KR102553836B1 - 바닥면 세척 시스템 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 소정의 면적을 가지고 구획되고 일 지점을 향해 경사진 바닥면을 세척하기 위한 시스템으로서, 바닥면의 높이가 가장 높은 곳의 근방에 배치되고, 세척액을 분사하는 복수의 세척액 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 선형의 세척액 분사관; 세척액 분사관보다 바닥면의 높이가 더 높은 곳에 배치되고, 바닥면으로 청정 기체를 분사하는 기체 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 선형의 제1 기체 분사관; 및 세척액 분사관과 일 지점 사이에 배치되고, 일 지점을 향해 비스듬하게 바닥면으로 청정 기체를 분사하는 기체 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 적어도 하나의 선형의 제2 기체 분사관을 구비한다. 본 발명에 따르면, 바닥면을 구석구석 깨끗하고 효율적으로 세척 및 건조할 수 있다.
Description
본 발명은 소정의 면적을 가지고 구획된 바닥면을 세척하는 기술에 관한 것이다.
다종 다량의 케미컬을 사용하는 반도체 공장이나 화학 공장에서는, 원하는 케미컬을 필요로 하는 공정 라인 등으로 공급하고, 폐액을 회수하는 등의 케미컬 공급 설비가 마련되어 있다. 이러한 케미컬 공급 설비에는 배관, 밸브, 피팅, 필터, 펌프 등의 일반적인 배관 설비 이외에도, 케미컬을 원하는 농도로 희석하거나 다른 케미컬과 혼합하는 혼합기, 탱크로리로 운반되어 온 케미컬을 공장 내의 저장 탱크로 이송하기 위한 호스 연결 시스템인 ACQC(Auto Clean Quick Coupler) 유닛, 드럼에 저장된 케미컬을 공장 내의 저장 탱크로 이송하기 위한 드럼 커플러, 공급되는 케미컬을 채취하여 검사하기 위한 샘플링 장비 등 다양한 설비가 포함된다.
한편, 케미컬에는 외부 유출시 인체나 환경에 유해한 것들이 있어 케미컬이 누출될 수 있는 케미컬 공급 설비는 일정한 단위(예컨대, 복수의 밸브나 펌프를 포함하는 밸브실, ACQC 유닛, 샘플링 장비 등)로 묶어 부스나 캐비닛 또는 하우징(이하, '부스'라 통칭한다)의 내부에 설치하는 것이 일반적이다. 이러한 단위 설비가 설치되는 부스는 밀폐되도록 구성되어, 설비에서 케미컬이 누출되더라도 부스 외부로 유출되지 않게 된다. 또한, 부스에는 배수구가 마련되고 부스의 바닥면은 경사지게 형성되어, 누출되어 낙하한 케미컬이 배수구로 배수될 수 있도록 할 수 있다.
그런데, 이와 같이 부스의 바닥면에 낙하한 케미컬은 종류에 따라서는 바로 배수되지 않고 바닥면에 고착되어 원활한 배수를 곤란하게 하거나, 증발하여 케미컬 증기를 발생시키고, 부스의 바닥면이나 부스 내 부품을 오염 또는 부식시키는 등의 문제를 일으키기도 한다. 따라서, 부스 내부는 정기적 또는 비정기적으로 세척할 필요가 있는데, 이러한 세척 작업은 작업자가 수동으로 하거나, 자동화하더라도 부스 내부 상부에서 세척액을 분사하는 정도라서 구석구석 깨끗하게 세척되지 않는다는 문제가 있다.
본 발명은 이러한 실정을 감안하여 이루어진 것으로서, 예컨대 부스와 같이 구획된 바닥면을 구석구석 깨끗하고 효율적으로 세척할 수 있는 바닥면 세척 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시형태에 따른 바닥면 세척 시스템은, 소정의 면적을 가지고 구획되고 일 지점을 향해 경사진 바닥면을 세척하기 위한 시스템으로서, 상기 바닥면의 높이가 가장 높은 곳의 근방에 배치되고, 세척액을 분사하는 복수의 세척액 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 선형의 세척액 분사관; 상기 세척액 분사관보다 상기 바닥면의 높이가 더 높은 곳에 배치되고, 상기 바닥면으로 청정 기체를 분사하는 기체 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 선형의 제1 기체 분사관; 및 상기 세척액 분사관과 상기 일 지점 사이에 배치되고, 상기 일 지점을 향해 비스듬하게 상기 바닥면으로 청정 기체를 분사하는 기체 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 적어도 하나의 선형의 제2 기체 분사관을 구비한다.
여기서, 상기 세척액 분사관은 직선 형상으로 이루어지고, 그 길이방향 중심축을 중심으로 회동함으로써 상기 바닥면에 대한 상기 세척액의 분사 각도를 변경가능하게 구성될 수 있다.
또한, 상기 일 지점은 상기 바닥면의 일 구석에 위치하고, 상기 세척액 분사관, 상기 제1 기체 분사관 및 상기 제2 기체 분사관은, 상기 일 지점을 동심으로 꺾이거나 만곡된 선형으로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 제1 기체 분사관 및 상기 적어도 하나의 제2 기체 분사관은, 상기 일 지점과의 거리가 먼 기체 분사관부터 가까운 기체 분사관의 순으로 순차적으로 상기 청정 기체를 분사하도록 구성될 수 있다.
또한, 상기 일 지점에는 상기 일 지점에 모인 세척액을 흡입하여 배출하는 세척액 흡입부가 마련될 수 있다.
또한, 상기 일 지점에는 상기 일 지점에 모인 세척액이 배수되는 배수구가 형성될 수 있다.
이 경우, 상기 일 지점에는 필터 부재가 마련될 수 있다.
상기 필터 부재는 상기 일 지점 및 그 근방을 덮는 소정 두께의 판 형상으로 이루어지고, 상기 필터 부재의 상기 바닥면과 접하는 면에는 격자상 또는 방사상의 세척액 유로가 형성되어 있을 수 있다.
본 발명의 바닥면 세척 시스템에 따르면, 세척액 분사관과 기체 분사관의 배치와 동작에 의해 바닥면을 구석구석 깨끗하고 효율적으로 세척 및 건조할 수 있다.
본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술되는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 바닥면 세척 시스템을 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템을 도 1과는 다른 방향에서 바라본 사시도이다.
도 3은 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템을 위에서 바라본 평면도이다.
도 4는 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템에서 세척액 분사를 위한 구성만을 도시한 사시도이다.
도 5는 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템에서 기체 분사를 위한 구성만을 도시한 사시도이다.
도 6은 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템에서 세척액 분사관과 기체 분사관의 다른 배치예를 도시한 평면도이다.
도 7은 도 2에 도시된 바닥면 세척 시스템에서 세척액 흡입부의 구성을 도시한 사시도이다.
도 8은 도 7에 도시된 세척액 흡입부의 일부 구성을 분해하여 도시한 분해 사시도이다.
도 9는 도 8에 도시된 필터 부재의 저면을 도시한 저면 사시도이다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 바닥면 세척 시스템을 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템을 도 1과는 다른 방향에서 바라본 사시도이다.
도 3은 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템을 위에서 바라본 평면도이다.
도 4는 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템에서 세척액 분사를 위한 구성만을 도시한 사시도이다.
도 5는 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템에서 기체 분사를 위한 구성만을 도시한 사시도이다.
도 6은 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템에서 세척액 분사관과 기체 분사관의 다른 배치예를 도시한 평면도이다.
도 7은 도 2에 도시된 바닥면 세척 시스템에서 세척액 흡입부의 구성을 도시한 사시도이다.
도 8은 도 7에 도시된 세척액 흡입부의 일부 구성을 분해하여 도시한 분해 사시도이다.
도 9는 도 8에 도시된 필터 부재의 저면을 도시한 저면 사시도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 상세히 설명하기로 한다. 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과하고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
도면에서 각 구성요소 또는 그 구성요소를 이루는 특정 부분의 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 따라서, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그러한 설명은 생략하도록 한다.
본 명세서에서 사용되는 '결합', '장착', '고정' 또는 '연결'이라는 용어는, 하나의 부재와 다른 부재가 직접 결합, 장착, 고정 또는 연결되는 경우뿐만 아니라 하나의 부재가 중간 부재를 개재하여 다른 부재에 간접적으로 결합, 장착, 고정 또는 연결되는 경우도 포함한다.
또한, 본 명세서에서는 상, 하, 좌, 우, 전, 후 등과 같이 방향을 나타내는 용어를 사용하나, 이러한 방향은 사물이 놓여진 방향과 관찰 방향에 따라 달라질 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 바닥면 세척 시스템을 도시한 사시도이고, 도 2는 도 1과는 다른 방향에서 바라본 사시도이며, 도 3은 평면도이다.
본 실시형태에 따른 바닥면 세척 시스템(이하, 간단히 '시스템'이라고도 한다)은 부스(1) 형태로 이루어진 케미컬 공급 설비의 바닥면(2)을 세척 건조하기 위한 것으로서, 여기서 케미컬 공급 설비는 ACQC 유닛, 드럼 커플러, 샘플링 장비 등 장비의 사용에 따라 케미컬이 누출될 수 있는 임의의 장비가 될 수 있다. 케미컬 공급 설비를 구성하는 구성요소들은 본 발명과 직접 관련이 없으므로, 도면에서는 부스(1)를 제외하고 도시를 생략하였다. 또한, 부스(1)의 지붕도 도시를 생략하였고 부스(1)의 측벽 역시 본 시스템의 이해와 설명의 편의를 위해 절개하여 도시하였다. 한편, 부스(1)의 측벽에는 윈도우나 도어가 마련될 수 있다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 실시형태에 따른 시스템이 세척하고자 하는 대상인 부스(1)의 바닥면(2)은 부스의 측벽에 의해 소정의 면적을 가지고 구획되고, 일 지점(예컨대, 도 3에서 좌상측 구석)을 향해 경사지게 형성된다. 즉, 바닥면(2)은 일 지점인 도 3에서 좌상측 구석 부분의 높이가 가장 낮고, 일 지점으로부터 도 3에서 우측으로 갈수록, 또한 도 3에서 하측으로 갈수록 바닥면의 높이가 점점 높아진다. 따라서, 바닥면(2)에 낙하되는 케미컬이나 세척액은 바닥면의 경사를 따라 흘러 일 지점으로 모이게 된다. 상기 일 지점에는 모인 케미컬이나 세척액이 배수되는 배수구(3; 도 8 참조)가 형성되어 있을 수 있으며, 배수구(3)에는 부스(1) 바깥으로 연장되는 배수관(4)이 연통되고, 배수관(4)에는 배수관을 개폐하는 배수 밸브(5)나 배수 펌프(도시 생략)가 개재될 수 있다. 배수 밸브(5)의 동작에 대해서는 후술한다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 실시형태에 따른 시스템은 세척액 분사관(10)과, 적어도 두 개의 기체 분사관(20,25)을 포함한다.
세척액 분사관(10)은 바닥면(2)을 세척하기 위해 부스(1) 내부로 세척액을 분사하는 것으로서, 도 3을 참조하면 바닥면(2)의 높이가 가장 높은 곳인 우측변의 근방에 바닥면(2)으로부터 약간 이격되고 우측변에 평행한 직선 상으로 배치될 수 있다. 또한, 도시하지는 않았지만, 세척액 분사관(10)의 하방에는 세척액 분사관(10)이 바닥면(2)으로부터 안정적으로 이격되어 지지되도록 적어도 하나의 지지부재가 마련될 수 있다.
보다 구체적으로, 본 시스템에서 세척액 분사를 위한 구성만을 도시한 사시도인 도 4를 참조하면, 세척액 분사관(10)은 세척액이 공급되는 세척액 공급관(11)에 T자형 연결구(10b)를 개재하여 연결되고, 세척액 분사관(10)의 하방에는 복수의 세척액 분사구(10a)가 소정 간격을 두고 형성된다. 따라서, 세척액 분사구(10a)로부터 분사되는 세척액은 바닥면(2)의 경사를 따라 흘러 일 지점(도 3에서 좌상측 구석)으로 모이게 된다. 여기서, 세척액으로서 본 실시예에서는 순수(DI Water)를 사용하지만, 바닥면(2)에 떨어진 케미컬을 중화 또는 희석시킬 수 있는 액상의 유체라면 어느 것이라도 사용할 수 있다.
또한, T자형 연결구(10b)의 세척액 분사관(10)과 반대쪽에는 연장축(12)이 연결되고, 이 연장축(12)은 모터나 로터리 실린더와 같은 회동수단(15)에 연결되어, 회동수단(15)에 의해 세척액 분사관(10)이 길이방향 중심축을 중심으로 소정 각도만큼 회동함으로써 바닥면(2)에 대한 세척액의 분사 각도를 변경가능하게 구성될 수 있다. 이 경우, 세척액 공급관(11)은 세척액 분사관(10)의 회동이 가능하도록 플렉시블한 배관으로 이루어질 수 있다.
회동수단(15)은 제어부(도시 생략)의 제어에 의해 자동으로 회동할 수 있으나, 단순한 레버로 이루어져 작업자가 수동으로 회동시킬 수도 있다. 또한, 회동수단(15)은 부스(1)의 외부에 배치되는 것으로 도시되었지만(도 3 참조), 회동수단(15)이 자동으로 회동하는 경우 회동수단(15)은 부스(1) 내부에 배치될 수도 있다.
한편, 세척액 공급관(11)은 유체 매니폴드(30)를 개재하여 부스(1) 외부의 배관(35; 도 3 참조)과 세척액 공급원(도시 생략)에 연결될 수 있다. 유체 매니폴드(30)는 부스(1)의 내부 일측에 마련되어 부스(1) 내외부의 유체 유출입을 중개하는 것으로서, 도 4를 참조하면, 세척액 공급관(11)이 연결되는 세척액 공급구(31), 후술하는 기체 공급관(21)이 연결되는 기체 공급구(32), 세척액 흡입관(41)이 연결되는 세척액 흡입구(33), 및 배기구(34)를 포함할 수 있다. 이들 세척액 공급구(31), 기체 공급구(32), 세척액 흡입구(33) 및 배기구(34)는 부스(1)의 측벽을 관통하여 부스(1) 외부의 각각 대응하는 배관(35)과 연통된다.
그러나, 유체 매니폴드(30)는 생략될 수 있으며, 세척액 공급관(11)은 부스(1)의 측벽을 직접 관통하여 세척액 공급원(도시 생략)에 연결될 수도 있다.
적어도 두 개의 기체 분사관(20,25)은 세척액 분사관(10)에 의해 분사된 세척액이 바닥면(2)의 일 지점을 향해 원활하게 흐르도록 하고 바닥면(2)을 건조시키기 위해 바닥면(2)으로 청정 기체를 분사하는 것으로서, 본 실시예에서는 하나의 제1 기체 분사관(20)과 복수개의 제2 기체 분사관(25)을 포함한다.
제1 기체 분사관(20)은, 도 3을 참조하면 세척액 분사관(10)보다 바닥면(2)의 높이가 더 높은 곳인 우측변에 인접하여 세척액 분사관(10)보다 약간 더 높고 평행하게 직선 상으로 배치될 수 있다. 또한, 복수개의 제2 기체 분사관(25)은 세척액 분사관(10)과 일 지점 사이에 소정 간격을 두고 서로 평행하게 바닥면(2)으로부터 약간 이격되어 직선 상으로 배치될 수 있다. 또한, 도시하지는 않았지만, 제1 및 제2 기체 분사관(20,25)의 하방에는 제1 및 제2 기체 분사관(20,25)이 바닥면(2)으로부터 안정적으로 이격되어 지지되도록 각각 적어도 하나씩의 지지부재가 마련될 수 있다.
보다 구체적으로, 본 시스템에서 기체 분사를 위한 구성만을 도시한 사시도인 도 5를 참조하면, 제1 기체 분사관(20)은 청정 기체가 공급되는 기체 공급관(21)에 T자형 연결구(20b)를 개재하여 연결되고, 제1 기체 분사관(20)의 하방에는 복수의 기체 분사구(20a)가 소정 간격을 두고 형성된다. 또한, 제2 기체 분사관(25)은 연결관(22) 및 T자형 연결구(20b,22b) 또는 L자형 연결구(22c)를 개재하여 기체 공급관(21)에 연결되고, 제2 기체 분사관(25)의 하방에는 일 지점을 향해 비스듬하게 기체를 분사하는 복수의 기체 분사구(25a)가 소정 간격을 두고 형성된다.
한편, 도면에는 기체 공급관(21)에 의해 공급되는 청정 기체가 상기 일 지점에서 가장 먼 기체 분사관(제1 기체 분사관)부터 상기 일 지점에서 가장 가까운 기체 분사관(제2 기체 분사관)의 순으로 공급되도록 연결되어 있지만, 기체 공급관(21)과 기체 분사관들(20,25)의 연결 순서는 바뀌어도 된다.
이러한 기체 분사관(20,25)의 구성에 따르면, 제1 및 제2 기체 분사관(20,25)로부터 분사되는 청정 기체는 바닥면(2)에 분사된 세척액을 도 3에서 좌측변을 향해 쓸어내리고 바닥면(2)을 건조시키게 된다. 여기서, 청정 기체로는 이물질이 제거된 청정 공기일 수 있고, 질소와 같은 불활성 기체를 사용할 수 있다. 또한, 바닥면(2)의 원활한 건조를 위해 청정 기체는 가열되어 공급될 수 있다.
또한, 제1 및 제2 기체 분사관(20,25) 각각의 기체 유입단에는 청정 기체의 유입을 허용 또는 차단하는 밸브(23,26)가 마련될 수 있다. 이 밸브(23,26)는 제어부(도시 생략)의 제어에 의해 개폐될 수 있다. 구체적으로, 제어부는 상기 일 지점과의 거리가 먼 기체 분사관(제1 기체 분사관)부터 가까운 기체 분사관(제2 기체 분사관)의 순으로 밸브(23,26)를 개방하여, 상기 일 지점과의 거리가 먼 기체 분사관(제1 기체 분사관)부터 가까운 기체 분사관(제2 기체 분사관)의 순으로 청정 공기가 분사되도록 할 수 있다. 이러한 구성에 의하면, 바닥면(2)에 분사된 세척액이 도 3에서 좌측변을 향해 원활하게 흐르도록 할 수 있다.
한편, 기체 공급관(21)은, 전술한 세척액 공급관(11)과 마찬가지로, 유체 매니폴드(30)를 개재하여 부스(1) 외부의 배관(35; 도 3 참조)과 기체 공급원(도시 생략)에 연결될 수 있다. 즉, 기체 공급관(21)은 유체 매니폴드(30)의 기체 공급구(32)에 연결되어 외부의 기체 공급원에 연결될 수 있다. 물론, 유체 매니폴드(30)는 생략될 수 있으며, 기체 공급관(21)은 부스(1)의 측벽을 직접 관통하여 기체 공급원(도시 생략)에 연결될 수도 있다.
이상과 같이, 본 실시형태에 따른 시스템은 세척액 분사관(10)과 기체 분사관(20,25)의 특정한 배치와 동작에 의해 바닥면(2)을 구석구석 깨끗하고 효율적으로 세척 및 건조할 수 있다.
한편, 전술한 설명에서는 세척액 분사관(10)과 기체 분사관(20,25)이 각각 서로 평행하게 직선 상으로 배치되었지만, 세척액 분사관(10)과 기체 분사관(20,25)은 달리 배치될 수도 있다.
즉, 본 시스템에서 세척액 분사관(10')과 기체 분사관(20',25')의 다른 배치예를 도시한 평면도인 도 6을 참조하면, 세척액 분사관(10')과 기체 분사관(20',25')은 바닥면(2)의 높이가 가장 낮은 상기 일 지점을 대략 동심으로 하여 꺾이거나 만곡된 선형으로 배치될 수 있다. 이러한 배치에 의하면 세척액이 더욱 원활하게 일 지점을 향해 흐르도록 하고, 바닥면(2)을 더욱 효율적으로 건조시킬 수 있다. 다시 말해, 세척액 분사관(10,10')과 기체 공급관(20,20',25,25')은 바닥면(2)의 크기와 형태에 따라서 그 형상과 배치가 얼마든지 변경될 수 있다. 또한, 제2 기체 공급관(25,25')의 개수도 바닥면(2)의 크기와 형태에 따라서 변경가능하다.
한편, 본 실시형태에 따른 시스템에는 세척액 흡입부가 마련될 수 있다. 세척액 흡입부는, 도 2의 일부 확대 사시도인 도 7을 참조하면, 일단이 상기 일 지점을 향해 개구된 세척액 흡입관(41)을 포함한다. 세척액 흡입관(41)의 타단은 유체 매니폴드(30)의 세척액 흡입구(33)에 연결되어 부스(1) 외부의 흡입 펌프(도시 생략)와 연통될 수 있다. 따라서, 흡입 펌프(도시 생략)를 동작시키면 세척액 흡입관(41)을 통해 상기 일 지점에 모인 케미컬이나 세척액을 더욱 신속하게 배출할 수 있다. 물론, 세척액 흡입관(41)은 유체 매니폴드(30)을 개재하지 않고 부스(1)의 측벽을 관통하여 흡입 펌프(도시 생략)에 직접 연결될 수 있다.
또한, 상기 일 지점에는 크기가 큰 불순물을 거르는 필터 부재(40)가 마련될 수 있다. 이 경우, 세척액 흡입관(41)은 필터 부재(40)를 개재하여 상기 일 지점에 개구될 수 있다.
필터 부재(40)에는, 도 7의 일부 분해 사시도인 도 8과 필터 부재(40)의 저면 사시도인 도 9를 참조하면, 세척액 흡입관(41)의 일단이 상하로 관통하거나 연통되는 관통홀(40a)이 형성되어 있다. 또한, 바닥면(2)과 접하는 필터 부재(40)의 저면에는 격자상(도 9의 (a) 참조) 또는 방사상(도 9의 (b) 참조)의 세척액 유로(40b)가 형성되어 있다. 필터 부재(40)는 일 지점 및 그 근방을 덮는 소정 두께의 판 형상으로 이루어지고, 세척액 유로(40b)는 판 형상의 필터 부재(40)의 하부에서 내측으로 인입된 홈의 형태로 형성된다. 따라서, 필터 부재(40)가 바닥면(2)에 접하도록 장착되었을 때, 필터 부재(40)의 측면에 노출되는 세척액 유로(40b)의 단면적보다 큰 불순물은 필터 부재(40)의 측면에 걸려 세척액 흡입관(41)으로 들어가지 못하고 액상의 케미컬이나 세척액 또는 부스(1) 내부의 공기만이 세척액 흡입부에 의해 흡입 배출될 수 있다.
한편, 부스(1)의 바닥면(2)에는, 전술한 바와 같이, 배수구(3; 도 8 참조)가 형성되어 있을 수 있다. 따라서, 배수구(3)를 통해 상기 일 지점에 모인 케미컬이나 세척액이 배수될 수 있는데, 이때 세척액 흡입부가 동작하게 되면 배수구(3)와 배수관(4)을 통해 배수되던 케미컬이나 세척액이 역류할 수 있다. 따라서, 배수 밸브(5)는 역류를 방지하는 체크 밸브로 이루어지거나, 또는 세척액 흡입부가 동작할 때에는 제어부(도시 생략)의 제어에 의해 닫히는 밸브로 이루어지는 것이 바람직하다. 나아가, 본 시스템이 세척액 흡입부를 구비하는 경우에는 배수구(3), 배수관(4) 및 배수 밸브(5)를 생략할 수도 있다.
이상에서 미설명된 유체 매니폴드(30)의 배기구(34)는 부스(1) 내부의 공기나 케미컬 증기 등의 기체를 배기하기 위한 것으로서, 부스(1) 외부의 배기 팬(도시 생략)이나 배기 펌프(도시 생략)에 연통될 수 있다. 또는, 배기 팬(도시 생략)을 부스(1)의 천정에 설치하고, 이로부터 직접 부스(1) 외부로 배기할 수도 있다. 이 경우, 유체 매니폴드(30)의 배기구(34)는 생략하거나 막아두면 된다.
또한, 도시하지는 않았지만, 본 실시형태에 따른 시스템은 부스(1) 내의 케미컬 누출을 감지하는 케미컬 센서를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 본 시스템의 정기적인 가동에 의한 바닥면 세척 이외에도, 케미컬 센서(도시 생략)에 의해 케미컬 누출이 감지되면, 제어부(도시 생략)가 본 시스템을 가동하여 바닥면의 세척, 건조와, 케미컬과 세척액의 배수(또는 흡입 배출) 및/또는 배기 동작을 필요할 때에 신속하게 실시할 수 있다.
한편, 이상의 설명에서는 본 실시형태에 따른 시스템이 부스(1)에 의해 구획되는 바닥면을 세척하는 시스템으로서 설명되었지만, 본 발명이 이에 한정되지는 않는다. 즉, 부스(1)와 같이 밀폐되지 않더라도 단턱 등에 의해 소정의 면적을 가지고 구획되고 일 지점을 향해 경사진 바닥면이라면, 반드시 케미컬 공급 설비가 아니더라도, 본 발명의 시스템을 적용할 수 있다.
이상 본 발명의 바람직한 실시형태를 첨부된 도면들을 참조로 설명하였다. 그러나, 본 명세서에 기재된 실시형태와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시형태에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
1: 부스
2: 바닥면
3: 배수구
4: 배수관
5: 배수 밸브
10: 세척액 분사관
10a: 세척액 분사구
11: 세척액 공급관
12: 연장축
15: 회동수단
20: 제1 기체 분사관
20a, 25a: 기체 분사구
21: 기체 공급관
22: 연결관
23, 26: 밸브
25: 제2 기체 분사관
30: 유체 매니폴드
31: 세척액 공급구
32: 기체 공급구
33: 세척액 흡입구
34: 배기구
35: 배관
40: 필터 부재
40a: 관통홀
40b: 세척액 유로
41: 세척액 흡입관
2: 바닥면
3: 배수구
4: 배수관
5: 배수 밸브
10: 세척액 분사관
10a: 세척액 분사구
11: 세척액 공급관
12: 연장축
15: 회동수단
20: 제1 기체 분사관
20a, 25a: 기체 분사구
21: 기체 공급관
22: 연결관
23, 26: 밸브
25: 제2 기체 분사관
30: 유체 매니폴드
31: 세척액 공급구
32: 기체 공급구
33: 세척액 흡입구
34: 배기구
35: 배관
40: 필터 부재
40a: 관통홀
40b: 세척액 유로
41: 세척액 흡입관
Claims (8)
- 소정의 면적을 가지고 구획되고 일 지점을 향해 경사진 바닥면을 세척하기 위한 시스템으로서,
상기 바닥면의 높이가 가장 높은 곳의 근방에 배치되고, 세척액을 분사하는 복수의 세척액 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 선형의 세척액 분사관;
상기 세척액 분사관보다 상기 바닥면의 높이가 더 높은 곳에 배치되고, 상기 바닥면으로 청정 기체를 분사하는 기체 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 선형의 제1 기체 분사관; 및
상기 세척액 분사관과 상기 일 지점 사이에 배치되고, 상기 일 지점을 향해 비스듬하게 상기 바닥면으로 청정 기체를 분사하는 기체 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 적어도 하나의 선형의 제2 기체 분사관을 구비하고,
상기 일 지점에는 상기 일 지점에 모인 세척액을 흡입하여 배출하는 세척액 흡입부가 마련되고,
상기 세척액 흡입부는 일단이 상기 일 지점을 향해 개구되고, 타단이 부스 외부의 흡입 펌프와 연통된 세척액 흡입관을 포함하며,
상기 일 지점에는 필터 부재가 마련되고,
상기 필터 부재는 상기 일 지점 및 그 근방을 덮는 소정 두께의 판 형상으로 이루어지고,
상기 필터 부재의 상기 바닥면과 접하는 면에는 격자상 또는 방사상의 세척액 유로가 형성되어 있으며,
상기 세척액 유로는 판 형상의 상기 필터 부재의 하부에서 내측으로 인입된 홈의 형태로 형성되고,
상기 필터 부재에는 상기 세척액 흡입관의 일단이 상하로 관통하거나 연통되는 관통홀이 형성되어 있고,
상기 세척액 흡입관은 상기 필터 부재를 개재하여 상기 일 지점에 개구된 것을 특징으로 하는 바닥면 세척 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 세척액 분사관은 직선 형상으로 이루어지고, 그 길이방향 중심축을 중심으로 회동함으로써 상기 바닥면에 대한 상기 세척액의 분사 각도를 변경가능하게 구성된 바닥면 세척 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 일 지점은 상기 바닥면의 일 구석에 위치하고,
상기 세척액 분사관, 상기 제1 기체 분사관 및 상기 제2 기체 분사관은, 상기 일 지점을 동심으로 꺾이거나 만곡된 선형으로 이루어지는 바닥면 세척 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 제1 기체 분사관 및 상기 적어도 하나의 제2 기체 분사관은, 상기 일 지점과의 거리가 먼 기체 분사관부터 가까운 기체 분사관의 순으로 순차적으로 상기 청정 기체를 분사하도록 구성된 바닥면 세척 시스템. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 일 지점에는 상기 일 지점에 모인 세척액이 배수되는 배수구가 형성된 바닥면 세척 시스템. - 삭제
- 삭제
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020210035296A KR102553836B1 (ko) | 2021-03-18 | 2021-03-18 | 바닥면 세척 시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210035296A KR102553836B1 (ko) | 2021-03-18 | 2021-03-18 | 바닥면 세척 시스템 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20220130431A KR20220130431A (ko) | 2022-09-27 |
KR102553836B1 true KR102553836B1 (ko) | 2023-07-10 |
Family
ID=83452212
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020210035296A KR102553836B1 (ko) | 2021-03-18 | 2021-03-18 | 바닥면 세척 시스템 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR102553836B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2024080505A1 (ko) | 2022-10-12 | 2024-04-18 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 배터리 모듈, 이를 포함하는 배터리 팩과 에너지 저장 시스템 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101954258B1 (ko) * | 2018-03-21 | 2019-03-06 | 강삼태 | 바닥용 청소 장치 |
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JPS58183128A (ja) * | 1982-04-20 | 1983-10-26 | 有限会社サンストン | ル−ムクリ−ニングシステム |
EP0306484B1 (en) * | 1986-04-16 | 1992-01-22 | BARTIMOTE, John K. | Material handling apparatus and method |
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- 2021-03-18 KR KR1020210035296A patent/KR102553836B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101954258B1 (ko) * | 2018-03-21 | 2019-03-06 | 강삼태 | 바닥용 청소 장치 |
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KR20220130431A (ko) | 2022-09-27 |
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