりも容積が小さく、フィルター８２よりも吐出ヘッド５０に近い、下流側に設置されている。このサブタンク８５は、上部に大気開放部８４を備えた大気開放型であって、フィルター８２やインク配管８８ａ，８８ｂによる圧力損失を低減し、吐出ヘッド５０に必要な量のインク１８０を供給する機能を有している。

また、サブタンク８５は、インク配管８８ｃによって圧力調整弁８７と接続されている。圧力調整弁８７は、吐出ヘッド５０に供給されるインク１８０の圧力を調整するバッファー機能を有している。圧力調整弁８７の先（下流側）には、ノズル面５１ａおよびノズル５２などを有する吐出ヘッド５０が設置されている。

ここで、インク配管８８ｂ，８８ｃの途中には、第１バルブ９１、第２バルブ９２が設けられている。第１バルブ９１および第２バルブ９２は、インク供給機構８０のメンテナンスや調整時などに、インク配管８８ｂやインク配管８８ｃを閉塞する機能を有している。

上述した構成により、インクタンク８１にインク１８０を入れ、吸引装置（図示せず）によって吐出ヘッド５０の全てのノズル５２からインク１８０を吸い出すことにより、インク供給機構８０から吐出ヘッド５０内までインク１８０が充填される。ここで、インク１８０がインクタンク８１からインク配管８８を経て、吐出ヘッド５０に充填されるのに要する時間（充填時間）は、約５分となっている。

＜吐出ヘッド＞
次に、本実施形態に係わる吐出ヘッドの概要について、図７を参照して説明する。図７は、吐出ヘッドの構成を示す概略斜視図である。

図７に示した吐出ヘッド５０は、導入部５３、ヘッド基板５５、ヘッド本体５６などを有している。導入部５３は、吐出ヘッド５０におけるインク導入部の機能を有している。この導入部５３には、２連の接続針５４が設置されている。接続針５４は、上述したインク供給機構８０（図６参照）と配管によって接続され、インク１８０を吐出ヘッド５０内部に供給する機能を有している。

ヘッド基板５５は、一方の面が導入部５３に隣接して設置され、他方の面がヘッド本体５６に面して設置されている。また、このヘッド基板５５には２連のコネクター５８が設けられている。コネクター５８は、フレキシブルフラットケーブル（図示せず）を介して、回路基板（図示せず）と吐出ヘッド５０とを電気的に接続するための端子を構成している。

ヘッド本体５６はヘッド基板５５と隣接して設置され、その内部には接続針５４から導入されたインクの流路が形成されている。このヘッド本体５６は、加圧部５７、ノズルプレート５１などを有している。加圧部５７には、吐出ヘッド５０の駆動手段（アクチュエーター）としての圧電素子がキャビティ部（図示せず）に設置されている。また、ノズルプレート５１の、吐出ヘッド５０がインク１８０を液滴Ｄとして吐出する面には、ノズル面５１ａが形成されている。このノズル面５１ａには、複数のノズル５２が一定間隔で整列した、２つのノズル列５２ａ，５２ｂが平行に配置されている。これらノズル列５２ａ，５２ｂが２列配置されていることから、吐出ヘッド５０は所謂２連型の構成となっている。また、ノズル５２は円形であって、その直径は約３０μｍとしている。このノズル５２ごとにキャビティ部が設置されている。

上述した構成により、インク１８０がインクタンク８１からインク配管８８を経て吐出ヘッド５０に供給され、充填される。次いで、ヘッドドライバー（図示せず）から吐出ヘッド５０内の圧電素子に駆動信号（電気信号）が印加されると、圧電素子の変形によって加圧部５７のキャビティに体積変化が生じる。この体積変化によるポンプ作用で、キャビティ内に充填されたインク１８０が加圧され、ノズル５２から液滴Ｄとして吐出される構成となっている。

ここで、吐出ヘッド５０のノズル５２ごとに設置される駆動手段（アクチュエーター）は、圧電素子に限定されない。例えば、アクチュエーターとしての振動板を静電吸着により変位させる電気機械変換素子や、加熱によって生じる気泡によってインク１８０をインク滴として吐出させる電気熱変換素子を用いてもよい。また、吐出ヘッド５０は、往復運動が自在なキャリッジ（図示せず）に搭載され、被記録媒体（図示せず）に対して相対的に走査可能な構成となっている。

＜機能層形成用材料を含むインク＞
次に、上述した吐出ヘッド５０から液滴Ｄとして吐出されるインク１８０（以降、単にインクともいう）について説明する。
インクは、溶媒と機能層形成用材料（固形分）とを含んでいる。このインクの２３℃における粘度は、１．０ｍＰａ・ｓ（秒）以上、１５．０ｍＰａ・ｓ（秒）以下であることが好ましい。上記粘度が１．０ｍＰａ・ｓ未満であると、吐出ヘッド５０からの液滴Ｄの吐出安定性が低下することがある。また、上記粘度が１５．０ｍＰａ・ｓを超えると、泡同士が接してできるプラトー境界へのインクの排出が遅くなるため、インクの消泡性が低下する傾向がある。上記粘度の範囲は、より好ましくは２．０ｍＰａ・ｓ以上、１３．０ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに好ましくは３．０ｍＰａ・ｓ以上、１２．０ｍＰａ・ｓ以下である。

溶媒としては、１種類または２種類以上の溶剤を併用することができる。また、上述した機能層形成工程において、液滴Ｄの乾燥時間を確保してレベリング性を向上させるため、沸点が約２００℃以上の溶剤を選択することが好ましい。例えば、ｏ−トルニトリル、シクロヘキシルベンゼン、ｎ−オクチルベンゼン、３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、１，４−ジメチルナフタレン、ジフェニルエーテル、３−イソプロピルビフェニル、ニトロベンゼン、２−フェノキシエタノールなどが挙げられる。

また、インクの粘度を上記の範囲内とするため、低粘度の溶剤を選択することが好ましい。特に、インクにおける固形分（機能層形成用材料）の含有量が増えると、インクの粘度が増加するため、固形分の含有量によって溶剤を選択する。２３℃における溶剤の粘度は、０．５ｍＰａ・ｓ以上、１０．０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。上記の粘度が０・５ｍＰａ・ｓ未満であると、調製した上記インクの粘度が１．０ｍＰａ・ｓを下回る可能性があり、同じく１０．０ｍＰａ・ｓを超えると、調製したインクの粘度が１５．０ｍＰａ・ｓを超える場合がある。より好ましくは１．０ｍＰａ・ｓ以上、７．０ｍＰａ・ｓ以下である。

なお、インクおよび溶剤の粘度測定には粘弾性試験機ＭＣＲ３０２（Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社製）を用い、インクまたは溶剤の温度を２３℃に調整して測定している。具体的には、Ｓｈｅａｒ Ｒａｔｅを１０から１０００に順次上げていき、Ｓｈｅａｒ Ｒａｔｅが２００のときの粘度を読み取り測定することができる。

次に、上述した正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３（いずれも図２参照）を、インクジェット法で形成するための機能層形成用材料について説明する。
機能層形成用材料としては、正孔注入層材料、正孔輸送層材料、発光層材料が挙げられる。正孔注入層１３１や正孔輸送層１３２の形成に好適な正孔注入輸送材料としては、特に限定されないが、各種ｐ型の高分子材料や、各種ｐ型の低分子材料を単独または組み合わせて用いることができる。

ｐ型の高分子材料（有機ポリマー）としては、例えば、ポリ（２，７−（９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン）−（１，４−フェニレン−（（４−sec−ブチルフェニル）イミノ）−１，４−フェニレン（ＴＦＢ）などのポリアリールアミンのようなアリールアミン骨格を有する芳香族アミン系化合物、フルオレン−ビチオフェン共重合体のようなフルオレン骨格や、フルオレン−アリールアミン共重合体のようなアリールアミン骨格およびフルオレン骨格の双方を有するポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）（ＰＶＫ）、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂またはその誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系、ポリ[ｂｉｓ（４―フェニル）（２，４，６―トリメチルフェニル）アミン]）（ＰＴＴＡ）、ポリ［Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（フェニル）−ベンジジン］などが挙げられる。

このようなｐ型の高分子材料は、他の化合物との混合物として用いることもできる。一例として、ポリチオフェンを含有する混合物としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン／スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、綜研化学製導電性ポリマーベラゾール（商標）など、ポリアニリンとして日産化学製エルソース（商標）が挙げられる。

ｐ型の低分子材料としては、例えば、１，１−ｂｉｓ（４−ジ−パラ−トリアミノフェニル）シクロへキサン、１，１’−ｂｉｓ（４−ジ−パラ−トリルアミノフェニル）−４−フェニル−シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）のようなアリールシクロアルカン系化合物、４，４’，４’’−トリメチルトリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（３−メチルフェニル）−１，１’ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ１）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（４−メトキシフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ２）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−メトキシフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ３）、Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（α−ＮＰＤ）、トリフェニルアミン−テトラマー（ＴＰＴＥ）、１，３，５−トリス−[４−（ジフェニルアミノ）ベンゼン（ＴＤＡＰＢ）、トリス−（４−カルバゾール−９−イル−フェニル）−アミン（スピローＴＡＤ）、トリス−パラ−トリルアミン（ＨＴＭ１）、１，１−ｂｉｓ［（ジ−４−トリルアミノ）フェニル］シクロヘキサン（ＨＴＭ２）、Ｎ４，Ｎ４’−（ビフェニル−４，４’−ジイル）ｂｉｓ（Ｎ４， Ｎ４’，Ｎ４’−トリフェニルビフェニル−４，４’−ジアミン）（ＴＰＴ１）のようなアリールアミン系化合物、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−パラ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（パラ−トリル）−パラ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（メタ−トリル）−メタ−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）、ＰＤＡ−Ｓｉ（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．Ｖｏｌ．４６２．ｐｐ．２４９−２５６，２００７）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，４−フェニレンジアミン（ＤＰＰＤ）のようなフェニレンジアミン系化合物、カルバゾール、Ｎ−イソプロピルカルバゾール、Ｎ−フェニルカルバゾール、ＶＢ−ＴＣＡ（Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２００７，１９，３００−３０４）のようなカルバゾール系化合物、スチルベン、４−ジ−パラ−トリルアミノスチルベンのようなスチルベン系化合物、ＯｘＺのようなオキサゾール系化合物、トリフェニルメタン、４，４’，４”−トリス（Ｎ−３−メチルフェニル−Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、４，４’，４”−トリス（Ｎ，Ｎ−（２−ナフチル）フェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）、４，４’，４”−トリ（Ｎ−カルバゾリル）トリフェニルアミン（ＴＣＴＡ）のようなトリフェニルメタン系化合物、１−フェニル−３−（パラ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリンのようなピラゾリン系化合物、ベンジン（シクロヘキサジエン）系化合物、トリアゾールのようなトリアゾール系化合物、イミダゾールのようなイミダゾール系化合物、１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ジ（４−ジメチルアミノフェニル）−１，３，４，−オキサジアゾールのようなオキサジアゾール系化合物、アントラセン、９−（４−ジエチルアミノスチリル）アントラセンのようなアントラセン系化合物、フルオレノン、２，４，７，−トリニトロ−９−フルオレノン、２，７−ｂｉｓ（２−ヒドロキシ−３−（２−クロロフェニルカルバモイル）−１−ナフチルアゾ）フルオレノンのようなフルオレノン系化合物、ポリアニリンのようなアニリン系化合物、シラン系化合物、１，４−ジチオケト−３，６−ジフェニル−ピロロ−（３，４−ｃ）ピロロピロールのようなピロール系化合物、フローレンのようなフローレン系化合物、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリンのようなポルフィリン系化合物、キナクリドンのようなキナクリドン系化合物、フタロシアニン、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、テトラ（ｔ−ブチル）銅フタロシアニン、鉄フタロシアニンのような金属または無金属のフタロシアニン系化合物、銅ナフタロシアニン、バナジルナフタロシアニン、モノクロロガリウムナフタロシアニンのような金属または無金属のナフタロシアニン系化合物、Ｎ，Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニルベンジジンのようなベンジジン系化合物などが挙げられる。なお、ＰＤＡ−Ｓｉは、高分子化を図るために、カチオン重合性化合物：キシレンビスオキセタン（東亞合成 アロンオキセタンＯＸＴ−１２１）、ラジカル重合開始剤：脂肪族系ジアシルパーオキサイド（パーロイルＬ、日本油脂株式会社）が添加されて用いられる。

次に、蛍光または燐光が得られる発光層材料について、発光色ごとに具体例を挙げて説明する。

［赤色発光材料］
燐光材料を１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
赤色蛍光材料としては、赤色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、ペリレン誘導体、ユーロピウム錯体、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、ポルフィリン誘導体、ナイルレッド、２−（１，１−ジメチルエチル）−６−（２−（２，３，６，７−テトラヒドロ−１，１，７，７−テトラメチル−１Ｈ，５Ｈ−ベンゾ（ｉｊ）キノリジン−９−イル）エテニル）−４Ｈ−ピラン−４Ｈ−イリデン）プロパンジニトリル（ＤＣＪＴＢ）、４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）、ポリ[２−メトキシ−５−（２−エチルヘキシロキシ）−１，４−（１−シアノビニレンフェニレン）]、ポリ[｛９，９−ジヘキシル−２，７−ｂｉｓ（１−シアノビニレン）フルオレニレン｝オルト−ｃｏ−｛２，５−ｂｉｓ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアミノ）−１，４−フェニレン｝]、ポリ[{２−メトキシ−５−（２−エチルヘキシロキシ）−１，４−（１−シアノビニレンフェニレン）}−ｃｏ−{２，５−ｂｉｓ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアミノ）−１，４−フェニレン}]などが挙げられる。

赤色燐光材料としては、赤色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウムなどの金属錯体が挙げられ、これら金属錯体の配位子の内の少なくとも１つがフェニルピリジン骨格、ビピリジル骨格、ポルフィリン骨格などを持つものも挙げられる。より具体的には、トリス（１−フェニルイソキノリン）イリジウム、ｂｉｓ［２−（２’−ベンゾ［４，５−α］チエニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ３’］イリジウム（アセチルアセトネート）（ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ））、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−１２Ｈ，２３Ｈ−ポルフィリン−白金（ＩＩ）、ｂｉｓ［２−（２’−ベンゾ［４，５−α］チエニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ３’］イリジウム、ｂｉｓ（２−フェニルピリジン）イリジウム（アセチルアセトネート）などが挙げられる。

また、赤色の発光層１３３中には、上述した赤色発光材料の他に、赤色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料を含んでいてもよい。
ホスト材料は、正孔と電子とを再結合して励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを赤色発光材料に移動（フェルスター移動またはデクスター移動）させて、赤色発光材料を励起する機能を有している。このようなホスト材料を用いる場合、例えば、ゲスト材料である赤色発光材料をドーパントとしてホスト材料にドープして用いることができる。

このようなホスト材料としては、用いる赤色発光材料に対して上述したような機能を発揮するものであれば、特に限定されないが、赤色発光材料が赤色蛍光材料を含む場合、例えば、ナフタセン誘導体、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体のようなアセン誘導体（アセン系材料）、ジスチリルアリーレン誘導体、ペリレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアミン誘導体、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）などのキノリノラト系金属錯体（ＢＡｑｌ）、トリフェニルアミンの４量体などのトリアリールアミン誘導体（ＴＤＡＰＢ）、オキサジアゾール誘導体、シロール誘導体（ＳｉｍＣＰ、ＵＧＨ３）、ジカルバゾール誘導体（ＣＢＰ、ｍＣＰ、ＣＤＢＰ、ＤＣＢ）、オリゴチオフェン誘導体、ベンゾピラン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、キノリン誘導体、４，４’−ｂｉｓ（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、リン誘導体（ＰＯ６）などが挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。

上述したような赤色発光材料（ゲスト材料）およびホスト材料を用いる場合、赤色の発光層１３３中における赤色発光材料の含有量（ドープ量）は、０．０１〜１０ｗｔ％であるのが好ましく、０．１〜５ｗｔ％であるのがより好ましい。赤色発光材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができる。

［緑色発光材料］
緑色発光材料としては、特に限定されず、例えば、各種緑色蛍光材料および緑色燐光材料が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
緑色蛍光材料としては、緑色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、クマリン誘導体、キナクリドンおよびその誘導体、９，１０−ｂｉｓ［（９−エチル−３−カルバゾール）−ビニレニル］−アントラセン、ポリ（９，９−ジヘキシル−２，７−ビニレンフルオレニレン）、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（１，４−ジフェニレン−ビニレン−２−メトキシ−５−｛２−エチルヘキシルオキシ｝ベンゼン）］、ポリ［（９，９−ジオクチル−２，７−ジビニレンフルオレニレン）−オルト−ｃｏ−（２−メトキシ−５−（２−エトキシルヘキシルオキシ）−１，４−フェニレン）］、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−オルト−ｃｏ−（１，４−ベンゾ−｛２，１’、３｝−チアジアゾール）］（Ｆ８ＢＴ）などが挙げられる。

緑色燐光材料としては、緑色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウムなどの金属錯体が挙げられ、具体的には、ファク−トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（Ｉｒ（ｐｐｙ）３）、ｂｉｓ（２−フェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（アセチルアセトネート）、ファク−トリス［５−フルオロ−２−（５−トリフルオロメチル−２−ピリジン）フェニル−Ｃ，Ｎ］イリジウムなどが挙げられる。

また、緑色の発光層１３３中には、上述した緑色発光材料の他に、緑色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料が含まれていてもよい。
このようなホスト材料としては、上述した赤色の発光層１３３で説明したホスト材料と同様のものを用いることができる。

［青色発光材料］
青色発光材料としては、例えば、各種青色蛍光材料および青色燐光材料が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
青色蛍光材料としては、青色の蛍光を発するものであれば、特に限定されず、例えば、ジスチリルジアミン系化合物などのジスチリルアミン誘導体、フルオランテン誘導体、ピレン誘導体、ペリレンおよびペリレン誘導体、アントラセン誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、クリセン誘導体、フェナントレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、テトラフェニルブタジエン、４，４’−ｂｉｓ（９−エチル−３−カルバゾビニレン）−１，１’−ビフェニル（ＢＣｚＶＢｉ）、ポリ［（９．９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（２，５−ジメトキシベンゼン−１，４−ジイル）］、ポリ［（９，９−ジヘキシルオキシフルオレン−２，７−ジイル）−オルト−ｃｏ−（２−メトキシ−５−｛２−エトキシヘキシルオキシ｝フェニレン−１，４−ジイル）］、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（エチルニルベンゼン）］、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ（パラ−ブチルフェニル）−１，４−ジアミノ−ベンゼン］）などが挙げられる。

青色燐光材料としては、青色の燐光を発するものであれば、特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウムなどの金属錯体が挙げられ、具体的には、ｂｉｓ［４，６−ジフルオロフェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ２’］−ピコリネート−イリジウム（ＦＩｒｐｉｃ）、トリス（１−フェニル−３−メチルベンズイミダゾリン−２−イリデン−Ｃ，Ｃ２’）（Ｉｒ（ｐｍｂ）３）、ｂｉｓ（２，４−ジフルオロフェニルピリジネート）（５−（ピリジン−２−イル）−１Ｈ−テトラゾール）イリジウム（ＦＩｒＮ４）、トリス［２−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ２’］イリジウム、ｂｉｓ［２−（３，５−トリフルオロメチル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ２’］−ピコリネート−イリジウム、ｂｉｓ（４，６−ジフルオロフェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（アセチルアセトネート）などが挙げられる。

また、青色の発光層１３３中には、上述した青色発光材料の他に、青色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料が含まれていてもよい。
このようなホスト材料としては、上述した赤色の発光層１３３で説明したホスト材料と同様のものを用いることができる。

ここで、本実施形態において、低分子とは分子量あるいは重量平均分子量が１０００未満のものを指し、高分子とは重量平均分子量が１０００以上であって、基本骨格が繰り返された構造を有するものを指す。

なお、インクにおける機能層形成用材料の含有量は、２３℃におけるインクの粘度が上述した範囲内であれば特に限定されないが、インク全質量に対して、０．３質量％以上、３．５質量％以下であることが好ましい。含有量が０．３質量％未満であると、機能層形成のために吐出する液滴Ｄの量を増やす必要があり、製造効率が低下することがある。同じく３．５質量％を超えると、インクの粘度が１５．０ｍＰａ・ｓを超える場合がある。

以上に説明したインクを構成する材料について、溶剤および形成する機能層に応じた機能層形成用材料を選択し、機能層形成用材料を溶剤に溶解させてインクを調製する。

＜液状体（インク）の消泡性評価方法＞
次に、液状体（インク）の消泡性評価方法について、図８を参照して説明する。図８は、インクの消泡性評価方法の手順を示す模式図である。

まず、本実施形態のインクとして、インク１８０を用いた。インク１８０は、機能層形成用材料として上述したＴＦＢを配合し、溶剤として３−フェノキシトルエンおよびジエチレングリコールブチルメチルエーテルを選択した。各成分の配合割合をＴＦＢ：１．０質量％、３−フェノキシトルエン：４９．５質量％、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル：４９．５質量％として調製した。このインク１８０について、２３℃におけるインク粘度を上述した方法により測定したところ、９．４ｍＰａ・ｓであった。

次に図８に示すように、１０ｍｌのインク１８０を、瓶としてのガラス管瓶２００（内容量約２２ｍｌ）に入れ、蓋２１０をして静置し、インクに泡がなくなるまで待った。泡がない状態で、ガラス管瓶２００の底面から、内部のインク１８０の液面までの高さを測定した。これを振とう前のインク液面高さ（Ｘ１）とした。

その後、ガラス管瓶２００を手に持って振とうした。振とう条件は、所定の方向として上下に約２０ｃｍの振とう幅において、所定の時間内として１分間に、所定の回数として約１００回とした。ここで、上記振とう条件は、振とう幅が１５ｃｍ以上、２５ｃｍ以下、振とう回数で５０回以上、１５０回以下の範囲にあればよい。なお、振とうおよび静置は、振とう装置を用いて行ってもよい。

次いで、振とうしたガラス管瓶２００を即座に静置して、ガラス管瓶２００の底面から、泡上面（泡と気相との境界面）までの高さを測定した。これを振とう直後の泡面高さ（Ｘ２）とした。これと同時に、ストップウォッチにより静置直後からの、所定静置時間としての経過時間の計測を開始した。

この経過時間について、１分、３分、５分の時点で泡の有無を確認した。その結果、静置開始から次第に消泡が進行し、１分および３分では泡の残存が認められたが、静置後５分では泡が消失した。また、この静置中に、上述した振とう直後の泡液面高さ（Ｘ２）と同様な方法で、静置中の泡液面高さ（Ｘ３）を測定してもよい。

以上に説明した方法により、インク１８０について、所定静置時間（経過時間）１分、３分、５分における泡の有無を評価した。また、測定したＸ１およびＸ２の差から、泡高ΔＸ（ΔＸ＝Ｘ２−Ｘ１）を求めて、ΔＸを起泡性の指標としてもよい。さらに、静置中に測定したＸ３から泡高ΔＸ’（ΔＸ’＝Ｘ３−Ｘ１）を求め、所定静置時間に対する消泡性の指標としてもよい。

上述した消泡性評価の操作は、約２３℃に温度調節された室内で実施した。
ここで、評価に用いるガラス管瓶２００の容量は特に限定されないが、泡の確認の容易さから１０ｍｌ以上であることが好ましく、インク１８０の節約のためには５０ｍｌ以下であることが好ましい。また、上記瓶の材質はガラス製に限定されず、蓋などによって密閉空間が確保可能であれば、金属製や樹脂製のものを用いてもよい。瓶の材質が透光性を有さない場合は、蓋を開放して泡の状態を確認してもよい。さらに、ガラス管瓶２００に入れるインクの量は、ガラス管瓶２００の内容量に対して、４０体積％以上、６０体積％以下であることが好ましい。

以上に述べたように、本実施形態に係わるインクおよびインクの消泡性評価方法によれば、以下の効果を得ることができる。
本実施形態のインクおよびインクの消泡性評価方法によれば、消泡性を確保して吐出不良の発生を抑制したインクを選択し、提供することができる。詳しくは、従来技術では界面活性剤をインクに配合して泡立ちを抑制していたが、本実施形態によれば、界面活性剤などの添加剤を配合しなくても、インクの粘度を上述した範囲とすることで、インクに所定の消泡性を付与することができる。これにより、吐出不良の原因となるノズル近傍やインク配管の泡が速やかに消失し、吐出不良の発生を抑制することが可能となる。また、インクの消泡性を評価し、所定の消泡性を有するインクを選択することも可能となる。

また、従来、泡に関する試験に用いられていた、家庭用合成洗剤試験方法（ＪＩＳＫ３３６２ ２００８）の試料量２００ｍｌに対して、大幅に試料を節約できる。さらには、最大泡圧法やＷｉｌｈｅｌｍｙ法などを利用した測定装置に比べて簡易かつ安価であり、機能層形成用材料を含むインクに適した評価方法を提供することができる。

以下に本実施形態の液状体（インク）の消泡性評価方法を用いて評価した、液状体の実施例と比較例とを示し、本実施形態の効果をより具体的に説明する。

＜インクの調製＞
図９は、実施例および比較例のインクの組成を示す図表である。
各実施例および各比較例のインクを、図９に示す組成で調製した。これらのインクには、機能層形成用材料としてＴＦＢを配合している。また、参考例１から参考例４として、機能層形成用材料を含まない溶剤単体の水準を加えた。なお、表中の数値はインク中の含有割合（質量％）を示すものである。

＜インク粘度の測定＞
図１０は、各実施例、各比較例、各参考例について２３℃における粘度を、上記実施形態で述べた方法により求めた測定結果などを示す表である。

＜消泡性評価＞
各実施例、各比較例、各参考例について、消泡性を上記実施形態で述べた方法により評価した。その評価結果を図１０に示した。なお、振とう後の静置開始から５分を経過しても消泡しない水準は、「消泡せず」とした。

＜吐出安定性評価＞
次に、吐出不良の指標として吐出安定性の評価を実施した。なお、この評価は消泡性の影響を受け易い、インクの充填直後に実施した。以下にその方法を述べる。
まず、上記実施形態で説明したインク供給機構８０（図６参照）および吐出ヘッド５０（図６参照）のインクを全て排除し、内部を空の状態（空気置換状態ともいう）とした。次いで、上述したようにインクタンク８１にインクを入れ、吸引装置（図示せず）によって全てのノズル５２からインクを吸い出すことにより、吐出ヘッド５０内までインクを充填した。この操作直後から、全てのノズル５２の連続吐出を開始した。吐出を１００，０００回実施した後、ノズルチェックパターンを印刷させて、全てのノズル５２についてインクの吐出不良の有無を調べた。吐出不良としては、不吐出となっているノズルおよび正常な吐出がされていないノズルの数を調査した。ノズル５２の全個数に対する、吐出不良が発生したノズル数を百分率に換算し、０％の評価を「○（好適）」とし、０％超、１０％未満の評価を「△（やや不適）」とし、１０％以上の評価を「×（不適）」として評価した。１水準ごとにインクの排出と内部の空気置換を実施し、各実施例、各比較例、各参考例について評価を実施した。その評価結果を図１０に示した。

＜評価結果＞
図１０に示したように、実施例１から実施例４のインクは、いずれも、粘度が１５．０ｍＰａ・ｓ以下であって消泡性評価では５分以内に消泡しており、かつ吐出安定性の評価が良好であることがわかった。このように実施例に係わるインクは、消泡性が良好で、吐出安定性にも優れるものであることが示された。

これに対して、比較例１から比較例３のインクは、いずれも粘度が１５ｍＰａ・ｓを超えており、またいずれも、消泡せずに泡が残り、吐出安定性の評価も劣っていることが示された。

また、参考例１から参考例４では、参考例４の粘度が１０．０ｍＰａ・ｓを超えている。粘度が１０．０ｍＰａ・ｓ以下であった参考例１から参考例３は、消泡性および吐出安定性が共に良好であることが示された。参考例４は、消泡性および吐出安定性が劣る結果となった。

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲および明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更が可能であり、そのような変更を伴う液状体（インク）および該液状体の消泡性評価方法ならびに該液状体を適用する素子の形成方法もまた、本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。

（変形例１）
上記実施形態では有機ＥＬ素子を例に挙げて、素子をインクジェット法で形成するためのインクについて説明したが、有機ＥＬ素子以外の有機半導体層を含む素子の形成に、本発明のインクを適用することもできる。その他の有機半導体層を含む素子としては、例えば、有機電界効果トランジスターや有機太陽電池などの素子が挙げられる。これらに本発明の吐出不良の発生を抑制したインクを適用することにより、有機半導体層をインクジェット法によって形成する工程における、歩留まりや品質を向上させることができる。

５０…吐出ヘッド、８１…インクタンク、８８，８８ａ，８８ｂ，８８ｃ…インク配管、１３０…有機ＥＬ素子、１３６…機能層、１５０，１６０，１７０，１８０…液状体（インク）、２００…ガラス管瓶。

Claims (10)

1. 吐出ヘッドに充填される、機能層形成用材料を含む液状体であって、
   前記液状体が詰められた瓶を、所定の時間内において所定の方向に所定の回数で振とうさせ、
   前記瓶を静置してから所定静置時間の後に、前記振とうにより生じた泡が消えていることを特徴とする液状体。
2. 前記所定静置時間が、貯留部から配管経路を経て前記吐出ヘッドへ到達して充填されるまでの、前記液状体の充填時間以内であることを特徴とする請求項１に記載の液状体。
3. 前記所定静置時間が、５分以内であることを特徴とする請求項２に記載の液状体。
4. 前記所定の方向において２０ｃｍの振とう幅で、１分間に１００回振とうさせることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の液状体。
5. 前記液状体の２３℃における粘度が、１．０ｍＰａ・ｓ（秒）以上、１５．０ｍＰａ・ｓ（秒）以下であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の液状体。
6. 前記液状体に含まれる溶剤の２３℃における粘度が、０．５ｍＰａ・ｓ（秒）以上、１０．０ｍＰａ・ｓ（秒）以下であることを特徴とする請求項５に記載の液状体。
7. 吐出ヘッドに充填される、機能層形成用材料を含む液状体の消泡性評価方法であって、
   前記液状体が詰められた瓶を、所定の時間内において所定の方向に所定の回数で振とうさせる工程と、
   前記振とうにより生じた泡の有無を、前記瓶を静置してから所定静置時間の後に評価する工程と、を備えたことを特徴とする液状体の消泡性評価方法。
8. 前記所定静置時間が、貯留部から配管経路を経て前記吐出ヘッドへ到達して充填されるまでの、前記液状体の充填時間以内であることを特徴とする請求項７に記載の液状体の消泡性評価方法。
9. 前記所定静置時間が、５分以内であることを特徴とする請求項８に記載の液状体の消泡性評価方法。
10. 有機半導体層を含む素子の形成方法であって、請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の液状体を用いて、前記有機半導体層を形成する工程を備えていることを特徴とする素子の形成方法。

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