JP6550830B2 - 機能層形成用組成物、機能層形成用組成物の製造方法、有機ｅｌ素子の製造方法、有機ｅｌ装置、電子機器 - Google Patents

Description

本発明は、機能層形成用組成物、機能層形成用組成物の製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ装置、電子機器に関する。

機能層形成用組成物として、例えば特許文献１には、有機ＥＬ（Electro−Luminescence）素子中の少なくとも１層の有機層を印刷法で形成する際に使用され、蒸気圧が５００Ｐａ以下である溶媒を少なくとも１種類含んでいる有機ＥＬ用塗液が開示されている。
上記特許文献１によれば、印刷法としてオフセット印刷が挙げられ、蒸気圧が５００Ｐａ以下の溶媒として、ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ニトロベンゼンが挙げられている。このような溶媒の構成によれば、印刷法によって有機ＥＬ層を良好に形成できるとしている。

特開２００１−１５５８６１号公報

印刷法として液体（インク）をインクジェットヘッドのノズルから液滴として吐出するインクジェット法が挙げられる。インクジェット法により上記特許文献１の有機ＥＬ用塗液を吐出すると、ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、トリエチルベンゼンなどのアルキルベンゼンは、ニトロベンゼンに比べて沸点が低いため、容易に乾燥が進んでノズル目詰まりなどが生じ易く吐出安定性や膜平坦性を確保することが難しいという課題がある。
また、ニトロベンゼンは極性溶媒であって、電子吸引基であるニトロ基を有している。成膜後の有機ＥＬ層などの機能層に電子吸引基を有する溶媒が残留していると、当該機能層と電子吸引基との相互作用によって、素子特性に影響を及ぼすおそれがあった。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例］本適用例に係る機能層形成用組成物は、有機材料を含む機能層のうちの少なくとも１層を液相プロセスにより形成する際に用いられる機能層形成用組成物であって、機能層形成用の固形分と、電子吸引基を有する第１芳香族溶媒と、電子供与基を有する第２芳香族溶媒と、を含み、前記第１芳香族溶媒の沸点よりも前記第２芳香族溶媒の沸点のほうが高いことを特徴とする。

本適用例によれば、液相プロセスにより機能層のうちの少なくとも１層を形成するにあたり、極性溶媒である第１芳香族溶媒によって固形分に対する溶解性を確保する。そして、第１芳香族溶媒よりも沸点が高い第２芳香族溶媒を加えることにより、機能層形成用組成物（液体）から溶媒を除去する乾燥が第２芳香族溶媒を含まない場合に比べてゆっくりと進むことから、安定した成膜性が得られる機能層形成用組成物を提供できる。また、機能層形成用組成物（液体）の乾燥過程で、電子吸引性の第１芳香族溶媒と電子供与性の第２芳香族溶媒との相互作用（引力）により、第２芳香族溶媒の蒸発と共に第１芳香族溶媒が蒸発する。したがって、成膜後の機能層に第１芳香族溶媒が残留することを低減することができる。つまり、電子吸引基を有する第１芳香族溶媒が機能層に残留することにより素子特性に影響を及ぼすことを抑制することができる。

上記適用例に係る機能層形成用組成物において、前記第１芳香族溶媒の沸点が２００℃以上であって、前記第２芳香族溶媒の沸点が２５０℃以上であることが好ましい。
このような溶媒の構成によれば、液相プロセスとしてのインクジェット法に好適な吐出安定性を示す機能層形成用組成物を提供することができる。

上記適用例に係る機能層形成用組成物において、前記電子吸引基がニトロ基であることが好ましい。
このような第１芳香族溶媒の構成によれば、有機材料に対して高い溶解性を示す。

上記適用例に係る機能層形成用組成物において、前記電子供与基がアルコキシ基またはアミノ基であることが好ましい。
このような第２芳香族溶媒の構成によれば、有機材料に対して低い反応性を示す。なお、アルコキシ基はフェニル基と結合していてもよい。

上記適用例に係る機能層形成用組成物において、前記第２芳香族溶媒の含有割合が１０％以上、９０％以下であることが好ましい。
このような溶媒の構成によれば、インクジェット法を用いたときに、優れた吐出安定性と膜平坦性とが得られる。

上記適用例に係る機能層形成用組成物において、前記第２芳香族溶媒の含有割合は、前記第１芳香族溶媒の含有割合と同じまたは多いことがより好ましい。
このような溶媒の構成によれば、機能層形成用組成物を塗布した後に乾燥させると、第２芳香族溶媒を蒸発させることにより第１芳香族溶媒を確実に蒸発させて除去できることから、機能層に第１芳香族溶媒が残留することを防ぐことができる。

上記適用例に係る機能層形成用組成物において、前記第１芳香族溶媒は、ニトロベンゼン、２，３−ジメチルニトロベンゼン、２，４−ジメチルニトロベンゼンの中から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする。

上記適用例に係る機能層形成用組成物において、前記第２芳香族溶媒は、トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンの中から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする。

これらの溶媒の構成によれば、溶媒を比較的に容易に入手することができる。

［適用例］本適用例に係る機能層形成用組成物の製造方法は、有機材料含む機能層のうちの少なくとも１層を液相プロセスにより形成する際に用いられる機能層形成用組成物の製造方法であって、電子吸引基を有する第１芳香族溶媒に機能層形成用の固形分を溶解させる工程と、前記機能層形成用の固形分が溶解した前記第１芳香族溶媒に電子供与基を有する第２芳香族溶媒を添加する工程と、を含み、前記第１芳香族溶媒の沸点よりも前記第２芳香族溶媒の沸点のほうが高いことを特徴とする。

本適用例によれば、第１芳香族溶媒に機能層形成用の固形分を第２芳香族溶媒に比べて容易に溶解させることができる。また、得られた機能層形成用組成物を塗布して乾燥させると、第２芳香族溶媒を添加しない場合に比べて乾燥がゆっくりと進むことから、安定した成膜性が得られる。また、電子吸引性の第１芳香族溶媒と電子供与性の第２芳香族溶媒との相互作用（引力）により、第２芳香族溶媒の蒸発と共に第１芳香族溶媒が蒸発することから、成膜された機能層に第１芳香族溶媒が残留し難い機能層形成用組成物を製造することができる。

［適用例］本適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法は、一対の電極間に発光層を含む機能層が挟持された有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記一対の電極のうち一方の電極上に、上記適用例に記載の機能層形成用組成物を塗布する工程と、塗布された前記機能層形成用組成物を乾燥して固化し、前記機能層のうちの少なくとも１層を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
本適用例によれば、優れた素子特性を有する有機ＥＬ素子を製造することができる。

上記適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法において、前記機能層形成用組成物を塗布する工程は、インクジェット法により前記一方の電極上の膜形成領域に前記機能層形成用組成物を塗布することが好ましい。
この方法によれば、インクジェットヘッドのノズルから必要量の組成物を無駄なく膜形成領域に吐出でき、優れた膜平坦性が得られる。

［適用例］本適用例に係る有機ＥＬ装置は、上記適用例に記載の有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子を備えていることを特徴とする。
本適用例によれば、優れた電気光学特性を有する有機ＥＬ装置を提供できる。

［適用例］本適用例に係る電子機器は、上記適用例に記載の有機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする。
本適用例によれば、優れた電気光学特性を有する電子機器を提供できる。

有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図。 有機ＥＬ素子の構造を示す概略断面図。 （ａ）〜（ｄ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 機能層における画素中央部の膜厚を示す概略断面図。 （ａ）〜（ｄ）は高分子の正孔注入輸送材料を用いた場合の溶媒の構成とインク吐出性との関係を示す評価結果の表。 （ｅ）〜（ｇ）は高分子の正孔注入輸送材料を用いた場合の溶媒の構成とインク吐出性との関係を示す評価結果の表。 （ａ）〜（ｄ）は高分子の発光材料を用いた場合の溶媒の構成とインク吐出性との関係を示す評価結果の表。 （ｅ）〜（ｇ）は高分子の発光材料を用いた場合の溶媒の構成とインク吐出性との関係を示す評価結果の表。 （ａ）〜（ｄ）は高分子の正孔注入輸送材料を用いた場合の溶媒の構成と膜平坦性との関係を示す評価結果の表。 （ｅ）〜（ｇ）は高分子の正孔注入輸送材料を用いた場合の溶媒の構成と膜平坦性との関係を示す評価結果の表。 （ａ）〜（ｄ）は高分子の発光材料を用いた場合の溶媒の構成と膜平坦性との関係を示す評価結果の表。 （ｅ）〜（ｇ）は高分子の発光材料を用いた場合の溶媒の構成と膜平坦性との関係を示す評価結果の表。 （ａ）〜（ｄ）は低分子の正孔注入輸送材料を用いた場合の溶媒の構成と膜平坦性との関係を示す評価結果の表。 （ｅ）〜（ｇ）は低分子の正孔注入輸送材料を用いた場合の溶媒の構成と膜平坦性との関係を示す評価結果の表。 （ａ）〜（ｄ）は低分子の発光材料を用いた場合の溶媒の構成と膜平坦性との関係を示す評価結果の表。 （ｅ）〜（ｇ）は低分子の発光材料を用いた場合の溶媒の構成と膜平坦性との関係を示す評価結果の表。 比較例１〜比較例３及び実施例１〜実施例１５における有機ＥＬ素子の素子特性の評価結果を示す表。 比較例４〜比較例６及び実施例１６〜実施例３０における有機ＥＬ素子の素子特性の評価結果を示す表。 （ａ）は電子機器の一例であるノート型のパーソナルコンピューターを示す概略図、（ｂ）は電子機器の一例である薄型テレビ（ＴＶ）を示す概略図。

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。

（第１実施形態）
＜有機ＥＬ装置＞
まず、本実施形態の有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置について、図１及び図２を参照して説明する。図１は有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図、図２は有機ＥＬ素子の構造を示す概略断面図である。

図１に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光（発光色）が得られるサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂが配置された素子基板１０１を有している。各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂは略矩形状であり、素子基板１０１の表示領域Ｅにおいてマトリックス状に配置されている。以降、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂを総称してサブ画素１１０と呼ぶこともある。同じ発光色のサブ画素１１０が図面上において垂直方向（列方向あるいはサブ画素１１０の長手方向）に配列し、異なる発光色のサブ画素１１０が図面上において水平方向（行方向あるいはサブ画素１１０の短手方向）にＲ，Ｇ，Ｂの順で配列している。すなわち、異なる発光色のサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂが所謂ストライプ方式で配置されている。なお、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂの平面形状と配置は、これに限定されるものではない。また、略矩形状とは、正方形、長方形に加えて、角部が丸くなった四角形、対向する２辺部が円弧状となった四角形を含むものである。

サブ画素１１０Ｒには、赤（Ｒ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられている。同じく、サブ画素１１０Ｇには、緑（Ｇ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられ、サブ画素１１０Ｂには、青（Ｂ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられている。

このような有機ＥＬ装置１００は、異なる発光色が得られる３つのサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂを１つの表示画素単位として、それぞれのサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂは電気的に制御される。これによりフルカラー表示が可能となっている。

各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂには、図２に示す有機ＥＬ素子１３０が設けられている。有機ＥＬ素子１３０は、素子基板１０１上に設けられた反射層１０２と、絶縁膜１０３と、画素電極１０４と、対向電極１０５と、画素電極１０４と対向電極１０５との間に設けられた、発光層１３３を含む機能層１３６とを有している。

画素電極１０４は、陽極として機能するものであり、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂごとに設けられ、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電膜を用いて形成されている。

画素電極１０４の下層に設けられた反射層１０２は、光透過性を有する画素電極１０４を透過した機能層１３６からの発光を再び画素電極１０４側に反射させるものである。反射層１０２は、光反射性を有する例えばアルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）などの金属やその合金などを用いて形成される。したがって、反射層１０２と画素電極１０４との電気的な短絡を防ぐために、反射層１０２を覆う絶縁膜１０３が設けられる。絶縁膜１０３は、例えば酸化シリコンや窒化シリコンあるいは酸窒化シリコンなどを用いて形成される。

機能層１３６は、画素電極１０４側から、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３、電子輸送層１３４、電子注入層１３５が順に積層されたものである。特に、発光層１３３は発光色に応じて構成材料が選ばれるが、ここでは発光色に関わらず総称して発光層１３３と呼ぶ。なお、機能層１３６の構成は、これに限定されるものではなく、これらの層以外に、キャリア（正孔や電子）の移動を制御する中間層などを備えていてもよい。

対向電極１０５は、陰極として機能するものであり、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂに共通した共通電極として設けられ、例えば、Ａｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）とＭｇ（マグネシウム）の合金などを用いて形成されている。

陽極としての画素電極１０４側から発光層１３３にキャリアとしての正孔が注入され、陰極としての対向電極１０５側から発光層１３３にキャリアとしての電子が注入される。発光層１３３において注入された正孔と電子とにより、励起子（エキシトン；正孔と電子とがクーロン力にて互いに束縛された状態）が形成され、励起子（エキシトン）が消滅する際（正孔と電子とが再結合する際）にエネルギーの一部が蛍光や燐光となって放出される。

有機ＥＬ装置１００において、光透過性を有するように対向電極１０５を構成すれば、反射層１０２を有していることから、発光層１３３からの発光を対向電極１０５側から取り出すことができる。このような発光方式はトップエミッション方式と呼ばれている。また、反射層１０２を無くし、光反射性を有するように対向電極１０５を構成すれば、発光層１３３からの発光を素子基板１０１側から取り出すボトムエミッション方式とすることもできる。本実施形態では、有機ＥＬ装置１００がトップエミッション方式であるとして、以降の説明を行う。なお、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂごとの有機ＥＬ素子１３０をそれぞれ独立して駆動することができる画素回路を素子基板１０１に備えたアクティブ駆動型の発光装置である。画素回路は公知の構成を採用することができるので、図２では画素回路の図示を省略している。

本実施形態において有機ＥＬ装置１００は、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂごとの有機ＥＬ素子１３０における画素電極１０４の外縁と重なると共に、画素電極１０４上に開口部１０６ａを構成する隔壁１０６を有している。
本実施形態において有機ＥＬ素子１３０の機能層１３６は、機能層１３６を構成する正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３のうち、少なくとも１層が液相プロセスで形成されたものである。液相プロセスとは、それぞれの層を構成する成分と溶媒とを含んだ溶液（機能層形成用組成物）を隔壁１０６で囲まれた膜形成領域としての開口部１０６ａに塗布して乾燥させることにより、それぞれの層を形成する方法である。それぞれの層を所望の膜厚で形成するためには、所定量の機能層形成用組成物を精度よく開口部１０６ａに塗布する必要があり、本実施形態では、液相プロセスとしてインクジェット法（液滴吐出法）を採用している。

特に、トップエミッション方式の有機ＥＬ装置１００においては、機能層１３６を構成する各層の断面形状がフラット（平坦）であることが好ましい。本実施形態の機能層形成用組成物は、各層の断面形状がフラット（平坦）になるように、開口部１０６ａに所定量の機能層形成用組成物を万遍なく塗布して乾燥させている。インクジェットヘッドのノズルから機能層形成用組成物を吐出するインクジェット法を用いたときの吐出安定性と、開口部１０６ａにおける機能層１３６の膜平坦性とを確保するため、機能層形成用組成物における溶媒の構成が工夫されている。機能層形成用組成物の詳しい構成については後述する。

＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
次に、本実施形態の発光素子としての有機ＥＬ素子の製造方法について、図３を参照して具体的に説明する。図３（ａ）〜（ｄ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図である。なお、前述したように、有機ＥＬ素子１３０を駆動制御する画素回路や、反射層１０２や画素電極１０４の形成方法は、公知の方法を採用できるので、ここでは、隔壁形成工程以降について説明する。

本実施形態の有機ＥＬ素子１３０の製造方法は、隔壁形成工程（ステップＳ１）と、表面処理工程（ステップＳ２）と、機能層形成工程（ステップＳ３）と、対向電極形成工程（ステップＳ４）とを有している。

ステップＳ１の隔壁形成工程では、図３（ａ）に示すように、反射層１０２及び画素電極１０４が形成された素子基板１０１に、例えば機能層形成用組成物に対して撥液性を示す撥液材料を含む感光性樹脂材料を１μｍ〜２μｍの厚みで塗布して乾燥することにより感光性樹脂層を形成する。塗布方法としては、転写法、スリットコート法などが挙げられる。撥液材料としてはフッ素化合物やシロキサン系化合物が挙げられる。感光性樹脂材料としては、ネガ型の多官能アクリル樹脂を挙げることができる。できあがった感光性樹脂層をサブ画素１１０の形状に対応した露光用マスクを用いて露光・現像して、画素電極１０４の外縁と重なると共に、画素電極１０４上に開口部１０６ａを構成する隔壁１０６を形成する。そして、ステップＳ２へ進む。

ステップＳ２の表面処理工程では、隔壁１０６が形成された素子基板１０１に表面処理を施す。表面処理工程は、次工程で機能層１３６を構成する正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３をインクジェット法（液滴吐出法）で形成するに際して、隔壁１０６で囲まれた開口部１０６ａにおいて、機能層形成材料（固形分）を含む機能層形成用組成物がむらなく濡れ拡がるように、画素電極１０４の表面の隔壁残渣などの不要物を取り除く目的で行われる。表面処理方法として、本実施形態ではエキシマＵＶ（紫外線）処理を実施した。なお、表面処理方法はエキシマＵＶ処理に限定されず、画素電極１０４の表面を清浄化できればよく、例えば溶媒による洗浄・乾燥工程を行ってもよい。また、画素電極１０４の表面が清浄な状態であれば、表面処理工程を実施しなくてもよい。なお、本実施形態では、撥液材料を含む感光性樹脂材料を用いて隔壁１０６を形成したが、これに限定されるものではなく、撥液材料を含まない感光性樹脂材料を用いて隔壁１０６を形成した後に、ステップＳ２において、フッ素系の処理ガスを用いた例えばプラズマ処理を施して隔壁１０６の表面に撥液性を与え、その後、酸素を処理ガスとするプラズマ処理を施して画素電極１０４の表面を親液化する表面処理を行ってもよい。そして、ステップＳ３へ進む。

ステップＳ３の機能層形成工程では、まず、図３（ｂ）に示すように、正孔注入材料を含む機能層形成用組成物としての正孔注入層形成用インク５０を開口部１０６ａに塗布する。正孔注入層形成用インク５０の塗布方法は、正孔注入層形成用インク５０をインクジェットヘッド２０のノズル２１から液滴Ｄとして吐出するインクジェット法（液滴吐出法）を用いる。インクジェットヘッド２０から吐出される液滴Ｄの吐出量は、ｐｌ（ピコリットル）単位で制御可能であって、所定量を液滴Ｄの吐出量で除した数の液滴Ｄが開口部１０６ａに吐出される。吐出された正孔注入層形成用インク５０は隔壁１０６との界面張力により開口部１０６ａにおいて盛り上がるが、溢れてしまうことはない。言い換えれば、開口部１０６ａから溢れ出ない程度の所定量となるように、正孔注入層形成用インク５０における正孔注入材料の濃度が予め調整されている。そして、乾燥工程に進む。

乾燥工程では、例えば正孔注入層形成用インク５０が塗布された素子基板１０１を減圧下に放置し、正孔注入層形成用インク５０から溶媒を蒸発させて乾燥する減圧乾燥を用いる（減圧乾燥工程）。その後、大気圧下で例えば１８０℃で３０分間加熱する焼成処理を施すことにより固化して、図３（ｃ）に示すように正孔注入層１３１を形成する。正孔注入層１３１は、後述する正孔注入材料の選択や機能層１３６における他の層との関係で必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ１０ｎｍ〜３０ｎｍの膜厚で形成される。

次に、正孔輸送材料を含む機能層形成用組成物としての正孔輸送層形成用インク６０を用いて正孔輸送層１３２を形成する。正孔輸送層１３２の形成方法も、正孔注入層１３１と同様にインクジェット法（液滴吐出法）を用いて行う。すなわち、所定量の正孔輸送層形成用インク６０をインクジェットヘッド２０のノズル２１から液滴Ｄとして開口部１０６ａに吐出する。そして、開口部１０６ａに塗布された正孔輸送層形成用インク６０を減圧乾燥する。その後、窒素などの不活性ガス環境下で、例えば１８０℃で３０分間加熱する焼成処理を施すことにより正孔輸送層１３２を形成する。正孔輸送層１３２は、後述する正孔輸送材料の選択や機能層１３６における他の層との関係で必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ１０ｎｍ〜２０ｎｍの膜厚で形成される。また、機能層１３６における他の層との関係で正孔注入層１３１と正孔輸送層１３２とを合体して正孔注入輸送層としてもよい。

次に、発光層形成材料を含む機能層形成用組成物としての発光層形成用インク７０を用いて発光層１３３を形成する。発光層１３３の形成方法も、正孔注入層１３１と同様に、インクジェット法（液滴吐出法）を用いて行う。すなわち、所定量の発光層形成用インク７０をインクジェットヘッド２０のノズル２１から液滴Ｄとして開口部１０６ａに吐出する。そして、開口部１０６ａに塗布された発光層形成用インク７０を減圧乾燥する。その後、窒素などの不活性ガス環境下で、例えば１３０℃で３０分間加熱する焼成処理を施すことにより発光層１３３を形成する。発光層１３３は、後述する発光層形成材料の選択や機能層１３６における他の層との関係で必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ６０ｎｍ〜８０ｎｍの膜厚で形成される。

次に、発光層１３３を覆って電子輸送層１３４が形成される。電子輸送層１３４を構成する電子輸送材料としては、特に限定されないが、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、ＢＡＬｑ、１，３，５−トリ（５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール）（ＯＸＤ−１）、ＢＣＰ（Bathocuproine）、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）、３−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、４，４’−ｂｉｓ（１，１−ｂｉｓジフェニルエテニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、２，５−ｂｉｓ（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＮＤ）、４，４’−ｂｉｓ（１，１−ｂｉｓ（４−メチルフェニル）エテニル）ビフェニル（ＤＴＶＢｉ）、２，５−ｂｉｓ（４−ビフェニリル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＢＤ）などを挙げることができる。

また、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、フェナンソロリン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン誘導体、フルオレン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン誘導体、ジフェノキノン誘導体、ヒドロキシキノリン誘導体などを挙げることができる。これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

電子輸送層１３４は、上記電子輸送材料の選択や機能層１３６における他の層との関係で必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ２０ｎｍ〜４０ｎｍの膜厚で形成される。これにより、陰極としての対向電極１０５から注入された電子を好適に発光層１３３に輸送することができる。なお、機能層１３６における他の層との関係で電子輸送層１３４を削除することもできる。

次に、電子輸送層１３４を覆って電子注入層１３５を形成する。電子注入層１３５を構成する電子注入材料としては、特に限定されないが、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、アルカリ金属化合物やアルカリ土類金属化合物を挙げることができる。

アルカリ金属化合物としては、例えば、ＬｉＦ、Ｌｉ₂ＣＯ₃、ＬｉＣｌ、ＮａＦ、Ｎａ₂ＣＯ₃、ＮａＣｌ、ＣｓＦ、Ｃｓ₂ＣＯ₃、ＣｓＣｌなどのアルカリ金属塩が挙げられる。また、アルカリ土類金属化合物としては、例えば、ＣａＦ₂、ＣａＣＯ₃、ＳｒＦ₂、ＳｒＣＯ₃、ＢａＦ₂、ＢａＣＯ₃などのアルカリ土類金属塩が挙げられる。これらのアルカリ金属化合物やアルカリ土類金属化合物うちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

電子注入層１３５の膜厚は、特に限定されないが、０．０１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、０．１ｎｍ以上、５ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。これによって、陰極としての対向電極１０５から電子輸送層１３４に電子を効率よく注入できる。

次に、ステップＳ４の対向電極形成工程では、電子注入層１３５を覆って陰極としての対向電極１０５を形成する。対向電極１０５の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましく、且つ真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ａｕまたはこれらを含む合金などが用いられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体など）用いることができる。

特に、本実施形態のように、有機ＥＬ装置１００をトップエミッション方式とする場合、対向電極１０５の構成材料としては、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕなどの金属またはＭｇＡｇ、ＭｇＡｌ、ＭｇＡｕ、ＡｌＡｇなどの合金を用いるのが好ましい。このような金属または合金を用いることにより、対向電極１０５の光透過性を維持しつつ、対向電極１０５の電子注入効率及び安定性の向上を図ることができる。
トップエミッション方式における対向電極１０５の膜厚は、特に限定されないが、１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

なお、有機ＥＬ装置１００をボトムエミッション方式とする場合、対向電極１０５には光透過性が求められない。したがって、例えば、Ａｌ、Ａｇ、ＡｌＡｇ、ＡｌＮｄなどの金属または合金が好ましく用いられる。このような金属または合金を対向電極１０５の構成材料として用いることにより、対向電極１０５の電子注入効率及び安定性の向上を図ることができる。
ボトムエミッション方式における対向電極１０５の膜厚は、特に限定されないが、５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

図３（ｄ）に示すように、上記製造方法により形成された有機ＥＬ素子１３０は、例えば、外部から水分や酸素などが浸入すると、機能層１３６における発光機能が阻害され、部分的に発光輝度が低下したり、発光しなくなったりする暗点（ダークスポット）が発生する。また、発光寿命が短くなるおそれがある。そこで、有機ＥＬ素子１３０を水分や酸素などの浸入から保護するために、封止層（図示省略）によって覆うことが好ましい。封止層としては、例えば、水分や酸素などの透過性が低い、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）などの無機絶縁材料を用いることができる。さらには、例えば透明なガラスなどの封止基板を、有機ＥＬ素子１３０が形成された素子基板１０１に接着剤を介して貼り付けることにより、有機ＥＬ素子１３０を封着してもよい。

上記有機ＥＬ素子１３０の製造方法では、機能層１３６のうち、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を液相プロセス（インクジェット法）で形成したが、これらの層のうち１つを液相プロセス（インクジェット法）で形成すればよく、他の層は真空蒸着などの気相プロセスを用いて形成してもよい。

次に、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３について、液相プロセスまたは気相プロセスで用いることが可能な構成材料について説明する。

［正孔注入輸送材料（ＨＩＬ及びＨＴＬ材料）］
正孔注入層（ＨＩＬ）１３１や正孔輸送層（ＨＴＬ）１３２の形成に好適な正孔注入輸送材料としては、特に限定されないが、各種ｐ型の高分子材料や、各種ｐ型の低分子材料を単独または組み合わせて用いることができる。

ｐ型の高分子材料（有機ポリマー）としては、例えば、ポリ（２，７−（９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン）−（１，４−フェニレン−（（４−sec−ブチルフェニル）イミノ）−１，４−フェニレン（ＴＦＢ）などのポリアリールアミンのようなアリールアミン骨格を有する芳香族アミン系化合物、フルオレン−ビチオフェン共重合体のようなフルオレン骨格や、フルオレン−アリールアミン共重合体のようなアリールアミン骨格およびフルオレン骨格の双方を有するポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）（ＰＶＫ）、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂またはその誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系、ポリ[ｂｉｓ(４―フェニル)(２，４，６―トリメチルフェニル)アミン])（ＰＴＴＡ）、ポリ［Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（フェニル）−ベンジジン］などが挙げられる。
このようなｐ型の高分子材料は、他の化合物との混合物として用いることもできる。一例として、ポリチオフェンを含有する混合物としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン／スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、綜研化学製導電性ポリマーベラゾール（商標）など、ポリアニリンとして日産化学製エルソース（商標）が挙げられる。

ｐ型の低分子材料としては、例えば、１，１−ｂｉｓ（４−ジ−パラ−トリアミノフェニル）シクロへキサン、１，１’−ｂｉｓ（４−ジ−パラ−トリルアミノフェニル）−４−フェニル−シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）のようなアリールシクロアルカン系化合物、４，４’，４’’−トリメチルトリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（３−メチルフェニル）−１，１’ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ１）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（４−メトキシフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ２）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−メトキシフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ３）、Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（α−ＮＰＤ）、トリフェニルアミン−テトラマー（ＴＰＴＥ）、１，３，５−トリス−[４−（ジフェニルアミノ）ベンゼン（ＴＤＡＰＢ）、トリス−（４−カルバゾール−９−イル−フェニル）−アミン（スピローＴＡＤ）、トリス−ｐ−トリルアミン（ＨＴＭ１）、１，１−ｂｉｓ［（ジ−４−トリルアミノ）フェニル］シクロヘキサン（ＨＴＭ２）、Ｎ４,Ｎ４’−(ビフェニル−４,４’−ジイル)ｂｉｓ（Ｎ４,Ｎ４’,Ｎ４’−トリフェニルビフェニル−４,４’−ジアミン）（ＴＰＴ１）のようなアリールアミン系化合物、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−パラ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（パラ−トリル）−パラ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（メタ−トリル）−メタ−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）、ＰＤＡ−Ｓｉ（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．Ｖｏｌ．４６２．ｐｐ．２４９−２５６，２００７）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，４−フェニレンジアミン（ＤＰＰＤ）のようなフェニレンジアミン系化合物、カルバゾール、Ｎ−イソプロピルカルバゾール、Ｎ−フェニルカルバゾール、ＶＢ−ＴＣＡ（Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２００７，１９，３００−３０４）のようなカルバゾール系化合物、スチルベン、４−ジ−パラ−トリルアミノスチルベンのようなスチルベン系化合物、ＯｘＺのようなオキサゾール系化合物、トリフェニルメタン、４，４’，４”−トリス（Ｎ−３−メチルフェニル−Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、４，４’，４”−トリス（Ｎ，Ｎ−（２−ナフチル）フェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）、４，４’，４”−トリ（Ｎ−カルバゾリル）トリフェニルアミン（ＴＣＴＡ）のようなトリフェニルメタン系化合物、１−フェニル−３−（パラ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリンのようなピラゾリン系化合物、ベンジン（シクロヘキサジエン）系化合物、トリアゾールのようなトリアゾール系化合物、イミダゾールのようなイミダゾール系化合物、１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ジ（４−ジメチルアミノフェニル）−１，３，４，−オキサジアゾールのようなオキサジアゾール系化合物、アントラセン、９−（４−ジエチルアミノスチリル）アントラセンのようなアントラセン系化合物、フルオレノン、２，４，７，−トリニトロ−９−フルオレノン、２，７−ｂｉｓ（２−ヒドロキシ−３−（２−クロロフェニルカルバモイル）−１−ナフチルアゾ）フルオレノンのようなフルオレノン系化合物、ポリアニリンのようなアニリン系化合物、シラン系化合物、１，４−ジチオケト−３，６−ジフェニル−ピロロ−（３，４−ｃ）ピロロピロールのようなピロール系化合物、フローレンのようなフローレン系化合物、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリンのようなポルフィリン系化合物、キナクリドンのようなキナクリドン系化合物、フタロシアニン、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、テトラ（ｔ−ブチル）銅フタロシアニン、鉄フタロシアニンのような金属または無金属のフタロシアニン系化合物、銅ナフタロシアニン、バナジルナフタロシアニン、モノクロロガリウムナフタロシアニンのような金属または無金属のナフタロシアニン系化合物、Ｎ，Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニルベンジジンのようなベンジジン系化合物などが挙げられる。なお、ＰＤＡ−Ｓｉは、高分子化を図るために、カチオン重合性化合物：キシレンビスオキセタン（東亞合成 アロンオキセタンＯＸＴ−１２１）、ラジカル重合開始剤：脂肪族系ジアシルパーオキサイド（パーロイルＬ、日本油脂株式会社）が添加されて用いられる。

次に、蛍光または燐光が得られる発光材料（ＥＭＬ材料）について、発光色ごとに具体例を挙げて説明する。

［赤色発光材料］
まず、赤色発光材料としては、特に限定されず、各種赤色蛍光材料、赤色燐光材料を１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
赤色蛍光材料としては、赤色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、ペリレン誘導体、ユーロピウム錯体、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、ポルフィリン誘導体、ナイルレッド、２−（１，１−ジメチルエチル）−６−（２−（２，３，６，７−テトラヒドロ−１，１，７，７−テトラメチル−１Ｈ，５Ｈ−ベンゾ（ｉｊ）キノリジン−９−イル）エテニル）−４Ｈ−ピラン−４Ｈ−イリデン）プロパンジニトリル（ＤＣＪＴＢ）、４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）、ポリ[２−メトキシ−５−（２−エチルヘキシロキシ）−１，４−（１−シアノビニレンフェニレン）]、ポリ[｛９，９−ジヘキシル−２，７−ｂｉｓ（１−シアノビニレン）フルオレニレン｝オルト−ｃｏ−｛２，５−ｂｉｓ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアミノ）−１，４−フェニレン｝]、ポリ[{２−メトキシ−５−（２−エチルヘキシロキシ）−１，４−（１−シアノビニレンフェニレン）}−ｃｏ−{２，５−ｂｉｓ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアミノ）−１，４−フェニレン}]などが挙げられる。

赤色燐光材料としては、赤色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウムなどの金属錯体が挙げられ、これら金属錯体の配位子の内の少なくとも１つがフェニルピリジン骨格、ビピリジル骨格、ポルフィリン骨格などを持つものも挙げられる。より具体的には、トリス（１−フェニルイソキノリン）イリジウム、ｂｉｓ［２−（２’−ベンゾ［４，５−α］チエニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ３’］イリジウム（アセチルアセトネート）（Ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ））、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−１２Ｈ，２３Ｈ−ポルフィリン−白金（ＩＩ）、ファク−トリス（２−フェニル）−ｂｉｓ（２−（２’−ベンゾ［４，５−α］チエニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ３’］イリジウム（アセチルアセトネート）（Ｂｔ２Ｉｒ（ａｃａｃ））、ｂｉｓ（２−フェニルピリジン）イリジウム（アセチルアセトネート）などが挙げられる。

また、赤色の発光層１３３中には、前述した赤色発光材料の他に、赤色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料を含んでいてもよい。
ホスト材料は、正孔と電子とを再結合して励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを赤色発光材料に移動（フェルスター移動またはデクスター移動）させて、赤色発光材料を励起する機能を有する。このようなホスト材料を用いる場合、例えば、ゲスト材料である赤色発光材料をドーパントとしてホスト材料にドープして用いることができる。
このようなホスト材料としては、用いる赤色発光材料に対して前述したような機能を発揮するものであれば、特に限定されないが、赤色発光材料が赤色蛍光材料を含む場合、例えば、ナフタセン誘導体、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体のようなアセン誘導体（アセン系材料）、ジスチリルアリーレン誘導体、ペリレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアミン誘導体、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）などのキノリノラト系金属錯体（ＢＡｑｌ）、トリフェニルアミンの４量体などのトリアリールアミン誘導体（ＴＤＡＰＢ）、オキサジアゾール誘導体、シロール誘導体（ＳｉｍＣＰ、ＵＧＨ３）、ジカルバゾール誘導体（ＣＢＰ、ｍＣＰ、ＣＤＢＰ、ＤＣＢ）、オリゴチオフェン誘導体、ベンゾピラン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、キノリン誘導体、４，４’−ｂｉｓ（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、リン誘導体（ＰＯ６）などが挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。
前述したような赤色発光材料（ゲスト材料）およびホスト材料を用いる場合、赤色の発光層１３３中における赤色発光材料の含有量（ドープ量）は、０．０１〜１０ｗｔ％であるのが好ましく、０．１〜５ｗｔ％であるのがより好ましい。赤色発光材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができる。

［緑色発光材料］
緑色発光材料としては、特に限定されず、例えば、各種緑色蛍光材料および緑色燐光材料が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
緑色蛍光材料としては、緑色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、クマリン誘導体、キナクリドンおよびその誘導体、９，１０−ｂｉｓ［（９−エチル−３−カルバゾール）−ビニレニル］−アントラセン、ポリ（９，９−ジヘキシル−２，７−ビニレンフルオレニレン）、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（１，４−ジフェニレン−ビニレン−２−メトキシ−５−｛２−エチルヘキシルオキシ｝ベンゼン）］、ポリ［（９，９−ジオクチル−２，７−ジビニレンフルオレニレン）−オルト−ｃｏ−（２−メトキシ−５−（２−エトキシルヘキシルオキシ）−１，４−フェニレン）］、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−オルト−ｃｏ−（１，４−ベンゾ−｛２,１’,３｝−チアジアゾール）］（Ｆ８ＢＴ）などが挙げられる。

緑色燐光材料としては、緑色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウムなどの金属錯体が挙げられ、具体的には、ファク−トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（Ｉｒ（ｐｐｙ）３）、ｂｉｓ（２−フェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（アセチルアセトネート）（Ｐｐｙ２Ｉｒ（ａｃａｃ））、ファク−トリス［５−フルオロ−２−（５−トリフルオロメチル−２−ピリジン）フェニル−Ｃ，Ｎ］イリジウムなどが挙げられる。
また、緑色の発光層１３３中には、前述した緑色発光材料の他に、緑色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料が含まれていてもよい。
このようなホスト材料としては、前述した赤色の発光層１３３で説明したホスト材料と同様のものを用いることができる。

［青色発光材料］
青色発光材料としては、例えば、各種青色蛍光材料および青色燐光材料が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
青色蛍光材料としては、青色の蛍光を発するものであれば、特に限定されず、例えば、ジスチリルジアミン系化合物などのジスチリルアミン誘導体、フルオランテン誘導体、ピレン誘導体、ペリレンおよびペリレン誘導体、アントラセン誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、クリセン誘導体、フェナントレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、テトラフェニルブタジエン、４，４’−ｂｉｓ（９−エチル−３−カルバゾビニレン）−１，１’−ビフェニル（ＢＣｚＶＢｉ）、ポリ［（９．９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（２，５−ジメトキシベンゼン−１，４−ジイル）］、ポリ［（９，９−ジヘキシルオキシフルオレン−２，７−ジイル）−オルト−ｃｏ−（２−メトキシ−５−｛２−エトキシヘキシルオキシ｝フェニレン−１，４−ジイル）］、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（エチルニルベンゼン）］、ポリ［（９．９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（Ｎ,Ｎ’−ジフェニル）−Ｎ,Ｎ’−ジ（パラ−ブチルフェニル）−１,４−ジアミノ−ベンゼン］］などが挙げられる。

青色燐光材料としては、青色の燐光を発するものであれば、特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウムなどの金属錯体が挙げられ、具体的には、ｂｉｓ［４，６−ジフルオロフェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ２’］−ピコリネート−イリジウム（ＦＩｒｐｉｃ）、トリス（１−フェニル−３−メチルベンズイミダゾリン−２−イリデン−Ｃ,Ｃ２’）（Ｉｒ（ｐｍｂ）３）、ｂｉｓ（２,４−ジフルオロフェニルピリジネート）（５−（ピリジン−２−イル）−１Ｈ−テトラゾール）イリジウム（ＦＩｒＮ４）、トリス［２−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ２’］イリジウム、ｂｉｓ［２−（３，５−トリフルオロメチル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ２’］−ピコリネート−イリジウム、ｂｉｓ（４，６−ジフルオロフェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（アセチルアセトネート）などが挙げられる。
また、青色の発光層１３３中には、前述した青色発光材料の他に、青色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料が含まれていてもよい。
このようなホスト材料としては、前述した赤色の発光層１３３で説明したホスト材料と同様のものを用いることができる。

なお、本実施形態において、低分子とは分子量が１０００未満のものを指し、高分子とは分子量が１０００以上であって、基本骨格が繰り返された構造を有するものを指す。

＜機能層形成用組成物＞
次に、本実施形態の機能層形成用組成物について説明する。本実施形態の有機ＥＬ素子１３０の機能層１３６のうち、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３のそれぞれを液相プロセス（インクジェット法）で形成する際に好適な機能層形成用組成物の基本的な構成は、次の通りである。
機能層形成用組成物は、機能層形成用の固形分と、電子吸引基を有する第１芳香族溶媒と、電子供与基を有する第２芳香族溶媒と、を含み、第１芳香族溶媒の沸点よりも第２芳香族溶媒の沸点のほうが高い。

また、インクジェット法を用いるにあたり、インクジェットヘッドのノズルから機能層形成用組成物を安定して吐出することができること（吐出安定性）、成膜された機能層１３６の膜平坦性が得られることを考慮して溶媒の選択と含有割合が設定される。また、成膜された機能層１３６を含む有機ＥＬ素子１３０において所望の素子特性が得られるように溶媒の選択と含有割合が設定される。

＜第１芳香族溶媒＞
電子吸引基を有する第１芳香族溶媒は、機能層形成用の固形分（有機ＥＬ材料）に対して優れた溶解性を有し（良溶媒であり）、吐出安定性を考慮すると沸点（ｂｐ）が２００℃以上であることが好ましい。具体的には、電子吸引基としてニトロ基（−ＮＯ₂基）を有する、ニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）、２，３−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）、２，４−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）などが挙げられる。

＜第２芳香族溶媒＞
電子供与基を有する第２芳香族溶媒は、機能層形成用の固形分（有機ＥＬ材料）に対して必ずしも良溶媒でなくてもよく、沸点（ｂｐ）が第１芳香族溶媒よりも高い２５０℃以上であることが好ましい。具体的には、電子供与基としてアルコキシ基（−ＯＲ基）またはアミノ基（−ＮＨ₃基）を有する、α，α，４−トリメトキシトルエン（ｂｐ；２５３℃）、ジフェニルエーテル（ｂｐ；２５８℃）、３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）、ベンジルフェニルエーテル（ｂｐ；２８８℃）、アミノビフェニル（ｂｐ；２９９℃）、ジフェニルアミン（ｂｐ；３０２℃）が挙げられる。なお、アルコキシ基のＲはアルキル基に限らずフェニル基であってもよい。また、第２芳香族溶媒の乾燥性を考慮すると、沸点（ｂｐ）は３５０℃以下であることが好ましい。

＜機能層形成用組成物の製造方法＞
本実施形態における機能層形成用組成物の製造方法は、電子吸引基を有する第１芳香族溶媒に機能層形成用の固形分を溶解させる工程と、機能層形成用の固形分が溶解した第１芳香族溶媒に電子供与基を有する第２芳香族溶媒を添加する工程と、を含んでいる。上述したように、第１芳香族溶媒は機能層形成用の固形分である有機ＥＬ材料に対して高い溶解性を示すので、第２芳香族溶媒よりも第１芳香族溶媒に固形分を溶解させたほうが調合作業が短時間で済む。また、第１芳香族溶媒に沸点が高い第２芳香族溶媒を添加することで、化学的に安定で取扱いがし易い機能層形成用組成物とすることができる。

次に、インクジェット法を用いた場合の具体的な吐出安定性及び膜平坦性の評価方法と評価結果について説明する。なお、本実施形態では、インクジェット法を用いて機能層形成用組成物を塗布するため、説明の都合上、以降、機能層形成用組成物を単に「インク」と呼ぶこともある。

＜吐出安定性の評価＞
まず、吐出安定性の評価方法と評価結果について、図５〜図８を参照して説明する。図５（ａ）〜（ｄ）及び図６（ｅ）〜（ｇ）は高分子の正孔注入輸送材料を用いた場合の溶媒の構成とインク吐出性との関係を示す評価結果の表である。図７（ａ）〜（ｄ）及び図８（ｅ）〜（ｇ）は高分子の発光材料を用いた場合の溶媒の構成とインク吐出性との関係を示す評価結果の表である。

インクジェット法では、溶媒に溶解させた固形分が高分子材料であるほど、ノズル内のインクが乾燥したときに固形分が析出し易い。よって、固形分が高分子材料である例を挙げて吐出安定性の評価方法を説明する。ノズル内においてインクが乾燥し固形分が析出すると、ノズルの目詰まりが生ずることから、ノズルから吐出された液滴の吐出量が小さく（少なく）なる。そこで、本実施形態における吐出安定性の評価方法は、初期のインク吐出量を「１」としたときに、１時間放置した後にノズルから吐出された液滴の吐出量が、０．９９以上１．０１以下の範囲内にあることを「○（良）」とし、０．９５以上０．９９未満の範囲内にあることを「△（やや不良）」とし、０．９５未満であることを「×（不良）」とした。先に説明したように、インクジェットヘッドのノズルから吐出される１滴の液滴の吐出量（体積）はｐｌ（ピコリットル）単位であって、インク吐出量を精度よく求めるため、実際には、例えば数万発の液滴を吐出して重量を測定し、測定された重量を吐出回数（数万発）で除することにより１滴あたりのインク吐出量を算出した。

図５（ａ）〜（ｄ）及び図６（ｅ）〜（ｇ）は、高分子の正孔注入輸送材料（ＨＩＬ、ＨＴＬ）として、前述したＰＶＫ、ＰＦ、ＰＰＶ、ＰＭＰＳ、ＰＴＴＡ、Ｐｏｌｙ［Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（４−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（ｐｈｅｎｙｌ）−ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ］、ＴＦＢの中から選択した。また、第１芳香族溶媒Ａとして前述した、ニトロベンゼン、２，３−ジメチルニトロベンゼン、２，４−ジメチルニトロベンゼンの中から選択した。また、第２芳香族溶媒Ｂとして前述した、α，α，４−トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンのそれぞれとの組み合わせに加えて、沸点（ｂｐ）が１７０℃の２−メトキシトルエンとの組み合わせを評価した。２−メトキシトルエンは、電子供与基としてアルコキシ基であるメトキシ基（−ＯＣＨ₃基）を有している。

第１芳香族溶媒Ａと第２芳香族溶媒Ｂとの混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）％は、０：１００、１０：９０、３０：７０、５０：５０、７０：３０、９０：１０、１００：０の７種類で評価した。なお、本実施形態における含有割合は体積（Ｖｏｌ）％であるが、重量（ｗｔ）％でも同様な評価結果が導かれる。

図５（ａ）に示すように、溶媒構成が、ニトロベンゼンと２−メトキシトルエンとの組み合わせである場合、混合溶媒における含有割合に係らずインク吐出性（吐出安定性）の評価は、すべて「×」であった。溶媒構成が、２，３−ジメチルニトロベンゼンまたは２，４−ジメチルニトロベンゼンと２−メトキシトルエンとの組み合わせである場合、混合溶媒における含有割合が、０：１００、１０：９０におけるインク吐出性（吐出安定性）の評価は「×」であり、混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が、３０：７０、５０：５０、７０：３０、９０：１０、１００：０におけるインク吐出性（吐出安定性）の評価は「△」であった。

これに対して、図５（ｂ）〜（ｄ）及び図６（ｅ）〜（ｇ）に示すように、第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼンと、第２芳香族溶媒Ｂとして、α，α，４−トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンのそれぞれと、を組み合わせた場合、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０以外ではインク吐出性（吐出安定性）の評価は、すべて「○」であった。１００：０のときのインク吐出性（吐出安定性）は「×」であった。
第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼンまたは２，４−ジメチルニトロベンゼンと、第２芳香族溶媒Ｂとして、α，α，４−トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンのそれぞれと、を組み合わせた場合、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０以外ではインク吐出性（吐出安定性）の評価は、すべて「○」であった。混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０のときのインク吐出性（吐出安定性）は「△」であった。

図７（ａ）〜（ｄ）及び図８（ｅ）〜（ｇ）は、高分子の発光材料（ＥＭＬ）として、前述した赤色発光材料であるPoly[{9,9-dihexyl-2,7-bis(1-cyanovinylene)fluorenyl- ene}-alt-co-{2,5-bis(N,N’-diphenylamino)-1,4-phenylene}]（表中では表示の都合上、Red-Poly-EMとする）、緑色発光材料であるPoly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-alt-co-(1,4-benzo-{2,1’,3}-thiadiazole)]（F8BT）（表中では表示の都合上、Green-Poly-EMとする）、青色発光材料であるPoly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(N,N’-diphenyl)-N,N’-di(pbutylphenyl)-1,4-diamino-benzene)]（表中では表示の都合上、Blue-Poly-EMとする）をそれぞれ用いてインクを構成した。第１芳香族溶媒Ａと第２芳香族溶媒Ｂの選択の仕方は、高分子の正孔注入輸送材料（ＨＩＬ、ＨＴＬ）の場合と同じである。

図７（ａ）に示すように、溶媒構成が、ニトロベンゼンと２−メトキシトルエンとの組み合わせである場合、混合溶媒における含有割合に係らずインク吐出性（吐出安定性）の評価は、すべて「×」であった。溶媒構成が、２，３−ジメチルニトロベンゼンまたは２，４−ジメチルニトロベンゼンと２−メトキシトルエンとの組み合わせである場合、混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が、０：１００、１０：９０におけるインク吐出性（吐出安定性）の評価は「×」であり、混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が、３０：７０、５０：５０、７０：３０、９０：１０、１００：０におけるインク吐出性（吐出安定性）の評価は「△」であった。

これに対して、図７（ｂ）〜（ｄ）及び図８（ｅ）〜（ｇ）に示すように、第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼンと、第２芳香族溶媒Ｂとして、α，α，４−トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンのそれぞれと、を組み合わせた場合、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０以外ではインク吐出性（吐出安定性）の評価は、すべて「○」であった。混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０のときのインク吐出性（吐出安定性）は「×」であった。
第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼンまたは２，４−ジメチルニトロベンゼンと、第２芳香族溶媒Ｂとして、α，α，４−トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンのそれぞれと、を組み合わせた場合、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０以外ではインク吐出性（吐出安定性）の評価は、すべて「○」であった。混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０のときのインク吐出性（吐出安定性）は「△」であった。

上記吐出安定性の評価結果が示すように、第２芳香族溶媒Ｂとして選択した溶媒（２−メトキシトルエン）の沸点（ｂｐ）が２００℃以下である場合は、１時間の放置でノズル内のインクの乾燥が進みインク吐出量が不安定となる（少なくなる）。また、第１芳香族溶媒Ａを単独で用いた場合もインク吐出量が不安定となる（少なくなる）。一方で、第２芳香族溶媒Ｂとして選択した溶媒の沸点（ｂｐ）が２５０℃以上である場合は、１時間放置した後でもノズル内のインクの乾燥が進み難く、インク吐出量が安定している。

＜膜平坦性の評価＞
次に、膜平坦性の評価方法と評価結果について、図４、図９〜図１６を参照して説明する。図４は機能層における画素中央部の膜厚を示す概略断面図、図９（ａ）〜（ｄ）及び図１０（ｅ）〜（ｇ）は高分子の正孔注入輸送材料を用いた場合の溶媒の構成と膜平坦性との関係を示す評価結果の表である。図１１（ａ）〜（ｄ）及び図１２（ｅ）〜（ｇ）は高分子の発光材料を用いた場合の溶媒の構成と膜平坦性との関係を示す評価結果の表である。図１３（ａ）〜（ｄ）及び図１４（ｅ）〜（ｇ）は低分子の正孔注入輸送材料を用いた場合の溶媒の構成と膜平坦性との関係を示す評価結果の表である。図１５（ａ）〜（ｄ）及び図１６（ｅ）〜（ｇ）は低分子の発光材料を用いた場合の溶媒の構成と膜平坦性との関係を示す評価結果の表である。

インクジェット法では、前述したように隔壁１０６で囲まれた開口部１０６ａに所定量のインクを精度よく吐出することで成膜された機能層の膜平坦性を確保している。また、膜平坦性は、インクに含まれる固形分が高分子材料か低分子材料かによっても影響されると考えられる。具体的には、開口部１０６ａにインクを塗布して乾燥させたときに、隔壁１０６の側壁において成膜が始まるピニング位置（膜固定位置）が高分子材料か低分子材料かによって異なり、これが乾燥後の膜平坦性に影響すると考えられる。

図４に示すように、成膜された膜の画素電極１０４の中央部における膜厚を画素内中央膜厚ｔｃとし、画素電極１０４に接する範囲における膜厚の平均を画素内平均膜厚ｔａとする。これらの膜厚は、例えば触針式の測定装置によって測定することができる。開口部１０６ａに塗布されたインクの乾燥の進み方や上記ピニング位置によって、成膜後の膜断面形状が画素中央部において盛り上がったり、凹んだりする。つまり、画素内中央膜厚ｔｃが変動する。

本実施形態の膜平坦性の評価方法は、画素内平均膜厚ｔａが画素内中央膜厚ｔｃの０．９倍以上、画素内中央膜厚ｔｃの１．２倍未満の場合、膜平坦性の評価を「○（良）」とする。このとき、固形分の析出によって膜表面に細かな凹凸が認められるときの膜平坦性を「●（析出あり）」とする。画素内平均膜厚ｔａが画素内中央膜厚ｔｃの１．２倍以上、画素内中央膜厚ｔｃの１．３倍未満の場合、膜平坦性の評価を「△（やや不良）」とする。画素内平均膜厚ｔａが画素内中央膜厚ｔｃの１．３倍以上の場合、膜平坦性の評価を「×（不良）」とする。さらに、画素内平均膜厚ｔａが画素内中央膜厚ｔｃの１．３倍以上で固形分の析出によって膜表面に明らかな凹凸が認められる場合、膜平坦性の評価を「××（不良で析出あり）」とする。膜表面に明らかな凹凸がある場合、有機ＥＬ素子１３０を点灯させると、画素内の機能層１３６を流れる電流にばらつきが生じ、明るさのむらとなって認識される。なお、開口部１０６ａに塗布されたインクの乾燥及び焼成条件は、前述した有機ＥＬ素子１３０の製造方法に示したとおりである。

図９（ａ）〜（ｄ）及び図１０（ｅ）〜（ｇ）は、高分子の正孔注入輸送材料（ＨＩＬ、ＨＴＬ）として、前述したＰＶＫ、ＰＦ、ＰＰＶ、ＰＭＰＳ、ＰＴＴＡ、Ｐｏｌｙ［Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（４−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（ｐｈｅｎｙｌ）−ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ］、ＴＦＢの中から選択した。また、第１芳香族溶媒Ａとして前述した、ニトロベンゼン、２，３−ジメチルニトロベンゼン、２，４−ジメチルニトロベンゼンの中から選択した。また、第２芳香族溶媒Ｂとして前述した、α，α，４−トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンのそれぞれとの組み合わせに加えて、沸点（ｂｐ）が１７０℃の２−メトキシトルエンとの組み合わせを評価した。２−メトキシトルエンは、電子供与基としてアルコキシ基であるメトキシ基（−ＯＣＨ₃基）を有している。

図１１（ａ）〜（ｄ）及び図１２（ｅ）〜（ｇ）は、高分子の発光材料（ＥＭＬ）として、前述した赤色発光材料であるPoly[{9,9-dihexyl-2,7-bis(1-cyanovinylene)fluorenyl- ene}-alt-co-{2,5-bis(N,N’-diphenylamino)-1,4-phenylene}]（表中では表示の都合上、Red-Poly-EMとする）、緑色発光材料であるPoly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-alt-co-(1,4-benzo-{2,1’,3}-thiadiazole)]（F8BT）（表中では表示の都合上、Green-Poly-EMとする）、青色発光材料であるPoly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(N,N’-diphenyl)-N,N’-di(pbutylphenyl)-1,4-diamino-benzene)]（表中では表示の都合上、Blue-Poly-EMとする）をそれぞれ用いてインクを構成した。第１芳香族溶媒Ａと第２芳香族溶媒Ｂの選択の仕方は、高分子の正孔注入輸送材料（ＨＩＬ、ＨＴＬ）の場合と同じである。

第１芳香族溶媒Ａと第２芳香族溶媒Ｂとの混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）％は、０：１００、１０：９０、３０：７０、５０：５０、７０：３０、９０：１０、１００：０の７種類で評価した。つまり、前述した吐出安定性の評価の場合と同様なインクの構成である。

図９（ａ）及び図１１（ａ）に示すように、溶媒構成が、ニトロベンゼンと２−メトキシトルエンとの組み合わせであり、混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が０：１００の場合、膜平坦性の評価は「××」であった。混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が０：１００以外の場合、膜平坦性の評価はすべて「×」であった。溶媒構成が、２，３−ジメチルニトロベンゼンまたは２，４−ジメチルニトロベンゼンと２−メトキシトルエンとの組み合わせであり、混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が０：１００の場合、膜平坦性の評価は「××」であった。混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１０：９０、３０：７０、５０：５０、７０：３０、９０：１０、１００：０の場合、膜平坦性の評価は「△」であった。

これに対して、図９（ｂ）〜（ｄ）及び図１０（ｅ）〜（ｇ）、図１１（ｂ）〜（ｄ）及び図１２（ｅ）〜（ｇ）に示すように、第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼンと、第２芳香族溶媒Ｂとして、α，α，４−トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンのそれぞれと、を組み合わせた場合、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０及び０：１００以外の１０：９０、３０：７０、５０：５０、７０：３０、９０：１０では、膜平坦性の評価は、すべて「○」であった。混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が０：１００のときの膜平坦性の評価は「●」であり、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０のときの膜平坦性の評価は「×」であった。
第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼンまたは２，４−ジメチルニトロベンゼンと、第２芳香族溶媒Ｂとして、α，α，４−トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンのそれぞれと、を組み合わせた場合、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０及び０：１００以外の１０：９０、３０：７０、５０：５０、７０：３０、９０：１０では、膜平坦性の評価は、すべて「○」であった。混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が０：１００のときの膜平坦性の評価は「●」であり、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０のときの膜平坦性の評価は「△」であった。

図１３（ａ）〜（ｄ）及び図１４（ｅ）〜（ｇ）は、低分子の正孔注入輸送材料（ＨＩＬ、ＨＴＬ）として、前述したＶＢ−ＴＣＡ、ＣｕＰｃ、ＴＡＰＣ、ＴＰＤ、α−ＮＰＤ、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ、ＰＤＡ−Ｓｉ、２−ＴＮＡＴＡ、ＴＣＴＡ、ＴＤＡＰＢ、スピローＴＡＤ、ＤＰＰＤ、ＤＴＰ、ＨＴＭ１、ＨＴＭ２、ＴＰＴ１、ＴＰＴＥの中から選択した。また、第１芳香族溶媒Ａとして前述した、ニトロベンゼン、２，３−ジメチルニトロベンゼン、２，４−ジメチルニトロベンゼンの中から選択し。また、第２芳香族溶媒Ｂとして前述した、α，α，４−トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンのそれぞれとの組み合わせに加えて、沸点（ｂｐ）が１７０℃の２−メトキシトルエンとの組み合わせを評価した。２−メトキシトルエンは、電子供与基としてアルコキシ基であるメトキシ基（−ＯＣＨ₃基）を有している。

図１５（ａ）〜（ｄ）及び図１６（ｅ）〜（ｇ）は、低分子材料の発光材料（ＥＭＬ）として、前述したＣＢＰ、ＢＡｌｑ、ｍＣＰ、ＣＤＢＰ、ＤＣＢ、ＰＯ６、ＳｉｍＣＰ、ＵＧＨ３、ＴＤＡＰＢの中からホスト材料を選択し、赤色発光材料（ゲスト材料）であるＲｅｄドーパントを、Ｂｔ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、Ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ＰｔＯＥＰの中から選択した。また、緑色発光材料（ゲスト材料）であるＧｒｅｅｎドーパントを、Ｉｒ（ｐｐｙ）３、Ｐｐｙ２Ｉｒ（ａｃａｃ）の中から選択した。また、青色発光材料（ゲスト材料）であるＢｌｕｅドーパントを、ＦＩｒｐｉｃ、Ｉｒ（ｐｍｂ）３、ＦＩｒＮ４の中から選択した。第１芳香族溶媒Ａと第２芳香族溶媒Ｂの選択の仕方は、低分子の正孔注入輸送材料（ＨＩＬ、ＨＴＬ）の場合と同じである。

第１芳香族溶媒Ａと第２芳香族溶媒Ｂとの混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）％は、０：１００、１０：９０、３０：７０、５０：５０、７０：３０、９０：１０、１００：０の７種類で評価した。つまり、前述した高分子材料の評価の場合と同様なインクの構成である。

図１３（ａ）及び図１５（ａ）に示すように、溶媒構成が、ニトロベンゼンと２−メトキシトルエンとの組み合わせであり、混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が０：１００の場合、膜平坦性の評価は「××」であった。混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が０：１００以外の場合、膜平坦性の評価はすべて「×」であった。溶媒構成が、２，３−ジメチルニトロベンゼンまたは２，４−ジメチルニトロベンゼンと２−メトキシトルエンとの組み合わせであり、混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が０：１００の場合、膜平坦性の評価は「××」であった。混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１０：９０、３０：７０、５０：５０、７０：３０、９０：１０、１００：０の場合、膜平坦性の評価は「△」であった。

これに対して、図１３（ｂ）〜（ｄ）及び図１４（ｅ）〜（ｇ）、図１５（ｂ）〜（ｄ）及び図１６（ｅ）〜（ｇ）に示すように、第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼンと、第２芳香族溶媒Ｂとして、α，α，４−トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンのそれぞれと、を組み合わせた場合、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０及び０：１００以外の１０：９０、３０：７０、５０：５０、７０：３０、９０：１０では、膜平坦性の評価は、すべて「○」であった。混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が０：１００のときの膜平坦性の評価は「●」であり、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０のときの膜平坦性の評価は「×」であった。
第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼンまたは２，４−ジメチルニトロベンゼンと、第２芳香族溶媒Ｂとして、α，α，４−トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンのそれぞれと、を組み合わせた場合、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０及び０：１００以外の１０：９０、３０：７０、５０：５０、７０：３０、９０：１０では、膜平坦性の評価は、すべて「○」であった。混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が０：１００のときの膜平坦性の評価は「●」であり、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０のときの膜平坦性の評価は「△」であった。つまり、インクにおける固形分が低分子材料であっても、高分子材料である場合と同様な膜平坦性の評価が得られた。

上記膜平坦性の評価結果が示すように、第２芳香族溶媒Ｂとして選択した溶媒（２−メトキシトルエン）の沸点（ｂｐ）が２００℃以下である場合、インクの乾燥工程において第１芳香族溶媒Ａよりも第２芳香族溶媒Ｂが先に蒸発して、インクの乾燥速度が速くなり、成膜時のレベリングが十分に行われないことから膜平坦性が低下する。一方で、第２芳香族溶媒Ｂとして選択した溶媒の沸点（ｂｐ）が２５０℃以上である場合は、インクの乾燥工程において、第１芳香族溶媒Ａが蒸発した後にも第２芳香族溶媒Ｂが残ることから、インクの乾燥速度が遅くなり、成膜時のレベリングが十分に行われて膜平坦性が向上する。ただし、固形分に対する高い溶解性を示す第１芳香族溶媒Ａがインクに含まれていない場合（混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が０：１００の場合）、インクに対する溶解性が劣る第２芳香族溶媒Ｂの乾燥過程で固形分が析出し易くなる。また、沸点が高い第２芳香族溶媒Ｂがインクに含まれていない場合（混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）が１００：０の場合）、第１芳香族溶媒Ａの乾燥過程で乾燥が比較的に速く進むことから成膜時のレベリングが十分に行われず膜平坦性が低下する。

上記吐出安定性及び上記膜平坦性の評価を踏まえると、第１芳香族溶媒Ａの沸点は２００℃以上であって、沸点が２５０℃以上の第２芳香族溶媒Ｂを選択することが好ましい。また、第１芳香族溶媒Ａと第２芳香族溶媒Ｂとの混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）は、１０：９０から９０：１０の間であることが好ましい。

次に、機能層形成用組成物（インク）と有機ＥＬ素子１３０の素子特性との関係について、比較例と実施例とを挙げて説明する。
本実施形態では、有機ＥＬ素子１３０の素子特性として、駆動電圧と、電流効率と、寿命半減時間とを取り上げた。駆動電圧は、有機ＥＬ素子１３０の発光輝度が所定の値となる直流の電圧値であり、駆動電圧は小さいほど好ましい。電流効率は、有機ＥＬ素子１３０の発光輝度を所定の値としたときに流れる電流の大きさで発光輝度を除した値（ｃｄ（カンデラ）／Ａ（アンペア））であり、電流効率は大きいほど好ましい。寿命半減時間は、有機ＥＬ素子１３０の発光輝度が所定の値から半減するまでの通電時間（ｈ）であり、寿命半減時間は長いほど好ましい。上記発光輝度の所定の値は、例えば、１０００ｃｄ（カンデラ）／ｍ²（平方メートル）である。

［比較例１］
比較例１の有機ＥＬ素子は、第２芳香族溶媒Ｂを含まないインクを用いて、機能層１３６のうち正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３をインクジェット法で形成したものである。具体的には、第１芳香族溶媒Ａとしてニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）を用い、ニトロベンゼンに正孔注入材料であるＶＢ−ＴＣＡを溶解させたインクを用いて膜厚が１０ｎｍ〜３０ｎｍの正孔注入層１３１を形成した。また、ニトロベンゼンに正孔輸送材料であるＴＦＢを溶解させたインクを用いて膜厚が１０ｎｍ〜２０ｎｍの正孔輸送層１３２を形成した。さらに、ニトロベンゼンに蛍光が得られる発光材料であるＦ８ＢＴ（Green-Poly-EM）を溶解させたインクを用いて膜厚が６０ｎｍ〜８０ｎｍの発光層１３３を形成した。機能層１３６における他の電子輸送層１３４、電子注入層１３５の構成は、有機ＥＬ素子１３０の製造方法において説明したとおりである。

［比較例２］
比較例２の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての２−メトキシトルエン（ｂｐ；１７０℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は５０：５０である。

［比較例３］
比較例３の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての１，３，５−トリエチルベンゼン（ｂｐ；２１５℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は６０：４０である。

［実施例１］
実施例１の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は１０：９０である。

［実施例２］
実施例２の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は３０：７０である。

［実施例３］
実施例３の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は５０：５０である。

［実施例４］
実施例４の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は７０：３０である。

［実施例５］
実施例５の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は９０：１０である。

上記実施例１〜実施例５は、第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）と、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）とを含む混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）を異ならせたものである。

［実施例６］
実施例６の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は１０：９０である。

［実施例７］
実施例７の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は３０：７０である。

［実施例８］
実施例８の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は５０：５０である。

［実施例９］
実施例９の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は７０：３０である。

［実施例１０］
実施例１０の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は９０：１０である。

上記実施例６〜実施例１０は、第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）と、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）とを含む混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）を異ならせたものである。

［実施例１１］
実施例１１の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，４−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は１０：９０である。

［実施例１２］
実施例１２の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，４−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は３０：７０である。

［実施例１３］
実施例１３の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，４−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は５０：５０である。

［実施例１４］
実施例１４の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，４−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は７０：３０である。

［実施例１５］
実施例１５の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，４−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例１と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は９０：１０である。

上記実施例１１〜実施例１５は、第１芳香族溶媒Ａとしての２，４−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）と、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）とを含む混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）を異ならせたものである。

以降の比較例と実施例とにおけるインクの構成は、ホスト材料としてＴＤＡＰＢを用い、燐光が得られる発光材料（ゲスト材料）であるＰｐｙ２Ｉｒを用いたものであり、他の構成は、上記蛍光が得られる発光材料であるＦ８ＢＴと基本的に同じである。

［比較例４］
比較例４の有機ＥＬ素子は、第２芳香族溶媒Ｂを含まないものであって、第１芳香族溶媒Ａとしてニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）を用い、ニトロベンゼンに正孔注入材料であるＶＢ−ＴＣＡを溶解させたインクを用いて膜厚が１０ｎｍ〜３０ｎｍの正孔注入層１３１を形成した。また、ニトロベンゼンに正孔輸送材料であるＴＦＢを溶解させたインクを用いて膜厚が１０ｎｍ〜２０ｎｍの正孔輸送層１３２を形成した。さらに、ニトロベンゼンに燐光が得られる上記発光材料を溶解させたインクを用いて膜厚が６０ｎｍ〜８０ｎｍの発光層１３３を形成した。機能層１３６における他の電子輸送層１３４、電子注入層１３５の構成は、有機ＥＬ素子１３０の製造方法において説明したとおりである。

［比較例５］
比較例５の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての２−メトキシトルエン（ｂｐ；１７０℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は５０：５０である。

［比較例６］
比較例６の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての１，３，５−トリエチルベンゼン（ｂｐ；２１５℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は６０：４０である。

［実施例１６］
実施例１６の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は１０：９０である。

［実施例１７］
実施例１７の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は３０：７０である。

［実施例１８］
実施例１８の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は５０：５０である。

［実施例１９］
実施例１９の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は７０：３０である。

［実施例２０］
実施例２０の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしてのニトロベンゼン（ｂｐ；２１０℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は９０：１０である。

［実施例２１］
実施例２１の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は１０：９０である。

［実施例２２］
実施例２２の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は３０：７０である。

［実施例２３］
実施例２３の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は５０：５０である。

［実施例２４］
実施例２４の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は７０：３０である。

［実施例２５］
実施例２５の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，３−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は９０：１０である。

［実施例２６］
実施例２６の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，４−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は１０：９０である。

［実施例２７］
実施例２７の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，４−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は３０：７０である。

［実施例２８］
実施例２８の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，４−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は５０：５０である。

［実施例２９］
実施例２９の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，４−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は７０：３０である。

［実施例３０］
実施例３０の有機ＥＬ素子は、固形分を溶解させた第１芳香族溶媒Ａとしての２，４−ジメチルニトロベンゼン（ｂｐ；２４５℃）に、第２芳香族溶媒Ｂとしての３−フェノキシトルエン（ｂｐ；２７２℃）を添加した混合溶媒を含むインクを用いて、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成した。各層の層構成材料や膜厚は比較例４と同じである。上記混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）は９０：１０である。

本実施形態における有機ＥＬ素子の素子特性の評価方法について説明する。素子特性としての駆動電圧は、比較例１の駆動電圧を「１」として、他の比較例２，３や実施例１〜実施例１５の駆動電圧が、０．９よりも小さい場合を「◎（良好）」とし、０．９以上０．９５未満を「○（良）」とし、０．９５以上１．０５未満を「●（やや不良）」とし、１．０５以上を「×（不良）」とする。同じく、比較例４の駆動電圧を「１」として、他の比較例５，６や実施例１６〜実施例３０の駆動電圧が、０．９よりも小さい場合を「◎（良好）」とし、０．９以上０．９５未満を「○（良）」とし、０．９５以上１．０５未満を「●（やや不良）」とし、１．０５以上を「×（不良）」とする。

素子特性としての電流効率は、比較例１の電流効率を「１」として、他の比較例２，３や実施例１〜実施例１５の電流効率が、１．１よりも大きい場合を「◎（良好）」とし、１．０５以上１．１未満を「○（良）」とし、０．９５以上１．０５未満を「●（やや不良）」とし、０．９５未満を「×（不良）」とする。同じく、比較例４の電流効率を「１」として、他の比較例５，６や実施例１６〜実施例３０の電流効率が、１．１よりも大きい場合を「◎（良好）」とし、１．０５以上１．１未満を「○（良）」とし、０．９５以上１．０５未満を「●（やや不良）」とし、０．９５未満を「×（不良）」とする。

素子特性としての寿命半減時間は、比較例１の寿命半減時間を「１」として、他の比較例２，３や実施例１〜実施例１５の寿命半減時間が、１．５よりも大きい場合を「◎（良好）」とし、１．０以上１．５未満を「○（良）」とし、０．９以上１．０未満を「●（やや不良）」とし、０．９未満を「×（不良）」とする。同じく、比較例４の寿命半減時間を「１」として、他の比較例５，６や実施例１６〜実施例３０の寿命半減時間が、１．５よりも大きい場合を「◎（良好）」とし、１．０以上１．５未満を「○（良）」とし、０．９以上１．０未満を「●（やや不良）」とし、０．９未満を「×（不良）」とする。

図１７は比較例１〜比較例３及び実施例１〜実施例１５における有機ＥＬ素子の素子特性の評価結果を示す表、図１８は比較例４〜比較例６及び実施例１６〜実施例３０における有機ＥＬ素子の素子特性の評価結果を示す表である。
図１７に示すように、蛍光が得られる発光材料を用いた場合、比較例１に対して、比較例２及び比較例３の有機ＥＬ素子の素子特性は、駆動電圧、電流効率、寿命半減時間のいずれも「●（やや不良）」の評価となった。これに対して、実施例１〜実施例１５では、素子特性は、「◎（良好）」または「○（良）」の評価となった。特に、第１芳香族溶媒Ａと第２芳香族溶媒Ｂとの混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が１０：９０〜５０：５０の実施例１〜実施例３、実施例６〜実施例８、実施例１１〜実施例１３では、駆動電圧、電流効率、寿命半減時間のいずれも「◎（良好）」であった。混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が７０：３０の実施例４、実施例９、実施例１４では、駆動電圧と電流効率とが「◎（良好）」であり、寿命半減時間が「○（良）」となった。さらに、混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が９０：１０の実施例５、実施例１０、実施例１５では、素子特性は、いずれも「○（良）」となった。

図１８に示すように、燐光が得られる発光材料を用いた場合も、蛍光が得られる発光材料を用いた場合と同様な結果が得られた。具体的には、比較例４に対して、比較例５及び比較例６の有機ＥＬ素子の素子特性は、駆動電圧、電流効率、寿命半減時間のいずれも「●（やや不良）」の評価となった。これに対して、第１芳香族溶媒Ａと第２芳香族溶媒Ｂとの混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が１０：９０〜５０：５０の実施例１６〜実施例１８、実施例２１〜実施例２３、実施例２６〜実施例２８では、駆動電圧、電流効率、寿命半減時間のいずれも「◎（良好）」であった。混合溶媒における含有割合（Ａ；Ｂ）が７０：３０の実施例１９、実施例２４、実施例２９では、駆動電圧と電流効率とが「◎（良好）」であり、寿命半減時間が「○（良）」となった。さらに、混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が９０：１０の実施例２０、実施例２５、実施例３０では、素子特性は、いずれも「○（良）」となった。

上記比較例及び上記実施例における素子特性の評価結果から、第１芳香族溶媒Ａと第２芳香族溶媒Ｂとの混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）は、１０：９０〜９０：１０の範囲であれば、いずれの溶媒の組み合わせも比較例よりも素子特性が改善される。さらに、混合溶媒における含有割合（Ａ：Ｂ）が１０：９０、３０：７０、５０：５０の実施例において、すなわち、第２芳香族溶媒Ｂの含有割合が第１芳香族溶媒Ａの含有割合と同じか多い場合に、より優れた素子特性の評価が得られた。このような評価結果は、電子吸引性の第１芳香族溶媒Ａと電子供与性の第２芳香族溶媒Ｂとの相互作用（引力）によって、インクを乾燥・焼成して成膜する際に、沸点が高い第２芳香族溶媒Ｂの蒸発に伴って沸点が低い第１芳香族溶媒Ａも蒸発すると考えられる。これにより、成膜後の膜中における電子吸引性の第１芳香族溶媒Ａの残留を低減することができる。言い換えれば、電子吸引性の第１芳香族溶媒Ａが成膜後の膜中に残留して素子特性に影響を与えることを抑制して、所望の優れた素子特性が得られる機能層形成用組成物（インク）を提供することができる。

なお、比較例２が比較例１よりも素子特性が劣る理由としては、インクがニトロベンゼンよりも沸点が低い２−メトキシトルエンを含むことでインクの乾燥速度が速くなり膜平坦性が低下したこと、及びニトロベンゼンが膜中に残留したことが素子特性に影響を与えたと考えられる。比較例５が比較例４に比べて素子特性が劣る理由も同様である。
比較例３が比較例１よりも素子特性が劣る理由としては、１，３，５−トリエチルベンゼンはニトロベンゼンに比べて沸点が高いものの、実施例において第２芳香族溶媒Ｂとして用いた３−フェノキシトルエンに比べて電子供与性が低いので、ニトロベンゼンと１，３，５−トリエチルベンゼンとの相互作用が弱く、成膜後の膜中にニトロベンゼンが残留して素子特性が低下したと考えられる。比較例６が比較例４に比べて素子特性が劣る理由も同様である。

本実施形態では、電子吸引基を有する第１芳香族溶媒Ａの好ましい例として、ニトロベンゼン、２，３−ジメチルニトロベンゼン、２，４−ジメチルニトロベンゼンを挙げたが、電子吸引基は、ニトロ基（−ＮＯ₂基）以外にもシアノ基（−ＮＨ₃基）が挙げられる。有機ＥＬ材料と電子吸引基との相互作用を考慮すると、シアノ基よりもニトロ基のほうが相互作用の影響が小さいと考えられる。
また、電子吸引基は、ニトロ基以外にもハロゲン基（−Ｆ（フルオロ基）、−Ｃｌ（クロロ基）、−Ｂｒ（ブロモ基）、−Ｉ（ヨード基））が挙げられる。しかしながら、ハロゲン基は、電子吸引性がニトロ基よりも強く、ハロゲン基を有する溶媒が機能層中に残留すると、有機ＥＬ材料とハロゲン基との相互作用により、有機ＥＬ素子の素子特性が著しく低下することが知られている。言い換えれば、電子吸引基としてニトロ基を有する第１芳香族溶媒Ａは、有機ＥＬ材料に対して比較的に低い反応性を示すと考えられる。
一方で、上記実施例に示したように、混合溶媒の含有割合（Ａ：Ｂ）において、第２芳香族溶媒Ｂの割合を増やしても素子特性に影響が生じないことから、電子供与基としてアルコキシ基またはアミノ基を有する第２芳香族溶媒Ｂは、有機ＥＬ材料に対してほとんど反応性を示さないものと考えられる。
つまり、機能層形成用組成物を構成する溶媒が成膜後の膜中に残留したとしても、有機ＥＬ材料との反応性が低い、第１芳香族溶媒Ａと第２芳香族溶媒Ｂとをそれぞれ選択することが好ましい。また、上記実施例では、第１芳香族溶媒Ａ、第２芳香族溶媒Ｂにおいてそれぞれ１種の溶媒を選択したが、これに限定されず、それぞれ複数種の溶媒を選択してもよい。さらに、混合溶媒は、第１芳香族溶媒Ａと第２芳香族溶媒Ｂとにより構成されるものに限定されず、例えばインクの粘度や表面張力を調整するために、有機ＥＬ材料との反応性が低い、他の芳香族溶媒や界面活性剤などを含んでいてもよい。

本実施形態の機能層形成用組成物（インク）は、インクジェット法を用いて機能層のうち少なくとも１層を形成する際に用いられるものとして好適であることを示してきたが、インクジェット法以外の例えば、定量吐出法やスピンコート法、スプレーコート法などの液相プロセスにも適用可能である。

（第２実施形態）
＜電子機器＞
次に、本実施形態の電子機器について、図１９を参照して説明する。図１９（ａ）は電子機器の一例であるノート型のパーソナルコンピューターを示す概略図、図１９（ｂ）は電子機器の一例である薄型テレビ（ＴＶ）を示す概略図である。

図１９（ａ）に示すように、電子機器としてのパーソナルコンピューター１０００は、キーボード１００２を備えた本体部１００１と、表示部１００４を備える表示ユニット１００３とにより構成され、表示ユニット１００３は、本体部１００１に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピューター１０００において、表示部１００４に上記第１実施形態の有機ＥＬ装置１００が搭載されている。

図１９（ｂ）に示すように、電子機器としての薄型テレビ（ＴＶ）１１００は、表示部１１０１に上記第１実施形態の有機ＥＬ装置１００が搭載されている。

有機ＥＬ装置１００のサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂに設けられた有機ＥＬ素子１３０は、機能層１３６における正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３のうち少なくとも１層が上記第１実施形態の機能層形成用組成物を用いて液相プロセス（インクジェット法）により形成されている。したがって、機能層１３６における膜平坦性が確保され、優れた素子特性を有する有機ＥＬ素子１３０を備えた有機ＥＬ装置１００が製造される。つまり、優れた表示品質と信頼性品質とを有するパーソナルコンピューター１０００や薄型ＴＶ１１００を提供することができる。

有機ＥＬ装置１００が搭載される電子機器は、上記パーソナルコンピューター１０００や薄型ＴＶ１１００に限定されない。例えば、スマートフォンやＰＯＳなどの携帯型情報端末、ナビゲーター、ビューワー、デジタルカメラ、モニター直視型のビデオレコーダーなどの表示部を有する電子機器が挙げられる。

なお、有機ＥＬ装置１００は、表示部を構成するものに限定されず、照明装置や感光物を露光する露光装置であってもよい。

本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲および明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う機能層形成用組成物および該機能層形成用組成物の製造方法ならびに有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ装置、有機ＥＬ装置を適用する電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。

（変形例１）有機ＥＬ装置１００は、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂのうちいずれかに本発明の機能層形成用組成物を用いて形成された機能層１３６を有する有機ＥＬ素子１３０を備えていればよい。例えば、サブ画素１１０Ｒとサブ画素１１０Ｇとには、機能層形成用組成物を用いて形成された機能層１３６を有する有機ＥＬ素子１３０を備え、サブ画素１１０Ｂには気相プロセスで形成された機能層１３６を有する有機ＥＬ素子１３０を備えるとしてもよい。

（変形例２）本発明の機能層形成用組成物は、発光層を含む機能層１３６を形成する際に用いられることに限定されない。例えば、溶質である固形分（有機材料）は、有機トランジスターを構成する半導体層などの回路素子形成材料であってもよい。

５０…機能層形成用組成物としての正孔注入層形成用インク、６０…機能層形成用組成物としての正孔輸送層形成用インク、７０…機能層形成用組成物としての発光層形成用インク、１００…有機ＥＬ装置、１０４…画素電極、１０５…対向電極、１０６ａ…膜形成領域としての開口部、１３０…有機ＥＬ素子、１３３…発光層、１３６…機能層、１０００…電子機器としてのパーソナルコンピューター、１１００…薄型テレビ（ＴＶ）。

Claims (11)

1. 有機材料を含む機能層のうちの少なくとも１層を形成する際に用いられる組成物であって、
   機能層形成用の材料と、
   電子吸引基を有する第１芳香族溶媒と、
   電子供与基を有する第２芳香族溶媒と、を含み、
   前記第１芳香族溶媒の沸点よりも前記第２芳香族溶媒の沸点のほうが高く、
   前記電子吸引基がニトロ基であることを特徴とする組成物。
2. 前記第１芳香族溶媒の沸点が２００℃以上であって、
   前記第２芳香族溶媒の沸点が２５０℃以上であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
3. 前記第２芳香族溶媒の沸点が３５０℃以下であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
4. 前記電子供与基がアルコキシ基またはアミノ基であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の組成物。
5. 前記第２芳香族溶媒の含有割合が１０％以上、９０％以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の組成物。
6. 前記第２芳香族溶媒の含有割合は、前記第１芳香族溶媒の含有割合と同じまたは多いことを特徴とする請求項５に記載の組成物。
7. 前記第１芳香族溶媒は、ニトロベンゼン、２，３−ジメチルニトロベンゼン、２，４−ジメチルニトロベンゼンの中から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の組成物。
8. 前記第２芳香族溶媒は、トリメトキシトルエン、ジフェニルエーテル、３−フェノキシトルエン、ベンジルフェニルエーテル、アミノビフェニル、ジフェニルアミンの中から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の組成物。
9. 有機材料を含む機能層のうちの少なくとも１層を液相プロセスにより形成する際に用いられる組成物の製造方法であって、
   電子吸引基を有する第１芳香族溶媒に機能層形成用の固形分を溶解させる工程と、
   前記機能層形成用の固形分が溶解した前記第１芳香族溶媒に電子供与基を有する第２芳香族溶媒を添加する工程と、
   を含み、
   前記第１芳香族溶媒の沸点よりも前記第２芳香族溶媒の沸点のほうが高く、
   前記電子吸引基がニトロ基であることを特徴とする組成物の製造方法。
10. 一対の電極間に発光層を含む機能層が挟持された有機ＥＬ素子の製造方法であって、
    前記一対の電極のうち一方の電極上に、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の組成物を塗布する工程と、塗布された前記組成物を乾燥して固化し、前記機能層のうちの少なくとも１層を形成する工程と、を含むことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
11. 前記組成物を塗布する工程は、インクジェット法により前記一方の電極上の膜形成領域に前記組成物を塗布することを特徴とする請求項１０に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。

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