JP6491419B2 - ハウジングおよびこれを備えた砥液供給ユニット並びに基板処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、砥液供給ユニットのハウジングに係り、特に、ＣＭＰユニットへ砥液を供給する配管供給部品を収容するためのハウジングに関する。

半導体ウェハなどの基板に対して各種処理を行うために、基板処理装置が用いられている。基板処理装置の一例としては、基板の表面の研磨処理を行うためのＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）装置が挙げられる。

ＣＭＰ装置は、基板の研磨処理を行うための研磨ユニット、基板の洗浄処理及び乾燥処理を行うための洗浄ユニット、研磨ユニットへ基板を受け渡すと共に洗浄ユニットによって洗浄処理及び乾燥処理された基板を受け取るロード／アンロードユニットなどを備える。また、ＣＭＰ装置は、研磨ユニット、洗浄ユニット、及びロード／アンロードユニット内で基板の搬送を行う搬送ユニットを備えている。ＣＭＰ装置は、搬送ユニットによって基板を搬送しながら研磨、洗浄、及び乾燥の各種処理を順次行う。

研磨ユニットは、表面に研磨パッドが貼り付けられた回転可能な研磨テーブルと、この研磨テーブルに対向して半導体ウェハを保持する基板保持手段を有している。実際に半導体ウェハを研磨する際には、研磨パッド上に砥液が供給され、半導体ウェハと研磨パッドの間に砥液が存在する状態で研磨処理が行われる。このため、基板処理装置には砥液供給ユニットが内蔵されるか、或いは併設されている。

図１０は、従来の研磨システム（基板処理装置）１０１を示すブロック図である（特許文献１の図１参照）。この研磨システム１０１は、２つの研磨装置１０４と、これらの研磨装置１０４に砥液を供給する砥液供給装置１０３を備えている。砥液供給装置１０３は、原液を収容する原液タンク１１０と、これを所定の濃度に薄めるための希釈液を貯留する希釈液タンク１１２の２つの供給源と、これらの供給源から配管１１４，１１６を介して供給される原料を合流させて所定濃度の砥液とする混合部１１８とからなる。

特開平１１−１３８４３８号公報

ところで、上述したように、従来の砥液供給装置１０３は砥液供給部品を具備している。このため、それぞれの砥液供給部品が接続される接続部も多数となる。これらの接続部は、砥液が漏洩しないように適切に接続されていることが大前提である。しかしながら、接続部の数が多ければ、接続不良などにより接続部から砥液が漏洩する場合がある。また、長期間の使用によって接続部のシールが劣化して砥液が漏洩する場合もある。一般的に、砥液供給装置は、砥液供給部品をハウジングで収容している場合が多く、砥液が漏洩した場合にはハウジング内に砥液が残留してしまうことがあった。

漏洩した砥液をハウジングの外部に排出するためのドレイン配管を備える砥液供給装置も存在はしているが、砥液を排出するための積極的な工夫はなされていなかった。また、砥液が確実に排出されない場合、長期間の残留によって砥液が乾燥・固着・滞積してしまい、復旧作業に手間がかかってしまっていた。

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、砥液供給ユニット内に漏洩した砥液を確実に排出でき、復旧時の作業を最小限にすることができるハウジングを提供することを目的の一つとしている。なお、上述の解決すべき課題は一例であって、本発明によってその他の課題を同時に解決できる可能性があることは言うまでもないことである。このため、本発明は、上述の課題によって限定解釈されるべきではない。

第１手段は、砥液供給部品を収容するハウジングであって、このハウジング内部の底面の少なくとも一部は傾斜面であり、この底面の最も低い部位の近傍に少なくとも１つのドレイン配管が設けられている、という構成を採っている。このような構成を採ることで、ハウジング内で砥液の漏洩が発生した場合には、砥液は底面の傾斜面に沿って下方へ流れ落ちる。このため、水平な底面の場合と比較して、砥液が残留しにくく、迅速に砥液がハウジングの外部に排出される。特に、ドレイン配管が底面板の最も低い部位の近傍に設けられていることから、漏洩した砥液の全て或いは大部分を排出することができる。

第２手段は、第１手段の構成に加え、底面は、全面がドレイン配管に向けて砥液を流す傾斜面である、という構成を採っている。

第３手段は、第１手段又は第２手段の構成に加え、底面の少なくとも一部は、親水性又は撥水性のコーティングが施されている、という構成を採っている。

第４手段は、第１手段から第３手段のいずれかの構成に加え、底面は、異なる傾斜方向及び／又は異なる傾斜角度を有する複数の傾斜面の組み合わせを含む、という構成を採っている。

第５手段は、第１手段から第４手段の何れかの構成に加え、底面のうち最も高い位置の近傍に、洗浄水を放出する洗浄水供給機構が設けられている、という構成を採っている。

第６手段は、第１手段から第５手段の何れかの構成に加え、ハウジング内に、砥液の漏洩を検知する砥液漏洩センサを備える、という構成を採っている。

第７手段は、第１手段から第６手段の何れかのハウジングと、このハウジング内に収容される砥液供給部品とを備える砥液供給ユニット、という構成を採っている。

第８手段は、第７手段の構成に加え、砥液供給部品は、砥液供給手動バルブ、フィルタ、流量調整器、砥液供給バルブの少なくとも１つを含む、という構成を採っている。

第９手段は、第７手段又は第８手段の砥液供給ユニットと、研磨ユニットとを備えた、基板処理装置、という構成を採っている。

本発明の一実施形態に係る砥液供給ユニットの外観の斜視図である。 図１に開示した砥液供給ユニットにおいて、側面の一部と天面を仮想的に透明化した場合の斜視図である。 図２に開示した砥液供給ユニットから砥液供給部品を取り除いた場合の斜視図である。 図３に開示された第１の底面板を示す図であり、図４（Ａ）は斜視図であり、図４（Ｂ）は図４（Ａ）のＢ方向から見た図であり、図４（Ｃ）は図４（Ａ）のＣ方向から見た図である。 図３に開示された第２の底面板を示す図であり、図５（Ａ）は斜視図であり、図５（Ｂ）は図５（Ａ）のＢ方向から見た図であり、図５（Ｃ）は図５（Ａ）のＣ方向から見た図である。 図２とは逆の方向から見た場合の砥液供給ユニットの斜視図である。 図６に開示された洗浄水供給機構を示す拡大斜視図である。 図７に開示した洗浄水供給機構を含むハウジングを示す斜視図である。 砥液供給ユニットとその他の構成要素を示すブロック図である。 従来の砥液供給装置を含む基板処理装置を示すブロック図である。

以下に、添付図面を参照しながら、本発明の一実施形態について説明する。なお、以下に説明する個別の構成要素を任意に組み合わせた発明についても、本発明が対象とする技術思想に含まれるものである。

［全体概要］
本実施形態は、砥液供給ユニットであって、各種の砥液供給部品と、この砥液供給部品を収容するハウジングとを備えている。そして、このハウジングの内部の底面の少なくとも一部は傾斜面であり、この底面の最も低い部位の近傍に少なくとも１つのドレイン配管が設けられている。

具体的には、図１に示すように、ハウジング３は箱状に形成されており、外部から砥液を取り込むための砥液取込口２１と、研磨ユニット（図示略）へ砥液を供給するための砥液供給出口２３と、ハウジング３内で漏洩した砥液を外部に排出するためのドレイン配管２５がそれぞれ設けられている。本実施形態では、砥液取込口２１はハウジング３の所定部位の下面に設けられ、砥液供給出口２３はハウジング３の上面に設けられている。また、ドレイン配管２５はハウジング３の側面に設けられ、砥液の排出及び排出停止を切り替える切替バルブ２５ａが接続されている。なお、上述のハウジング３の形状や、砥液取込口２１、砥液供給出口２３、ドレイン配管２５の設置位置は一例であって、上述の位置に限定されるものではない。

ハウジング３の側面と天面は、概ね２つの主要部５、７に分かれている。一方の主要部５（図１における手前側）は、ハッチ部分となっており、取っ手５ａを引くことで蝶番５ｂを中心に回動して、作業者がハウジングの内部へアクセスするのを可能としている。本実施形態では、手前側の側面の下方に２つの蝶番５ｂが連結され、一方、取っ手５ａは同側面の上部に設けられている。ハウジング３の他方の主要部７（図１における奥側）は固定されており、上述した砥液供給出口２３が上面に設置されている。

図２は、砥液供給ユニット１の内部が見えるように、ハウジング３の手前の２つの側面と天面を仮想的に透明化した図である。この図に示すように、砥液取込口２１は外部の砥液供給源（図示略）から延びる砥液配管９を受け入れている。そして砥液配管９はハウジング３の内部の砥液供給部品に接続される。具体的には、砥液配管９は砥液配管接続部１１に接続される。砥液配管接続部１１は略直角に曲がっており、砥液供給手動バルブ１３に接続されている。

砥液供給手動バルブ１３は、作業者が操作することで、砥液の供給と停止を手動で切り替えるためのものである。具体的には、砥液供給手動バルブ１３の上部にはレバー１３ａが設置されており、このレバー１３ａを一方側に倒すことで砥液供給を停止し、他方側に倒すことで砥液供給を開始することができる。このような手動の操作を可能とするために
、上述したハウジング３の一方の主要部５が開放できるようになっているのである。なお、砥液配管接続部１１と砥液供給手動バルブ１３の間に、所定のフィルタを設けることが望ましい。これは、砥液供給源から取り込まれる砥液に異物などが含まれている可能性があるからである。

砥液供給手動バルブ１３には、所定の配管を介して砥液供給バルブ１５が接続されている。この砥液供給バルブ１５は、図示しない制御部からの指令に応じて、砥液の供給を制御するものである。本実施形態の砥液供給ユニット１は、３系統の砥液供給部品を有しており、それぞれの系統の砥液供給部品に砥液供給バルブ１５が接続されている。このため、制御部は各砥液供給バルブ１５を制御して、どの系統の砥液供給部品にどのようなタイミングで砥液を供給するかを制御することが可能である。また、砥液供給バルブ１５には、流量調整器を設けることが望ましい。なぜなら、砥液の供給量を制御したい場合に、例えば砥液の供給と停止を切り替えて行う手法では、砥液供給の際に脈動が生じてしまうからである。但し、砥液供給バルブ１５が、開度を連続的に調整できる形式のものであれば、個別に流量調整器を設ける必要はない。

それぞれの砥液供給バルブ１５の下流側には砥液供給ライン１７が接続されており、これらの砥液供給ライン１７が束ねられて、砥液供給出口２３から外部に引き出される。そして、各砥液供給ライン１７は、図示しない研磨ユニットまで延設されている。なお、本実施形態では、３系統の砥液供給部品を有しているが、これは一例であって、本発明はこれに限定されるものではない。このため、１系統だけの配管であっても良いし、４系統以上の配管を設けてもよい。

図３は、ハウジング３から主な砥液供給部品を取り外した状態を示す図である。この図に示すように、本実施形態のハウジング３は、全体として段付きの２つの底面からなる。そして、高い方（奥側）の底面（以下「第１の底面板１８」という）は砥液供給手動バルブ１３と砥液供給バルブ１５が設置され、低い方（手前側）の底面（以下、「第２の底面板１９」という）は、上述の砥液配管接続部１１が設置される部分である。なお、このような段付き構造の底面はあくまでも一例であって、段差を設けずに全ての底面をほぼ同一面としてもよい。

また、図３に示すように、光学式砥液漏洩センサ２０がドレイン配管２５の近傍に設けられている。これは、砥液の漏洩が発生した場合、最も低い位置には確実に砥液が到達するからである。この砥液漏洩センサ２０は、第２の底面板１９の表面の色が砥液によって変化したことを検知して、砥液の漏洩を検出できるようになっている。

光学式砥液漏洩センサ２０で砥液の漏洩が検出されると、図示しない制御部がプロセスインターロックの指令を出力する。プロセスインターロックとは、基板処理装置への新規の半導体ウェハの投入を禁止する処理である。光学式砥液漏洩センサ２０は、僅かな量の砥液でも検出できる可能性が高く、早い段階で砥液漏洩を検出することができる。また、光学式砥液漏洩センサ２０の他に、フロート式砥液漏洩センサ２２も設けられている。フロート式砥液漏洩センサ２２は、第２の底面板１９の表面に設けられ、砥液の漏洩及び滞留の進行に伴って、フロートが浮き上がることで砥液漏洩を検出する。このため、僅かな砥液漏洩は検出できないが、大量の砥液が漏洩した場合にこれを検出できる。フロート式砥液漏洩センサ２２が砥液漏洩を検出した場合には、制御部が故障表示指令を出力すると共に、砥液供給を停止して基板処理装置も完全に停止させる。

図４は、第１の底面板１８を説明する図である。図４（Ａ）に示すように、第１の底面板１８は段付き構造であって、奥側が高い部位１８ａで手前側が低い部位１８ｂで構成されている。但し、この第１の底面板１８は段付き構造ではなく、略同一面状に形成しても
よい。第１の底面板１８に形成されている傾斜について、図４（Ｂ）及び図４（Ｃ）を参照しながら説明する。図４（Ｂ）は、図４（Ａ）のＢ方向から第１の底面板１８を見た図である。この図に示すように、第１の底面板１８は、左側が高く右側が低くなっている。段付き構造の高い部位１８ａは、左側から右側に向かって２〜３°程度降下する傾斜面となっており、低い部位１８ｂも左側から右側に向かって２〜３°程度降下する傾斜面となっている。このため、第１の底面板１８の表面に落ちた砥液は、左側から右側に向かって流れる。

図４（Ｃ）は、図４（Ａ）のＣ方向から第１の底面板１８を見た図である。この図に示すように、低い部位１８ｂは右側から左側に向かって２〜３°程度降下する傾斜面となっている。このように、第１の天面板１８の低い部位１８ｂは、図４（Ａ）において左奥側から右手前側に向かって降下する傾斜と、右奥側から左手前側に向かって降下する傾斜の組み合わせによって、低い部位１８ｂ対角線方向に降下する傾斜面となる（図４（Ａ）の太い矢印）。従って、漏洩した砥液は、この傾斜面に沿って流れることとなる。本実施形態の底面の傾斜角は２〜３°程度であるが、本発明はこれに限定されるものではなく、１°程度の傾斜角でもよいし、３°を超える傾斜角であってもよい。

次に、図５に基づいて第２の底面板１９について説明する。ここで、図５（Ａ）は第２の底面板１９の全体斜視図であり、図５（Ｂ）は図５（Ａ）のＢ方向から見た図であり、図５（Ｃ）は図５（Ａ）のＣ方向から見た図である。図５（Ａ）に示すように、第２の底面板１９には、左手前側から右奥側に向かって（長手方向に沿って）降下するような傾斜面が設けられている。但し、最も奥側の部分には、左右（短手方向）に分かれて逆傾斜の傾斜面１９ａ，１９ｂが設けられており、これらの傾斜面１９ａ，１９ｂの間にドレイン配管２５が設けられるようになっている。本実施形態においては、第２の底面板１９の短手方向の中央ではなく、右寄りの位置に最も低い部位が設けられている。また、第２の底面板１９の傾斜角度は第１の底面板１８と同様に２〜３°程度であるが、本発明はこれに限定されるものではなく、１°程度の傾斜角でもよいし、３°を超える傾斜角であってもよい。

また、図５（Ｂ）によれば、第２の底面板１９の長手方向の傾斜の状態がより明確に分かる。すなわち、傾斜面は左側から右側に向かって降下している。そして、右端部において逆傾斜の傾斜面１９ｂ（１９ａ）が示されている。この逆傾斜の傾斜面１９ｂ（１９ａ）は、漏洩した砥液を第２の底面板１９の幅方向の中央領域に向けて導くためのものである。このため、仮に逆傾斜の傾斜面１９ｂ（１９ａ）に砥液が落ちた場合でも、図５（Ａ）中の細く短い矢印に示すように、その砥液は傾斜面１９ａ，１９ｂに沿って流れ落ち、砥液の主要な流れに合流して最終的にドレイン配管２５に集まる。また、図５（Ｃ）に示すように、図５（Ａ）のＣ方向から見ると、２つの逆傾斜の傾斜面１９ａ，１９ｂの間が最も低い部位となっており、この部位にドレイン配管２５が配置されている。

上述の第１及び第２の底面板１８，１９の表面は、親水性又は撥水性のコーティングが施されている。親水性コーティングを施すことで、小さな傾斜角度であっても、確実に砥液を低い方に流すことができるからである。一方、撥水性コーティングを施した場合は、所定値以上の傾斜角度があれば砥液を迅速に排出することが可能である。また、砥液の付着を防止することもできる。但し、コーティングは本発明に必須な構成ではなく、通常の表面処理（塗装や防錆加工など）だけでもよい。なお、コーティングはハウジングの底面に限定されるものではなく、ハウジングの内側の側壁面に施してもよい。

以上説明したように、ハウジング３の第１及び第２の底面板１８，１９は、全体が傾斜面となっている。このため、仮にハウジング３内で砥液が漏洩した場合でもあっても、傾斜面によって砥液が最も低い部位に流れ落ち、ハウジング３内に滞留することがない。こ
のため、砥液の漏洩が発生した場合の復旧作業の負担を大きく軽減することができる。なお、第１及び第２の底面板１８，１９の全面を傾斜面にする必要はなく、一部のみを傾斜面としてもよい。

図６は、砥液供給ユニット１を図２の視点とは逆の方向から見た斜視図である。この図に示すように、第１の底面板１８の段差構造の高い部位１８ａの近傍には、洗浄水供給機構３１が設けられている。この設置部位は、ハウジング３内の最も高い位置である。この洗浄水供給機構３１は、水平方向に延びる小径配管の洗浄水ノズル３１ａと、この洗浄水ノズル３１ａに接続されている洗浄水バルブ３１ｂとからなる。そして、洗浄水バルブ３１ｂには、外部の洗浄水源（図示略）が接続されている。洗浄水源は、通常の上水でも良いし、その他の供給源であってもよい。なお、洗浄水バルブ３１ｂは、開閉操作を容易になし得るように、ハウジング３の外部に設置されている。

図７は、洗浄水供給機構３１をハウジング３の内部側から見た斜視図である。この図に示すように、洗浄水供給機構３１の洗浄水ノズル３１ａには、等間隔で吐出用穴３１ｃが形成されている。この吐出用穴３１ｃは略水平方向に穿孔されており、洗浄水を略水平方向に吐出させるようになっている。本実施形態では、５つの吐出用穴３１ｃが形成されている。なお、上述の吐出用穴３１ｃの数や穿孔方向はあくまでも一例であって、これに限定されるものではない。例えば、吐出用穴３１ｃを鉛直下方に向けても良いし、鉛直上方に向けてもよい。あるいは斜め下方や斜め上方に向けてもよい。さらに、より多数の吐出用穴３１ｃを形成してもよいし、穴ではなくスリット状の開口を形成することで、幅広に洗浄水を吐出させるようにしてもよい。

図８は、第１及び第２の底面板１８，１９と洗浄水供給機構３１の全体を示す斜視図である。この図から分かるように、洗浄水供給機構３１から洗浄水が吐出すると、第１の底面板１８の高い部位１８ａに落ちる。そして、砥液を洗い流しながら第１の底面板１８の低い部位１８ｂを対角線方向に流れ落ちる。このため、第１の底面板１８を流れ落ちる洗浄水と砥液は、第２の底面板１９との段差を流れ落ちる。そして、第２の底面板１９に落ちた洗浄液と砥液は、第２の底面板１９の傾斜面によりドレイン配管２５に向かって流れる。ドレイン配管２５は第２の底面板１９の最下部近傍に配置されているので、洗浄液と砥液の混合液体がドレイン配管２５に流れ込み、ハウジング３の外部に排出される。このように、洗浄水供給機構３１を設けることで、砥液がハウジング３の底面に付着していた場合であっても、確実にこれを洗い流すことができる。特に、第１及び第２の底面板１８，１９の傾斜が緩やかな場合には、砥液が第１及び第２の底面板１８，１９の表面に残留することも考えられるが、洗浄水供給機構３１の洗浄水により迅速に砥液を洗浄することができる。このため、砥液の漏洩が発生した場合でも、迅速且つ確実に復旧作業を行うことができる。

図９は、上述した砥液供給ユニット１とその他の構成要素を示すブロック図である。この図において、砥液や洗浄液の物理的な流れは太い線で示しており、信号の流れは細い線で示している。砥液供給ユニット１の砥液取込口２１には、ポンプ５１を介して砥液供給源５３に接続されている。砥液供給源５３から供給された砥液は、砥液供給接続部１１、砥液供給手動バルブ１３、砥液供給バルブ１５を通り、砥液供給出口２３から研磨ユニット５２へ供給される。光学式砥液漏洩センサ２０とフロート式砥液漏洩センサ２２の出力は制御部５５に送信され、制御部５５では研磨ユニット５２、洗浄液供給機構３１、ポンプ５１などの動作を制御する。
以上説明したように、本発明は以下の形態を有する。
［形態１］
砥液供給部品を収容するハウジングであって、このハウジング内部の底面の少なくとも一部は傾斜面であり、この底面の最も低い部位の近傍に少なくとも１つのドレイン配管が設けられている、ハウジング。
［形態２］
前記底面は、全面が前記ドレイン配管に向けて前記砥液を流す傾斜面である、形態１に記載のハウジング。
［形態３］
前記底面の少なくとも一部は、親水性又は撥水性のコーティングが施されている、形態１又は２に記載のハウジング。
［形態４］
前記底面は、異なる傾斜方向及び/又は異なる傾斜角度を有する複数の傾斜面の組み合わせを含む、形態１から３の何れか一項に記載のハウジング。
［形態５］
前記底面のうち最も高い位置の近傍に、洗浄水を放出する洗浄水供給機構が設けられている、形態１から４の何れか一項に記載のハウジング。
［形態６］
前記ハウジング内に、前記砥液の漏洩を検知する砥液漏洩センサを備える、形態１から５の何れか一項に記載のハウジング。
［形態７］
形態１から６の何れか一項に記載のハウジングと、このハウジング内に収容される砥液供給部品とを備える砥液供給ユニット。
［形態８］
前記砥液供給部品は、砥液供給手動バルブ、フィルタ、流量調整器、砥液供給バルブの少なくとも１つを含む、形態７に記載の砥液供給ユニット。
［形態９］
形態７又は８に記載の砥液供給ユニットと、研磨ユニットとを備えた、基板処理装置。

本発明は、ＣＭＰ装置の研磨ユニットに砥液を供給する砥液供給ユニットにおいて、砥液供給部品を収容するハウジングに利用することが可能である。

１ 砥液供給ユニット
３ ハウジング
５ 一方の主要部
５ａ 取っ手
５ｂ 蝶番
７ 他方の主要部
９ 砥液配管
１１ 砥液配管接続部
１３ 砥液供給手動バルブ
１３ａ レバー
１５ 砥液供給バルブ
１７ 砥液供給ライン
１８ 第１の底面板
１８ａ 高い部位
１８ｂ 低い部位
１９ 第２の底面板
１９ａ，１９ｂ 逆傾斜の傾斜面
２０ 光学式砥液漏洩センサ
２１ 砥液取込口
２２ フロート式砥液漏洩センサ
２３ 砥液供給出口
２５ ドレイン配管
２５ａ 切替バルブ
３１ 洗浄水供給機構
３１ａ 洗浄水ノズル３１ａ
３１ｂ 洗浄水バルブ
３１ｃ 吐出用穴

Claims (8)

1. 砥液供給部品を収容するハウジングであって、このハウジング内部の底面の少なくとも一部は傾斜面であり、この底面の最も低い部位の近傍に少なくとも１つのドレイン配管が設けられており、
   前記底面のうち最も高い位置の近傍に、洗浄水を放出する洗浄水供給機構が設けられている、ハウジング。
2. 前記底面は、全面が前記ドレイン配管に向けて前記砥液を流す傾斜面である、請求項１に記載のハウジング。
3. 前記底面の少なくとも一部は、親水性又は撥水性のコーティングが施されている、請求項１又は２に記載のハウジング。
4. 前記底面は、異なる傾斜方向及び/又は異なる傾斜角度を有する複数の傾斜面の組み合わせを含む、請求項１から３の何れか一項に記載のハウジング。
5. 前記ハウジング内に、前記砥液の漏洩を検知する砥液漏洩センサを備える、請求項１から４の何れか一項に記載のハウジング。
6. 請求項１から５の何れか一項に記載のハウジングと、このハウジング内に収容される砥液供給部品とを備える砥液供給ユニット。
7. 前記砥液供給部品は、砥液供給手動バルブ、フィルタ、流量調整器、砥液供給バルブの少なくとも１つを含む、請求項６に記載の砥液供給ユニット。
8. 請求項６又は７に記載の砥液供給ユニットと、研磨ユニットとを備えた、基板処理装置。