JP6571344B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の基板処理装置であって、前記複数の導電部および前記複数の絶縁部は、前記検査管路の前記内周面において長手方向にそれぞれ延びる。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の基板処理装置であって、前記複数の導電部および前記複数の絶縁部のそれぞれの周方向の幅が同じであり、前記少なくとも2つの導電部が、前記検査管路の中心軸を挟んで互いに対向する2つの導電部である。
請求項4に記載の発明は、請求項2に記載の基板処理装置であって、前記少なくとも2つの導電部が、3つ以上の導電部であり、前記導電率取得部により、前記3つ以上の導電部において周方向に隣接する各2つの導電部間の導電率が取得される。
請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記複数の導電部と前記複数の絶縁部とが、前記検査管路の外周面においても周方向に交互に配置され、前記複数の導電部がそれぞれ、前記検査管路の前記内周面の一部を構成する内側導電部と、前記検査管路の前記外周面の一部を構成する外側導電部と、前記内側導電部と前記外側導電部とを電気的に接続する導電連結部とを備える。
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の基板処理装置であって、前記導電連結部が、前記内側導電部と前記外側導電部との間において径方向に広がる板状の部位であり、前記導電連結部の周方向の幅が、前記内側導電部および前記外側導電部の周方向の幅よりも小さい。
請求項7に記載の発明は、基板に処理液を供給して処理を行う基板処理装置であって、基板を保持する基板保持部と、処理液が通過可能であり、処理液の存否または処理液の種類を確認する確認部が設けられた管路とを備え、前記確認部が、前記管路の少なくとも一部であり、内周面および外周面において長手方向に交互に配置される複数の導電部と複数の絶縁部とを有する検査管路と、前記複数の導電部のうち少なくとも2つの導電部に電気的に接続され、前記少なくとも2つの導電部間の導電率を取得する導電率取得部と、前記導電率取得部により取得された導電率に基づいて、前記検査管路内における処理液の存否、または、前記検査管路内の処理液の種類を判断する判断部とを備え、前記複数の導電部がそれぞれ、周方向の全周に亘って設けられ、前記検査管路の前記内周面の一部を構成する内側導電部と、周方向の全周に亘って設けられ、前記検査管路の前記外周面の一部を構成する外側導電部と、周方向の一部において前記内側導電部と前記外側導電部とを電気的に接続する導電連結部とを備える。
請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の基板処理装置であって、前記導電連結部が、前記内側導電部と前記外側導電部との間において径方向に広がる板状の部位であり、前記導電連結部の長手方向の長さが、前記内側導電部および前記外側導電部の長手方向の長さよりも小さい。
9 基板
31 基板保持部
60 処理液供給源
61 ノズル
62 処理液管路
63 供給バルブ
64 分岐管路
65 吸引部
66 吸引バルブ
67,67a〜67d 確認部
71 処理液
640 分岐点
671,671c,671d 検査管路
672,672c 導電率取得部
673,673c 判断部
675 導電部
676 絶縁部
J2 中心軸
Claims (14)
- 基板に処理液を供給して処理を行う基板処理装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
処理液が通過可能であり、処理液の存否または処理液の種類を確認する確認部が設けられた管路と、
を備え、
前記確認部が、
前記管路の少なくとも一部であり、内周面において周方向に交互に配置される複数の導電部と複数の絶縁部とを有する検査管路と、
前記複数の導電部のうち少なくとも2つの導電部に電気的に接続され、前記少なくとも2つの導電部間の導電率を取得する導電率取得部と、
前記導電率取得部により取得された導電率に基づいて、前記検査管路内における処理液の存否、または、前記検査管路内の処理液の種類を判断する判断部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記複数の導電部および前記複数の絶縁部は、前記検査管路の前記内周面において長手方向にそれぞれ延びることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記複数の導電部および前記複数の絶縁部のそれぞれの周方向の幅が同じであり、
前記少なくとも2つの導電部が、前記検査管路の中心軸を挟んで互いに対向する2つの導電部であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記少なくとも2つの導電部が、3つ以上の導電部であり、
前記導電率取得部により、前記3つ以上の導電部において周方向に隣接する各2つの導電部間の導電率が取得されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記複数の導電部と前記複数の絶縁部とが、前記検査管路の外周面においても周方向に交互に配置され、
前記複数の導電部がそれぞれ、
前記検査管路の前記内周面の一部を構成する内側導電部と、
前記検査管路の前記外周面の一部を構成する外側導電部と、
前記内側導電部と前記外側導電部とを電気的に接続する導電連結部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項5に記載の基板処理装置であって、
前記導電連結部が、前記内側導電部と前記外側導電部との間において径方向に広がる板状の部位であり、
前記導電連結部の周方向の幅が、前記内側導電部および前記外側導電部の周方向の幅よりも小さいことを特徴とする基板処理装置。 - 基板に処理液を供給して処理を行う基板処理装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
処理液が通過可能であり、処理液の存否または処理液の種類を確認する確認部が設けられた管路と、
を備え、
前記確認部が、
前記管路の少なくとも一部であり、内周面および外周面において長手方向に交互に配置される複数の導電部と複数の絶縁部とを有する検査管路と、
前記複数の導電部のうち少なくとも2つの導電部に電気的に接続され、前記少なくとも2つの導電部間の導電率を取得する導電率取得部と、
前記導電率取得部により取得された導電率に基づいて、前記検査管路内における処理液の存否、または、前記検査管路内の処理液の種類を判断する判断部と、
を備え、
前記複数の導電部がそれぞれ、
周方向の全周に亘って設けられ、前記検査管路の前記内周面の一部を構成する内側導電部と、
周方向の全周に亘って設けられ、前記検査管路の前記外周面の一部を構成する外側導電部と、
周方向の一部において前記内側導電部と前記外側導電部とを電気的に接続する導電連結部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項7に記載の基板処理装置であって、
前記導電連結部が、前記内側導電部と前記外側導電部との間において径方向に広がる板状の部位であり、
前記導電連結部の長手方向の長さが、前記内側導電部および前記外側導電部の長手方向の長さよりも小さいことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし8のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記検査管路を形成する主要材料が樹脂であり、
前記複数の導電部が、導電性樹脂であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項9に記載の基板処理装置であって、
前記複数の絶縁部が、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体により形成され、
前記複数の導電部が、カーボンが添加されたテトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体により形成されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし10のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記管路に接続され、前記基板に向けて処理液を吐出するノズルと、
前記管路上に設けられて処理液供給源から前記ノズルへの処理液の供給および停止を切り替える供給制御部と、
前記供給制御部と前記ノズルとの間の分岐点にて前記管路から分岐する分岐管路と、
前記分岐管路に接続されて前記管路内の処理液を吸引する吸引部と、
をさらに備え、
前記検査管路が、前記供給制御部と前記ノズルとの間にて前記管路上に設けられ、
前記判断部が、前記検査管路内における処理液の存否を判断することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項11に記載の基板処理装置であって、
前記検査管路が重力方向に沿って延びることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項11または12に記載の基板処理装置であって、
前記検査管路が、前記管路の前記供給制御部と前記ノズルとの間の全長に亘って設けられることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項11ないし13のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記分岐管路上に設けられて前記吸引部による処理液の吸引および停止を切り替える吸引制御部をさらに備え、
前記確認部と同様の構造を有するもう1つの確認部が、前記分岐管路上において前記吸引制御部と前記分岐点との間に設けられて処理液の存否を確認することを特徴とする基板処理装置。
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