JP6512942B2 - 画像処理装置および画像処理方法 - Google Patents

Description

本発明は、画像処理装置および画像処理方法に関する。

インクを吐出する複数の吐出口を配列した吐出口列を有する記録ヘッドを、記録媒体の単位領域に対して相対的に移動させながらインクの吐出を行う記録走査と、記録媒体の搬送を行う副走査と、を繰り返し行うことで画像の記録を行う画像記録装置が知られている。このような画像記録装置において、単位領域に対する複数回の記録走査を行うことによって画像を形成する、いわゆるマルチパス記録方式が知られている。

このようなマルチパス記録方式では、一般に記録する画像に対応する多値データを量子化して量子化データを生成し、更に量子化データを複数回の走査に分配することで記録に用いる記録データを生成する。なお、量子化処理の際には量子化パターンを、分配処理の際には複数回の走査に対応する複数のマスクパターンを用いることが知られている。

特許文献１には、上述の量子化パターン、マスクパターンを用いる場合において、記録媒体の１回の搬送量に応じた量子化パターンを適用して量子化処理を行うことが開示されている。同文献によれば、搬送量が量子化パターンの吐出口の配列方向における幅の整数倍となるような量子化パターンを搬送量ごとに複数有し、搬送量に応じて異なる量子化パターンを適用することにより、得られる画像の画質低下を抑制できることが記載されている。

特開２００９−３９９４４号公報

ここで、上述の量子化パターンとマスクパターンを用いる場合、それぞれのパターンを無相関に定めてしまうと生成された記録データに基づく画像に空間的な偏りが生じてしまう虞がある。このような偏りを低減するために、量子化パターンとマスクパターンを互いに対応付けて定める必要がある。

図１は量子化パターンとマスクパターンを無相関に定めた場合と互いに対応付けて定めた場合に生成される記録データの一例を示す図である。なお、ここでは一例として量子化パターンとマスクパターンがそれぞれ１２８画素×１２８画素の大きさを有する場合について示している。また、量子化の一例として２値化処理が実行された場合について示している。

図１（ａ）はあるディザパターンを用いて量子化された際の記録デューティが２５％の量子化データに基づく画像を示す図である。また、図１（ｂ−１）、（ｂ−２）はそれぞれ図１（ａ）に示す量子化データが量子化パターンと無相関に定められたそれぞれ１、２回目の走査用のマスクパターンを用いて分配された、それぞれ１、２回目の走査用の記録データを示す図である。また、図１（ｃ−１）、（ｃ−２）はそれぞれ図１（ａ）に示す量子化データが量子化パターンと対応付けられて定められたそれぞれ１、２回目の走査用のマスクパターンを用いて分配された、それぞれ１、２回目の走査用の記録データを示す図である。なお、ここでの対応付けは量子化パターンの閾値とマスクパターンの値との対応付けで各走査での分散性を考慮した対応付けである。

図１（ｂ−１）、（ｂ−２）からわかるように、量子化パターンとマスクパターンが互いに無相関に定められた場合、記録データに空間的な偏りが生じてしまう虞がある。これに対し、図１（ｃ−１）、（ｃ−２）に示すように、互いに対応付けて定められた量子化パターンとマスクパターンを用いることにより、記録データの空間的な偏りを低減した記録データを生成することが可能となる。

これに対し、特許文献１に記載された技術によっては、記録媒体の搬送量に応じて量子化パターンを設定する必要がある。したがって、量子化パターンの設定の際の自由度が低下してしまうことになる。

本発明は上記の課題を鑑みて為されたものであり、量子化パターンの設定の自由度を損ねることなく、互いに対応付けられた量子化パターンとマスクパターンを用いて記録データを生成することを目的とするものである。

そこで、本発明は、インクを吐出するための複数の吐出口が所定方向に配列された吐出口列を有する記録ヘッドを用い、前記記録ヘッドの記録媒体上の単位領域に対する前記所定方向と交差する交差方向への複数回の相対的な走査のそれぞれにおける前記単位領域内の複数の画素相当の複数の画素領域それぞれに対するインクの吐出または非吐出を定めた、前記複数回の走査それぞれに対応する記録データを生成する画像処理装置であって、前記単位領域に記録する画像に対応する多値データを取得する取得手段と、前記記録媒体上の所定領域に対応する量子化パターンを用いて前記取得手段によって取得された前記多値データを量子化することにより、量子化データを生成する量子化手段と、前記複数回の走査に対応する複数のマスクパターンを用いて前記量子化手段により生成された前記量子化データを前記複数回の走査それぞれに分配することにより、前記記録データを生成する分配手段と、を有し、前記量子化パターンと、前記複数のマスクパターンのそれぞれと、は互いに対応付けて定められており、前記複数のマスクパターンのそれぞれは、それぞれ前記所定方向における幅が前記マスクパターンよりも小さい複数のマスクパターン部分によって構成され、前記分配手段は、前記量子化手段によって生成された前記量子化データのうち、前記量子化パターン内の一部の領域を用い、且つ、前記量子化パターン内の他部の領域を用いずに量子化された領域に対しては、当該一部の領域と対応する複数の前記マスクパターン部分のそれぞれを適用することを特徴とする。

本発明に係る画像処理装置および画像処理方法によれば、量子化パターンの設定の自由度を損ねることなく、互いに対応付けられた量子化パターンとマスクパターンを用いて記録データを生成することが可能となる。

記録データの空間的な偏りを説明するための模式図である。 実施形態で適用する画像記録装置の斜視図である。 実施形態で適用する記録ヘッドの模式図である。 実施形態における記録制御系を示す模式図である。 実施形態におけるマルチパス記録方式を説明するための図である。 実施形態におけるデータの処理過程を示す図である。 実施形態におけるディザパターンを示す模式図である。 実施形態におけるマスクパターンを示す模式図である。 実施形態におけるマスクパターン部分を示す模式図である。 ディザパターン、マスクパターンの適用方法を示す模式図である。 実施形態におけるマルチパス記録方式を説明するための図である。 実施形態におけるマスクパターン部分を示す模式図である。 ディザパターン、マスクパターンの適用方法を示す模式図である。 実施形態におけるマスクパターン部分を示す模式図である。 ディザパターン、マスクパターンの適用方法を示す模式図である。 記録許容比率の分布を説明するための模式図である。 実施形態における量子化処理の過程を示す図である。 実施形態における量子化処理を説明するための図である。 実施形態におけるディザパターンを示す模式図である。 実施形態における量子化処理を説明するための図である。 実施形態における分配処理を説明するための図である。 実施形態における分配処理を説明するための図である。 実施形態におけるマスクパターンを示す模式図である。

以下に図面を参照し、本発明の第１の実施形態について詳細に説明する。

（第１の実施形態）
図１は本実施形態に係るインクジェット記録装置（以下、プリンタとも称する）の外観を示している。これはいわゆるシリアル走査型のプリンタであり、記録媒体３の搬送方向（Ｙ方向）に対して直交する交差方向（Ｘ方向）に記録ヘッドを相対的に走査して画像を記録するものである。

図１を用いてこのインクジェット記録装置の構成および記録時の動作の概略を説明する。まず不図示の搬送モータによりギヤを介して駆動される搬送ローラによって記録媒体３を保持しているスプール６より記録媒体３がＹ方向に搬送される。一方、所定の搬送位置において不図示のキャリッジモータによりキャリッジユニット２をＸ方向に延在するガイドシャフト８に沿って走査させる。そして、この走査の過程で、エンコーダ７によって得られる位置信号に基づいたタイミングでキャリッジユニット２に装着可能な記録ヘッド（後述）の吐出口から吐出動作を行わせ、吐出口の配列範囲に対応した一定のバンド幅を記録する。本実施形態においては、走査速度４０インチ毎秒で走査し、６００ｄｐｉ（１／６００ｉｎｃｈ）の解像度で吐出動作を行う構成とした。その後、記録媒体３の搬送を行い、さらに次のバンド幅について記録を行う構成となっている。

なお、キャリッジモータからキャリッジユニット２への駆動力の伝達には、キャリッジベルトを用いることができる。しかしキャリッジベルトの代わりに、例えばキャリッジモータにより回転駆動され、Ｘ方向に延在するリードスクリュと、キャリッジユニット２に設けられ、リードスクリュの溝に係合する係合部とを具えたものなど、他の駆動方式を用いることも可能である。

送給された記録媒体３は、給紙ローラとピンチローラとに挟持搬送されて、プラテン４上の記録位置（記録ヘッドの主走査領域）に導かれる。通常休止状態では記録ヘッドのフェイス面にはキャッピングが施されているため、記録に先立ってキャップを開放して記録ヘッドないしキャリッジユニット２を走査可能状態にする。その後、１走査分のデータがバッファに蓄積されたらキャッリッジモータによりキャリッジユニット２を走査させ、上述のように記録を行う。

ここで、記録ヘッドに対しては、吐出駆動のための駆動パルスやヘッド温調用信号などを供給するためのフレキシブル配線基板１９０が取り付けられている。フレキシブル基板の他端は、本プリンタの制御を実行するＣＰＵ等の制御回路を備えた制御部（不図示）に接続されている。

図３は本実施形態で使用する記録ヘッドを示す。

記録ヘッド７は、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、フォトマゼンタ（Ｐｍ）、シアン（Ｃ）、フォトシアン（Ｐｃ）、ブラック（Ｂｋ）、グレイ（Ｇｙ）、フォトグレイ（Ｐｇｙ）、レッド（Ｒ）、ブルー（Ｂ）、記録面の保護や光沢の均一性向上等の着色以外の目的を有する処理液（Ｐ）の各インクをそれぞれ吐出可能な１１個の吐出口列２２Ｙ、２２Ｍ、２２Ｐｍ、２２Ｃ、２２Ｐｃ、２２Ｂｋ、２２Ｇｙ、２２Ｐｇｙ、２２Ｒ、２２Ｂ、２２Ｐ（以下、これらの吐出口列のうちの１つの吐出口列を吐出口列２２とも称する）がこの順にＸ方向に並んで配置されることにより構成される。これらの吐出口列２２は、それぞれのインクを吐出する７６８個の吐出口（以下、ノズルとも称する）３０が１２００ｄｐｉの密度でＹ方向（所定方向）に配列されることで構成されている。なお、Ｙ方向に互いに隣接する位置にある吐出口３０同士はＸ方向に互いにずれた位置に配置される。ここで、本実施形態における一つの吐出口３０から一度に吐出されるインクの吐出量は約４．５ｎｇである。

なお、以下の説明では簡単のため、各吐出口列２２内の７６８個の吐出口のうちの最もＹ方向上流側に位置する吐出口３０をｎ１と称する。また、ｎ１とＹ方向下流側に隣接する吐出口３０をｎ２と称する。更に、ｎ２とＹ方向下流側に隣接する吐出口をｎ３と称する。同様にして各吐出口をｎ４〜ｎ７６８と称する。各吐出口列２２内の７６８個の吐出口のうちの最もＹ方向下流側に位置する吐出口３０はｎ７６８となる。

これらの吐出口列２２は、それぞれ対応するインクを貯蔵する不図示のインクタンクに接続され、インクの供給が行われる。なお、本実施形態にて用いる記録ヘッド７とインクタンクは一体的に構成されるものでも良いし、それぞれが分離可能な構成のものでも良い。

図４は、本実施形態における制御系の概略構成を示すブロック図である。主制御部３００は、演算、選択、判別、制御などの処理動作を実行するＣＰＵ３０１と、ＣＰＵ３０１によって実行すべき制御プログラム等を格納するＲＯＭ３０２と、記録データのバッファ等として用いられるＲＡＭ３０３、および入出力ポート３０４等を備えている。メモリ３１３には、後述する画像データやマスクパターン、吐出不良ノズルデータ等が格納されている。そして、入出力ポート３０４には、搬送モータ（ＬＦモータ）３０９、キャリッジモータ（ＣＲモータ）３１０、記録ヘッド７及び切断ユニットにおけるアクチュエータなどの各駆動回路３０５、３０６、３０７、３０８が接続されている。さらに、主制御部３００はインターフェイス回路３１１を介してホストコンピュータであるＰＣ３１２に接続されている。

（マルチパス記録方式）
本実施形態では、記録媒体上の単位領域に対して記録ヘッドを複数回走査させることで記録を行う、所謂マルチパス記録方式に従って画像を形成する。

図５は本実施形態で実行するマルチパス記録方式について説明するための図である。

インクを吐出する吐出口列２２に設けられたそれぞれの吐出口３０は、Ｙ方向に沿って４つの吐出口群２０１、２０２、２０３、２０４に分割される。ここで、吐出口群２０１、２０２、２０３、２０４それぞれのＹ方向における長さは、吐出口列２２のＹ方向における長さをＬとした場合、Ｌ／４となる。

本実施形態で用いる吐出口列２２は、図３に示したように７６８個の吐出口３０を有している。したがって、１つの吐出口群には１９２（＝７６８÷４）個の吐出口が属している。詳細には、吐出口群２０１にはｎ１〜ｎ１９２の吐出口が、吐出口群２０２にはｎ１９３〜ｎ３８４の吐出口が、吐出口群２０３にはｎ３８５〜ｎ５７６の吐出口が、吐出口群２０４にはｎ５７７〜ｎ７６８の吐出口が、それぞれ属している。

１回目の記録走査（１パス）では、記録媒体３上の単位領域２１１に対して吐出口群２０１からインクが吐出され、記録媒体上にドットが形成される。

次に、記録媒体３を記録ヘッド７に対してＹ方向の上流側から下流側に１つの吐出口群のＹ方向における幅に対応する距離だけ相対的に搬送する。

この後に２回目の記録走査を行う。２回目の記録走査（２パス）では、記録媒体上の単位領域２１１に対しては吐出口群２０２から、単位領域２１２に対しては吐出口群２０１からインクが吐出される。

以下、記録ヘッド７の記録走査と記録媒体３の相対的な搬送を交互に繰り返す。この結果、４回目の記録走査（４パス）が行われた後には、記録媒体３上の単位領域２１１では吐出口群２０１〜２０４のそれぞれから１回ずつインクが吐出されたことになる。

なお、ここでは４回の走査で記録を行う場合について説明したが、他の回数だけ走査を行って記録する場合であっても同様の過程によって記録を行うことができる。

（データの処理過程）
図６は本実施形態における制御プログラムにしたがってＣＰＵが実行する記録に用いられる記録データ生成処理のフローチャートである。

まず、ステップＳ４０１にてインクジェット記録装置１０００はホストコンピュータであるＰＣ３１２から入力されたＲＧＢ形式の入力データを取得する。

次に、ステップＳ４０２では、ＲＧＢ形式の入力データを記録に用いるインクの色に対応する多値データに変換する色変換処理を行う。この色変換処理により、複数の画素領域からなる画素領域群それぞれにおける階調を定める８ビット２５６値の情報によって表される多値データが生成される。

次に、ステップＳ４０３では後述する量子化パターンを用いて多値データを量子化する量子化処理を行う。この量子化処理により、各画素領域に対するインクの吐出または非吐出を定める１ビット２値の情報により表される量子化データが生成される。

そして、ステップＳ４０４では後述するマスクパターンを用いて量子化データを複数回の走査に分配する分配処理を行う。この分配処理により、複数回の走査それぞれにおける各画素領域に対するインクの吐出または非吐出を定める１ビット２値の情報により表される記録データが生成される。

なお、量子化処理（Ｓ４０５）までをＰＣ３１２に、分配処理（Ｓ４０４）をインクジェット記録装置１０００に行わせるようにしても良い。

（ディザパターン）
図７（ａ）は本実施形態における量子化処理で用いる量子化パターン８０を示す模式図である。また、図７（ｂ）は図７（ａ）に示す量子化パターンのうちのある領域８０ａの拡大図である。なお、本実施形態では量子化パターンとして複数の画素領域それぞれに対するインクの吐出または非吐出を決定するための閾値が定められたディザパターンを用いる。

図７（ａ）に示すように、本実施形態で用いるディザパターン８０は、Ｘ方向に１２８画素、Ｙ方向に１２８画素の大きさを有している。これらの１２８×１２８個の画素それぞれに対し、図７（ｂ）の拡大図に示すように、１〜２５５までの２５５個のいずれかの値がその画素における閾値として定められている。

本実施形態におけるステップＳ４０３における量子化処理では、ある画素における多値データが示す階調値と、対応する画素におけるディザパターン８０が示す閾値と、を比較し、階調値が閾値以上である場合にはその画素に対してインクの吐出を定め、階調値が閾値未満である場合にはその画素に対してインクの非吐出を定める量子化データを生成する。

ここで、図７に示すディザパターンは、多値データが示す０〜２５５の２５６値の階調値に応じて２５６段階のインクの吐出量を再現可能なように、１２８×１２８個の画素に対する閾値が定められている。例えば、量子化パターン８０と対応する１２８×１２８個の画素のすべてに対して６４（＝２５６÷４）の階調値を有する多値データが入力された場合、約４０９６（＝１２８×１２８÷４）個の画素に対してインクの吐出を定めるような量子化データを生成するように、各閾値が定められている。すなわち、図７（ａ）に示すディザパターン８０は６４以下の閾値が定められた画素が約４０９６個となるように定められている。また、例えば量子化パターン８０と対応する１２８×１２８個の画素のすべてに対して１２８（＝２５６÷２）の階調値を有する多値データが入力された場合、約８１９２（＝１２８×１２８÷２）個の画素に対してインクの吐出を定めるような量子化データを生成するように、各閾値が定められている。すなわち、図７（ａ）に示すディザパターン８０は１２８以下の閾値が定められた画素が約８１９２個となるように定められている。これらのことを言い換えると、ディザパターン８０内には１〜２５５それぞれの閾値が定められた画素が互いにほぼ同じ数となるように定められている。

なお、上記のディザパターンは本実施形態を適用できるディザパターンのうちの一例であり、他の要素を鑑みて適宜異なるディザパターンを設定することができる。

（マスクパターン）
図８（ａ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する１回目の走査に対応するマスクパターン８１を示す模式図である。また、図８（ａ２）はマスクパターン８１のうちのある領域８１ａの拡大図である。

また、図８（ｂ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する２回目の走査に対応するマスクパターン８２を示す模式図である。また、図８（ｂ２）はマスクパターン８２のうちのある領域８２ａの拡大図である。

また、図８（ｃ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する３回目の走査に対応するマスクパターン８３を示す模式図である。また、図８（ｃ２）はマスクパターン８３のうちのある領域８３ａの拡大図である。

また、図８（ｄ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する４回目の走査に対応するマスクパターン８４を示す模式図である。また、図８（ｄ２）はマスクパターン８４のうちのある領域８４ａの拡大図である。

図８（ａ１）、（ｂ１）、（ｃ１）、（ｄ１）に示すように、本実施形態で用いるマスクパターン８１〜８４は、それぞれＸ方向に１２８画素、Ｙ方向に１２８画素の大きさを有している。これは、本実施形態で用いるディザパターン８０の大きさと同じである。これらの１２８×１２８個の画素のそれぞれに対し、図８（ａ２）、（ｂ２）、（ｃ２）、（ｄ２）の拡大図に示すように、それぞれの画素に対する記録の許容または非許容が定められている。なお、図８（ａ２）、（ｂ２）、（ｃ２）、（ｄ２）のうち、黒く塗り潰された画素がインクの吐出を許容する記録許容画素を、白抜けで示された画素がインクの吐出を許容しない非記録許容画素をそれぞれ示している。

本実施形態におけるステップＳ４０４における分配処理では、ある画素における量子化データが定めるインクの吐出／非吐出と、対応する画素におけるマスクパターン８１〜８４それぞれが定めるインクの吐出の許容／非許容と、に基づいて記録データを生成する。詳細には、ある画素において量子化データがインクの吐出を定めており、且つ、マスクパターンがインクの吐出の許容を定めている場合にそのマスクパターンに対応する走査においてその画素に対してインクを吐出するような記録データを生成する。一方、ある画素において量子化データがインクの吐出を定めており、且つ、マスクパターンがインクの吐出の非許容を定めている場合には、そのマスクパターンに対応する走査においてその画素に対してインクを吐出しないような記録データを生成する。また、ある画素において量子化データがインクの非吐出を定めている場合、マスクパターンが定めるインクの吐出の許容／非許容に関わらず、インクを吐出しないような記録データを生成する。

ここで、図８に示すマスクパターン８１〜８４は、互いに補完的且つ排他的な位置に記録許容画素が配置されている。すなわち、各画素に対し、４つのマスクパターン８１〜８４のうちのいずれか１つのマスクパターンではインクの吐出の許容が定められ、且つ、他の３つのマスクパターンではインクの吐出の非許容が定められている。これにより、例えばマスクパターン８１〜８４と対応する１２８×１２８個の画素のすべてに対してインクの吐出を定めた量子化データが入力された場合、それぞれの画素領域に対して１〜４回目の走査のうちのいずれか１回の走査においてインクを吐出することが可能となる。

また、図８に示すマスクパターン８１〜８４は、互いにほぼ同じ数の記録許容画素が定められている。これにより、例えばマスクパターン８１〜８４と対応する１２８×１２８個の画素のすべてに対してインクの吐出を定めた量子化データが入力された場合、１〜４回目の走査それぞれにおけるインクの吐出回数をほぼ同じ回数とすることができる。

以上の構成から、図８に示すマスクパターン８１〜８４それぞれは、記録許容画素の数と非記録許容画素の数の和に対する記録許容画素の数の比率で定義される記録許容比率はいずれも２５％に定められていることがわかる。

なお、上記のマスクパターンは本実施形態を適用できるマスクパターンのうちの一例であり、他の要素を鑑みて適宜異なるマスクパターンを設定することができる。

（ディザパターンとマスクパターンの同期）
本実施形態で使用するディザパターン８０とマスクパターン８１〜８４のそれぞれは、互いに対応付けて定められている。なお、以降の説明ではディザパターンとマスクパターンを互いに対応付けて定めることをディザパターンとマスクパターンの同期とも称する。

詳細には、本実施形態では、２５％の階調値である６４（＝２５６×０．２５）の階調値を定める多値データに対してディザパターン８０を用いて量子化し、生成された量子化データをマスクパターン８１を用いて１回目の走査に分配した場合、生成された１回目の走査に対応する記録データが示すインクの吐出を定めた画素の分散性がある程度高くなるように、ディザパターン８０とマスクパターン８１が互いに対応付けられて定められている。すなわち、図１（ｂ−１）に示したようなインクの吐出を定めた画素に空間的な偏りが目立つような画像を示す記録データではなく、図１（ｃ−１）に示したようなインクの吐出を定めた画素が空間的に均等に生じるような画像を示す記録データを生成できるように、ディザパターン８０とマスクパターン８１が定められている。

更に、本実施形態では、５０％の階調値である１２８（＝２５６×０．５）の階調値を定める多値データ、７５％の階調値である１９２（＝２５６×０．７５）の階調値を定める多値データ、１００％の階調値である２５６（＝２５６×１）の階調値を定める多値データのそれぞれが入力された場合においても同様に、生成された１回目の走査に対応する記録データが示すインクの吐出を定めた画素の分散性がある程度高くなるように、ディザパターン８０とマスクパターン８１が互いに対応付けられて定められている。

ここで、分散の程度としては、記録データに基づくドットの配置がホワイトノイズ特性とならないようにディザパターン８０とマスクパターン８１が定められていることが好ましい。また、記録データに基づくドットの配置がブルーノイズ特性となるようにディザパターン８０とマスクパターン８１が定められていることが更に好ましい。

また、ここでは１回目の走査に対応するマスクパターン８１とディザパターン８０の同期について説明したが、２回目の走査に対応するマスクパターン８２、３回目の走査に対応するマスクパターン８３、４回目の走査に対応するマスクパターン８４のそれぞれについても同様にして、ディザパターン８０との同期が行われている。

したがって、本実施形態で用いるディザパターン８０と、マスクパターン８１〜８４のそれぞれと、は、２５％、５０％、７５％、１００％の各階調において互いに対応付けて定められていることとなる。

なお、本実施形態における対応付けはマスクパターンのデータの作成時においてなされる。例えば、まず、階調データと比較するための閾値が配置されたディザパターンを用意する。そして、このディザパターンの各画素の閾値を考慮し、各走査で形成される画素が各パス単独で見た場合に上述した分散の状態となるように、マスクパターンを定めるのである。

具体的には、ディザパターンの各画素の閾値を考慮しながら、各走査において、単位領域内の位置への画素形成を許可とする位置を決定する。あるいは各位置へ形成することを許可とするドットの個数を決定するのである。

例えば、あるディザパターンを既定のものとし、ある１回の走査に対応するマスクパターンにおいて所定の位置へのドット形成画素を決定する。そして、次は残りの位置において、さらにドット形成画素を決定するわけであるが、このときは、先に形成した所定の位置のドットにさらにドットが加えられた場合の分散性が最も高くなる位置を、次のドット形成位置とするのである。分散性の評価は所定の条件でおこなえばよい。

また、ここではディザパターンを既定のものとして説明したが、マスクパターンを既定のものとして、ディザパターンの閾値を順次決定していく際に、各階調において形成され得るドットとマスクパターンとの論理積から得られる量子化データを評価し、閾値を決定していってもよい。

（ディザパターンとマスクパターンの適用方法）
図７、図８に示すように、本実施形態におけるディザパターン８０とマスクパターン８１〜８４はそれぞれＹ方向に１２８画素の大きさを有している。

一方で、図５に示すように、本実施形態におけるマルチパス記録方式では１回当たりの搬送量が１９２画素に相当する長さとなるように搬送する。

ここで、搬送量（１９２画素）はマスクパターン８１〜８４それぞれのＹ方向における長さ（１２８画素）の整数倍となっていないことがわかる。詳細には、搬送量はマスクパターン８１〜８４それぞれの長さの１．５（＝１９２／１２８）倍となっている。

ここで、例えば図５に示す１回目の走査において吐出口群２０１内の１２８個の吐出口であるｎ１９２〜ｎ６５に対して図８（ａ１）に示すマスクパターン８１を適用した場合、吐出口群２０１内の他の吐出口であるｎ６４〜ｎ１に対してはマスクパターン８１を適用することができなくなってしまう。すなわち、他の吐出口であるｎ６４〜ｎ１は６４画素分しかないため、Ｙ方向に１２８画素の大きさからなるマスクパターン８１を適用することができないためである。

そこで、本実施形態では図８に示したようなディザパターンとマスクパターンの同期を行って設定されたマスクパターン８１〜８４それぞれをＹ方向に複数に分割した複数のマスクパターン部分を用いる。

詳細には、本実施形態では、搬送量が複数のマスクパターン部分それぞれのＹ方向における長さの整数倍となるように、マスクパターン８１〜８４を分割する。ここでは搬送量が１９２画素であるため、例として複数のマスクパターン部分それぞれのＹ方向における長さが６４（＝１９２／３）画素となるようにマスクパターン８１〜８４を分割する。

図９（ａ）は本実施形態におけるマスクパターン部分を示す図である。なお、以下の説明では簡単のため、マスクパターン８１、８２、８３、８４をそれぞれマスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄとも称する。また、図９（ｂ）は本実施形態におけるディザパターン部分を模式的に示す図である。以下の説明では簡単のため、ディザパターン８０をディザパターンＱとも称する。

本実施形態では図８に示すマスクパターンＡ〜ＤそれぞれをＹ方向に２分割することによりマスクパターン部分を得る。

例えば、１回目の走査に対応するマスクパターンＡはＹ方向下流側（の画素）に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ１と、Ｙ方向上流側（の画素）に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ２とに分割される。

また、２回目の走査に対応するマスクパターンＢはＹ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ２とに分割される。

また、３回目の走査に対応するマスクパターンＣはＹ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｃ１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｃ２とに分割される。

また、４回目の走査に対応するマスクパターンＤはＹ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｄ１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｄ２とに分割される。

なお、マスクパターン部分Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１のそれぞれにおける上述の記録許容比率がいずれも２５％となるように、マスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄが定められている。同様に、マスクパターン部分Ａ２、Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２それぞれにおいても記録許容比率がいずれも２５％となるように、マスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄが定められている。

ここで、マスクパターン部分Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１はディザパターンＱ内のＹ方向下流側に位置するディザパターン部分Ｑ１と同期されて設定された領域である。したがって、量子化データのうちのディザパターン部分Ｑ１によって量子化された量子化データに対しては、マスクパターン部分Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１を用いて分配処理を行うことによりインクの吐出が定められた画素が高分散となるような記録データを生成することができる。

一方、マスクパターン部分Ａ２、Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２はディザパターンＱ内のＹ方向上流側に位置するディザパターン部分Ｑ２と同期されて設定された領域である。したがって、量子化データのうちのディザパターン部分Ｑ２によって量子化された量子化データに対しては、マスクパターン部分Ａ２、Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２を用いて分配処理を行うことによりインクの吐出が定められた画素が高分散となるような記録データを生成することができる。

つまり、ディザパターンとマスクパターンは１走査相当の領域単位のみならず、Ｙ方向に位置が異なる２つの領域それぞれで１走査領域と同等の対応付けが行われている。

本実施形態では、図５に示すマルチパス記録方式において、図７に示すディザパターン、図８に示すマスクパターン、図９に示すマスクパターン部分を用いて生成された記録データにしたがって記録を行う。

図１０は本実施形態におけるＣＰＵが行う記録データの生成過程を示す模式図である。なお、以下の説明では簡単のため、Ｘ方向上流側から１画素目〜１２８画素目に位置する多値データのみについて記載する。

本実施形態における量子化処理Ｓ４０３では、Ｙ方向下流側（画像の上側）およびＸ方向上流側（画像の左側）から図７に示すディザパターンを順次繰り返して適用することにより量子化を行う。例えば、図１０に模式的に示すように、多値データのＹ方向下流側から１画素目〜１２８画素目、Ｘ方向上流側から１画素目〜１２８画素目の領域に対して１つのディザパターンＱを用いて量子化される。また、Ｙ方向下流側から１２９画素目〜２５６画素目、Ｘ方向上流側から１画素目〜１２８画素目の領域に対して１つのディザパターンＱを用いて量子化される。また、Ｙ方向下流側から２５７画素目〜３８４画素目、Ｘ方向上流側から１画素目〜１２８画素目の領域に対して１つのディザパターンＱを用いて量子化される。

このように、本実施形態では単位領域２１１〜２１４の大きさに関わらず順次ディザパターンＱを使用して量子化を行う。したがって、１つのディザパターンＱを用いて量子化が行われた領域が２つの単位領域内にまたがるように記録が行われる場合がある。例えば、Ｙ方向下流側から１２９画素目〜１９２画素目の領域と、１９３画素目〜２５６画素目の領域と、は同じディザパターンＱを用いて量子化が行われた領域であるにも関わらず、互いに異なる単位領域に属している。

次に、分配処理Ｓ４０４では、ディザパターンＱ内のすべての領域を用いて量子化された量子化データに対してはマスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄのいずれかを用いて各走査への分配を行う。一方、ディザパターンＱ内の一部の領域（ディザパターン部分Ｑ１、Ｑ２）を用い、他部の領域を用いずに量子化された量子化データに対しては、当該一部の領域に対応するマスクパターン部分Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、Ｃ１、Ｃ２、Ｄ１、Ｄ２のいずれかを用いて各走査への分配を行う。

例えば、量子化データのＹ方向下流側から１画素目〜１９２画素目の領域は記録媒体上の１つの単位領域２１１に記録される画像に対応する。なお、図５からわかるように、単位領域２１１は１パス目（単位領域２１１に対する１回目の走査）にてｎ１〜ｎ１９２からなる吐出口群２０１に、２パス目（単位領域２１１に対する２回目の走査）にてｎ１９３〜ｎ３８４からなる吐出口群２０２に、３パス目（単位領域２１１に対する３回目の走査）にてｎ３８５〜ｎ５７６からなる吐出口群２０３に、４パス目（単位領域２１１に対する４回目の走査）にてｎ５７７〜ｎ７６８からなる吐出口群２０４によって記録が行われる領域である。

ここで、量子化データのＹ方向下流側から１画素目〜１９２画素目に対応する領域のうち、Ｙ方向下流側から１画素目〜１２８画素目の領域（所定領域）はディザパターンＱのすべての領域を用いて量子化が実行された領域である。

したがって、量子化データのうちのＹ方向下流側から１画素目〜１２８画素目の領域に対しては、図８に示すマスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄを用いて分配処理が実行される。

一方、量子化データのＹ方向下流側から１画素目〜１９２画素目に対応する領域のうちのＹ方向下流側から１２９画素目〜１９２画素目の領域は、ディザパターンＱ内（量子化パターン内）の一部の領域を使用し、且つ、他部の領域は用いずに量子化が行われた領域である。詳細には、図１０からわかるように、量子化データのＹ方向下流側から１２９画素目〜１９２画素目の領域はディザパターンＱのＹ方向下流側の半分の領域、すなわち図９（ｂ）に模式的に示すディザパターン部分Ｑ１によって量子化が行われた領域である。

したがって、量子化データのＹ方向下流側から１２９画素目〜１９２画素目の領域に対しては、ディザパターン部分Ｑ１に対応する図９（ａ）に示すマスクパターン部分Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１を用いて分配処理が実行される。

次に、量子化データのＹ方向下流側から１９３画素目〜３８４画素目の領域は、記録媒体上の１つの単位領域２１２に記録される画像に対応する。なお、図５からわかるように、単位領域２１２は２パス目（単位領域２１２に対する１回目の走査）にてｎ１〜ｎ１９２からなる吐出口群２０１に、３パス目（単位領域２１２に対する２回目の走査）にてｎ１９３〜ｎ３８４からなる吐出口群２０２に、４パス目（単位領域２１２に対する３回目の走査）にてｎ３８５〜ｎ５７６からなる吐出口群２０３に、５パス目（単位領域２１２に対する４回目の走査）にてｎ５７７〜ｎ７６８からなる吐出口群２０４によって記録が行われる領域である。

ここで、量子化データのＹ方向下流側から１９３画素目〜３８４画素目の領域のうち、Ｙ方向下流側から１９３画素目〜２５６画素目の領域は、ディザパターンＱの一部の領域を使用し、且つ、他部の領域は用いずに量子化が行われた領域である。詳細には、図１０からわかるように、量子化データのＹ方向下流側から１９３画素目〜２５６画素目の領域はディザパターンＱのＹ方向上流側の半分の領域、すなわち図９（ｂ）に模式的に示すディザパターンＱ２によって量子化が行われた領域である。

したがって、量子化データのＹ方向上流側から１９３画素目〜２５６画素目の領域に対しては、ディザパターン部分Ｑ２に対応する図９（ａ）に示すマスクパターンＡ２、Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２を用いて分配処理が実行される。

一方、量子化データのＹ方向下流側から１９３画素目〜３８４画素目の領域のうち、Ｙ方向下流側から２５７画素目〜３８４画素目の領域は、ディザパターンＱのすべての領域を用いて量子化が実行された領域である。

したがって、量子化データのうちのＹ方向下流側から２５７画素目〜３８４画素目の領域に対しては、図８に示すマスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄを用いて分配処理が実行される。

以下、同様にして各単位領域に対する分配処理を実行する。すなわち、ディザパターンＱ内のすべての領域を用いて量子化された量子化データに対してはマスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄの組を用いて各走査への分配を行う。一方、ディザパターンＱ内の一部の領域であるディザパターン部分Ｑ１を用い、他部の領域であるディザパターン部分Ｑ２を用いずに量子化された量子化データに対しては、ディザパターンＱ１に対応するマスクパターン部分Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１の組を用いて各走査への分配を行う。更に、ディザパターンＱ内の一部の領域であるディザパターン部分Ｑ２を用い、他部の領域であるディザパターン部分Ｑ１を用いずに量子化された量子化データに対しては、ディザパターンＱ２に対応するマスクパターン部分Ａ２、Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２の組を用いて各走査への分配を行う。

なお、上記形態ではメモリにマスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄを格納し、ここからマスクパターン部分Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、Ｃ１、Ｃ２、Ｄ１、Ｄ２を生成する形態について記載したが、他の形態による実施も可能である。例えば、マスクパターン部分Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、Ｃ１、Ｃ２、Ｄ１、Ｄ２そのものをメモリに予め格納し、これらを用いるような形態であっても良い。

以上の構成によれば、記録媒体の搬送量と相関を持たせることなくディザパターンを設定することができるため、ディザパターンの設定の際の自由度を低下させることがない。更に、ディザパターン内の一部の領域を用い、他部の領域は用いずに量子化された量子化データに対しては、その一部の領域と対応付けられたマスクパターン部分を適用する。したがって、空間的な偏りが小さい、すなわち分散性が高い記録データを生成することが可能となる。

（第２の実施形態）
上述の第１の実施形態では、１枚の記録媒体に対する記録において搬送量が一定である形態について記載した。

これに対し、本実施形態では記録媒体内の記録を行う領域に応じて搬送量を異ならせる形態について記載する。

なお、以下は第１の実施形態と異なる点を記載し、その他の第１の実施形態と同様の部分については説明を省略する。

図１１は本実施形態で実行するマルチパス記録方式について説明するための図である。

本実施形態では、記録媒体に対するｋ（ｋは自然数）回目の走査までは図５に示した第１の実施形態におけるマルチパス記録方式と同様に、単位領域に対する４回の走査のそれぞれにおいて吐出口群２０１〜２０４それぞれからのインクの吐出と、記録媒体のＹ方向への１９２画素分の搬送量（第１の搬送量）の搬送と、を繰り返して記録を行う。そして、ｋ＋１回目の走査からは第１の搬送量よりも短い９６画素分の搬送量（第２の搬送量）の搬送に変更して記録を行う。

以下に本実施形態におけるｋ＋１回目の走査以降におけるマルチパス記録方式について詳細に説明する。

吐出口列２２に設けられたそれぞれの吐出口３０は、Ｙ方向に沿って８つの吐出口群２２１、２２２、２２３、２２４、２２５、２２６、２２７、２２８に分割される。ここで、吐出口群２２１〜２２８それぞれのＹ方向における長さは、吐出口列２２のＹ方向における長さをＬとした場合、Ｌ／８となる。

本実施形態で用いる吐出口列２２は、図３に示したように７６８個の吐出口３０を有している。したがって、１つの吐出口群には９６（＝７６８÷８）個の吐出口が属している。詳細には、吐出口群２２１にはｎ１〜ｎ９６の吐出口が、吐出口群２２２にはｎ９７〜ｎ１９２の吐出口が、吐出口群２２３にはｎ１９３〜ｎ２８８の吐出口が、吐出口群２２４にはｎ２８９〜ｎ３８４の吐出口が、それぞれ属している。更に、吐出口群２２５にはｎ３８５〜ｎ４８０の吐出口が、吐出口群２２６にはｎ４８１〜ｎ５７６の吐出口が、吐出口群２２７にはｎ５７７〜ｎ６７２の吐出口が、吐出口群２２８にはｎ６７３〜ｎ７６８の吐出口が、それぞれ属している。

ｋ回目の記録走査（ｋパス）では、記録媒体３上の単位領域２３１に対して吐出口群２２１、２２２からインクが吐出される。

次に、記録媒体３を記録ヘッド７に対してＹ方向の上流側から下流側に吐出口群２２１〜２２８の１つのＹ方向における幅に対応する距離（９６画素分）だけ相対的に搬送する。

この後にｋ＋２回目の記録走査（ｋ＋２パス）を行う。ｋ＋２回目の記録走査では、記録媒体上の単位領域２３１に対しては吐出口群２２２、２２３からインクが吐出される。一方、単位領域２３２に対しては吐出口群２２１からインクが吐出されることとなる。ここからわかるように、単位領域２３１は２つの吐出口群のＹ方向における幅に対応する大きさ（１９２画素分）を有する一方で、単位領域２３２は１つの吐出口群のＹ方向における幅に対応する大きさ（９６画素分）を有することとなる。

次に、記録媒体３を記録ヘッド７に対してＹ方向の上流側から下流側に吐出口群２２１〜２２８の１つのＹ方向における幅に対応する距離（９６画素分）だけ相対的に搬送する。

その後、ｋ＋３回目の記録走査（ｋ＋３パス）において、記録媒体上の単位領域２３１に対して吐出口群２２３、２２４からインクが吐出される。また、単位領域２３２に対しては吐出口群２２２から、単位領域２３３には吐出口群２２１からそれぞれインクが吐出される。

以下、記録ヘッド７の記録走査と記録媒体３の９６画素分の搬送を交互に繰り返す。

この結果、単位領域２３１には、ｋ＋４パス目が終了した段階でｋ＋１パス目における吐出口群２２１、２２２からの吐出、ｋ＋２パス目における吐出口群２２２、２２３からの吐出、ｋ＋３パス目における吐出口群２２３、２２４からの吐出、ｋ＋４パス目における吐出口群２２４、２２５からの吐出と、合計で４回インクが吐出され、単位領域２３１に対する記録が終了する。

また、単位領域２３２には、ｋ＋５パス目が終了した段階でｋ＋２パス目における吐出口群２２２からの吐出、ｋ＋３パス目における吐出口群２２３からの吐出、ｋ＋４パス目における吐出口群２２４からの吐出、ｋ＋５パス目における吐出口群２２５からの吐出と、合計で４回インクが吐出され、単位領域２３２に対する記録が終了する。

このように、本実施形態によれば、ｋ＋１パス目の走査までに記録が終了する単位領域、すなわち単位領域２３１よりもＹ方向下流側に位置する単位領域（不図示）に対しては比較的長い搬送量（１９２画素分）を伴って記録を行う。一方、単位領域２３２よりもＹ方向上流側に位置する単位領域２３３、２３４、２３５に対しては比較的短い搬送量（９６画素分）を伴って記録を行う。

このように記録する領域に応じて搬送量を異ならせることにより、種々の効果を得ることができる。

なお、ここでは例として比較的長い搬送量での搬送を伴った記録を行った後、比較的短い搬送量での搬送を伴った記録を行う形態について記載したが、１枚の記録媒体に対する複数通りの搬送量の搬送を伴った記録を行う形態であれば本実施形態を適用することができる。例えば、一般に画像を記録する際に記録媒体上の搬送方向（Ｙ方向）における上流側の端部領域と下流側の端部領域において記録媒体の搬送のずれが生じ易いことが知られている。このような場合、上流側の端部や下流側の端部を記録する際に搬送量を短くすることにより、搬送のずれが生じたとしても搬送量自体が短いため搬送のずれの影響を小さくすることができる。一方で、搬送のずれが生じにくい搬送方向（Ｙ方向）の中央部に記録する際には、搬送量を長くすることにより記録に掛かる時間を短くすることが可能となる。したがって、上述のような場合には記録開始直後の記録媒体のＹ方向下流側端部を記録する際には搬送量を短く、その後の記録媒体のＹ方向中央部を記録する際には搬送量を長く、記録終了直前の記録媒体のＹ方向上流側端部を記録する際には再度搬送量が短くなるように制御すれば良い。このような形態においても、以下に説明する本実施形態を適用することが可能である。

（ディザパターンとマスクパターンの適用方法）
本実施形態では、第１の実施形態と同様に、それぞれＹ方向に１２８画素の大きさを有する図７、図８に示すディザパターン８０とマスクパターン８１〜８４を用いて記録データを生成する。

図７、図８に示すように、本実施形態におけるディザパターン８０とマスクパターン８１〜８４はそれぞれＹ方向に１２８画素の大きさを有している。

一方で、上述のように、本実施形態では第１の搬送量である１９２画素分の搬送と、第２の搬送量である９６画素分の搬送と、を記録中に切り替えて記録を行う。

ここで、第１の搬送量（１９２画素）、第２の搬送量（９６画素）ともにマスクパターン８１〜８４それぞれのＹ方向における長さ（１２８画素）の整数倍となっていない。そのため、第１の実施形態と同様に、図７、図８に示すディザパターンとマスクパターンを図１１に示すマルチパス記録方式に適用することができない。

そこで、第１の実施形態と同様に、本実施形態においても図８に示したようなディザパターンとマスクパターンの同期を行って設定されたマスクパターン８１〜８４それぞれをＹ方向に複数に分割した複数のマスクパターン部分を用いる。

但し、本実施形態では搬送量として第１の搬送量（１９２画素）と第２の搬送量（９６画素）の２通りの搬送量が存在する。そこで、本実施形態では、第１の搬送量（１９２画素）と第２の搬送量（９６画素）の両方が複数のマスクパターン部分それぞれのＹ方向における長さの整数倍となるように、マスクパターン８１〜８４を分割する。詳細には、本実施形態ではマスクパターン部分のＹ方向における長さが３２画素となるようにマスクパターン８１〜８４を分割する。第１の搬送量（１９２画素）は１つのマスクパターン部分のＹ方向における長さ（３２画素）の６倍、第２の搬送量（９６画素）は１つのマスクパターン部分のＹ方向における長さ（３２画素）の３倍であるため、上記の条件を満たしていることがわかる。

図１２（ａ）は本実施形態におけるマスクパターン部分を示す図である。また、図９（ｂ）は本実施形態におけるディザパターン部分を模式的に示す図である。

本実施形態では、図８に示すマスクパターンＡ〜ＤそれぞれをＹ方向に４分割することによりマスクパターン部分を得る。

例えば、１回目の走査に対応するマスクパターンＡは、Ｙ方向下流側端部に位置し（Ｙ方向下流側のノズルにあてがわれ）、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ１´と、マスクパターン部分Ａ１´に対してＹ方向上流側に隣接し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ２´と、マスクパターン部分Ａ４´に対してＹ方向下流側に隣接し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ３´と、Ｙ方向上流側端部に位置し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ４´と、に分割される。

また、２回目の走査に対応するマスクパターンＢは、Ｙ方向下流側端部に位置し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ１´と、マスクパターン部分Ｂ１´に対してＹ方向上流側に隣接し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ２´と、マスクパターン部分Ｂ４´に対してＹ方向下流側に隣接し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ３´と、Ｙ方向上流側端部に位置し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ４´と、に分割される。

また、３回目の走査に対応するマスクパターンＣは、Ｙ方向下流側端部に位置し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｃ１´と、マスクパターン部分Ｃ１´に対してＹ方向上流側に隣接し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｃ２´と、マスクパターン部分Ｃ４´に対してＹ方向下流側に隣接し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｃ３´と、Ｙ方向上流側端部に位置し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｃ４´と、に分割される。

また、４回目の走査に対応するマスクパターンＤは、Ｙ方向下流側端部に位置し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｄ１´と、マスクパターン部分Ｄ１´に対してＹ方向上流側に隣接し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｄ２´と、マスクパターン部分Ｄ４´に対してＹ方向下流側に隣接し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｄ３´と、Ｙ方向上流側端部に位置し、３２画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｄ４´と、に分割される。

なお、マスクパターン部分Ａ１´、Ｂ１´、Ｃ１´、Ｄ１´のそれぞれにおける上述の記録許容比率がいずれも２５％となるように、マスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄが定められている。同様に、マスクパターン部分Ａ２´、Ｂ２´、Ｃ２´、Ｄ２´それぞれにおいても記録許容比率がいずれも２５％となるように、マスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄが定められている。マスクパターン部分Ａ３´、Ｂ３´、Ｃ３´、Ｄ３´の組、およびマスクパターン部分Ａ４´、Ｂ４´、Ｃ４´、Ｄ４´の組についても同様である。

ここで、マスクパターン部分Ａ１´、Ｂ１´、Ｃ１´、Ｄ１´はディザパターンＱ内のＹ方向下流側端部に位置するディザパターン部分Ｑ１´と同期されて設定された領域である。したがって、量子化データのうちのディザパターン部分Ｑ１´によって量子化された量子化データに対しては、マスクパターン部分Ａ１´、Ｂ１´、Ｃ１´、Ｄ１´を用いて分配処理を行うことによりインクの吐出が定められた画素が高分散な配置となるような記録データを生成することができる。

また、マスクパターン部分Ａ２´、Ｂ２´、Ｃ２´、Ｄ２´はディザパターンＱ内のディザパターン部分Ｑ１´に対してＹ方向上流側に隣接するディザパターン部分Ｑ２´と同期をとるように設定された領域である。したがって、量子化データのうちのディザパターン部分Ｑ２´によって量子化された量子化データに対しては、マスクパターン部分Ａ２´、Ｂ２´、Ｃ２´、Ｄ２´を用いて分配処理を行うことによりインクの吐出が定められた画素が高分散な配置となるような記録データを生成することができる。

また、マスクパターン部分Ａ３´、Ｂ３´、Ｃ３´、Ｄ３´はディザパターンＱ内のディザパターン部分Ｑ４´に対してＹ方向下流側に隣接するディザパターン部分Ｑ３´と同期されて設定された領域である。したがって、量子化データのうちのディザパターン部分Ｑ３´によって量子化された量子化データに対しては、マスクパターン部分Ａ３´、Ｂ３´、Ｃ３´、Ｄ３´を用いて分配処理を行うことによりインクの吐出が定められた画素が高分散となるような記録データを生成することができる。

また、マスクパターン部分Ａ４´、Ｂ４´、Ｃ４´、Ｄ４´はディザパターンＱ内のＹ方向上流側端部に位置するディザパターン部分Ｑ４´と同期されて設定された領域である。したがって、量子化データのうちのディザパターン部分Ｑ４´によって量子化された量子化データに対しては、マスクパターン部分Ａ４´、Ｂ４´、Ｃ４´、Ｄ４´を用いて分配処理を行うことによりインクの吐出が定められた画素が高分散となるような記録データを生成することができる。

本実施形態では、図１１に示すマルチパス記録方式において、図７に示すディザパターン、図８に示すマスクパターン、図１２に示すマスクパターン部分を用いて生成された記録データにしたがって記録を行う。

図１３は本実施形態における記録データの生成過程を示す模式図である。なお、以下の説明では簡単のため、Ｘ方向上流側から１画素目〜１２８画素目に位置する多値データのみについて記載する。

本実施形態における量子化処理Ｓ４０３では、Ｙ方向下流側（画像の上側）およびＸ方向上流側（画像の左側）から図７に示すディザパターンを順次繰り返して適用することにより量子化を行う。例えば、図１３に模式的に示すように、多値データのＹ方向下流側からｊ＋１画素目〜ｊ＋１２８画素目、Ｘ方向上流側からｊ＋１画素目〜ｊ＋１２８画素目の領域に対して１つのディザパターンＱを用いて量子化される。また、Ｙ方向下流側からｊ＋１２９画素目〜ｊ＋２５６画素目、Ｘ方向上流側からｊ＋１画素目〜ｊ＋１２８画素目の領域に対して１つのディザパターンＱを用いて量子化される。また、Ｙ方向下流側からｊ＋２５７画素目〜ｊ＋３８４画素目、Ｘ方向上流側からｊ＋１画素目〜ｊ＋１２８画素目の領域に対して１つのディザパターンＱを用いて量子化される。

このように、本実施形態では単位領域の大きさに関わらず順次ディザパターンＱを使用して量子化を行う。したがって、１つのディザパターンＱを用いて量子化が行われた領域が２つの単位領域内にまたがって形成される場合がある。例えば、Ｙ方向下流側からｊ＋１２９画素目〜ｊ＋１９２画素目の領域と、ｊ＋１９３画素目〜ｊ＋２５６画素目の領域と、は同じディザパターンＱを用いて量子化が行われた領域であるにも関わらず、互いに異なる単位領域２３１、２３２に属している。また、Ｙ方向下流側からｊ＋２５７画素目〜ｊ＋２８８画素目の領域と、ｊ＋２８９画素目〜ｊ＋３８４画素目の領域と、もまた、同じディザパターンＱを用いて量子化が行われた領域であるにも関わらず、互いに異なる単位領域２３２、２３３に属している。

次に、分配処理Ｓ４０４では、ディザパターンＱ内のすべての領域を用いて量子化された量子化データに対してはマスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄのいずれかを用いて各走査への分配を行う。一方、ディザパターンＱ内の一部の領域（ディザパターン部分Ｑ１´、Ｑ２´、Ｑ３´、Ｑ４´）を用い、他部の領域を用いずに量子化された量子化データに対しては、当該一部の領域に対応するマスクパターン部分Ａ１´、Ａ２´、Ａ３´、Ａ４´、Ｂ１´、Ｂ２´、Ｂ３´、Ｂ４´、Ｃ１´、Ｃ２´、Ｃ３´、Ｃ４´、Ｄ１´、Ｄ２´、Ｄ３´、Ｄ４´のいずれかを用いて各走査への分配を行う。

例えば、量子化データにおいてＹ方向下流側から１画素目〜１９２画素目の領域は記録媒体上の１つの単位領域２１１に記録される画像に対応する。なお、図１１からわかるように、単位領域２３１は、ｋ＋１パス目（単位領域２３１に対する１回目の走査）にてｎ１〜ｎ９６からなる吐出口群２２１およびｎ９７〜ｎ１９２からなる吐出口群２２２に、ｋ＋２パス目（単位領域２３１に対する２回目の走査）にてｎ９７〜ｎ１９２からなる吐出口群２２２およびｎ１９３〜ｎ２８８からなる吐出口群２２３に、ｋ＋３パス目（単位領域２３１に対する３回目の走査）にてｎ１９３〜ｎ２８８からなる吐出口群２２３およびｎ２８９〜ｎ３８４からなる吐出口群２２４に、ｋ＋４パス目（単位領域２３１に対する４回目の走査）にてｎ２８９〜ｎ３８４からなる吐出口群２２４およびｎ３８５〜ｎ４８０からなる吐出口群２２５によって記録が行われる領域である。

ここで、量子化データのＹ方向下流側からｊ＋１画素目〜ｊ＋１９２画素目に対応する領域のうち、Ｙ方向下流側からｊ＋１画素目〜ｊ＋１２８画素目の領域はディザパターンＱのすべての領域を用いて量子化が実行された領域である。

したがって、量子化データのうちのＹ方向下流側からｊ＋１画素目〜ｊ＋１２８画素目の領域に対しては、図８に示すマスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄを用いて分配処理が実行される。

一方、量子化データのＹ方向下流側からｊ＋１画素目〜ｊ＋１９２画素目に対応する領域のうちのＹ方向下流側からｊ＋１２９画素目〜ｊ＋１９２画素目の領域は、ディザパターンＱの一部の領域を使用し、且つ、他部の領域は用いずに量子化が行われた領域である。

詳細には、図１３に模式的に示すように、量子化データのＹ方向下流側からｊ＋１２９画素目〜ｊ＋１６０画素目の領域は図１２（ｂ）に模式的に示すディザパターン部分Ｑ１´によって行われた領域である。したがって、量子化データのＹ方向下流側からｊ＋１２９画素目〜ｊ＋１６０画素目の領域に対しては、ディザパターン部分Ｑ１´に対応する図１２（ａ）に示すマスクパターン部分Ａ１´、Ｂ１´、Ｃ１´、Ｄ１´を用いて分配処理が実行される。

また、量子化データのＹ方向下流側からｊ＋１６１画素目〜ｊ＋１９２画素目の領域は図１２（ｂ）に模式的に示すディザパターン部分Ｑ２´によって行われた領域である。したがって、量子化データのＹ方向下流側からｊ＋１６１画素目〜ｊ＋１９２画素目の領域に対しては、ディザパターン部分Ｑ２´に対応する図１２（ａ）に示すマスクパターン部分Ａ２´、Ｂ２´、Ｃ２´、Ｄ２´を用いて分配処理が実行される。

次に、量子化データのＹ方向下流側からｊ＋１９３画素目〜ｊ＋２８８画素目の領域は、記録媒体上の１つの単位領域２３２に記録される画像に対応する。なお、図１１からわかるように、単位領域２３２はｋ＋２パス目（単位領域２３２に対する１回目の走査）にてｎ１〜ｎ９６からなる吐出口群２２１に、ｋ＋３パス目（単位領域２３２に対する２回目の走査）にてｎ９７〜ｎ１９２からなる吐出口群２２２に、ｋ＋４パス目（単位領域２３２に対する３回目の走査）にてｎ１９３〜ｎ２８８からなる吐出口群２２３に、ｋ＋５パス目（単位領域２３２に対する４回目の走査）にてｎ２８９〜ｎ３８４からなる吐出口群２２４によって記録が行われる領域である。

ここで、量子化データのＹ方向下流側からｊ＋１９３画素目〜ｊ＋２８８画素目の領域の中に１つのディザパターンＱのすべての領域を用いて量子化された領域は存在しない。

詳細には、量子化データのＹ方向下流側からｊ＋１９３画素目〜ｊ＋２８８画素目の領域のうち、ｊ＋１９３〜ｊ＋２２４画素目の領域は、図１２（ｂ）に模式的に示すディザパターン部分Ｑ３´によって量子化が行われた領域である。

したがって、量子化データのＹ方向下流側からｊ＋１９３画素目〜ｊ＋２２４画素目の領域に対しては、ディザパターン部分Ｑ３´に対応する図１２（ａ）に示すマスクパターン部分Ａ３´、Ｂ３´、Ｃ３´、Ｄ３´を用いて分配処理が実行される。

また、ｊ＋２２５〜ｊ＋２５６画素目の領域は、図１２（ｂ）に模式的に示すディザパターン部分Ｑ４´によって量子化が行われた領域である。

したがって、量子化データのＹ方向下流側からｊ＋２２５画素目〜ｊ＋２５６画素目の領域に対しては、ディザパターン部分Ｑ４´に対応する図１２（ａ）に示すマスクパターン部分Ａ４´、Ｂ４´、Ｃ４´、Ｄ４´を用いて分配処理が実行される。

また、ｊ＋２５７〜ｊ＋２８８画素目の領域は、図１２（ｂ）に模式的に示すディザパターン部分Ｑ１´によって量子化が行われた領域である。

したがって、量子化データのＹ方向下流側からｊ＋２５７画素目〜ｊ＋２８８画素目の領域に対しては、ディザパターン部分Ｑ１´に対応する図１２（ａ）に示すマスクパターン部分Ａ１´、Ｂ１´、Ｃ１´、Ｄ１´を用いて分配処理が実行される。

以下、同様にして各単位領域に対する分配処理を実行する。すなわち、ディザパターンＱ内のすべての領域を用いて量子化された量子化データに対してはマスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄの組を用いて各走査への分配を行う。

一方、ディザパターンＱ内の一部の領域であるディザパターン部分Ｑ１´を用い、他部の領域であるディザパターン部分Ｑ２´、Ｑ３´、Ｑ４´を用いずに量子化された量子化データに対しては、ディザパターン部分Ｑ１´に対応するマスクパターン部分Ａ１´、Ｂ１´、Ｃ１´、Ｄ１´の組を用いて各走査への分配を行う。また、ディザパターンＱ内の一部の領域であるディザパターン部分Ｑ２´を用い、他部の領域であるディザパターン部分Ｑ１´、Ｑ３´、Ｑ４´を用いずに量子化された量子化データに対しては、ディザパターン部分Ｑ２´に対応するマスクパターン部分Ａ２´、Ｂ２´、Ｃ２´、Ｄ２´の組を用いて各走査への分配を行う。また、ディザパターンＱ内の一部の領域であるディザパターン部分Ｑ３´を用い、他部の領域であるディザパターン部分Ｑ１´、Ｑ２´、Ｑ４´を用いずに量子化された量子化データに対しては、ディザパターン部分Ｑ３´に対応するマスクパターン部分Ａ３´、Ｂ３´、Ｃ３´、Ｄ３´の組を用いて各走査への分配を行う。また、ディザパターンＱ内の一部の領域であるディザパターン部分Ｑ４´を用い、他部の領域であるディザパターン部分Ｑ１´、Ｑ２´、Ｑ３´を用いずに量子化された量子化データに対しては、ディザパターン部分Ｑ４´に対応するマスクパターン部分Ａ４´、Ｂ４´、Ｃ４´、Ｄ４´の組を用いて各走査への分配を行う。

以上の構成によれば、複数通りの搬送量を介在させて記録を行う場合であっても、ディザパターン設定時の自由度を低下させず、且つ、分散性の高い記録データを生成することが可能となる。

なお、本実施形態では長い搬送量で記録を行う領域、短い搬送量で記録を行う領域の順に記録を行う形態について記載したが、短い搬送量で記録を行う領域、長い搬送量で記録を行う領域の順に記録を行う形態であっても本実施形態を適用できることは言うまでもない。

（第３の実施形態）
第１、第２の実施形態では記録許容比率が互いにほぼ等しいマスクパターンＡ〜Ｄを用いる場合について記載した。

これに対し、本実施形態では、記録許容比率が互いに異なるマスクパターンの組を複数有し、対応する吐出口群の位置に応じて適用するマスクパターンの組を異ならせる形態について記載する。

なお、上述した第１、第２の実施形態と同様の部分については説明を省略する。

（マスクパターン）
本実施形態では、単位領域に対する１、２、３、４回目の走査に対応するマスクパターンＡ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１から構成される第１のマスクパターン群、単位領域に対する１、２、３、４回目の走査に対応するマスクパターンＡ２、Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２から構成される第２のマスクパターン群、単位領域に対する１、２、３、４回目の走査に対応するマスクパターンＡ３、Ｂ３、Ｃ３、Ｄ３から構成される第３のマスクパターン群の３つのマスクパターン群を用いる。なお、それぞれのマスクパターンＡ１〜Ｄ１、Ａ２〜Ｄ２、Ａ３〜Ｄ３は第１、第２の実施形態におけるマスクパターンと同様に１２８画素×１２８画素の大きさを有する。

ここで、第１のマスクパターン群に属するマスクパターンＡ１の記録許容比率は５％に、マスクパターンＢ１の記録許容比率は３０％に、マスクパターンＣ１の記録許容比率は４０％に、マスクパターンＤ１の記録許容比率は２５％に、それぞれ定められている。したがって、マスクパターンＡ１〜Ｄ１の記録許容比率の合計は１００％となる。

また、第２のマスクパターン群に属するマスクパターンＡ２の記録許容比率は１５％に、マスクパターンＢ２の記録許容比率は３５％に、マスクパターンＣ２の記録許容比率は３５％に、マスクパターンＤ１の記録許容比率は１５％に、それぞれ定められている。したがって、マスクパターンＡ２〜Ｄ２の記録許容比率の合計は１００％となる。

ここで、第３のマスクパターン群に属するマスクパターンＡ３の記録許容比率は２５％に、マスクパターンＢ３の記録許容比率は４０％に、マスクパターンＣ３の記録許容比率は３０％に、マスクパターンＤ３の記録許容比率は５％に、それぞれ定められている。したがって、マスクパターンＡ３〜Ｄ３の記録許容比率の合計は１００％となる。

また、本実施形態で用いるディザパターン８０と、マスクパターンＡ１〜Ｄ１、Ａ２〜Ｄ２、Ａ３〜Ｄ３のそれぞれと、は、量子化データの階調が２５％、５０％、７５％、１００％のそれぞれである場合において互いに対応付けて定められている。

（ディザパターンとマスクパターンの適用方法）
本実施形態では、第１の実施形態と同様に、図５に示すマルチパス記録方式にしたがって記録を行う。その上で、本実施形態では図７に示すディザパターンと上述した第１、第２、第３のマスクパターン群を用いて記録データを生成する。

図７に示すように、本実施形態におけるディザパターン８０はＹ方向に１２８画素の大きさを有している。また、上述のように、マスクパターンＡ１〜Ｄ１、Ａ２〜Ｄ２、Ａ３〜Ｄ３のそれぞれもＹ方向に１２８画素の大きさを有している。

一方で、図５に示すように、本実施形態におけるマルチパス記録方式では１回当たりの搬送量が１９２画素に相当する長さとなるように搬送する。したがって、第１の実施形態と同様に、搬送量（１９２画素）はマスクパターンＡ１〜Ｄ１、Ａ２〜Ｄ２、Ａ３〜Ｄ３それぞれのＹ方向における長さ（１２８画素）の整数倍となっていない。

そこで、本実施形態においても、搬送量が複数のマスクパターン部分それぞれのＹ方向における長さの整数倍となるように、マスクパターンＡ１〜Ｄ１、Ａ２〜Ｄ２、Ａ３〜Ｄ３を分割する。ここでは搬送量が１９２画素であるため、例として複数のマスクパターン部分それぞれのＹ方向における長さが６４（＝１９２／３）画素となるようにマスクパターンＡ１〜Ｄ１、Ａ２〜Ｄ２、Ａ３〜Ｄ３を分割する。

図１４（ａ）は本実施形態における第１のマスクパターン群に属するマスクパターンＡ１〜Ｄ１を分割することにより得られるマスクパターン部分を模式的に示す図である。また、図１４（ｂ）は本実施形態における第２のマスクパターン群に属するマスクパターンＡ２〜Ｄ２を分割することにより得られるマスクパターン部分を模式的に示す図である。また、図１４（ｃ）は本実施形態における第３のマスクパターン群に属するマスクパターンＡ３〜Ｄ３を分割することにより得られるマスクパターン部分を模式的に示す図である。

本実施形態では図１４に示すように、マスクパターンＡ１〜Ｄ１、Ａ２〜Ｄ２、Ａ３〜Ｄ３それぞれをＹ方向に２分割することによりマスクパターン部分を得る。

例えば、第１のマスクパターン群に属し、１回目の走査に対応するマスクパターンＡ１は、Ｙ方向下流側に位置し（Ｙ方向下流側の画像に対応し）、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ１＿１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ１＿２とに分割される。ここで、マスクパターンＡ１は、マスクパターン部分Ａ１＿１、Ａ１＿２それぞれの記録許容比率が５％となるように定められている。

また、第１のマスクパターン群に属し、２回目の走査に対応するマスクパターンＢ１は、Ｙ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ１＿１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ１＿２とに分割される。ここで、マスクパターンＢ１は、マスクパターン部分Ｂ１＿１、Ｂ１＿２それぞれの記録許容比率が３０％となるように定められている。

また、第１のマスクパターン群に属し、３回目の走査に対応するマスクパターンＣ１は、Ｙ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｃ１＿１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｃ１＿２とに分割される。ここで、マスクパターンＣ１は、マスクパターン部分Ｃ１＿１、Ｃ１＿２それぞれの記録許容比率が４０％となるように定められている。

また、第１のマスクパターン群に属し、４回目の走査に対応するマスクパターンＤ１は、Ｙ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｄ１＿１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｄ１＿２とに分割される。ここで、マスクパターンＤ１は、マスクパターン部分Ｄ１＿１、Ｄ１＿２それぞれの記録許容比率が２５％となるように定められている。

また、第２のマスクパターン群に属し、１回目の走査に対応するマスクパターンＡ２は、Ｙ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ２＿１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ２＿２とに分割される。ここで、マスクパターンＡ２は、マスクパターン部分Ａ２＿１、Ａ２＿２それぞれの記録許容比率が１５％となるように定められている。

また、第２のマスクパターン群に属し、２回目の走査に対応するマスクパターンＢ２は、Ｙ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ２＿１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ２＿２とに分割される。ここで、マスクパターンＢ２は、マスクパターン部分Ｂ２＿１、Ｂ２＿２それぞれの記録許容比率が３５％となるように定められている。

また、第２のマスクパターン群に属し、３回目の走査に対応するマスクパターンＣ２は、Ｙ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｃ２＿１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｃ２＿２とに分割される。ここで、マスクパターンＣ２は、マスクパターン部分Ｃ２＿１、Ｃ２＿２それぞれの記録許容比率が３５％となるように定められている。

また、第２のマスクパターン群に属し、４回目の走査に対応するマスクパターンＤ２は、Ｙ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｄ２＿１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｄ２＿２とに分割される。ここで、マスクパターンＤ２は、マスクパターン部分Ｄ２＿１、Ｄ２＿２それぞれの記録許容比率が１５％となるように定められている。

また、第３のマスクパターン群に属し、１回目の走査に対応するマスクパターンＡ３は、Ｙ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ３＿１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ３＿２とに分割される。ここで、マスクパターンＡ３は、マスクパターン部分Ａ３＿１、Ａ３＿２それぞれの記録許容比率が２５％となるように定められている。

また、第３のマスクパターン群に属し、２回目の走査に対応するマスクパターンＢ３は、Ｙ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ３＿１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ３＿２とに分割される。ここで、マスクパターンＢ３は、マスクパターン部分Ｂ３＿１、Ｂ３＿２それぞれの記録許容比率が４０％となるように定められている。

また、第３のマスクパターン群に属し、３回目の走査に対応するマスクパターンＣ３は、Ｙ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｃ３＿１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｃ３＿２とに分割される。ここで、マスクパターンＣ３は、マスクパターン部分Ｃ３＿１、Ｃ３＿２それぞれの記録許容比率が３０％となるように定められている。

また、第３のマスクパターン群に属し、４回目の走査に対応するマスクパターンＤ３は、Ｙ方向下流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｄ３＿１と、Ｙ方向上流側に位置し、６４画素×１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｄ３＿２とに分割される。ここで、マスクパターンＤ３は、マスクパターン部分Ｄ３＿１、Ｄ３＿２それぞれの記録許容比率が５％となるように定められている。

ここで、マスクパターン部分Ａ１＿１、Ｂ１＿１、Ｃ１＿１、Ｄ１＿１、Ａ２＿１、Ｂ２＿１、Ｃ２＿１、Ｄ２＿１、Ａ３＿１、Ｂ３＿１、Ｃ３＿１、Ｄ３＿１はディザパターンＱ内のＹ方向下流側に位置するディザパターン部分Ｑ１と同期されて設定された領域である。したがって、量子化データのうちのディザパターン部分Ｑ１によって量子化された量子化データに対しては、マスクパターン部分Ａ１＿１、Ｂ１＿１、Ｃ１＿１、Ｄ１＿１、Ａ２＿１、Ｂ２＿１、Ｃ２＿１、Ｄ２＿１、Ａ３＿１、Ｂ３＿１、Ｃ３＿１、Ｄ３＿１を用いて分配処理を行うことによりインクの吐出が定められた画素が高分散となるような記録データを生成することができる。

一方、マスクパターン部分Ａ１＿２、Ｂ１＿２、Ｃ１＿２、Ｄ１＿２、Ａ２＿２、Ｂ２＿２、Ｃ２＿２、Ｄ２＿２、Ａ３＿２、Ｂ３＿２、Ｃ３＿２、Ｄ３＿２はディザパターンＱ内のＹ方向上流側に位置するディザパターン部分Ｑ２と同期されて設定された領域である。したがって、量子化データのうちのディザパターン部分Ｑ２によって量子化された量子化データに対しては、マスクパターン部分Ａ１＿２、Ｂ１＿２、Ｃ１＿２、Ｄ１＿２、Ａ２＿２、Ｂ２＿２、Ｃ２＿２、Ｄ２＿２、Ａ３＿２、Ｂ３＿２、Ｃ３＿２、Ｄ３＿２を用いて分配処理を行うことによりインクの吐出が定められた画素が高分散となるような記録データを生成することができる。

本実施形態では、図５に示すマルチパス記録方式において、図７に示すディザパターン、図１４に示すマスクパターンおよびマスクパターン部分を用いて生成された記録データにしたがって記録を行う。

図１５は本実施形態における記録データの生成過程を示す模式図である。なお、以下の説明では簡単のため、Ｘ方向上流側から１画素目〜１２８画素目に位置する多値データのみについて記載する。

本実施形態における量子化処理は、第１の実施形態と同様であるため、説明を省略する。

本実施形態における分配処理Ｓ４０４では、図５に示す吐出口群のそれぞれをＹ方向に沿って更に３分割し、各吐出口群におけるＹ方向上流側端部の領域には第１のマスクパターン群を、Ｙ方向中央部の領域には第２のマスクパターン群を、Ｙ方向下流側端部の領域には第３のマスクパターン群をそれぞれ適用する。

例えば、ｎ１〜ｎ１９２からなる吐出口群２０１は、ｎ１〜ｎ６４の吐出口からなるＹ方向上流側端部の領域と、ｎ６５〜ｎ１２８の吐出口からなるＹ方向中央部の領域と、ｎ１２９〜ｎ１９２の吐出口からなるＹ方向下流側端部の領域と、の３つの領域に分割される。そして、ｎ１〜ｎ６４の吐出口に対応する量子化データを分配する場合には第１のマスクパターン群に属するマスクパターンＡ１〜Ｄ１およびマスクパターン部分Ａ１＿２、Ｂ１＿２、Ｃ１＿２、Ｄ１＿２、Ａ１＿２、Ｂ１＿２、Ｃ１＿２、Ｄ１＿２を適用して分配処理を行う。また、ｎ６５〜ｎ１２８の吐出口に対応する量子化データを分配する場合には第２のマスクパターン群に属するマスクパターンＡ２〜Ｄ２およびマスクパターン部分Ａ２＿２、Ｂ２＿２、Ｃ２＿２、Ｄ２＿２、Ａ２＿２、Ｂ２＿２、Ｃ２＿２、Ｄ２＿２を適用して分配処理を行う。ｎ１２９〜ｎ１９２の吐出口に対応する量子化データを分配する場合には第３のマスクパターン群に属するマスクパターンＡ３〜Ｄ３およびマスクパターン部分Ａ３＿２、Ｂ３＿２、Ｃ３＿２、Ｄ３＿２、Ａ３＿２、Ｂ３＿２、Ｃ３＿２、Ｄ３＿２を適用して分配処理を行う。

同様にして、ｎ１９３〜ｎ２５６の吐出口、ｎ３８５〜ｎ４４８の吐出口、ｎ５７７〜ｎ６４０の吐出口に対応する量子化データを分配する場合には第１のマスクパターン群に属するマスクパターンＡ１〜Ｄ１およびマスクパターン部分Ａ１＿２、Ｂ１＿２、Ｃ１＿２、Ｄ１＿２、Ａ１＿２、Ｂ１＿２、Ｃ１＿２、Ｄ１＿２を適用して分配処理を行う。また、ｎ２５７〜ｎ３２０の吐出口、ｎ４４９〜ｎ５１２の吐出口、ｎ６４１〜ｎ７０４の吐出口に対応する量子化データを分配する場合には第２のマスクパターン群に属するマスクパターンＡ２〜Ｄ２およびマスクパターン部分Ａ２＿２、Ｂ２＿２、Ｃ２＿２、Ｄ２＿２、Ａ２＿２、Ｂ２＿２、Ｃ２＿２、Ｄ２＿２を適用して分配処理を行う。そして、ｎ３２１〜ｎ３８４の吐出口、ｎ５１３〜５７６の吐出口、ｎ７０５〜ｎ７６８の吐出口に対応する量子化データを分配する場合には第３のマスクパターン群に属するマスクパターンＡ３〜Ｄ３およびマスクパターン部分Ａ３＿２、Ｂ３＿２、Ｃ３＿２、Ｄ３＿２、Ａ３＿２、Ｂ３＿２、Ｃ３＿２、Ｄ３＿２を適用して分配処理を行う。

その上で、本実施形態における分配処理Ｓ４０４では、ディザパターンＱ内の一部の領域（ディザパターン部分Ｑ１、Ｑ２）を用い、他部の領域を用いずに量子化された量子化データに対し、対応するマスクパターン群に属し、且つ、当該一部の領域に対応するマスクパターン部分Ａ１＿１、Ｂ１＿１、Ｃ１＿１、Ｄ１＿１、Ａ２＿１、Ｂ２＿１、Ｃ２＿１、Ｄ２＿１、Ａ３＿１、Ｂ３＿１、Ｃ３＿１、Ｄ３＿１、Ａ１＿２、Ｂ１＿２、Ｃ１＿２、Ｄ１＿２、Ａ２＿２、Ｂ２＿２、Ｃ２＿２、Ｄ２＿２、Ａ３＿２、Ｂ３＿２、Ｃ３＿２、Ｄ３＿２のいずれかを用いて各走査への分配を行う。

例えば、量子化データのＹ方向下流側から１画素目〜１９２画素目の領域は記録媒体上の１つの単位領域２１１に記録される画像に対応する。なお、図５からわかるように、単位領域２１１は１パス目（単位領域２１１に対する１回目の走査）にてｎ１〜ｎ１９２からなる吐出口群２０１に、２パス目（単位領域２１１に対する２回目の走査）にてｎ１９３〜ｎ３８４からなる吐出口群２０２に、３パス目（単位領域２１１に対する３回目の走査）にてｎ３８５〜ｎ５７６からなる吐出口群２０３に、４パス目（単位領域２１１に対する４回目の走査）にてｎ５７７〜ｎ７６８からなる吐出口群２０４によって記録が行われる領域である。

ここで、量子化データのＹ方向下流側から１画素目〜１９２画素目に対応する領域のうち、Ｙ方向下流側から１２９画素目〜１９２画素目の領域は、１つの吐出口群内のＹ方向上流側端部の領域であるｎ１〜ｎ６４、ｎ１９３〜ｎ２５６の吐出口、ｎ３８５〜ｎ４４８の吐出口、ｎ５７７〜ｎ６４０の吐出口に対応する領域である。更に、量子化データのＹ方向下流側から１２９画素目〜１９２画素目の領域は、ディザパターン部分Ｑ１によって量子化が行われた領域である。

したがって、量子化データのＹ方向下流側から１２９画素目〜１９２画素目の領域に対しては、第１のマスクパターン群に属し、且つ、ディザパターン部分Ｑ１に対応する図１４（ａ）に示すマスクパターン部分Ａ１＿１、Ｂ１＿１、Ｃ１＿１、Ｄ１＿１を用いて分配処理が実行される。

次に、量子化データのＹ方向下流側から１画素目〜１９２画素目に対応する領域のうち、Ｙ方向下流側から６５画素目〜１２８画素目の領域は、１つの吐出口群内のＹ方向中央部の領域であるｎ６５〜ｎ１２８、ｎ２５７〜ｎ３２０の吐出口、ｎ４４９〜ｎ５１２の吐出口、ｎ６４１〜ｎ７０４の吐出口に対応する領域である。更に、量子化データのＹ方向下流側から６５画素目〜１２８画素目の領域は、ディザパターン部分Ｑ２によって量子化が行われた領域である。

したがって、量子化データのＹ方向下流側から６５画素目〜１２８画素目の領域に対しては、第２のマスクパターン群に属し、且つ、ディザパターン部分Ｑ２に対応する図１４（ｂ）に示すマスクパターン部分Ａ２＿２、Ｂ２＿２、Ｃ２＿２、Ｄ２＿２を用いて分配処理が実行される。

次に、量子化データのＹ方向下流側から１画素目〜１９２画素目に対応する領域のうち、Ｙ方向下流側から１画素目〜６４画素目の領域は、１つの吐出口群内のＹ方向下流側端部の領域であるｎ１２９〜ｎ１９２、ｎ３２１〜ｎ３８４の吐出口、ｎ５１３〜５７６の吐出口、ｎ７０５〜ｎ７６８の吐出口に対応する領域である。更に、量子化データのＹ方向下流側から１画素目〜６４画素目の領域は、ディザパターン部分Ｑ１によって量子化が行われた領域である。

したがって、量子化データのＹ方向下流側から１画素目〜６４画素目の領域に対しては、第３のマスクパターン群に属し、且つ、ディザパターン部分Ｑ１に対応する図１４（ｃ）に示すマスクパターン部分Ａ３＿１、Ｂ３＿１、Ｃ３＿１、Ｄ３＿１を用いて分配処理が実行される。

また、例えば、量子化データのＹ方向下流側から１９３画素目〜３８４画素目の領域は記録媒体上の１つの単位領域２１２に記録される画像に対応する。なお、図５からわかるように、単位領域２１２は２パス目（単位領域２１２に対する１回目（最初）の走査）にてｎ１〜ｎ１９２からなる吐出口群２０１に、３パス目（単位領域２１２に対する２回目の走査）にてｎ１９３〜ｎ３８４からなる吐出口群２０２に、４パス目（単位領域２１２に対する３回目の走査）にてｎ３８５〜ｎ５７６からなる吐出口群２０３に、５パス目（単位領域２１２に対する４回目（最後）の走査）にてｎ５７７〜ｎ７６８からなる吐出口群２０４によって記録が行われる領域である。

ここで、量子化データのＹ方向下流側から１９３画素目〜３８４画素目に対応する領域のうち、Ｙ方向下流側から３２１画素目〜３８４画素目の領域は、１つの吐出口群内のＹ方向上流側端部の領域であるｎ１〜ｎ６４、ｎ１９３〜ｎ２５６の吐出口、ｎ３８５〜ｎ４４８の吐出口、ｎ５７７〜ｎ６４０の吐出口に対応する領域である。更に、量子化データのＹ方向下流側から３２１画素目〜３８４画素目の領域は、ディザパターン部分Ｑ２によって量子化が行われた領域である。

したがって、量子化データのＹ方向下流側から３２１画素目〜３８４画素目の領域に対しては、第１のマスクパターン群に属し、且つ、ディザパターン部分Ｑ２に対応する図１４（ａ）に示すマスクパターン部分Ａ１＿２、Ｂ１＿２、Ｃ１＿２、Ｄ１＿２を用いて分配処理が実行される。

次に、量子化データのＹ方向下流側から１９３画素目〜３８４画素目に対応する領域のうち、Ｙ方向下流側から２５７画素目〜３２０画素目の領域は、１つの吐出口群内のＹ方向中央部の領域であるｎ６５〜ｎ１２８、ｎ２５７〜ｎ３２０の吐出口、ｎ４４９〜ｎ５１２の吐出口、ｎ６４１〜ｎ７０４の吐出口に対応する領域である。更に、量子化データのＹ方向下流側から２５７画素目〜３２０画素目の領域は、ディザパターン部分Ｑ１によって量子化が行われた領域である。

したがって、量子化データのＹ方向下流側から２５７画素目〜３２０画素目の領域に対しては、第２のマスクパターン群に属し、且つ、ディザパターン部分Ｑ１に対応する図１４（ｂ）に示すマスクパターン部分Ａ２＿１、Ｂ２＿１、Ｃ２＿１、Ｄ２＿１を用いて分配処理が実行される。

次に、量子化データのＹ方向下流側から１９３画素目〜３８４画素目に対応する領域のうち、Ｙ方向下流側から１９３画素目〜２５６画素目の領域は、１つの吐出口群内のＹ方向下流側端部の領域であるｎ１２９〜ｎ１９２、ｎ３２１〜ｎ３８４の吐出口、ｎ５１３〜５７６の吐出口、ｎ７０５〜ｎ７６８の吐出口に対応する領域である。更に、量子化データのＹ方向下流側から１９３画素目〜２５６画素目の領域は、ディザパターン部分Ｑ２によって量子化が行われた領域である。

したがって、量子化データのＹ方向下流側から１９３画素目〜２５６画素目の領域に対しては、第３のマスクパターン群に属し、且つ、ディザパターン部分Ｑ２に対応する図１４（ｃ）に示すマスクパターン部分Ａ３＿２、Ｂ３＿２、Ｃ３＿２、Ｄ３＿２を用いて分配処理が実行される。

以下、同様にして各単位領域に対する分配処理を実行する。

ここで、本実施形態によれば、４パス目以降の記録において吐出口列の端部に近い位置ほど記録許容比率を低く定めたマスクパターン部分を用いて記録データを生成することが可能となる。これにより、端部からのインクの吐出量が中央部のインクの吐出量よりも低くなり易くなるため、一般に知られている吐出口列の端部から吐出されたインクの着弾ずれ等を抑制した記録を行うことが可能となる。

図１６は本実施形態における４パス目以降の記録における各吐出口群の各領域に対応するマスクパターン部分の記録許容比率を模式的に示す図である。

図１６からわかるように。吐出口列のｎ１からｎ７６８に向かって、６４個の吐出口幅毎に間引きパターンによる記録量が５％のＡ１、１５％のＡ２、２５％のＡ３、３０％のＢ１、３５％のＢ２、４０％のＢ３、４０％のＣ１、３５％のＣ２、３０％のＣ３、２５％のＤ１、１５％のＤ２、５％のＤ３となっており、吐出口の中央部から両端部に向かって記録許容比率が低くなっていることがわかる。

以上の構成によれば、ディザパターンの設定の際の自由度を低下させず、且つ、分散性が高い記録データを生成することが可能となる。更に、吐出口列の端部における記録許容比率を低くすることができるため、端部からの吐出におけるインクの着弾ずれ等を抑制することができる。

（第４の実施形態）
第１から第３の実施形態では、量子化処理にて多値データを１ビット２値の情報で表される２値データに変換し、分配処理にて２値データを複数回の走査に分配することにより、２値の記録データを生成する形態について記載した。

これに対し、本実施形態では、量子化データをｎ（ｎ≧２）ビットＭ（Ｍ≧３）値の情報で表されるＭ値データに変換し、分配処理にてＭ値データを複数回の走査に分配することにより、２値の記録データを生成する形態について記載する。

なお、上述した第１から第３の実施形態と同様の部分については説明を省略する。

本実施形態では、図６に示す量子化処理Ｓ４０３および分配処理Ｓ４０４を第１から第３の実施形態と異ならせる。

なお、ここではｎビットＭ値データの一例として、量子化処理により２ビット４値の情報（「００」、「０１」、「１０」、「１１」）により表される量子化データを生成する。ここで、量子化データの２ビット４値の情報は、画素に対するインクの吐出回数を定めている。詳細には、量子化データの２ビット４値の情報が「００」である場合、画素に対してインクを１回も吐出しない。また、量子化データの２ビット４値の情報が「０１」である場合、画素に対してインクを１回吐出する。また、量子化データの２ビット４値の情報が「１０」である場合、画素に対してインクを２回吐出する。また、量子化データの２ビット４値の情報が「１１」である場合、画素に対してインクを３回吐出する。

なお、以降の説明では簡単のため、インクの吐出回数を示す２ビット４値の情報（「００」、「０１」、「１０」、「１１」）を画素値とも称する。

（量子化処理）
図１７は本実施形態における制御プログラムにしたがって量子化処理Ｓ４０３における量子化データ生成のフローチャートである。

本実施形態において量子化処理Ｓ４０３が開始されると、まずステップＳ５０１にて、各画素における多値データが示す階調値Ｉｎを予め定められた所定閾値Ｔｈで除算し、その商Ｉｎと余りＩｎ´が算出される。

ここで、量子化処理にてＭ値の量子化データを生成し、且つ、多値データが表現可能な階調値がＬ段階である場合、所定閾値Ｔｈは下記の（式１）で算出される値であることが好ましい。
（式１）
Ｔｈ＝（Ｌ−１）／（Ｍ−１）

上述のように本実施形態ではＭ＝４である。また、多値データは０〜２５５の２５６段階の階調値を表現可能であるため、Ｌ＝２５６である。したがって、本実施形態では所定閾値Ｔｈ＝８５（＝（２５６−１）／（４−１））に設定する。

なお、上述の所定閾値Ｔｈの算出方法は一例であり、適宜異なる方法を用いて設定しても良い。

図１８は多値データの階調値Ｉｎが０〜２５５のそれぞれである場合において取得される商Ｎと余りＩｎ´を示す表である。

図１８に示すように、多値データの階調値Ｉｎが０〜８４のそれぞれの値の場合、階調値Ｉｎを所定閾値Ｔｈ＝８５で割った商Ｎは０、余りＩｎ´はそれぞれ０〜８４となる。また、多値データの階調値Ｉｎが８５〜１６９のそれぞれの値の場合、階調値Ｉｎを所定閾値Ｔｈ＝８５で割った商Ｎは１、余りＩｎ´はそれぞれ０〜８４となる。また、多値データの階調値Ｉｎが１７０〜２５４のそれぞれの値の場合、階調値Ｉｎを所定閾値Ｔｈ＝８５で割った商Ｎは２、余りＩｎ´はそれぞれ０〜８４となる。また、多値データの階調値Ｉｎが２５５の場合、階調値Ｉｎを所定閾値Ｔｈ＝８５で割った商は３、余りは０となる。

次に、ステップＳ５０２にてディザパターンを参照し、ステップＳ５０１において取得された余りＩｎ´とディザパターン内の各画素において定められた閾値Ｄｔｈとの比較が行われる。

図１９（ａ）は本実施における量子化処理で用いるディザパターン９０を示す模式図である。また、図１９（ｂ）は図１９（ａ）に示すディザパターンのうちの一部の領域９０ａの拡大図である。なお、本実施形態ではディザパターンとして複数の画素領域それぞれに対するインクの吐出回数を決定するための閾値が定められたディザパターンを用いる。

図１９（ａ）に示すように、本実施形態で用いるディザパターン９０は、Ｘ方向に１２８画素、Ｙ方向に１２８画素の大きさを有している。これらの１２８×１２８個の画素それぞれに対し、図１９（ｂ）の拡大図に示すように、１〜８４までの８４個のいずれかの値がその画素における閾値として定められている。

本実施形態におけるステップＳ４０３における量子化処理では、ある画素における多値データが示す階調値Ｉｎに基づいて取得された余りＩｎ´と、対応する画素におけるディザパターン９０が示す閾値と、を比較し、余りＩｎ´が閾値以上である場合にはステップＳ５０３に進む。そして、ステップＳ５０３おいてステップＳ５０２にて取得された商Ｎに対して１を加え、その値を量子化データの階調値Ｎ´（＝Ｎ＋１）とする。

一方、余りＩｎ´が閾値未満である場合にはステップＳ５０４に進み、ステップＳ５０２にて取得された商Ｎを量子化データの階調値Ｎ´（＝Ｎ）とする。

ここで、図１８からわかるように、多値データの階調値が０〜８４のいずれかである場合、商Ｎは０であり、余りＩｎ´は０〜８４のいずれかになる。したがって、対応する画素に対して定められた閾値に応じて量子化データの階調値Ｎ´は１または０となる。余りＩｎ´が大きいほど閾値以上となる画素が多くなるため、階調値Ｎ´として１が定められる画素の数が多くなる。

また、多値データの階調値が８５〜１６９のいずれかである場合、商Ｎは１であり、余りＩｎ´は０〜８４のいずれかになる。したがって、対応する画素に対して定められた閾値に応じて量子化データの階調値Ｎ´は２または１となる。余りＩｎ´が大きいほど閾値以上となる画素が多くなるため、階調値Ｎ´として２が定められる画素の数が多くなる。

また、多値データの階調値が１７０〜２５４のいずれかである場合、商Ｎは２であり、余りＩｎ´は０〜８４のいずれかになる。したがって、対応する画素に対して定められた閾値に応じて量子化データの階調値Ｎ´は２または３となる。余りＩｎ´が大きいほど閾値以上となる画素が多くなるため、階調値Ｎ´として３が定められる画素の数が多くなる。

また、多値データの階調値が２５５の場合、商Ｎは３であり、余りＩｎ´は０であるため、量子化データの階調値は対応する画素に対して定められた閾値にかかわらず３となる。

このように、多値データの階調値が大きくなるほど、階調値Ｎ´として大きな値が定められる画素の数が多くなることがわかる。

そして、ステップＳ５０５にて階調値Ｎ´をｎ（ｎ≧２）ビットの情報へと変換する。本実施形態では、上述のようにｎ＝２であるため、階調値Ｎ´を「００」、「０１」、「１０」、「１１」のいずれかの画素値に変換する。詳細には、ある画素において階調値Ｎ´＝０である場合、当該画素に対するインクの吐出回数が０回であることを示す「００」の情報に変換する。また、ある画素において階調値Ｎ´＝１である場合、当該画素に対するインクの吐出回数が１回であることを示す「０１」の情報に変換する。また、ある画素において階調値Ｎ´＝２である場合、当該画素に対するインクの吐出回数が２回であることを示す「１０」の情報に変換する。また、ある画素において階調値Ｎ´＝３である場合、当該画素に対するインクの吐出回数が３回であることを示す「１１」の情報に変換する。

図２０は図１９に示すディザパターン９０内の領域９０ａに対し、互いに異なる階調値を有する多値データが入力された場合に生成される量子化データを模式的に示す図である。

ここで、図２０（ａ）は図１９（ｂ）に示すディザパターンと同様であり、ディザパターン内の一部の領域９０ａを示している。また、図２０（ｂ）は一部の領域９０ａに対して各画素の階調値が１２８である多値データが入力された際に生成される量子化データ９０ａ−１２８を示している。また、図２０（ｃ）は一部の領域９０ａに対して階調値が１２９である多値データが一様に入力された際に生成される量子化データ９０ａ−１２９を示している。また、図２０（ｄ）は一部の領域９０ａに対して階調値が１３０である多値データが入力された際に生成される量子化データ９０ａ−１３０を示している。

図２０（ａ）に示すディザパターン内の一部の領域９０ａに対して階調値Ｉｎが１２８である多値データが一様に入力された場合、ステップＳ５０１にて商Ｎ＝１、余りＩｎ´＝４３が取得される。したがって、ステップＳ５０２〜Ｓ５０４にてディザパターン９０内の一部の領域９０ａのうちの４３以上の閾値Ｄｔｈが定められた画素においては階調値Ｎ´＝２、４２以下の閾値Ｄｔｈが定められた画素においては階調値Ｎ´＝１が決定される。そして、ステップＳ５０５にて階調値Ｎ´＝２と決定された画素には「１０」の画素値を、階調値Ｎ´＝１と決定された画素には「０１」の画素値を割り当てる。したがって、図２０（ｂ）のようなＭ値データが生成される。

次に、図２０（ａ）に示すディザパターン内の一部の領域９０ａに対して階調値Ｉｎが１２９である多値データが一様に入力された場合、ステップＳ５０１にて商Ｎ＝１、余りＩｎ´＝４４が取得される。したがって、ステップＳ５０２〜Ｓ５０４にてディザパターン９０内の一部の領域９０ａのうちの４４以上の閾値Ｄｔｈが定められた画素においては階調値Ｎ´＝２、４３以下の閾値Ｄｔｈが定められた画素においては階調値Ｎ´＝１が決定される。そして、ステップＳ５０５にて階調値Ｎ´＝２と決定された画素には「１０」の画素値を、階調値Ｎ´＝１と決定された画素には「０１」の画素値を割り当てる。したがって、図２０（ｃ）のようなＭ値データが生成される。

ここで、図２０（ｂ）、（ｃ）に示すＭ値データは画素２００１以外の画素においては同じ画素値が定められている。しかしながら、図２０（ｂ）に示すＭ値データでは画素２００１に対して１回のインクの吐出を示す「０１」の画素値が定められている一方で、図２０（ｃ）に示すＭ値データは画素２００１に対して２回のインクの吐出を示す「１０」の画素値が定められていることがわかる。ここから、階調値が１２９の多値データが入力された場合、階調値が１２８の多値データが入力された場合に比べて、ディザパターン９０内の一部の領域９０ａに対応する記録媒体上の領域に対して１回だけインクを多く吐出することが可能となることがわかる。

次に、図２０（ａ）に示すディザパターン内の一部の領域９０ａに対して階調値Ｉｎが１３０である多値データが入力された場合、ステップＳ５０１にて商Ｎ＝１、余りＩｎ´＝４５が取得される。したがって、ステップＳ５０２〜Ｓ５０４にてディザパターン９０内の一部の領域９０ａのうちの４５以上の閾値Ｄｔｈが定められた画素においては階調値Ｎ´＝２、４４以下の閾値Ｄｔｈが定められた画素においては階調値Ｎ´＝１が決定される。そして、ステップＳ５０５にて階調値Ｎ´＝２と決定された画素には「１０」の画素値を、階調値Ｎ´＝１と決定された画素には「０１」の画素値を割り当てる。したがって、図２０（ｄ）のようなＭ値データが生成される。

ここで、図２０（ｃ）、（ｄ）に示すＭ値データは画素２００２以外の画素においては同じ画素値が定められている。しかしながら、図２０（ｃ）に示すＭ値データでは画素２００ｃに対して１回のインクの吐出を示す「０１」の画素値が定められている一方で、図２０（ｄ）に示すＭ値データは画素２００２に対して２回のインクの吐出を示す「１０」の画素値が定められていることがわかる。ここから、階調値が１３０の多値データが入力された場合、階調値が１２９の多値データが入力された場合に比べて、ディザパターン９０内の一部の領域９０ａに対応する記録媒体上の領域に対して１回だけインクを多く吐出することが可能となることがわかる。

このように、本実施形態による量子化処理によれば、多値データが示す階調値が多くなるほどインクの吐出回数が多くなるような量子化データを生成することが可能となる。

（分配処理）
上述の量子化処理により生成されたｎ（ｎ≧２）ビットＭ（Ｍ≧３）値の量子化データに対し、複数の画素領域それぞれに対するインクの吐出の許容回数を定めた複数のマスクパターンを適用することにより、複数回の走査への量子化データの分配を行う。

図２１はそれぞれ２ビットの情報を有する量子化データとインクの吐出の許容回数を定めたマスクパターンを用いて記録データを生成する過程を説明するための図である。また、図２２は図２１に示すような記録データの生成に際して用いるデコードテーブルを示す図である。

２１（ａ）はある領域内の１６個の画素７００〜７１５を模式的に示す図である。なお、ここでは簡単のため１６個の画素相当の画素領域からなる領域を用いて説明する。

図２１（ｂ）は単位領域に対応する量子化データの一例を示す図である。

ここで、本実施形態では一例としてｎ＝２の場合について記載する。上述のように本実施形態にてある画素に対応する多値データを構成する２ビットの情報（画素値）が「００」である場合には、当該画素に対してインクは１回も吐出されない。また、画素値が「０１」である場合には、対応する画素に対してインクは１回吐出される。また、画素値が「１０」である場合には、対応する画素に対してインクは２回吐出される。また、画素値が「１１」である場合には、対応する画素に対してインクは３回吐出される。

図２１（ｂ）に示す多値データに関しては、例えば画素７０３、７０７、７１１、７１５における画素値は「００」であるため、画素７０３、７０７、７１１、７１５に対応する画素領域にはインクが１回も吐出されないこととなる。また、例えば画素７００、７０４、７０８、７１２における画素値は「１１」であるため、画素７００、７０４、７０８、７１２に対応する画素領域にはインクが３回吐出されることとなる。

図２１（ｃ−１）〜（ｃ−４）はそれぞれ１〜４回目の走査に対応し、図２１（ｂ）に示す多値データに適用するためのマスクパターンの一例を示す図である。すなわち、図２１（ｂ）に示す多値データに対して図２１（ｃ−１）に示す１回目の走査に対応するマスクパターン５０５を適用することにより、１回目の走査で用いる記録データを生成する。同様にして、図２１（ｂ）に示す多値データに対して図２１（ｃ−２）、（ｃ−３）、（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターン５０６、５０７、５０８を適用することにより、それぞれ２、３、４回目の走査で用いる記録データを生成する。

ここで、図２１（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターン内の各画素には、「００」、「０１」、「１０」、「１１」のいずれかが２ビットの情報が示す値（以下、コード値とも称する）として割り当てられている。

ここで、図２２に示すデコードテーブルを参照するとわかるように、コード値が「００」である場合、対応する画素における画素値が「００」、「０１」、「１０」、「１１」のいずれであっても、インクを吐出しない。すなわち、マスクパターン内の「００」のコード値はインクの吐出をまったく許容しない（インクの吐出の許容回数が０回）ということに対応する。以下の説明では、「００」のコード値が割り当てられたマスクパターン内の画素を非記録許容画素とも称する。

一方、図２２に示すデコードテーブルを参照するとわかるように、コード値が「０１」である場合、対応する画素における画素値が「００」、「０１」、「１０」である場合にはインクを吐出しないが、「１１」である場合にはインクを吐出する。言い換えると、「０１」のコード値は、４通りの画素値（「００」、「０１」、「１０」、「１１」）に対して１回だけインクの吐出を許容する（インクの吐出の許容回数が１回）、ということに対応する。

また、コード値が「１０」である場合、対応する画素における画素値が「００」、「０１」である場合にはインクを吐出しないが、「１０」、「１１」である場合にはインクを吐出する。すなわち、「１０」のコード値は４通りの画素値に対して２回インクの吐出を許容する（インクの吐出の許容回数が２回）ということに対応する。

更に、コード値が「１１」である場合、対応する画素における画素値が「００」の場合にはインクを吐出しないが、「０１」、「１０」、「１１」である場合にはインクを吐出する。すなわち、「１１」のコード値は４通りの画素値に対して３回インクの吐出を許容する（インクの吐出の許容回数が３回）ということに対応する。なお、以下の説明では「０１」、「１０」、「１１」のいずれかのコード値が割り当てられたマスクパターン内の画素を記録許容画素とも称する。

ここで、本実施形態にて用いられるｎビットの情報を有するマスクパターンは、下記の（条件１）、（条件２）に基づいて設定される。

（条件１）
ここで、複数のマスクパターン内の同じ位置にある複数の画素には、記録許容画素が（２＾ｍ）−１個配置されるように設定される。この（２＾ｍ）−１個の記録許容画素は互いに異なる数だけインクの吐出を許容する。詳細には、本実施形態ではｍ＝２であるため、図２１（ｃ−１）〜（ｃ−４）に示す４つのマスクパターン内の同じ位置にある４つの画素のうちの３（＝２＾２−１）つの画素に対しては「０１」、「１０」、「１１」のいずれかのコード値が１つずつ割り当てられ（記録許容画素）、残りの１（＝４−３）つの画素に対しては「００」のコード値が割り当てられる（非記録許容画素）。

例えば、画素７００に対しては、図２１（ｃ−３）に示すマスクパターンにて「０１」、図２１（ｃ−２）に示すマスクパターンにて「１０」、図２１（ｃ−１）に示すマスクパターンにて「１１」のコード値が割り当てられている。そして、残りの図２１（ｃ−４）に示すマスクパターンにて「００」のコード値が割り当てられている。言い換えると、画素７００は、図２１（ｃ−１）、（ｃ−２）、（ｃ−３）に示すマスクパターンでは記録許容画素であり、図２１（ｃ−４）に示すマスクパターンでは非記録許容画素である。

また、画素７０１に対しては、図２１（ｃ−２）に示すマスクパターンにて「０１」、図２１（ｃ−１）に示すマスクパターンにて「１０」、図２１（ｃ−４）に示すマスクパターンにて「１１」のコード値が割り当てられている。そして、残りの図２１（ｃ−３）に示すマスクパターンにて「００」のコード値が割り当てられている。言い換えると、画素７０１は、図２１（ｃ−１）、（ｃ−２）、（ｃ−４）に示すマスクパターンでは記録許容画素であり、図２１（ｃ−３）に示すマスクパターンでは非記録許容画素である。

このような構成により、ある画素における画素値が「００」、「０１」、「１０」、「１１」のいずれであったとしても、その画素値に対応するインクの吐出回数だけ当該画素に対応する画素領域にインクを吐出するような記録データを生成することができる。

（条件２）
また、図２１（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターンには、「０１」のコード値に対応する記録許容画素が互いにほぼ同数となるように配置されている。より詳細には、図２１（ｃ−１）に示すマスクパターンには画素７０２、７０７、７０８、７１３の４つの画素に「０１」のコード値が割り当てられている。また、図２１（ｃ−２）に示すマスクパターンには画素７０１、７０６、７１１、７１２の４つの画素に「０１」のコード値が割り当てられている。また、図２１（ｃ−３）に示すマスクパターンには画素７００、７０５、７１０、７１５の４つの画素に「０１」のコード値が割り当てられている。また、図２１（ｃ−４）に示すマスクパターンには画素７０３、７０４、７０９、７１４の４つの画素に「０１」のコード値が割り当てられている。すなわち、図２１（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示す４つのマスクパターンには、「０１」のコード値に対応する記録許容画素が４つずつ配置されている。

同様に、図２１（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターンには、「１０」のコード値に対応する記録許容画素も互いに同じ数となるように配置されている。更に、図２１（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターンには、「１１」のコード値に対応する記録許容画素もまた互いに同じ数となるように配置されている。

なお、ここでは各マスクパターンにおける「０１」、「１０」、「１１」それぞれにコード値に対応する記録許容画素がそれぞれ互いに同じ数だけ配置されている場合について記載していたが、実際には互いにほぼ同じ数だけ配置されていれば良い。

これにより、図２１（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターンを用いて多値データを４回の走査に分配して記録データを生成する際に、４回の走査それぞれにおける記録率を互いにほぼ等しくすることができる。

図２１（ｄ−１）〜（ｄ−４）のそれぞれは、図２１（ｂ）に示す多値データに対して図２１（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターンを適用して生成される記録データを示す図である。

例えば、図２１（ｄ−１）に示す１回目の走査に対応する記録データにおける画素７００では、多値データの画素値は「１１」、マスクパターンのコード値は「１１」である。そのため、図７に示すデコードテーブルを参照してわかるように、画素７００ではインクの吐出（「１」）が定められる。また、画素７０１では、多値データの画素値は「１０」、マスクパターンのコード値は「１０」であるため、インクの吐出（「１」）が定められる。また、画素７０４では、多値データの画素値は「１１」、マスクパターンのコード値は「００」であるため、インクの非吐出（「０」）が定められる。

このようにして生成された図２１（ｄ−１）〜（ｄ−４）それぞれに示す記録データにしたがって１〜４回目の走査にてインクが吐出される。例えば、１回目の走査では図２１（ｄ−１）に示す記録データからわかるように、画素７００、７０１、７０５、７０８、７１０、７１２に対応する記録媒体上の画素領域にインクが吐出される。

図２１（ｅ）は図２１（ｄ−１）〜（ｄ−４）それぞれに示す記録データの論理和を示す図である。図２１（ｄ−１）〜（ｄ−４）それぞれに示す記録データにしたがってインクを吐出することにより、各画素に対応する画素領域には図２１（ｅ）に示す回数だけインクが吐出されることになる。

例えば、画素７００においては、図２１（ｄ−１）、（ｄ−２）、（ｄ−３）に示す１、２、３回目の走査に対応する記録データにおいてインクの吐出が定められている。したがって、図２１（ｅ）に示すように、画素７００に対応する画素領域に対しては合計で３回インクが吐出されることになる。

また、画素７０１においては、図２１（ｄ−１）、（ｄ−４）に示す１、４回目の走査に対応する記録データにおいてインクの吐出が定められている。したがって、図２１（ｅ）に示すように、画素７０１に対応する画素領域に対しては合計で２回インクが吐出されることになる。

図２１（ｅ）に示す記録データと図２１（ｂ）に示す多値データを比較すると、いずれの画素においても多値データの画素値に対応する吐出回数だけインクが吐出されるように記録データが生成されることがわかる。例えば、画素７００、７０５、７０８、７１２では図２１（ｂ）に示す多値データの画素値は「１１」であるが、生成された記録データの論理和により示されるインクの吐出回数も３回となる。

以上の構成によれば、複数ビットの情報を有する多値データおよびマスクパターンに基づいて、複数回の走査それぞれで用いる１ビットの記録データを生成することが可能となる。

本実施形態において実際に用いるマスクパターンを図２３を参照しながら詳細に説明する。

図２３（ａ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する１回目の走査に対応するマスクパターン９１を示す模式図である。また、図２３（ａ２）はマスクパターン９１のうちの一部の領域９１ａの拡大図である。

また、図２３（ｂ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する２回目の走査に対応するマスクパターン９２を示す模式図である。また、図２３（ｂ２）はマスクパターン９２のうちの一部の領域９２ａの拡大図である。

また、図２３（ｃ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する３回目の走査に対応するマスクパターン９３を示す模式図である。また、図２３（ｃ２）はマスクパターン９３のうちの一部の領域９３ａの拡大図である。

また、図２３（ｄ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する４回目の走査に対応するマスクパターン９４を示す模式図である。また、図２３（ｄ２）はマスクパターン９４のうちの一部の領域９４ａの拡大図である。

図２３（ａ１）、（ｂ１）、（ｃ１）、（ｄ１）に示すように、本実施形態で用いるマスクパターン９１〜９４は、それぞれＸ方向に１２８画素、Ｙ方向に１２８画素の大きさを有している。これは、本実施形態で用いる図２０に示すディザパターン９０の大きさと同じである。これらの１２８×１２８個の画素のそれぞれに対し、図２３（ａ２）、（ｂ２）、（ｃ２）、（ｄ２）の拡大図に示すように、それぞれの画素に対する記録の許容回数を示す情報（コード値）が定められている。それぞれの画素に対するコード値（「００」、「０１」、「１０」、「１１」）は、上述と同様の定義であり、図２２に示すデコードテーブルに示すようなインクの吐出の許容回数に対応している。

ここで、図２３に示すマスクパターン９１〜９４は、互いに補完的且つ排他的な位置に記録許容画素が配置されている。すなわち、各画素に対し、４つのマスクパターン９１〜９４のうちのいずれか１つのマスクパターンでは０回のインクの吐出の許容が定められ（「００」）、いずれか１つのマスクパターンでは１回のインクの吐出の許容が定められ（「０１」）、いずれか１つのマスクパターンでは２回のインクの吐出の許容が定められ（「１０」）、いずれか１つのマスクパターンでは３回のインクの吐出の許容が定められている（「１１」）。

これにより、例えばマスクパターン９１〜９４と対応する１２８×１２８個の画素のすべてに対して１回のインクの吐出を定めた量子化データが入力された場合、それぞれの画素領域に対して１〜４回目の走査のうちのいずれか１回の走査においてインクを吐出することが可能となる。また、マスクパターン９１〜９４と対応する１２８×１２８個の画素のすべてに対して２回のインクの吐出を定めた量子化データが入力された場合、それぞれの画素領域に対して１〜４回目の走査のうちのいずれか２回の走査においてインクを吐出することが可能となる。また、マスクパターン９１〜９４と対応する１２８×１２８個の画素のすべてに対して３回のインクの吐出を定めた量子化データが入力された場合、それぞれの画素領域に対して１〜４回目の走査のうちのいずれか３回の走査においてインクを吐出することが可能となる。

また、図２３に示すマスクパターン９１〜９４は、「０１」のコード値が定められた画素の数が互いにほぼ同じ数となるように定められている。これにより、例えばマスクパターン８１〜８４と対応する１２８×１２８個の画素のすべてに対して１回のインクの吐出を定めた量子化データ（画素値が「０１」）が入力された場合、１〜４回目の走査それぞれにおけるインクの吐出回数をほぼ同じ回数とすることができる。同様にして、「１０」のコード値が定められた画素の数も互いにほぼ同じ数となるように定められている。更に、「１１」のコード値が定められた画素の数も互いにほぼ同じ数となるように定められている。

なお、上記のマスクパターンは本実施形態を適用できるマスクパターンのうちの一例であり、他の要素を鑑みて適宜異なるマスクパターンを設定することができる。

（ディザパターンとマスクパターンの同期）
本実施形態では、図１９に示したディザパターン９０と、図２３に示したマスクパターン９１〜９４と、を用いて記録データを生成する。ここで、第１から第３の実施形態と同様に、ディザパターン９０とマスクパターン９１〜９４のそれぞれは、互いに対応付けて定められている。

詳細には、本実施形態では、２５％の階調値である６４（＝２５６×０．２５）の階調値を定める多値データに対してディザパターン９０を用いて量子化し、生成された量子化データをマスクパターン９１を用いて１回目の走査に分配した場合、生成された１回目の走査に対応する記録データが示すインクの吐出を定めた画素の分散性がある程度高くなるように、ディザパターン９０とマスクパターン９１が互いに対応付けられて定められている。すなわち、図１（ｂ−１）に示したようなインクの吐出を定めた画素に空間的な偏りが目立つような記録データではなく、図１（ｃ−１）に示したようなインクの吐出を定めた画素が空間的に均等に生じるような記録データを生成できるように、ディザパターン９０とマスクパターン９１が定められている。

更に、本実施形態では、５０％の階調値である１２８（＝２５６×０．５）の階調値を定める多値データ、７５％の階調値である１９２（＝２５６×０．７５）の階調値を定める多値データ、１００％の階調値である２５６（＝２５６×１）の階調値を定める多値データのそれぞれが入力された場合においても同様に、生成された１回目の走査に対応する記録データが示すインクの吐出を定めた画素の分散性がある程度高くなるように、ディザパターン９０とマスクパターン９１が互いに対応付けられて定められている。

また、ここでは１回目の走査に対応するマスクパターン９１とディザパターン９０の同期について説明したが、２回目の走査に対応するマスクパターン９２、３回目の走査に対応するマスクパターン９３、４回目の走査に対応するマスクパターン９４のそれぞれについても同様にして、ディザパターン９０との同期が行われている。

したがって、本実施形態で用いるディザパターン９０と、マスクパターン９１〜９４のそれぞれと、は、２５％、５０％、７５％、１００％の各階調において互いに対応付けて定められていることとなる。

以上記載したようなディザパターン９０およびマスクパターン９１〜９４を用いる場合であっても、第１から第３の実施形態に記載したような効果を得ることができる。すなわち、マスクパターンを分割してマスクパターン部分を生成し、ディザパターン９０内の一部の領域を用い、他部の領域を用いずに量子化された量子化データに対して当該一部の領域に対応するマスクパターン部分を適用することにより、ディザパターン設定時の自由度を低下させることなく、分散性の高い記録データを生成することが可能となる。

以上に説明した各実施形態では、ディザパターンのＹ方向における長さが、１２８画素×１２８画素サイズと記録媒体を搬送する搬送量よりも小さい場合について記載したが、他の形態による実施も可能である。例えば、２５６画素×２５６画素、５１２画素×５１２画素の様に搬送量よりも大きくしても良い。

また、以上に説明した各実施形態のマスクパターンは、ディザパターンと同じ１２８画素×１２８画素の大きさを有する形態について記載したが、他の形態による実施も可能である。例えば、マスクパターンの大きさがディザパターンに比べてＸ方向にｐ倍、Ｙ方向にｑ倍（ｐ、ｑは整数）の大きさを有するものであっても良い。

また、以上に説明した各実施形態では、量子化パターンとして多値データの階調値に応じてインクの吐出／非吐出を定めたディザパターンまたは多値データの階調値に応じてインクの吐出回数を定めたディザパターンを用いる形態について記載したが、他の形態による実施も可能である。例えば、多値データの階調値に応じてインクを吐出する数および位置を定めたドット配置パターンを量子化パターンとして用いるような形態であっても良い。

また、以上に説明した各実施形態では、量子化データのうちのディザパターンのすべての領域を用いて量子化が実行された領域に対してはマスクパターン部分ではなくマスクパターンを用いて分配処理を行う形態について記載したが、他の形態による実施も可能である。例えば、量子化データのうちのディザパターンのすべての領域を用いて量子化が実行された領域であっても、対応するマスクパターン部分を複数適用することにより分配処理を実行するような形態であっても良い。

また、各実施形態には画像記録装置を用いた画像記録方法について記載したが、各実施形態に記載の画像記録方法を行うためのデータを生成する画像処理装置または画像処理方法、プログラムを画像記録装置とは別体に用意する形態にも適用できる。また、画像記録装置の一部に備える形態にも広く適用できることは言うまでもない。

３ 記録媒体
７ 記録ヘッド
２２ 吐出口列
８０、９０ ディザパターン
８１〜８４、９１〜９４ マスクパターン
３０２ ＲＯＭ

Claims (19)

1. インクを吐出するための複数の吐出口が所定方向に配列された吐出口列を有する記録ヘッドを用い、前記記録ヘッドの記録媒体上の単位領域に対する前記所定方向と交差する交差方向への複数回の相対的な走査のそれぞれにおける前記単位領域内の複数の画素相当の複数の画素領域それぞれに対するインクの吐出または非吐出を定めた、前記複数回の走査それぞれに対応する記録データを生成する画像処理装置であって、
   前記単位領域に記録する画像に対応する多値データを取得する取得手段と、
   前記記録媒体上の所定領域に対応する量子化パターンを用いて前記取得手段によって取得された前記多値データを量子化することにより、量子化データを生成する量子化手段と、
   前記複数回の走査に対応する複数のマスクパターンを用いて前記量子化手段により生成された前記量子化データを前記複数回の走査それぞれに分配することにより、前記記録データを生成する分配手段と、を有し、
   前記量子化パターンと、前記複数のマスクパターンのそれぞれと、は互いに対応付けて定められたものであり、
   前記複数のマスクパターンのそれぞれは、それぞれ前記所定方向における幅が前記マスクパターンよりも小さい複数のマスクパターン部分によって構成され、
   前記分配手段は、前記量子化手段によって生成された前記量子化データのうち、前記量子化パターン内の一部の領域を用い、且つ、前記量子化パターン内の他部の領域を用いずに量子化された領域に対しては、当該一部の領域と対応する複数の前記マスクパターン部分のそれぞれを適用することを特徴とする画像処理装置。
2. 前記分配手段は、前記量子化データのうち、前記量子化パターン内のすべての領域を用いて量子化された領域に対しては、前記複数のマスクパターンのそれぞれを適用することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
3. 前記量子化パターンが対応する前記所定方向における幅は、前記単位領域の前記所定方向における幅よりも小さいことを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
4. 前記量子化手段は、前記多値データに対して前記量子化パターンを前記所定方向に複数回適用することにより、前記多値データを量子化することを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
5. 前記量子化データは、前記単位領域内の前記複数の画素領域それぞれに対するインクの吐出または非吐出を定める１ビットの情報により表され、
   前記量子化パターンは、前記所定領域内の前記複数の画素領域のそれぞれに対するインクの吐出または非吐出を定めるための閾値が前記複数の画素それぞれに対して定められ、
   前記複数のマスクパターンのそれぞれは、前記所定領域内の前記複数の画素領域それぞれに対するインクの吐出の許容または非許容が前記複数の画素それぞれに対して定められていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
6. 前記複数のマスクパターンのうちの前記所定方向において互いに同じ位置に対応する複数の前記マスクパターン部分には、前記インクの吐出の許容が定められた画素が互いに排他的且つ補完的に配置されていることを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
7. 前記量子化データは、前記単位領域内の前記複数の画素領域それぞれに対するインクの吐出回数に関するｎ（ｎ≧２）ビットの情報により表され、
   前記量子化パターンは、前記所定領域内の前記複数の画素領域のそれぞれに対するインクの吐出回数を定めるための閾値が前記複数の画素それぞれに対して定められ、
   前記マスクパターンのそれぞれは、前記所定領域内の前記複数の画素領域それぞれに対するインクの吐出の許容回数が前記複数の画素それぞれに対して定められていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
8. 前記複数のマスクパターンのうちの前記所定方向において互いに同じ位置に対応する複数の前記マスクパターン部分には、前記インクの吐出の許容回数として所定の回数が定められた画素が互いに排他的且つ補完的に配置されていることを特徴とする請求項７に記載の画像処理装置。
9. 前記記録ヘッドの前記複数回の走査の間に前記記録媒体を前記所定方向に搬送する搬送手段を更に有することを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の画像処理装置。
10. 前記搬送手段は、前記マスクパターン部分の前記所定方向における幅の整数倍と対応する距離だけ前記記録媒体を搬送することを特徴とする請求項９に記載の画像処理装置。
11. 前記搬送手段は、前記記録媒体上における前記単位領域の前記所定方向における位置に応じて搬送量を異ならせて前記記録媒体を搬送することを特徴とする請求項９または１０に記載の画像処理装置。
12. 前記搬送手段は、前記単位領域が前記記録媒体上の前記所定方向における中央部に位置する場合、第１の搬送量で前記記録媒体を搬送し、前記単位領域が前記記録媒体上の前記所定方向における端部に位置する場合、前記第１の搬送量よりも短い第２の搬送量で前記記録媒体を搬送することを特徴とする請求項１１に記載の画像処理装置。
13. 前記単位領域に対する複数回の走査のうちの最初の走査に対応する第１の前記マスクパターン内の前記所定方向における第１の位置に対応する第１のマスクパターン部分と、前記所定方向において前記第１の位置よりも上流側の第２の位置に対応する第２のマスクパターン部分と、前記単位領域に対する複数回の走査のうちの最後の走査に対応する第２の前記マスクパターン内の前記所定方向における前記第１の位置に対応する第３のマスクパターン部分と、前記所定方向における前記第２の位置に対応する第４のマスクパターン部分と、に関し、
    前記第２のマスクパターン部分における記録許容比率は、前記第１のマスクパターン部分における記録許容比率も小さく、
    前記第３のマスクパターン部分における記録許容比率は、前記第４のマスクパターン部分における記録許容比率よりも小さいことを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の画像処理装置。
14. 前記第２のマスクパターン部分における記録許容比率は、前記第４のマスクパターン部分における記録許容比率よりも小さく、
    前記第３のマスクパターン部分における記録許容比率は、前記第１のマスクパターン部分における記録許容比率よりも小さいことを特徴とする請求項１３に記載の画像処理装置。
15. 前記取得手段によって取得された前記多値データが第１の値である場合に前記量子化手段によって生成される量子化データと、前記複数のマスクパターンのうちの所定のマスクパターンと、に基づいて前記分配手段によって生成される記録データに基づくドットの配置がホワイトノイズ特性とならないように、前記量子化パターンと、前記所定のマスクパターンと、が定められていることを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
16. 前記取得手段によって取得された前記多値データが前記第１の値と異なる第２の値である場合に前記量子化手段によって生成される量子化データと、前記所定のマスクパターンと、に基づいて前記分配手段によって生成される記録データに基づくドットの配置がホワイトノイズ特性とならないように、前記量子化パターンと、前記所定のマスクパターンと、が定められていることを特徴とする請求項１５に記載の画像処理装置。
17. 前記記録ヘッドを更に有することを特徴とする請求項１から１６のいずれか１項に記載の画像処理装置。
18. インクを吐出するための複数の吐出口が所定方向に配列された吐出口列を有する記録ヘッドを用い、前記記録ヘッドの記録媒体上の単位領域に対する前記所定方向と交差する交差方向への複数回の相対的な走査のそれぞれにおける前記単位領域内の複数の画素相当の複数の画素領域それぞれに対するインクの吐出または非吐出を定めた、前記複数回の走査それぞれに対応する記録データを生成する画像処理装置であって、
    前記記録媒体上の所定領域に対応する量子化パターンを用いて量子化手段によって前記単位領域に記録する画像に対応する多値データを量子化することによって得られた量子化データを取得する取得手段と、
    前記複数回の走査に対応する複数のマスクパターンを用いて前記取得手段により取得された前記量子化データを前記複数回の走査それぞれに分配することにより、前記記録データを生成する分配手段と、を有し、
    前記量子化パターンと、前記複数のマスクパターンのそれぞれと、は互いに対応付けて定められたものであり、
    前記複数のマスクパターンのそれぞれは、それぞれ前記所定方向における幅が前記マスクパターンよりも小さい複数のマスクパターン部分によって構成され、
    前記分配手段は、前記量子化手段によって生成された前記量子化データのうち、前記量子化パターン内の一部の領域を用い、且つ、前記量子化パターン内の他部の領域を用いずに量子化された領域に対しては、当該一部の領域と対応する複数の前記マスクパターン部分のそれぞれを適用することを特徴とする画像処理装置。
19. インクを吐出するための複数の吐出口が所定方向に配列された吐出口列を有する記録ヘッドを用い、前記記録ヘッドの記録媒体上の単位領域に対する前記所定方向と交差する交差方向への複数回の相対的な走査のそれぞれにおける前記単位領域内の複数の画素相当の複数の画素領域それぞれに対するインクの吐出または非吐出を定めた、前記複数回の走査それぞれに対応する記録データを生成する画像処理方法であって、
    前記単位領域に記録する画像に対応する多値データを取得し、
    前記記録媒体上の所定領域に対応する量子化パターンを用い、取得された前記多値データを量子化することにより、量子化データを生成し、
    前記複数回の走査に対応する複数のマスクパターンを用い、生成された前記量子化データを前記複数回の走査それぞれに分配することにより、前記記録データを生成し、
    前記量子化パターンと、前記複数のマスクパターンのそれぞれと、は互いに対応付けて定められており、
    前記複数のマスクパターンのそれぞれは、それぞれ前記所定方向における幅が前記マスクパターンよりも小さい複数のマスクパターン部分によって構成され、
    生成された前記量子化データのうち、前記量子化パターン内の一部の領域を用い、且つ、前記量子化パターン内の他部の領域を用いずに量子化された領域に対しては、当該一部の領域と対応する複数の前記マスクパターン部分のそれぞれを適用することを特徴とする画像処理方法。