JP6529348B2 - 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム - Google Patents
半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6529348B2 JP6529348B2 JP2015114830A JP2015114830A JP6529348B2 JP 6529348 B2 JP6529348 B2 JP 6529348B2 JP 2015114830 A JP2015114830 A JP 2015114830A JP 2015114830 A JP2015114830 A JP 2015114830A JP 6529348 B2 JP6529348 B2 JP 6529348B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- processing chamber
- raw material
- substrate
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 320
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 93
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 408
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 123
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 115
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 88
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 59
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 55
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 40
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 37
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 23
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 17
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 238000002407 reforming Methods 0.000 claims description 3
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 127
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 69
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 48
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 35
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 35
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 11
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 11
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 11
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 11
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 10
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 10
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 8
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 7
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 7
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 6
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 5
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 5
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- -1 for example Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dimethylphenyl)-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=2N=C(N)SC=2)=C1 MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- VQPFDLRNOCQMSN-UHFFFAOYSA-N bromosilane Chemical class Br[SiH3] VQPFDLRNOCQMSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- KJEOUXFOUPZUMX-UHFFFAOYSA-N chloro(disilyl)silane Chemical compound [SiH3][SiH]([SiH3])Cl KJEOUXFOUPZUMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXMNVBZEWMANSQ-UHFFFAOYSA-N chloro(silyl)silane Chemical compound [SiH3][SiH2]Cl FXMNVBZEWMANSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- NMDIYJBKXNYBGK-UHFFFAOYSA-N dichloro(disilyl)silane Chemical compound [SiH3][Si]([SiH3])(Cl)Cl NMDIYJBKXNYBGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXOCTISBMXDWGP-UHFFFAOYSA-N dichloro(silyl)silane Chemical compound [SiH3][SiH](Cl)Cl FXOCTISBMXDWGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical class [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- OCVXZQOKBHXGRU-UHFFFAOYSA-N iodine(1+) Chemical compound [I+] OCVXZQOKBHXGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001272 nitrous oxide Substances 0.000 description 1
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000006057 reforming reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000101 transmission high energy electron diffraction Methods 0.000 description 1
- VYFXMIAQVGXIIN-UHFFFAOYSA-N trichloro(chlorosilyl)silane Chemical compound Cl[SiH2][Si](Cl)(Cl)Cl VYFXMIAQVGXIIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPFWGLUVXPQOHO-UHFFFAOYSA-N trichloro(silyl)silane Chemical compound [SiH3][Si](Cl)(Cl)Cl KPFWGLUVXPQOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02225—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer
- H01L21/0226—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process
- H01L21/02263—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase
- H01L21/02271—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase deposition by decomposition or reaction of gaseous or vapour phase compounds, i.e. chemical vapour deposition
- H01L21/0228—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase deposition by decomposition or reaction of gaseous or vapour phase compounds, i.e. chemical vapour deposition deposition by cyclic CVD, e.g. ALD, ALE, pulsed CVD
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/401—Oxides containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4412—Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45527—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the ALD cycle, e.g. different flows or temperatures during half-reactions, unusual pulsing sequence, use of precursor mixtures or auxiliary reactants or activations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45527—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the ALD cycle, e.g. different flows or temperatures during half-reactions, unusual pulsing sequence, use of precursor mixtures or auxiliary reactants or activations
- C23C16/45536—Use of plasma, radiation or electromagnetic fields
- C23C16/45542—Plasma being used non-continuously during the ALD reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45544—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the apparatus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45557—Pulsed pressure or control pressure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/505—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
- C23C16/509—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges using internal electrodes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32091—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being capacitively coupled to the plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3244—Gas supply means
- H01J37/32449—Gas control, e.g. control of the gas flow
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/32816—Pressure
- H01J37/32834—Exhausting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02225—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer
- H01L21/0226—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process
- H01L21/02263—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase
- H01L21/02271—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase deposition by decomposition or reaction of gaseous or vapour phase compounds, i.e. chemical vapour deposition
- H01L21/02274—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase deposition by decomposition or reaction of gaseous or vapour phase compounds, i.e. chemical vapour deposition in the presence of a plasma [PECVD]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45563—Gas nozzles
- C23C16/45578—Elongated nozzles, tubes with holes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/332—Coating
- H01J2237/3321—CVD [Chemical Vapor Deposition]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/332—Coating
- H01J2237/3322—Problems associated with coating
Description
処理室内の基板に対して、水素およびハロゲン元素を含む原料を、前記原料が単独で存在した場合に前記原料が熱分解するような条件であって、前記処理室内への前記原料の供給流量が前記処理室内からの前記原料の排気流量よりも大きくなるような条件下で供給し、第1層を形成する工程と、
前記処理室内の前記基板に対して反応体を供給し、前記第1層を改質して第2層を形成する工程と、
を非同時に所定回数行うことで、前記基板上に膜を形成する工程を有する技術が提供される。
以下、本発明の一実施形態について図1〜図3を参照しながら説明する。
図1に示すように、処理炉202は加熱機構(温度調整部)としてのヒータ207を有する。ヒータ207は円筒形状であり、保持板としてのヒータベース(図示せず)に支持されることにより垂直に据え付けられている。ヒータ207は、後述するようにガスを熱で活性化(励起)させる活性化機構(励起部)としても機能する。
上述の基板処理装置を用い、半導体装置(デバイス)の製造工程の一工程として、基板上に膜を形成するシーケンス例について、図4を用いて説明する。以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
処理室201内の基板としてのウエハ200に対して、HおよびClを含む原料としてのTCSガスを、TCSが単独で存在した場合にTCSが熱分解するような条件であって、処理室201内へのTCSガスの供給流量が処理室201内からのTCSガスの排気流量よりも大きくなるような条件下で供給し、第1層としてのシリコン層(Si層)を形成するステップと、
処理室201内のウエハ200に対して反応体としてのO3ガスを供給し、第1層を改質して第2層としてのシリコン酸化層(SiO層)を形成するステップと、
を非同時に所定回数(n回)行うことで、ウエハ200上にシリコン酸化膜(SiO膜)を形成する。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、シャッタ開閉機構115sによりシャッタ219sが移動させられて、マニホールド209の下端開口が開放される(シャッタオープン)。その後、図1に示すように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内へ搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219は、Oリング220bを介してマニホールド209の下端をシールした状態となる。
処理室201内、すなわち、ウエハ200が存在する空間が所望の圧力(真空度)となるように、真空ポンプ246によって真空排気(減圧排気)される。この際、処理室201内の圧力は圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づきAPCバルブ244がフィードバック制御される。真空ポンプ246は、少なくともウエハ200に対する処理が終了するまでの間は常時作動させた状態を維持する。また、処理室201内のウエハ200が所望の温度(後述する第1温度)となるようにヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電具合がフィードバック制御される。ヒータ207による処理室201内の加熱は、少なくともウエハ200に対する処理が終了するまでの間は継続して行われる。また、回転機構267によるボート217およびウエハ200の回転を開始する。回転機構267によるボート217およびウエハ200の回転は、少なくとも、ウエハ200に対する処理が終了するまでの間は継続して行われる。
その後、次の2つのステップ、すなわち、ステップ1,2を順次実施する。
このステップでは、処理室201内のウエハ200に対してTCSガスを供給する。このとき、処理室201内へのTCSガスの供給流量が処理室201内からのTCSガスの排気流量よりも大きくなるような条件下でTCSガスを処理室201内へ供給する。これにより、排気系を実質的に閉塞した状態(排気系を閉塞した状態と実質的に等しい、もしくは、類似した状態)、すなわち、処理室201内へTCSガスを実質的に封じ込めた状態(処理室201内へTCSガスを封じ込めた状態と実質的に等しい、もしくは、類似した状態)を形成する。
ウエハ200上に第1層が形成された後、処理室201内のウエハ200に対してO3ガスを供給する。このとき、排気系を開放した状態でO3ガスを処理室201内へ供給する。
上述したステップ1,2を非同時に、すなわち、同期させることなく行うサイクルを所定回数(n回)、すなわち、1回以上実施する。これにより、ウエハ200上に、所定組成および所定厚さのSiO膜を形成することができる。上述のサイクルは、複数回繰り返すのが好ましい。すなわち、1サイクルあたりに形成する第2層(SiO層)の厚さを所望の膜厚よりも小さくし、第2層を積層することで形成されるSiO膜の膜厚が所望の膜厚になるまで、上述のサイクルを複数回繰り返すのが好ましい。
ウエハ200上へのSiO膜の形成が完了したら、バルブ243c,243dを開き、ガス供給管232c,232dのそれぞれからN2ガスを処理室201内へ供給し、排気管231から排気する。N2ガスはパージガスとして作用する。これにより、処理室201内がパージされ、処理室201内に残留するガスや反応副生成物が処理室201内から除去される(パージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降されて、マニホールド209の下端が開口されるとともに、処理済のウエハ200が、ボート217に支持された状態でマニホールド209の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される。ボートアンロードの後は、シャッタ219sが移動させられ、マニホールド209の下端開口がOリング220cを介してシャッタ219sによりシールされる(シャッタクローズ)。処理済のウエハ200は、反応管203の外部に搬出された後、ボート217より取り出されることとなる(ウエハディスチャージ)。
本実施形態によれば、以下に示す1つ又は複数の効果が得られる。
本実施形態における基板処理のシーケンスは、図4に示す態様に限定されず、以下に示す変形例のように変更することができる。
ステップ1では、排気系を実質的に閉塞した状態、または、排気系を完全に閉塞した状態で、処理室201内へのTCSガスの供給を間欠的に繰り返すようにしてもよい。図5は、ステップ1において、排気系を実質的に閉塞した状態で、TCSガスの供給を間欠的に3回行う例を示している。本変形例の成膜シーケンスを、便宜上、以下のように示すこともある。
ステップ1では、排気系を実質的に閉塞した状態、または、排気系を完全に閉塞した状態で、処理室201内へのTCSガスの供給を間欠的に繰り返すとともに、TCSガスの供給停止期間中におけるN2ガスの供給流量を、TCSガスの供給期間におけるN2ガスの供給流量よりも一時的に増加させる(大流量パージを行う)ようにしてもよい。すなわち、ステップ1では、排気系を実質的または完全に閉塞した状態で、処理室201内へのTCSガスの供給と、処理室201内の大流量パージと、を交互に繰り返すようにしてもよい。図6は、ステップ1において、排気系を実質的に閉塞した状態で、TCSガスの供給と、処理室201内の大流量パージとを交互に3回ずつ行う例を示している。
ステップ1では、排気系を実質的に閉塞した状態、または、排気系を完全に閉塞した状態で、処理室201内へのTCSガスの供給を間欠的に繰り返すとともに、TCSガスの供給停止期間におけるAPCバルブ244の開度を、TCSガスの供給期間におけるAPCバルブ244の開度よりも一時的に大きくする(排気レートを大きくする)ようにしてもよい。すなわち、ステップ1では、処理室201内へのTCSガスの供給と、排気系による排気レートをTCSガス供給時よりも大きくする動作と、を交互に繰り返すようにしてもよい。図7は、ステップ1において、排気系を実質的に閉塞した状態で行うTCSガスの供給と、排気レートをTCSガス供給時よりも大きくする動作と、を交互に3回ずつ行う例を示している。
図8に示すように、上述の変形例2,3を組み合わせるようにしてもよい。すなわち、ステップ1では、処理室201内へのTCSガスの供給と、処理室201内の大流量パージおよび排気系による排気レートをTCSガス供給時よりも大きくする動作と、を交互に繰り返すようにしてもよい。これにより、HCl等の反応副生成物の処理室201内からの除去をさらに促すことができ、成膜処理の品質を一層向上させることが可能となる。
図9に示すように、ウエハ200上にSiO膜を形成した後、同一の処理室201内で、SiO膜上にキャップ層をin−situにて形成してもよい。キャップ層は、成膜処理後のウエハ200が大気中に搬出された際、大気中のH2OがSiO膜に到達(接触)することを防ぐブロック層として機能する。SiO膜を形成する処理を実施した後、成膜処理後のウエハ200を処理室201内から取り出すことなく処理室201内に収容した状態でSiO膜上にキャップ層を形成することで、SiO膜中に僅かにClが残留していた場合であっても、SiO膜中へのH2Oの取り込みを、より確実に防止することが可能となる。
上述したように、ステップ2では、プラズマ励起させたO2ガス等を供給するようにしてもよい。ウエハ200に対してプラズマ励起させたO2ガスを供給する場合には、MFC241bで制御するO2ガスの供給流量を、例えば100〜10000sccmの範囲内の流量とする。棒状電極269,270間に印加する高周波電力(RF電力)は、例えば50〜1000Wの範囲内の電力とする。処理室201内の圧力は、例えば1〜1330Pa、好ましくは1〜665Pa、より好ましくは1〜100Paの範囲内の圧力とする。他の処理手順、処理条件は、上述の処理手順、処理条件と同様とする。本変形例によっても、図4に示す成膜シーケンスと同様の効果が得られる。本変形例の成膜シーケンスを、便宜上、以下のように示すこともある。
図12に示すように、ウエハ200上にSiO膜を形成した後、このSiO膜の表面へO3ガスやプラズマ励起させたO2ガス等を供給するステップを行うことで、SiO膜の表面を改質するようにしてもよい。SiO膜の表面を改質するステップにおけるO3ガス等の供給時間は、例えば、ステップ2におけるO3ガスの供給時間よりも長くすることが好ましく、例えば、120〜600秒の範囲内の時間とする。これにより、SiO膜の表面からHやClをさらに脱離させることが可能となり、SiO膜の膜質をさらに向上させることが可能となる。また、SiO膜の表面からClをさらに脱離させることで、大気に晒されることとなったSiO膜中へのH2Oの取り込みをより確実に抑制することも可能となる。
上述したように、ステップ1では、原料に含まれるHとClとを反応させ、HとClとを脱離させるようにしている。但し、原料に含まれるHの量と、原料に含まれるClの量と、の比率によっては、第1層中に、HおよびClのうちいずれか一方が多く残留してしまう場合がある。第1層からHおよびClの両方をバランスよく低減させるには、原料と一緒に、Cl2ガス等のH非含有のCl含有ガス、或いは、H2ガスやSiH4ガス等のCl非含有のH含有ガスを供給することが有効な場合もある。
以上、本発明の実施形態について具体的に説明した。しかしながら、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
以下、本発明の好ましい態様について付記する。
本発明の一態様によれば、
処理室内の基板に対して、水素およびハロゲン元素を含む原料を、前記原料が単独で存在した場合に前記原料が熱分解するような条件であって、前記処理室内への前記原料の供給流量が前記処理室内からの前記原料の排気流量よりも大きくなるような条件下で供給し、第1層を形成する工程と、
前記処理室内の前記基板に対して反応体を供給し、前記第1層を改質して第2層を形成する工程と、
を非同時に所定回数(n回)行うことで、前記基板上に膜を形成する工程を有する半導体装置の製造方法、または、基板処理方法が提供される。
付記1に記載の方法であって、好ましくは、
前記第1層を形成する工程では、前記原料に含まれる水素とハロゲン元素とを反応させ、ハロゲン元素を脱離させる(引き抜く)。
付記1又は2に記載の方法であって、好ましくは、
前記第1層を形成する工程における処理条件(処理圧力および/または処理温度)を、前記原料に含まれる水素とハロゲン元素とが反応し、ハロゲン元素が脱離する(引き抜かれる)ような条件(処理圧力および/または処理温度)とする。
付記1乃至3のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記第1層を形成する工程では、前記処理室内を排気する排気系を(実質的、または、完全に)閉塞した状態で前記原料を前記処理室内へ供給して(実質的、または、完全に)封じ込める。
付記1乃至4のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記第1層を形成する工程では、前記処理室内を排気する排気系を(実質的、または、完全に)閉塞した状態で前記原料を前記処理室内へ供給して(実質的、または、完全に)封じ込め、前記原料に含まれる水素とハロゲン元素とが反応し、ハロゲン元素が脱離するような処理条件を作り出す。
付記1乃至5のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記原料として、SixHyClzの組成式(x、y、zはそれぞれ1以上の整数)で表される物質(水素化クロロシラン化合物)を用いる。
付記1乃至6のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記原料として、SiH3Cl、SiH2Cl2、SiHCl3、Si2H5Cl、Si2H4Cl2、Si2H3Cl3、Si2H2Cl4、Si3H5Cl、Si3H4Cl2からなる群より選択される少なくとも1つを用いる。
付記1乃至7のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
原料として、1分子中(組成式中)に含まれる水素の数と、1分子中に含まれる塩素の数と、が等しい物質(SiH2Cl2、Si2H3Cl3等)を用いる。
付記1乃至7のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記第1層を形成する工程では、前記基板に対して前記原料と一緒に水素非含有の塩素含有ガスを供給する。より好ましくは、前記第1層を形成する工程では、原料として、1分子中に含まれる水素原子の数よりも、1分子中に含まれる塩素原子の数の方が少ない物質を用い、前記基板に対して前記原料と一緒に前記塩素含有ガスを供給する。
付記1乃至7のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記第1層を形成する工程では、前記基板に対して前記原料と一緒に塩素非含有の水素含有ガスを供給する。より好ましくは、前記第1層を形成する工程では、原料として、1分子中に含まれる水素原子の数よりも、1分子中に含まれる塩素原子の数の方が多い物質を用い、前記基板に対して前記原料と一緒に前記水素含有ガスを供給する。
付記1乃至10のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記反応体として、水素非含有(水素フリー)の酸素含有ガスを用いる。
付記1乃至11のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記反応体として、O3ガスまたはプラズマ励起させた酸素含有ガスからなる群より選択される少なくとも1つを用いる。
付記1乃至12のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記反応体として、O3ガス、プラズマ励起させたO2ガス、プラズマ励起させたNOガス、プラズマ励起させたN2Oガスおよびプラズマ励起させたNO2ガスからなる群より選択される少なくとも1つを用いる。
付記1乃至13のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記基板上に膜を形成する工程を実施した後、同一の前記処理室内で、すなわち、前記膜が形成された前記基板を前記処理室内から取り出すことなく前記処理室内に収容した状態で、前記膜上にキャップ層を形成する工程を、さらに有する。
付記14に記載の方法であって、好ましくは、
前記キャップ層を、前記膜とはエッチング耐性の異なる材料で形成する。より好ましくは、前記基板上に膜を形成する工程では前記基板上にシリコン酸化膜を形成し、前記キャップ層を形成する工程では前記基板上にシリコン層およびシリコン窒化層のうち少なくともいずれかを形成する。
付記14又は15に記載の方法であって、好ましくは、
前記キャップ層の厚さを数原子層以上数十原子層以下の厚さとする。
本発明の他の態様によれば、
基板を処理する処理室と、
前記処理室内の基板を加熱するヒータと、
前記処理室内の基板に対して水素およびハロゲン元素を含む原料を供給する第1供給系と、
前記処理室内の基板に対して反応体を供給する第2供給系と、
前記処理室内を排気する排気系と、
前記処理室内の基板に対して、前記原料を、前記原料が単独で存在した場合に前記原料が熱分解するような条件であって、前記処理室内への前記原料の供給流量が前記処理室内からの前記原料の排気流量よりも大きくなるような条件下で供給し、第1層を形成する処理と、前記処理室内の前記基板に対して反応体を供給し、前記第1層を改質して第2層を形成する処理と、を非同時に所定回数行うことで、前記基板上に膜を形成する処理を実施させるように、前記ヒータ、前記第1供給系、前記第2供給系および前記排気系を制御するよう構成される制御部と、
を備える基板処理装置が提供される。
本発明のさらに他の態様によれば、
処理室内の基板に対して、水素およびハロゲン元素を含む原料を、前記原料が単独で存在した場合に前記原料が熱分解するような条件であって、前記処理室内への前記原料の供給流量が前記処理室内からの前記原料の排気流量よりも大きくなるような条件下で供給し、第1層を形成する手順と、
前記処理室内の前記基板に対して反応体を供給し、前記第1層を改質して第2層を形成する手順と、
を非同時に所定回数行うことで、前記基板上に膜を形成する手順をコンピュータに実行させるプログラム、または、該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
201 処理室
202 処理炉
207 ヒータ
231 排気管
232a ガス供給管
232b ガス供給管
Claims (10)
- 処理室内の基板に対して、水素およびハロゲン元素を含む原料を、前記原料が単独で存在した場合に前記原料が熱分解するような条件であって、前記処理室内への前記原料の供給流量が前記処理室内からの前記原料の排気流量よりも大きくなるような条件下で供給し、第1層を形成する工程と、
前記処理室内の前記基板に対して反応体を供給し、前記第1層を改質して第2層を形成する工程と、
を非同時に所定回数行うことで、前記基板上に膜を形成する工程を有し、
前記第1層を形成する工程では、前記原料として、1分子中に含まれる水素原子の数よりも、1分子中に含まれる塩素原子の数の方が少ない物質を用い、前記基板に対して前記原料と一緒に塩素含有ガスを供給するか、もしくは、前記原料として、1分子中に含まれる水素原子の数よりも、1分子中に含まれる塩素原子の数の方が多い物質を用い、前記基板に対して前記原料と一緒に水素含有ガスを供給する半導体装置の製造方法。 - 前記塩素含有ガスは、水素非含有である請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記原料として、SiH 3 Cl、Si 2 H 5 Cl、Si 2 H 4 Cl 2 、Si 3 H 5 Cl、Si 3 H 4 Cl 2 からなる群より選択される少なくとも1つを用いる請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記水素含有ガスは、塩素非含有である請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記原料として、SiHCl 3 、Si 2 H 2 Cl 4 からなる群より選択される少なくとも1つを用いる請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記反応体として、水素非含有の酸素含有ガスを用いる請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記反応体として、O 3 ガスまたはプラズマ励起させた酸素含有ガスからなる群より選択される少なくとも1つを用いる請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記基板上に膜を形成する工程を実施した後、前記膜が形成された前記基板を前記処理室内から取り出すことなく前記処理室内に収容した状態で、前記膜上にキャップ層を形成する工程を、さらに有する請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 基板を処理する処理室と、
前記処理室内の基板を加熱するヒータと、
前記処理室内の基板に対して水素およびハロゲン元素を含む原料を供給する第1供給系と、
前記処理室内の基板に対して反応体を供給する第2供給系と、
前記処理室内の基板に対して塩素含有ガスまたは水素含有ガスを供給する第3供給系と、
前記処理室内を排気する排気系と、
前記処理室内の基板に対して、前記原料を、前記原料が単独で存在した場合に前記原料が熱分解するような条件であって、前記処理室内への前記原料の供給流量が前記処理室内からの前記原料の排気流量よりも大きくなるような条件下で供給し、第1層を形成する処理と、前記処理室内の前記基板に対して反応体を供給し、前記第1層を改質して第2層を形成する処理と、を非同時に所定回数行うことで、前記基板上に膜を形成する処理を実施させ、前記第1層を形成する処理では、前記原料として、1分子中に含まれる水素原子の数よりも、1分子中に含まれる塩素原子の数の方が少ない物質を用い、前記基板に対して前記原料と一緒に前記塩素含有ガスを供給するか、もしくは、前記原料として、1分子中に含まれる水素原子の数よりも、1分子中に含まれる塩素原子の数の方が多い物質を用い、前記基板に対して前記原料と一緒に前記水素含有ガスを供給するように、前記ヒータ、前記第1供給系、前記第2供給系、前記第3供給系および前記排気系を制御するよう構成される制御部と、
を備える基板処理装置。 - 基板処理装置の処理室内の基板に対して、水素およびハロゲン元素を含む原料を、前記原料が単独で存在した場合に前記原料が熱分解するような条件であって、前記処理室内への前記原料の供給流量が前記処理室内からの前記原料の排気流量よりも大きくなるような条件下で供給し、第1層を形成する手順と、
前記処理室内の前記基板に対して反応体を供給し、前記第1層を改質して第2層を形成する手順と、
を非同時に所定回数行うことで、前記基板上に膜を形成する手順と、
前記第1層を形成する手順において、前記原料として、1分子中に含まれる水素原子の数よりも、1分子中に含まれる塩素原子の数の方が少ない物質を用い、前記基板に対して前記原料と一緒に塩素含有ガスを供給するか、もしくは、前記原料として、1分子中に含まれる水素原子の数よりも、1分子中に含まれる塩素原子の数の方が多い物質を用い、前記基板に対して前記原料と一緒に水素含有ガスを供給する手順と、
をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラム。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015114830A JP6529348B2 (ja) | 2015-06-05 | 2015-06-05 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
US15/170,352 US9773661B2 (en) | 2015-06-05 | 2016-06-01 | Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015114830A JP6529348B2 (ja) | 2015-06-05 | 2015-06-05 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017005016A JP2017005016A (ja) | 2017-01-05 |
JP6529348B2 true JP6529348B2 (ja) | 2019-06-12 |
Family
ID=57451015
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015114830A Active JP6529348B2 (ja) | 2015-06-05 | 2015-06-05 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9773661B2 (ja) |
JP (1) | JP6529348B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016205196A2 (en) | 2015-06-16 | 2016-12-22 | Air Products And Chemicals, Inc. | Halidosilane compounds and compositions and processes for depositing silicon-containing films using same |
CN109715850A (zh) | 2016-09-26 | 2019-05-03 | 美国陶氏有机硅公司 | 三氯二硅烷 |
JP6814057B2 (ja) * | 2017-01-27 | 2021-01-13 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム |
JP6568127B2 (ja) * | 2017-03-02 | 2019-08-28 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、プログラム及び記録媒体 |
JP6778166B2 (ja) * | 2017-09-08 | 2020-10-28 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法 |
JP2019175911A (ja) * | 2018-03-27 | 2019-10-10 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
JP6920262B2 (ja) * | 2018-09-20 | 2021-08-18 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置、およびプログラム |
CN110307731B (zh) * | 2019-02-22 | 2021-02-09 | 湖南省鑫源新材料股份有限公司 | 一种用于高温设备的旋转料台 |
JP7300898B2 (ja) * | 2019-06-11 | 2023-06-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6341017A (ja) * | 1986-08-06 | 1988-02-22 | Mitsubishi Electric Corp | 気相成長方法 |
JPH07120634B2 (ja) * | 1988-12-27 | 1995-12-20 | 東京エレクトロン東北株式会社 | 処理装置 |
JP4305427B2 (ja) * | 2005-08-02 | 2009-07-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 |
JP5223804B2 (ja) * | 2009-07-22 | 2013-06-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法及び成膜装置 |
JP5541223B2 (ja) | 2010-07-29 | 2014-07-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法及び成膜装置 |
JP6022166B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2016-11-09 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
JP5959307B2 (ja) | 2011-06-22 | 2016-08-02 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム |
CN104823268B (zh) * | 2012-11-26 | 2017-11-21 | 株式会社日立国际电气 | 半导体器件的制造方法、衬底处理装置及记录介质 |
-
2015
- 2015-06-05 JP JP2015114830A patent/JP6529348B2/ja active Active
-
2016
- 2016-06-01 US US15/170,352 patent/US9773661B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9773661B2 (en) | 2017-09-26 |
JP2017005016A (ja) | 2017-01-05 |
US20160358767A1 (en) | 2016-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20190311898A1 (en) | Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium | |
JP6529348B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
US9966252B2 (en) | Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus | |
JP6086942B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
JP6230809B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
WO2015199111A1 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
JP6086934B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
KR20150097413A (ko) | 클리닝 방법, 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 프로그램 | |
KR101786889B1 (ko) | 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 컴퓨터 프로그램 | |
JP2016072587A (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
US11591694B2 (en) | Method of manufacturing semiconductor device, method of processing substrate, substrate processing apparatus, and recording medium | |
JP6523080B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
JP6529780B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
JP2017168786A (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
WO2018055724A1 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
JP6347548B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
WO2017158848A1 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、および記録媒体 | |
WO2012060379A1 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理方法および基板処理装置 | |
JP2018163931A (ja) | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | |
WO2017056155A1 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置および記録媒体 | |
JP6339236B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
JP6654232B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
JP2013187324A (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理方法および基板処理装置 | |
JP6608516B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
WO2016038744A1 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置および記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180322 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20180727 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180809 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20181112 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190403 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190417 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190514 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6529348 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |