JP2015177090A - 処理液供給装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理液を貯留する処理液タンク4と、半導体ウェハWに処理液を供給するノズル3と、処理液タンク4からノズル3へ処理液を供給する処理液供給路5と、処理液供給路5に設けられ、処理液タンク4からノズル3へ処理液を移送するポンプ6と、処理液供給路5に設けられた第1バルブ8と、処理液供給路5の第1バルブ8とノズル3との間で分岐されている分岐配管9と、分岐配管9に設けられた第2バルブ10と、第1バルブ8と第2バルブ10の開閉を制御する制御部11と、を備えている。第1バルブ8は閉状態においても完全に閉とならないバルブであるため、弁体85と弁座86との接触により発生するパーティクルは抑制される。
【選択図】図1
Description
が閉状態でポンプ6が駆動開始される。これにより、処理液供給タンク4内に貯留された処理液が、処理液供給路5を通ってノズル3に供給され、ノズル3から半導体ウェハWに向けて吐出される。
Claims (4)
- 基板に処理液を供給する処理液供給装置において、 処理液を貯留する処理液タンクと、 基板に処理液を供給する供給手段と、前記処理液タンクから前記供給手段へ処理液を供給する処理液供給路と、 前記処理液供給路に設けられ、前記処理液タンクから前記供給手段へ処理液を移送する移送手段と、 前記処理液供給路に設けられた第1バルブと、 前記処理液供給路の前記第1バルブと前記供給手段との間で分岐されている分岐配管と、 前記分岐配管に設けられた第2バルブと、 前記第1バルブと前記第2バルブの開閉を制御する制御手段と、を備え、前記第1バルブは閉状態においても完全に閉とならないバルブであることを特徴とした処理液供給装置。
- 請求項1に記載の処理液供給装置において、 前記第1バルブは、 処理液が供給される流入口と、 前記流入口に供給された処理液を前記処理液供給路に吐出させる流出口と、 前記流入口と前記流出口とを繋ぐ流路と、 前記流入口と前記流出口の間の前記流路内に配置された弁座と、 前記弁座に対して移動可能な弁体と、 前記弁体を移動させる移動手段と、を備え、 前記制御手段は、前記弁座から離れた位置と前記弁座に当接しない位置との間で前記弁体を移動させるように前記移動手段を制御することを特徴とする処理液供給装置。
- 請求項1または請求項2に記載の処理液供給装置において、 前記制御手段は、前記処理液タンクから前記供給手段へ処理液を供給する際には、前記第1バルブを開状態にするとともに、前記第2バルブを閉状態とし、前記処理液タンクから前記供給手段への処理液の供給を停止する際には、前記第1バルブを閉状態にするとともに、前記第2バルブを開状態にすることを特徴とする処理液供給装置。
- 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の処理液供給装置において、前記分岐配管の接続された前記処理液供給路の下流側に設けられた第3バルブをさらに備え、 前記制御手段は、前記処理液タンクから前記供給手段へ処理液を供給する際には、前記第3バルブを開状態とし、前記処理液タンクから前記供給手段への処理液の供給を停止する際には、前記第3バルブを閉状態にすることを特徴とする処理液供給装置。
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