CN111316758A

CN111316758A - 色温度的调整方法及有机el元件的制造方法

Info

Publication number: CN111316758A
Application number: CN201880072015.5A
Authority: CN
Inventors: 海保昭雄
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2017-11-08
Filing date: 2018-11-06
Publication date: 2020-06-19
Also published as: EP3709771A1; US20210193975A1; KR20200078599A; JP2019087452A; JP6440803B1; WO2019093335A1; EP3709771A4

Abstract

本发明提供一种有机EL元件(1)的制造方法，包括以下的工序，即，在第1形成工序中形成发光层(11)后直至第2形成工序中要开始阴极层(17)的形成为止的期间，调整光的累积照度，所述光的累积照度是向发光层(11)照射的不包含500nm以下的波长区域的光的照度与光的照射时间的乘积。

Description

色温度的调整方法及有机EL元件的制造方法

技术领域

本发明涉及色温度的调整方法及有机EL元件的制造方法。

背景技术

作为以往的有机器件的制造方法，例如已知有专利文献1中记载的方法。专利文献1中记载的有机器件的制造方法中，在不包含500nm以下的波长的光的环境下湿式形成包含芳基胺化合物的发光层。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2010/104184号

发明内容

发明所要解决的问题

有机EL元件在用于照明装置等时，色温度被调整为日光色系或暖色系等。以往，通过改变发光层的膜厚、或改变发光层中含有的墨液的配合比来调整有机EL元件的色温度。因此，以往，涉及色温度的调整的操作的负荷大。

本发明的一个方面的目的在于，提供能够容易地进行色温度的调整的色温度的调整方法及有机EL元件的制造方法。

用于解决问题的方法

本发明的一个方面的色温度的调整方法是利用包括以下工序的方法形成的有机EL元件的色温度的调整方法，即，第1形成工序，在第1电极层上，形成至少包含发光层的2层以上的有机功能层；和第2形成工序，在有机功能层上形成第2电极层，在第1形成工序中形成发光层后直至第2形成工序中要开始第2电极层的形成为止的期间，调整光的累积照度，所述光的累积照度为向发光层照射的不包含500nm以下的波长区域的光的照度与光的照射时间的乘积。

本发明的一个方面的色温度的调整方法中，在第1形成工序中形成发光层后直至第2形成工序中要开始第2电极层的形成为止的期间，调整黄光的累积照度，所述黄光的累积照度为向发光层照射的不包含500nm以下的波长区域的光(以下称作黄光)的照度与黄光的照射时间的乘积。若向发光层(包括设于发光层与第1电极层之间的其他有机功能层)照射黄光，则在各层的性质(特性)方面产生变化。此时，因性质的变化，发出红色光的层的亮度可能变小。由此，有机EL元件的色温度变高。如此所述，在色温度的调整方法中，能够通过不改变发光层的膜厚、或不改变发光层中含有的墨液的配合比地调整黄光的累积照度，来调整色温度。因而，本发明的色温度的调整方法中，能够容易地进行色温度的调整。

在一个实施方式中，累积照度可以为100lx·hrs以上且500000lx·hrs以下。累积照度是光的照度[lx]与照射时间[hrs]的累积的照度值。该方法中，能够恰当地进行有机EL元件的色温度的调整。

本发明的一个方面的有机EL元件的制造方法包括：第1形成工序，在第1电极层上，形成至少包含发光层的2层以上的有机功能层；和第2形成工序，在有机功能层上形成第2电极层，在第1形成工序中形成发光层后直至第2形成工序中要开始第2电极层的形成为止的期间，调整光的累积照度，所述光的累积照度为向发光层照射的不包含500nm以下的波长区域的光的照度与光的照射时间的乘积。

本发明的一个方面的有机EL元件的制造方法中，在第1形成工序中形成发光层后直至第2形成工序中要开始第2电极层的形成为止的期间，包括调整黄光的累积照度的工序，所述黄光的累积照度为向发光层照射的不包含500nm以下的波长区域的光(以下称作黄光)的照度与黄光的照射时间的乘积。若向发光层(包括设于发光层与第1电极层之间的其他有机功能层)照射黄光，则在各层的性质(特性)方面产生变化。此时，因性质的变化，发出红色光的层的亮度可能变小。由此，有机EL元件的色温度变高。如此所述，有机EL元件的制造方法中，能够通过不改变发光层的膜厚、或不改变发光层中含有的墨液的配合比地调整黄光的累积照度，来调整色温度。因而，有机EL元件的制造方法中，能够容易地进行色温度的调整。

本发明的一个方面的有机EL元件的制造方法包括：第1形成工序，在第1电极层上，形成至少包含发光层的2层以上的有机功能层；和第2形成工序，在有机功能层上形成第2电极层，在第1形成工序中形成发光层后直至第2形成工序中要开始第2电极层的形成为止的期间，不向发光层照射包含500nm以下的波长区域的光。

本发明的一个方面的有机EL元件的制造方法中，在第1形成工序中形成发光层后直至第2形成工序中要开始第2电极层的形成为止的期间，不向发光层照射包含500nm以下的波长区域的光。即，向发光层至少照射不包含500nm以下的波长区域的光(以下称作黄光)。若向发光层(包括设于发光层与第1电极层之间的其他有机功能层)照射黄光，则在各层的性质(特性)方面产生变化。此时，因性质的变化，发出红色光的层的亮度可能变小。由此，有机EL元件的色温度变高。如此所述，有机EL元件的制造方法中，能够通过不改变发光层的膜厚、或不改变发光层中含有的墨液的配合比地不照射包含500nm以下的波长区域的光，来调整色温度。因而，有机EL元件的制造方法中，能够容易地进行色温度的调整。

在一个实施方式中，在第1形成工序中形成发光层后直至第2形成工序中要开始第2电极层的形成为止的期间的气氛的露点温度可以为－35℃以下。该方法中，能够恰当地进行有机EL元件的色温度的调整，并且能够抑制包含发光层的有机功能层的由水分造成的劣化。

在一个实施方式中，在第1形成工序中形成发光层后直至第2形成工序中要开始第2电极层的形成为止的期间的气氛可以为干燥空气气氛。该方法中，能够恰当地进行有机EL元件的色温度的调整。

发明效果

根据本发明的一个方面，能够容易地进行色温度的调整。

附图说明

图1是表示利用一个实施方式的有机EL元件的制造方法制造的有机EL元件的剖面构成的图。

图2是表示有机EL元件的制造方法的流程图。

图3是表示电压与色温度的关系的图。

具体实施方式

以下，参照附图，对本发明的合适的实施方式进行详细说明。需要说明的是，在附图的说明中对于相同或相当要素使用相同符号，省略重复的说明。

如图1所示，利用一个实施方式的有机EL元件的制造方法制造的有机EL元件1具备：支承基板3、阳极层(第1电极层)5、空穴注入层7、空穴传输层(有机功能层)9、发光层(有机功能层)11、电子传输层(有机功能层)13、电子注入层(有机功能层)15、和阴极层(第2电极层)17。

[支承基板]

支承基板3由对可见光(波长400nm～800nm的光)具有透光性的构件构成。作为支承基板3，例如可以举出玻璃等。在支承基板3为玻璃的情况下，其厚度例如为0.05mm～1.1mm。支承基板3也可以由树脂构成，例如可以为膜状的基板(柔性基板、具有挠曲性的基板)。此时，支承基板3的厚度例如为30μm以上且500μm以下。在支承基板3为树脂的情况下，从卷对卷方式的连续进行时的基板晃动、褶皱、以及伸长的观点出发，优选为45μm以上，从挠曲性的观点出发，优选为125μm以下。

支承基板3例如为塑料膜。支承基板3的材料例如包括聚醚砜(PES)；聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯树脂；聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、环状聚烯烃等聚烯烃树脂；聚酰胺树脂；聚碳酸酯树脂；聚苯乙烯树脂；聚乙烯醇树脂；乙烯－乙酸乙烯酯共聚物的皂化物；聚丙烯腈树脂；缩醛树脂；聚酰亚胺树脂；环氧树脂等。

对于支承基板3的材料而言，在上述树脂当中，由于耐热性高、线膨胀率低、并且制造成本低，因此优选聚酯树脂、或聚烯烃树脂，更优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、或聚萘二甲酸乙二醇酯。另外，这些树脂可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

可以在支承基板3的一个主面3a上配置气体屏蔽层、或水分屏蔽层。支承基板3的另一个主面3b为发光面。需要说明的是，支承基板3可以为玻璃基板、硅基板，也可以为薄膜玻璃。在支承基板3为薄膜玻璃的情况下，对于其厚度而言，从强度的观点出发优选为30μm以上，从挠曲性的观点出发优选为100μm以下。

[阳极层]

阳极层5配置于支承基板3的一个主面3a上。作为阳极层5，使用显示透光性的电极层。作为显示透光性的电极，可以使用电导率高的金属氧化物、金属硫化物及金属等的薄膜，可以合适地使用透光率高的薄膜。例如使用由氧化铟、氧化锌、氧化锡、铟锡氧化物(Indium Tin Oxide：缩略语ITO)、铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide：缩略语IZO)、金、铂、银、铜等形成的薄膜，它们当中可以合适地使用由ITO、IZO、或氧化锡形成的薄膜。

作为阳极层5，也可以使用聚苯胺及其衍生物、聚噻吩及其衍生物等有机物的透明导电膜。另外，作为阳极层5，也可以使用将上述举出的金属或金属合金等图案化为网状的电极、或者将包含银的纳米线形成为网络状的电极。

阳极层5的厚度可以考虑光的透射性、电导率等来确定。阳极层5的厚度通常为10nm～10μm，优选为10nm～1μm，更优选为10nm～300nm。

作为阳极层5的形成方法，可以举出真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等干式成膜法、喷墨法、模缝涂布机法、凹版印刷法、丝网印刷法、喷涂机法等涂布法。另外，对于阳极层5而言，可以还使用光刻法、干式蚀刻法、激光修整法等形成图案。也可以通过使用涂布法直接涂布在支承基板3上，而不使用光刻法、干式蚀刻法、激光修整法等地形成图案。

[空穴注入层]

空穴注入层7配置于阳极层5的主面(与接触支承基板3的面相反的一侧)上。作为构成空穴注入层7的材料的例子，可以举出氧化钒、氧化钼、氧化钌、以及氧化铝等氧化物、苯基胺化合物、星爆型胺化合物、酞菁化合物、无定形碳、聚苯胺、以及聚亚乙基二氧基噻吩(PEDOT)之类的聚噻吩衍生物等。

对于具有电荷传输性的以往已知的有机材料而言，通过将其与受电子性材料组合，能够作为空穴注入层7的材料使用。作为受电子性材料，可以合适地使用杂多酸化合物或芳基磺酸。

所谓杂多酸化合物，是如下的多酸，其具有以Keggin型或Dawson型的化学结构表示的、杂原子位于分子的中心的结构，且将钒(V)、钼(Mo)、钨(W)等的含氧酸即同多酸与异种元素的含氧酸缩合而成。作为异种元素的含氧酸，主要可以举出硅(Si)、磷(P)、砷(As)的含氧酸。作为杂多酸化合物的具体例，可以举出磷钼酸、硅钼酸、磷钨酸、磷钨钼酸、以及硅钨酸等。

作为芳基磺酸，可以举出苯磺酸、甲苯磺酸、对苯乙烯磺酸、2－萘磺酸、4－羟基苯磺酸、5－磺基水杨酸、对十二烷基苯磺酸、二己基苯磺酸、2，5－二己基苯磺酸、二丁基萘磺酸、6，7－二丁基－2－萘磺酸、十二烷基萘磺酸、3－十二烷基－2－萘磺酸、己基萘磺酸、4－己基－1－萘磺酸、辛基萘磺酸、2－辛基－1－萘磺酸、己基萘磺酸、7－己基－1－萘磺酸、6－己基－2－萘磺酸、二壬基萘磺酸、2，7－二壬基－4－萘磺酸、二壬基萘二磺酸、以及2，7－二壬基－4，5－萘二磺酸等。也可以将杂多酸化合物与芳基磺酸混合使用。

空穴注入层7的厚度为5nm以上且500nm以下，优选为5nm以上且300nm以下。

空穴注入层7例如利用使用了包含上述材料的涂布液的涂布法形成。

作为涂布法，可以举出旋涂法、流延法、微型凹版涂布法、凹版涂布法、棒涂法、辊涂法、绕线棒涂布法、浸涂法、喷涂法、丝网印刷法、柔性版印刷法、胶版印刷法、以及喷墨打印法等。通过使用这些涂布法中的1种，将涂布液涂布于阳极层5上，能够形成空穴注入层7。

[空穴传输层]

空穴传输层9配置于空穴注入层7的主面(与接触阳极层5的面相反的一侧的面)上。空穴传输层9的材料可以使用公知的空穴传输材料。对于空穴传输层9的材料的例子而言，可以举出聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、在侧链或主链具有芳香族胺的聚硅氧烷或其衍生物、吡唑啉或其衍生物、芳基胺或其衍生物、二苯乙烯或其衍生物、三苯基二胺或其衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、聚芳基胺或其衍生物、聚吡咯或其衍生物、聚(对亚苯基亚乙烯基)或其衍生物、或聚(2，5－亚噻吩基亚乙烯基)或其衍生物等。

空穴传输层9的厚度的最佳值根据所用的材料而不同，以使驱动电压和发光效率为适度的值的方式适当地设定。空穴传输层9的厚度例如为1nm～1μm，优选为2nm～500nm，更优选为5nm～200nm。

作为空穴传输层9的形成方法，例如可以举出使用了包含上述材料的涂布液的涂布法等。作为涂布法，可以举出空穴注入层7中例示的方法。作为涂布液的溶剂，只要是溶解上述材料的溶剂即可，例如可以举出氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等含氯溶剂、四氢呋喃等醚溶剂、甲苯、二甲苯等芳香族烃溶剂、丙酮、甲乙酮等酮溶剂、乙酸乙酯、乙酸丁酯、以及乙基溶纤剂乙酸酯等酯溶剂。

[发光层]

发光层11配置于空穴传输层9的主面(与接触空穴注入层7的面相反的一侧的面)上。发光层11通常包含主要发出荧光和/或磷光的有机物、或该有机物与辅助它的发光层用掺杂剂材料。发光层用掺杂剂材料例如是为了提高发光效率、或改变发光波长而加入的。需要说明的是，有机物可以是低分子化合物，也可以是高分子化合物。作为构成发光层11的发光材料，例如可以举出下述的色素材料、金属络合物材料、高分子材料等主要发出荧光和/或磷光的有机物、发光层用掺杂剂材料等。

(色素材料)

作为色素材料，例如可以举出环喷他明及其衍生物、四苯基丁二烯及其衍生物、三苯基胺及其衍生物、噁二唑及其衍生物、吡唑并喹啉及其衍生物、二苯乙烯基苯及其衍生物、二苯乙烯基芳撑及其衍生物、吡咯及其衍生物、噻吩化合物、吡啶化合物、紫环酮及其衍生物、苝及其衍生物、低聚噻吩及其衍生物、噁二唑二聚物、吡唑啉二聚物、喹吖啶酮及其衍生物、香豆素及其衍生物等。

(金属络合物材料)

作为金属络合物材料，例如可以举出作为中心金属具有Tb、Eu、Dy等稀土金属、或Al、Zn、Be、Pt、Ir等、作为配体具有噁二唑、噻二唑、苯基吡啶、苯基苯并咪唑、喹啉结构等的金属络合物。作为金属络合物，例如可以举出铱络合物、铂络合物等具有来自三重激发态的发光的金属络合物、羟基喹啉铝络合物、苯并羟基喹啉铍络合物、苯并噁唑基锌络合物、苯并噻唑锌络合物、偶氮甲基锌络合物、卟啉锌络合物、菲咯啉铕络合物等。

(高分子材料)

作为高分子材料，例如可以举出聚对亚苯基亚乙烯基及其衍生物、聚噻吩及其衍生物、聚对亚苯基及其衍生物、聚硅烷及其衍生物、聚乙炔及其衍生物、聚芴及其衍生物、聚乙烯基咔唑及其衍生物、将上述色素材料、或金属络合物材料高分子化而得的材料等。

(发光层用掺杂剂材料)

作为发光层用掺杂剂材料，例如可以举出苝及其衍生物、香豆素及其衍生物、红荧烯及其衍生物、喹吖啶酮及其衍生物、方酸内鎓盐及其衍生物、卟啉及其衍生物、苯乙烯基色素、并四苯及其衍生物、吡唑啉酮及其衍生物、十环烯及其衍生物、吩噁嗪酮及其衍生物等。

发光层11的厚度通常为2nm～200nm。发光层11例如利用使用包含如上所述的发光材料的涂布液(例如墨液)的涂布法形成。作为包含发光材料的涂布液的溶剂，只要是溶解发光材料的溶剂，就没有限定。

[电子传输层]

电子传输层13配置于发光层11的主面(与接触空穴传输层9的面相反的一侧的面)上。电子传输层13的材料可以使用公知的电子传输材料，例如可以举出萘、蒽等具有稠合芳基环的化合物或其衍生物、以4，4-双(二苯基乙烯基)联苯为代表的苯乙烯基芳香环衍生物、苝衍生物、紫环酮衍生物、香豆素衍生物、萘二甲酰亚胺衍生物、蒽醌、萘醌、联苯醌、蒽醌二甲烷、四氰基蒽醌二甲烷等醌衍生物、磷氧化物衍生物、咔唑衍生物、以及吲哚衍生物、三(8－羟基喹啉)铝(III)等羟基喹啉络合物、以及羟基苯基噁唑络合物等羟基唑络合物、偶氮甲碱络合物、环庚三烯酚酮金属络合物及黄酮醇金属络合物、包含具有受电子性氮的杂芳基环的化合物等。

电子传输层13的厚度例如为1～100nm。

作为电子传输层13的形成方法，在使用低分子的电子传输材料的情况下，可以举出真空蒸镀法、使用了涂布液的涂布法等，在使用高分子的电子传输材料的情况下，可以举出使用了涂布液的涂布法等。在实施使用了涂布液的涂布法的情况下，可以并用高分子粘结剂。作为涂布法，可以举出空穴注入层7中例示的方法。

[电子注入层]

电子注入层15配置于电子传输层13的主面(与接触发光层11的面相反一侧的面)上。电子注入层15的材料可以使用公知的电子注入材料，例如可以举出碱金属、碱土金属、包含碱金属及碱土金属中的1种以上的合金、碱金属或碱土金属的氧化物、卤化物、碳酸盐、或这些物质的混合物等。作为碱金属、碱金属的氧化物、卤化物、以及碳酸盐的例子，可以举出锂、钠、钾、铷、铯、氧化锂、氟化锂、氧化钠、氟化钠、氧化钾、氟化钾、氧化铷、氟化铷、氧化铯、氟化铯、碳酸锂等。另外，作为碱土金属、碱土金属的氧化物、卤化物、碳酸盐的例子，可以举出镁、钙、钡、锶、氧化镁、氟化镁、氧化钙、氟化钙、氧化钡、氟化钡、氧化锶、氟化锶、碳酸镁等。

将以往已知的电子传输性的有机材料与碱金属的有机金属络合物混合而得的材料也能够作为电子注入材料利用。

电子注入层15的厚度例如为1～50nm。

作为电子注入层15的形成方法，可以举出真空蒸镀法等。

[阴极层]

阴极层17配置于电子注入层15的主面(与接触电子传输层13的面相反的一侧)上。例如可以使用碱金属、碱土金属、过渡金属及周期表第13族金属等作为阴极层17的材料。作为阴极层17的材料，具体而言，例如可以使用锂、钠、钾、铷、铯、铍、镁、钙、锶、钡、铝、钪、钒、锌、钇、铟、铈、钐、铕、铽、镱等金属、所述金属当中的2种以上的合金、所述金属当中的1种以上与金、银、铂、铜、锰、钛、钴、镍、钨、锡当中的1种以上的合金、或者石墨或石墨层间化合物等。作为合金的例子，可以举出镁－银合金、镁－铟合金、镁－铝合金、铟－银合金、锂－铝合金、锂－镁合金、锂－铟合金、钙－铝合金等。

另外，作为阴极层17，例如可以使用由导电性金属氧化物及导电性有机物等形成的透明导电性电极。作为导电性金属氧化物，具体而言，可以举出氧化铟、氧化锌、氧化锡、ITO、以及IZO，作为导电性有机物可以举出聚苯胺及其衍生物、聚噻吩及其衍生物等。需要说明的是，阴极层17可以由层叠了2层以上的结构体构成。需要说明的是，有时也将电子注入层作为阴极层17使用。

阴极层17的厚度可以考虑电导率、耐久性而设定。阴极层17的厚度通常为10nm～10μm，优选为20nm～1μm，更优选为50nm～500nm。作为阴极层17的形成方法，例如可以举出真空蒸镀法、涂布法等。

[有机EL元件的制造方法]

接下来，参照图2，对具有上述构成的有机EL元件1的制造方法进行说明。

在支承基板3为具有挠曲性、且沿长度方向延伸的基板的方式中，有机EL元件1的制造方法可以采用卷对卷方式。在利用卷对卷方式制造有机EL元件1的情况下，一边将架设于卷出辊与卷绕辊之间的长尺寸的挠曲性的支承基板3连续地用运送辊运送，一边从支承基板3侧依次形成各层。

在制造有机EL元件1的情况下，如图2所示，加热支承基板3而使之干燥(基板干燥工序S01)。然后，在经过干燥的支承基板3上形成阳极层5(阳极层形成工序S02)。阳极层5可以利用阳极层5的说明时例示的形成方法来形成。接下来，在阳极层5上依次形成空穴注入层7及空穴传输层9(空穴注入层形成工序S03、空穴传输层形成工序S04)。空穴注入层7及空穴传输层9可以利用空穴注入层7及空穴传输层9的说明时例示的形成方法来形成。

然后，在空穴传输层9上形成发光层11(发光层形成工序(第1形成工序)S05)。发光层11可以利用发光层11的说明时例示的形成方法来形成。具体而言，本实施方式中例如使用将形成发光层11的发光材料(包含发出荧光和/或磷光的有机物)溶解于有机溶剂中而得的涂布液，利用涂布法形成发光层11。

接下来，保管形成有发光层11的结构体(保管工序S06)。本实施方式中，调整向发光层11照射的不包含500nm以下的波长区域的(500nm以下的波长被阻断了的)光(以下称作黄光)的照射量地保管结构体。本实施方式中，在露点温度为－35℃以下的洁净干燥空气气氛下保管结构体。本实施方式的保管工序S06中，在累积照度(累积的照度值)L·T[lx·hrs]为100lx·hrs以上且500000lx·hrs以下的范围中保管结构体，所述累积照度为黄光的照度L[lx]与黄光的照射时间T[hrs]的乘积。

累积照度根据所期望的有机EL元件1的色温度来设定。即，根据所期望的有机EL元件1的色温度，设定黄光的照度及照射时间。对于有机EL元件1的色温度而言，当累积照度变高时则升高，当累积照度变低时则降低。例如，在制造正面亮度为500cd/m²以上且正面亮度下的色温度为3000K以上的有机EL元件1的情况下，在累积照度为1750lx·hrs以上且500000lx·hrs以下的环境下保管。该情况下，优选将黄光的照度L设为例如50lx以上且1000lx以下，将黄光的照射时间T设为例如35hrs以上且500hrs以下。

例如，在制造正面亮度为500cd/m²以上且正面亮度下的色温度低于3000K的有机EL元件1的情况下，在累积照度为1680lx·hrs以下的环境下保管。该情况下，优选将黄光的照度L例如设为10lx以下、将黄光的照射时间T设为例如50hrs以上且168hrs以下。需要说明的是，在保管工序S06中，照射黄光的照射时间可以与保管时间不同。即，在保管结构体的期间，可以存在不照射黄光的期间。

接下来，在保管工序S06后，在发光层11上形成阴极层17(阴极层形成工序(第2形成工序)S07)。阴极层17可以利用阴极层17的说明时例示的形成方法来形成。利用以上操作，形成有机EL元件1。需要说明的是，在阴极层17上可以设置密封构件等。

如上说明所示，本实施方式的有机EL元件1的制造方法中，在形成发光层11后直至要开始阴极层17的形成为止的期间，调整黄光的累积照度，所述黄光的累积照度是向发光层11照射的黄光的照度与黄光的照射时间的乘积。若向空穴传输层9及发光层11照射黄光，则在各层的性质(特性)方面产生变化。特别是，红色发光成分易于因黄光而使性质发生变化。因该性质的变化，发出红色光的层(例如空穴传输层9)的亮度可能变小。由此，有机EL元件1的色温度变高。如此所述，在有机EL元件1的制造方法中，能够通过不改变发光层11的膜厚、或不改变发光层11中所含有的墨液的配合比地调整黄光的累积照度，来调整色温度。因而，有机EL元件1的制造方法中，能够容易地进行色温度的调整。

图3是表示电压与色温度的关系的图。图3中，横轴表示电压Vf[V]，纵轴表示色温度[K]。图3中，曲线图G1、G2表示在发光层11的形成后没有进行黄光的累积照度的调整的有机EL元件的测定结果。需要说明的是，未调整时的黄光的累积照度小于100lx·hrs。曲线图G3、G4表示将黄光的照度设为100lx～120lx、将照射时间设为168hrs、将累积照度设为16800lx·hrs～20160lx·hrs时的有机EL元件的测定结果。曲线图G5、G6表示将黄光的照度设为10lx以下、将照射时间设为168hrs、将累积照度设为1680lx·hrs以下时的有机EL元件的测定结果。图3中，表示具有图1所示的结构的有机EL元件、即在支承基板上层叠有阳极层、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层及阴极层的有机EL元件的测定结果。

如图3所示，在正面亮度500cd/m²以上的区域中，在累积照度为16800lx·hrs～20160lx·hrs的情况下，与没有进行黄光的累积照度的调整的有机EL元件相比，色温度高，在累积照度为1680lx·hrs以下的情况下，色温度低。具体而言，在累积照度为16800lx·hrs～20160lx·hrs的情况下，正面亮度下的色温度为3000K以上，在累积照度为1680lx·hrs以下的情况下，正面亮度下的色温度低于3000K(图3中为2600K左右)。即确认，对于色温度而言，当累积照度变高时即升高，当累积照度变低时即降低。因而，有机EL元件1的制造方法中，通过调整黄光的照射量，能够调整色温度，因此能够容易地进行色温度的调整。

以上，对本发明的实施方式进行了说明，然而本发明不一定限定于上述的实施方式，可以在不脱离其主旨的范围中进行各种变更。

例如，上述实施方式中，例示出依次配置有阳极层5、空穴注入层7、空穴传输层9、发光层11、电子传输层13、电子注入层15及阴极层17的有机EL元件1。但是，有机EL元件1的构成并不限定于此。有机EL元件1也可以具有以下的构成。

(a)阳极层/发光层/阴极层

(b)阳极层/空穴注入层/发光层/阴极层

(c)阳极层/空穴注入层/发光层/电子注入层/阴极层

(d)阳极层/空穴注入层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极层

(e)阳极层/空穴注入层/空穴传输层/发光层/阴极层

(f)阳极层/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子注入层/阴极层

(g)阳极层/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极层

(h)阳极层/发光层/电子注入层/阴极层

(i)阳极层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极层

此处，记号“/”表示夹隔着记号“/”的各层相邻地层叠。上述(g)表示上述实施方式的构成。

有机EL元件1可以具有单层的有机功能层，也可以具有多层(2层以上)的有机功能层。在上述(a)～(i)的层构成当中的任意一个中，若将配置于阳极层5与阴极层17之间的层叠结构设为“结构单元A”，则作为具有2层的有机功能层的有机EL元件的构成，例如可以举出下述(j)所示的层构成。存在有2个的(结构单元A)的层构成彼此可以相同，也可以不同。所谓电荷产生层，是通过施加电场而产生空穴和电子的层。作为电荷产生层，例如可以举出由氧化钒、ITO、氧化钼等形成的薄膜。

(j)阳极层/(结构单元A)/电荷产生层/(结构单元A)/阴极层

另外，若将“(结构单元A)/电荷产生层”设为“结构单元B”，则作为具有3层以上的发光层11的有机EL元件的构成，例如可以举出以下的(k)所示的层构成。

(k)阳极层/(结构单元B)x/(结构单元A)/阴极层

记号“x”表示2以上的整数，“(结构单元B)x”表示层叠了x层的(结构单元B)的结构体。另外，存在有多个的(结构单元B)的层构成可以相同，也可以不同。

也可以不设置电荷产生层，而是直接层叠多个有机功能层而构成有机EL元件。

上述实施方式中，在有机EL元件1的制造工序中，以包括加热支承基板3而使之干燥的基板干燥工序S01的方式作为一例进行了说明。但是，也可以不包括基板干燥工序。

上述实施方式中，以在支承基板3上形成阳极层5的方式作为一例进行了说明。但是，也可以使用在支承基板3上预先形成有阳极层5的卷筒。

上述实施方式中，在保管工序S06中，以在露点温度为－35℃以下的洁净干燥空气气氛下保管结构体的方式作为一例进行了说明。但是，保管工序中，也可以在水分浓度低的环境的其他气氛下(例如氮气氛下)保管结构体。

上述实施方式中，以在有机EL元件1的制造工序的保管工序S06中调整向发光层11照射的黄光的照射量的方式作为一例进行了说明。但是，只要是在发光层11的形成工序后，则也可以在保管工序以外的工序中进行黄光的照射量的调整。

上述实施方式中，以第1电极层为阳极层5、第2电极层为阴极层17的方式作为一例进行了说明。但是，也可以第1电极为阴极层、第2电极层为阳极层。

也可以在上述实施方式的基础上，在有机EL元件1中，在支承基板3的另一个主面3b设置光导出膜。

上述实施方式中，以在形成发光层11后直至要开始阴极层17的形成为止的期间调整黄光的累积照度的方式作为一例进行了说明，所述黄光的累积照度是向发光层11照射的不包含500nm以下的波长区域的黄光的照度与黄光的照射时间的乘积。但是，有机EL元件的制造方法也可以是在形成发光层后直至要开始第2电极层的形成为止的期间不向发光层照射包含500nm以下的波长区域的光的方式。该方法中，向发光层至少照射不包含500nm以下的波长区域的黄光。若向发光层照射黄光，则在各层的性质(特性)方面产生变化。此时，因性质的变化，发出红色光的层的亮度可能变小。由此，有机EL元件的色温度变高。如此所述，在其他方式的有机EL元件的制造方法中，能够通过不改变发光层的膜厚、或不改变发光层中含有的墨液的配合比地不照射包含500nm以下的波长区域的光，来调整色温度。因而，有机EL元件的制造方法中，能够容易地进行色温度的调整。

上述实施方式中，对有机EL元件1的制造方法进行了说明。但是，本发明也可以是色温度的调整方法。色温度的调整方法中，对依次层叠有第1电极层、至少包含发光层的2层以上的有机功能层及第2电极层的有机EL元件的色温度进行调整。第1电极层、发光层及第2电极层分别相当于上述实施方式的有机EL元件1的阳极层5、发光层11及阴极层17。色温度的调整方法中，在形成发光层11后直至要开始第2电极层的形成为止的期间，调整光的累积照度，所述光的累积照度是向发光层11照射的不包含500nm以下的波长区域的光的照度与光的照射时间的乘积。作为具体的方法，可以采用与上述实施方式的保管工序S06相同的方法。

如上所述，在色温度的调整方法中，在形成发光层后直至要开始第2电极层的形成为止的期间，调整光的累积照度，所述光的累积照度是向发光层照射的不包含500nm以下的波长区域的光的照度与光的照射时间的乘积。若向发光层(包括设于发光层与第1电极层之间的其他有机功能层)照射黄光，则在各层的性质(特性)方面产生变化。此时，因性质的变化，发出红色光的层的亮度可能变小。由此，有机EL元件的色温度变高。如此所述，在色温度的调整方法中，能够通过不改变发光层的膜厚、或不改变发光层中含有的墨液的配合比地调整黄光的累积照度，来调整色温度。因而，在色温度的调整方法中，能够容易地进行色温度的调整。

本发明的有机EL元件的制造方法作为使用上述色温度的调整方法的方法，可以如下所示地规定。即，一种有机EL元件的制造方法，是包括第1形成工序和第2形成工序的有机EL元件的制造方法，所述第1形成工序在第1电极层上形成至少包含发光层的2层以上的有机功能层，所述第2形成工序在有机功能层上形成第2电极层，利用上述的色温度的调整方法(请求保护的技术方案1或2中记载的方法)来进行有机EL元件的色温度的调整。

符号说明

1有机EL元件，5阳极层(第1电极层)，9空穴传输层(有机功能层)，11发光层(有机功能层)，13电子传输层(有机功能层)，15电子注入层(有机功能层)，17阴极层(第2电极层)。

Claims

1.一种色温度的调整方法，是利用包括第1形成工序和第2形成工序的方法形成的有机EL元件的色温度的调整方法，

所述第1形成工序在第1电极层上形成至少包含发光层的2层以上的有机功能层，所述第2形成工序在所述有机功能层上形成第2电极层，

在所述第1形成工序中形成所述发光层后直至所述第2形成工序中要开始所述第2电极层的形成为止的期间，调整光的累积照度，

所述光的累积照度是向所述发光层照射的不包含500nm以下的波长区域的光的照度与所述光的照射时间的乘积。

2.根据权利要求1所述的色温度的调整方法，其中，

所述累积照度为100lx·hrs以上且500000lx·hrs以下。

3.一种有机EL元件的制造方法，包括：

第1形成工序，在第1电极层上，形成至少包含发光层的2层以上的有机功能层；以及

第2形成工序，在所述有机功能层上形成第2电极层，

4.根据权利要求3所述的有机EL元件的制造方法，其中，

所述累积照度为100lx·hrs以上且500000lx·hrs以下。

5.一种有机EL元件的制造方法，包括：

第2形成工序，在所述有机功能层上形成第2电极层，

在所述第1形成工序中形成所述发光层后直至所述第2形成工序中要开始所述第2电极层的形成为止的期间，不向所述发光层照射包含500nm以下的波长区域的光。

6.根据权利要求3～5中任一项所述的有机EL元件的制造方法，其中，

在所述第1形成工序中形成所述发光层后直至所述第2形成工序中要开始所述第2电极层的形成为止的期间的气氛的露点温度为－35℃以下。

7.根据权利要求3～6中任一项所述的有机EL元件的制造方法，其中，

在所述第1形成工序中形成所述发光层后直至所述第2形成工序中要开始所述第2电极层的形成为止的期间的气氛为干燥空气气氛。