JP2003218081A - 処理液の供給装置及び被処理物の処理装置 - Google Patents
処理液の供給装置及び被処理物の処理装置Info
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- JP2003218081A JP2003218081A JP2002015896A JP2002015896A JP2003218081A JP 2003218081 A JP2003218081 A JP 2003218081A JP 2002015896 A JP2002015896 A JP 2002015896A JP 2002015896 A JP2002015896 A JP 2002015896A JP 2003218081 A JP2003218081 A JP 2003218081A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 この発明は基板の乾燥処理時ノズル管から処
理液が滴下するのを防止した処理液の供給装置を提供す
ることにある。 【解決手段】 基板に処理液を供給する供給装置におい
て、上記処理液が供給されその処理液を先端のノズル口
３１から吐出するノズル管２７と、このノズル管の先端
部に形成され処理液の非供給時にノズル管内の処理液が
上記ノズル口から滴下するのを阻止する液垂れ防止部２
８と、上記ノズル管に設けられこのノズル管への処理液
の供給を制御する供給制御弁３２と、上記ノズル管から
分岐された排液管３４と、この排液管に設けられ上記供
給制御弁を閉じて処理液の供給を停止したときに開放さ
れて上記ノズル管内に残留する処理液を排出する排液制
御弁３３とを具備する。
理液が滴下するのを防止した処理液の供給装置を提供す
ることにある。 【解決手段】 基板に処理液を供給する供給装置におい
て、上記処理液が供給されその処理液を先端のノズル口
３１から吐出するノズル管２７と、このノズル管の先端
部に形成され処理液の非供給時にノズル管内の処理液が
上記ノズル口から滴下するのを阻止する液垂れ防止部２
８と、上記ノズル管に設けられこのノズル管への処理液
の供給を制御する供給制御弁３２と、上記ノズル管から
分岐された排液管３４と、この排液管に設けられ上記供
給制御弁を閉じて処理液の供給を停止したときに開放さ
れて上記ノズル管内に残留する処理液を排出する排液制
御弁３３とを具備する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は被処理物に処理液
を供給するための供給装置及びその供給装置が用いられ
た被処理物の処理装置に関する。
を供給するための供給装置及びその供給装置が用いられ
た被処理物の処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置や液晶製造装置などにお
いては、半導体ウエハやガラス基板などの被処理物とし
ての基板に回路パタ−ンを形成するリソグラフィプロセ
スがある。このリソグラフィプロセスは、周知のように
上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パタ
−ンが形成されたマスクを介して光を照射し、ついでレ
ジストの光が照射されない部分（あるいは光が照射され
た部分）を除去し、除去された部分をエッチングするな
どの一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回
路パタ−ンを形成するものである。
いては、半導体ウエハやガラス基板などの被処理物とし
ての基板に回路パタ−ンを形成するリソグラフィプロセ
スがある。このリソグラフィプロセスは、周知のように
上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パタ
−ンが形成されたマスクを介して光を照射し、ついでレ
ジストの光が照射されない部分（あるいは光が照射され
た部分）を除去し、除去された部分をエッチングするな
どの一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回
路パタ−ンを形成するものである。
【０００３】上記一連の各工程において、上記基板が汚
染されていると回路パタ−ンを精密に形成することがで
きなくなり、不良品の発生原因となる。したがって、そ
れぞれの工程で回路パタ−ンを形成する際には、レジス
トや塵埃などの微粒子が残留しない清浄な状態に上記基
板を洗浄処理するということが行われている。
染されていると回路パタ−ンを精密に形成することがで
きなくなり、不良品の発生原因となる。したがって、そ
れぞれの工程で回路パタ−ンを形成する際には、レジス
トや塵埃などの微粒子が残留しない清浄な状態に上記基
板を洗浄処理するということが行われている。
【０００４】上記基板を洗浄処理する装置としてスピン
処理装置が知られている。スピン処理装置は処理槽を有
し、この処理槽内にはカップ体が設けられている。この
カップ体内には回転テーブルが設けられ、この回転テー
ブルには上記基板が着脱可能に保持される。
処理装置が知られている。スピン処理装置は処理槽を有
し、この処理槽内にはカップ体が設けられている。この
カップ体内には回転テーブルが設けられ、この回転テー
ブルには上記基板が着脱可能に保持される。
【０００５】回転テーブルに保持された基板の上方には
回転テーブルの径方向に沿って揺動駆動されるアーム体
が設けられている。このアーム体にはノズル管が設けら
れている。このノズル管には純水などの処理液が供給さ
れる。ノズル管に供給された処理液は、ノズル管の先端
のノズル口から上記基板に向かって吐出される。
回転テーブルの径方向に沿って揺動駆動されるアーム体
が設けられている。このアーム体にはノズル管が設けら
れている。このノズル管には純水などの処理液が供給さ
れる。ノズル管に供給された処理液は、ノズル管の先端
のノズル口から上記基板に向かって吐出される。
【０００６】したがって、回転テーブルを回転させなが
らアーム体を揺動させ、ノズル管から処理液を吐出させ
ることで、上記基板を洗浄処理することができる。基板
を洗浄処理したならば、回転テーブルを洗浄処理時に比
べて高速度で回転させる。それによって、基板に付着し
た処理液を遠心力によって除去することができるから、
基板の乾燥処理を行なうことができる。
らアーム体を揺動させ、ノズル管から処理液を吐出させ
ることで、上記基板を洗浄処理することができる。基板
を洗浄処理したならば、回転テーブルを洗浄処理時に比
べて高速度で回転させる。それによって、基板に付着し
た処理液を遠心力によって除去することができるから、
基板の乾燥処理を行なうことができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、基板の洗浄
処理が終了した時点で、上記ノズル管から洗浄液の吐出
を停止しても、ノズル管内に洗浄液が残留することが避
けられない。ノズル管内に残留した処理液は、自然に滴
下したり、ノズル管にわずかな振動が加わることで滴下
する。
処理が終了した時点で、上記ノズル管から洗浄液の吐出
を停止しても、ノズル管内に洗浄液が残留することが避
けられない。ノズル管内に残留した処理液は、自然に滴
下したり、ノズル管にわずかな振動が加わることで滴下
する。
【０００８】そのため、基板を乾燥処理した後、上記ノ
ズル管から処理液が基板に滴下することがあり、それに
よって基板に処理液のしみが付くなどの汚れの発生原因
になるということがある。
ズル管から処理液が基板に滴下することがあり、それに
よって基板に処理液のしみが付くなどの汚れの発生原因
になるということがある。
【０００９】この発明は、ノズル管を用いて被処理物に
処理液を供給するようにした場合、供給を停止した後、
上記ノズル管から処理液が被処理物に滴下することがな
いようにした処理液の供給装置及び被処理物の処理装置
を提供することにある。
処理液を供給するようにした場合、供給を停止した後、
上記ノズル管から処理液が被処理物に滴下することがな
いようにした処理液の供給装置及び被処理物の処理装置
を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、被処
理物に処理液を供給する供給装置において、上記処理液
が供給されその処理液を先端のノズル口から吐出するノ
ズル管と、このノズル管の先端部に形成され処理液の非
供給時にノズル管内の処理液が上記ノズル口から滴下す
るのを阻止する液垂れ防止部と、上記ノズル管に設けら
れこのノズル管への処理液の供給を制御する供給制御弁
と、上記ノズル管から分岐された排液管と、この排液管
に設けられ上記供給制御弁を閉じて処理液の供給を停止
したときに開放されて上記ノズル管内に残留する処理液
を排出する排液制御弁とを具備したことを特徴とする処
理液の供給装置にある。
理物に処理液を供給する供給装置において、上記処理液
が供給されその処理液を先端のノズル口から吐出するノ
ズル管と、このノズル管の先端部に形成され処理液の非
供給時にノズル管内の処理液が上記ノズル口から滴下す
るのを阻止する液垂れ防止部と、上記ノズル管に設けら
れこのノズル管への処理液の供給を制御する供給制御弁
と、上記ノズル管から分岐された排液管と、この排液管
に設けられ上記供給制御弁を閉じて処理液の供給を停止
したときに開放されて上記ノズル管内に残留する処理液
を排出する排液制御弁とを具備したことを特徴とする処
理液の供給装置にある。
【００１１】請求項２の発明は、上記液垂れ防止部は、
上記ノズル管をループ状に巻回してなることを特徴とす
る請求項１記載の処理液の供給装置にある。
上記ノズル管をループ状に巻回してなることを特徴とす
る請求項１記載の処理液の供給装置にある。
【００１２】請求項３の発明は、被処理物に処理液を供
給して処理する処理装置において、上記被処理物を保持
して回転駆動される回転テーブルと、この回転テーブル
の上方に配置され回転テーブルの径方向に沿って揺動駆
動されるアーム体と、このアーム体に設けられ上記処理
液が供給されるとともにその処理液を先端のノズル口か
ら吐出するノズル管と、このノズル管の先端部に形成さ
れ処理液の非供給時にノズル管内の処理液が上記ノズル
口から滴下するのを阻止する液垂れ防止部と、上記ノズ
ル管に設けられこのノズル管への処理液の供給を制御す
る供給制御弁と、上記ノズル管から分岐された排液管
と、この排液管に設けられ上記供給制御弁を閉じて処理
液の供給を停止するときに開放されて上記ノズル管内に
残留する処理液を排出する排液制御弁とを具備したこと
を特徴とする処理装置にある。
給して処理する処理装置において、上記被処理物を保持
して回転駆動される回転テーブルと、この回転テーブル
の上方に配置され回転テーブルの径方向に沿って揺動駆
動されるアーム体と、このアーム体に設けられ上記処理
液が供給されるとともにその処理液を先端のノズル口か
ら吐出するノズル管と、このノズル管の先端部に形成さ
れ処理液の非供給時にノズル管内の処理液が上記ノズル
口から滴下するのを阻止する液垂れ防止部と、上記ノズ
ル管に設けられこのノズル管への処理液の供給を制御す
る供給制御弁と、上記ノズル管から分岐された排液管
と、この排液管に設けられ上記供給制御弁を閉じて処理
液の供給を停止するときに開放されて上記ノズル管内に
残留する処理液を排出する排液制御弁とを具備したこと
を特徴とする処理装置にある。
【００１３】この発明によれば、ノズル管の先端のノズ
ル口から処理液が垂れるのを防止する液垂れ防止部を設
け、しかも処理液の供給を停止したときに、ノズル管内
の処理液を排液管から排出するようにしたから、処理液
の供給停止時にノズル口から処理液が滴下するのを防止
できる。
ル口から処理液が垂れるのを防止する液垂れ防止部を設
け、しかも処理液の供給を停止したときに、ノズル管内
の処理液を排液管から排出するようにしたから、処理液
の供給停止時にノズル口から処理液が滴下するのを防止
できる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながらこの発
明の実施の形態を説明する。
明の実施の形態を説明する。
【００１５】図１と図２はこの発明の一実施の形態を示
し、図１は半導体ウエハやガラス基板などの被処理物と
しての基板Ｗを処理液によって洗浄処理するためのスピ
ン処理装置を示す。このスピン処理装置はカップ体１を
備えている。このカップ体１の底部には複数の排出管２
が周方向に所定間隔で接続されている。各排出管２は図
示しない排気ポンプに連通している。
し、図１は半導体ウエハやガラス基板などの被処理物と
しての基板Ｗを処理液によって洗浄処理するためのスピ
ン処理装置を示す。このスピン処理装置はカップ体１を
備えている。このカップ体１の底部には複数の排出管２
が周方向に所定間隔で接続されている。各排出管２は図
示しない排気ポンプに連通している。
【００１６】上記カップ体１内には回転テーブル３が設
けられている。この回転テーブル３は基部３ａと、この
基部３ａに一端を連結した４本のアーム３ｂとを有す
る。各アーム３ｂの先端部にはそれぞれ支持部４が設け
られている。各支持部部４は支持ピン５及び支持ピン５
よりもアーム３ｂの先端側に設けられた支持ピン５より
も背の高い一対の係合ピン６（１本のみ図示）からな
る。
けられている。この回転テーブル３は基部３ａと、この
基部３ａに一端を連結した４本のアーム３ｂとを有す
る。各アーム３ｂの先端部にはそれぞれ支持部４が設け
られている。各支持部部４は支持ピン５及び支持ピン５
よりもアーム３ｂの先端側に設けられた支持ピン５より
も背の高い一対の係合ピン６（１本のみ図示）からな
る。
【００１７】上記回転テーブル３には液晶表示装置用の
ガラス製の基板Ｗが供給される。回転テーブル３に供給
された基板Ｗは周辺部の角部下面が上記支持ピン５によ
って支持され、角部の一対の側面が上記係合ピン６によ
って係合保持されるようになっている。
ガラス製の基板Ｗが供給される。回転テーブル３に供給
された基板Ｗは周辺部の角部下面が上記支持ピン５によ
って支持され、角部の一対の側面が上記係合ピン６によ
って係合保持されるようになっている。
【００１８】上記回転テーブル３は制御モータ１１によ
って回転駆動される。この制御モータ１１は筒状の固定
子１２内に同じく筒状の回転子１３が回転可能に挿入さ
れてなり、この回転子１３に上記回転テーブル３の基部
３ａが動力伝達部材１３ａを介して連結されている。
って回転駆動される。この制御モータ１１は筒状の固定
子１２内に同じく筒状の回転子１３が回転可能に挿入さ
れてなり、この回転子１３に上記回転テーブル３の基部
３ａが動力伝達部材１３ａを介して連結されている。
【００１９】上記制御モータ１１は制御装置１４によっ
て回転が制御される。それによって、上記回転テーブル
３は上記制御装置１４によって所定の回転数で回転させ
ることができる。
て回転が制御される。それによって、上記回転テーブル
３は上記制御装置１４によって所定の回転数で回転させ
ることができる。
【００２０】上記回転子１３内には筒状の固定軸１５が
挿通されている。この固定軸１５の上端には上記回転テ
ーブル３の上面側に位置するノズルヘッド１６が設けら
れている。つまり、ノズルヘッド１６は回転テーブル３
と一緒に回転しない状態で設けられている。このノズル
ヘッド１６には処理液を噴射する複数の第１のノズル１
７及び気体を噴射する第２のノズル１８が設けられてい
る。
挿通されている。この固定軸１５の上端には上記回転テ
ーブル３の上面側に位置するノズルヘッド１６が設けら
れている。つまり、ノズルヘッド１６は回転テーブル３
と一緒に回転しない状態で設けられている。このノズル
ヘッド１６には処理液を噴射する複数の第１のノズル１
７及び気体を噴射する第２のノズル１８が設けられてい
る。
【００２１】それによって、上記各ノズル１７，１８か
ら回転テーブル３に保持された基板Ｗの下面の中央部分
に向けて処理液や気体を選択的に噴射することができる
ようになっている。つまり、基板Ｗは下面を洗浄及び乾
燥処理することができるようになっている。
ら回転テーブル３に保持された基板Ｗの下面の中央部分
に向けて処理液や気体を選択的に噴射することができる
ようになっている。つまり、基板Ｗは下面を洗浄及び乾
燥処理することができるようになっている。
【００２２】上記カップ体１の側方にはアーム体２２が
設けられている。このアーム体２２の基端部は中空状の
軸体２３の上端に連結されている。この軸体２３の下端
は回転モータ２４に連結されている。回転モータ２４は
軸体２３を所定の角度で回転駆動するようになってい
る。それによって、上記アーム体２２は回転テーブル２
の径方向に沿って揺動駆動されることになる。
設けられている。このアーム体２２の基端部は中空状の
軸体２３の上端に連結されている。この軸体２３の下端
は回転モータ２４に連結されている。回転モータ２４は
軸体２３を所定の角度で回転駆動するようになってい
る。それによって、上記アーム体２２は回転テーブル２
の径方向に沿って揺動駆動されることになる。
【００２３】上記回転モータ２４は図示しないリニアガ
イドによって上下方向にスライド可能に設けられた可動
板２５に取付けられている。この可動板２５は上下駆動
シリンダ２６によって上下方向に駆動されるようになっ
ている。
イドによって上下方向にスライド可能に設けられた可動
板２５に取付けられている。この可動板２５は上下駆動
シリンダ２６によって上下方向に駆動されるようになっ
ている。
【００２４】上記アーム体２２は中空状に形成され、こ
のアーム体２２の内部には上記軸体２３内を通されたノ
ズル管２７が設けられている。このノズル管２７は、図
２に示すように上記軸体２３に通されてほぼ垂直に立ち
上げられた立ち上げ部２７ａと、上記アーム体２２に挿
通されてほぼ水平となった水平部２７ｂ及びこの水平部
２７ｂの先端部から下方に向かって湾曲した先端部２７
ｃを有する。
のアーム体２２の内部には上記軸体２３内を通されたノ
ズル管２７が設けられている。このノズル管２７は、図
２に示すように上記軸体２３に通されてほぼ垂直に立ち
上げられた立ち上げ部２７ａと、上記アーム体２２に挿
通されてほぼ水平となった水平部２７ｂ及びこの水平部
２７ｂの先端部から下方に向かって湾曲した先端部２７
ｃを有する。
【００２５】上記ノズル管２７の先端部２７ｃには液垂
れ防止部２８が形成されている。この液垂れ防止部２８
は、上記ノズル管２７を図２において時計方向にループ
状に約３６０度巻回した巻回部２９からなる。この巻回
部２９の最上端は上記水平部２７ｂとほぼ同じ高さにな
っている。ノズル管２７の最先端はノズル口３１となっ
ていて、このノズル口３１は下方、つまり回転テーブル
３に保持された基板Ｗの方向を向いている。
れ防止部２８が形成されている。この液垂れ防止部２８
は、上記ノズル管２７を図２において時計方向にループ
状に約３６０度巻回した巻回部２９からなる。この巻回
部２９の最上端は上記水平部２７ｂとほぼ同じ高さにな
っている。ノズル管２７の最先端はノズル口３１となっ
ていて、このノズル口３１は下方、つまり回転テーブル
３に保持された基板Ｗの方向を向いている。
【００２６】上記ノズル管２７の垂直部２７ａには供給
制御弁３２が設けられ、この垂直部２７ａの基端は図示
しない処理液の供給部に連通している。したがって、上
記供給制御弁３２を開放することで、ノズル管２７には
上記供給部から処理液が供給される。そして、処理液は
上記巻回部２９を通って先端のノズル口３１から基板Ｗ
に向けて吐出される。
制御弁３２が設けられ、この垂直部２７ａの基端は図示
しない処理液の供給部に連通している。したがって、上
記供給制御弁３２を開放することで、ノズル管２７には
上記供給部から処理液が供給される。そして、処理液は
上記巻回部２９を通って先端のノズル口３１から基板Ｗ
に向けて吐出される。
【００２７】上記ノズル管２７の上記供給制御弁３２よ
りも下流側で、水平部２７ｂの垂直部２７ａ側の端部に
は排液制御弁３３が設けられた排液管３４の一端が接続
されている。この排液管３４の他端は図示しない排液部
に連通している。
りも下流側で、水平部２７ｂの垂直部２７ａ側の端部に
は排液制御弁３３が設けられた排液管３４の一端が接続
されている。この排液管３４の他端は図示しない排液部
に連通している。
【００２８】上記供給制御弁３２と上記排液制御弁３３
とは上記制御装置１４によって開閉が制御される。つま
り、上記排液制御弁３３は、上記供給制御弁３２が開の
ときに閉に制御され、閉のときには開に制御されるよう
になっている。
とは上記制御装置１４によって開閉が制御される。つま
り、上記排液制御弁３３は、上記供給制御弁３２が開の
ときに閉に制御され、閉のときには開に制御されるよう
になっている。
【００２９】つぎに、上記構成のスピン処理装置を用い
て基板Ｗを処理する動作について説明する。回転テーブ
ル３に基板Ｗを図示しないロボットによって供給したな
らば、この回転テーブル３を回転させる。回転テーブル
３を回転させたならば、回転モータ２４を作動してアー
ム体２２を回転テーブル３の径方向に所定の範囲で往復
動させるとともに、供給制御弁３２を開いてノズル管２
７の先端のノズル口３１から基板Ｗに向けてたとえば純
水などの処理液を吐出する。それによって、基板Ｗの上
面を処理液によって所定の処理、たとえば洗浄処理する
ことができる。
て基板Ｗを処理する動作について説明する。回転テーブ
ル３に基板Ｗを図示しないロボットによって供給したな
らば、この回転テーブル３を回転させる。回転テーブル
３を回転させたならば、回転モータ２４を作動してアー
ム体２２を回転テーブル３の径方向に所定の範囲で往復
動させるとともに、供給制御弁３２を開いてノズル管２
７の先端のノズル口３１から基板Ｗに向けてたとえば純
水などの処理液を吐出する。それによって、基板Ｗの上
面を処理液によって所定の処理、たとえば洗浄処理する
ことができる。
【００３０】洗浄処理が終了したならば、供給制御弁３
２を閉じて処理液の供給を停止し、排液制御弁３３を開
いてノズル管２７内に残留する処理液を排出する。それ
と同時に、回転テーブル３を基板Ｗの洗浄処理時に比べ
て高速度で回転し、基板Ｗに付着残留する処理液を遠心
力によって除去することで、基板Ｗの乾燥処理を行な
う。
２を閉じて処理液の供給を停止し、排液制御弁３３を開
いてノズル管２７内に残留する処理液を排出する。それ
と同時に、回転テーブル３を基板Ｗの洗浄処理時に比べ
て高速度で回転し、基板Ｗに付着残留する処理液を遠心
力によって除去することで、基板Ｗの乾燥処理を行な
う。
【００３１】基板Ｗを乾燥処理したならば、アーム体２
３を回転テーブル３の上方から退避させたのち、基板Ｗ
を回転テーブル３から図示しないロボットによって搬出
する。ついで、未処理の基板Ｗを上記回転テーブル３に
供給し、上述した処理液による処理及びその後の乾燥処
理を繰り返して行なう。
３を回転テーブル３の上方から退避させたのち、基板Ｗ
を回転テーブル３から図示しないロボットによって搬出
する。ついで、未処理の基板Ｗを上記回転テーブル３に
供給し、上述した処理液による処理及びその後の乾燥処
理を繰り返して行なう。
【００３２】洗浄処理が終了した基板Ｗ、とくに乾燥処
理時や乾燥処理が終了した基板Ｗに、ノズル管２７から
処理液が滴下することがあり、乾燥処理の終了後に処理
液が滴下すると、汚れの原因になることがある。
理時や乾燥処理が終了した基板Ｗに、ノズル管２７から
処理液が滴下することがあり、乾燥処理の終了後に処理
液が滴下すると、汚れの原因になることがある。
【００３３】しかしながら、この発明では、ノズル管２
７の先端部２７ｃに液垂れ防止部２８としての巻回部２
９を形成し、さらにノズル管２７の垂直部２７ａには供
給制御弁３２、水平部２７ｂには排液制御弁３３を有す
る排液管３４を接続した。
７の先端部２７ｃに液垂れ防止部２８としての巻回部２
９を形成し、さらにノズル管２７の垂直部２７ａには供
給制御弁３２、水平部２７ｂには排液制御弁３３を有す
る排液管３４を接続した。
【００３４】そして、基板Ｗの処理液による処理が終了
すると同時に上記供給制御弁３２は閉じられ、上記排液
制御弁３３は開かれる。それによって、ノズル管２７の
水平部２７ｂに残留する処理液のほとんどは排出され
る。
すると同時に上記供給制御弁３２は閉じられ、上記排液
制御弁３３は開かれる。それによって、ノズル管２７の
水平部２７ｂに残留する処理液のほとんどは排出され
る。
【００３５】上記排液管３４を通じてノズル管２７内に
残留する処理液を排出することで、その処理液の流れに
よって上記巻回部２９に残留する処理液は水平部２７ｂ
側に引き込まれるため、処理液がノズル３１に液滴状と
なって残留することがない。しかも、ノズル管２７の先
端部２７ｃは巻回部２９に形成されていることで、ノズ
ル管２７内に残留する処理液が流出し難くなる。
残留する処理液を排出することで、その処理液の流れに
よって上記巻回部２９に残留する処理液は水平部２７ｂ
側に引き込まれるため、処理液がノズル３１に液滴状と
なって残留することがない。しかも、ノズル管２７の先
端部２７ｃは巻回部２９に形成されていることで、ノズ
ル管２７内に残留する処理液が流出し難くなる。
【００３６】そのため、この巻回部２９の抵抗と、上記
排液管３４からの排液による引き込み作用とによって上
記ノズル口３１から処理液が滴下するのを防止できるか
ら、乾燥処理時や乾燥処理終了後に基板Ｗが処理液によ
って汚されるのを防止することができる。
排液管３４からの排液による引き込み作用とによって上
記ノズル口３１から処理液が滴下するのを防止できるか
ら、乾燥処理時や乾燥処理終了後に基板Ｗが処理液によ
って汚されるのを防止することができる。
【００３７】上記排液管３４の水平部２７ｂから処理液
が排出されることで、アーム体２２を介してノズル管２
７に振動などが加わっても、巻回部２９に残留する処理
液に圧力変動が生じにくい。そのため、ノズル管２７に
振動などが加わっても、巻回部２９に残留する処理液が
ノズル口３１から滴下するのを防止することができる。
が排出されることで、アーム体２２を介してノズル管２
７に振動などが加わっても、巻回部２９に残留する処理
液に圧力変動が生じにくい。そのため、ノズル管２７に
振動などが加わっても、巻回部２９に残留する処理液が
ノズル口３１から滴下するのを防止することができる。
【００３８】上記一実施の形態では、巻回部２９の上端
をノズル管２７の水平部２７ｂとほぼ同じ高さにした
が、図３に示すように巻回部２９の上端２９ａを、水平
部２７よりも高くなるよう形成してもよい。
をノズル管２７の水平部２７ｂとほぼ同じ高さにした
が、図３に示すように巻回部２９の上端２９ａを、水平
部２７よりも高くなるよう形成してもよい。
【００３９】また、液垂れ防止部としては巻回部２９に
代わり、図４に示すように水平部２７ｂの先端部にこの
水平部２７ｂよりも高く逆Ｕ字状の湾曲部４１を形成す
るようにしてもよい。
代わり、図４に示すように水平部２７ｂの先端部にこの
水平部２７ｂよりも高く逆Ｕ字状の湾曲部４１を形成す
るようにしてもよい。
【００４０】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、ノズル
管の先端のノズル口から処理液が垂れるのを防止する液
垂れ防止部を設け、しかも処理液の供給を停止したとき
に、ノズル管内の処理液を排液管から排出するようにし
た。
管の先端のノズル口から処理液が垂れるのを防止する液
垂れ防止部を設け、しかも処理液の供給を停止したとき
に、ノズル管内の処理液を排液管から排出するようにし
た。
【００４１】そのため、上記液垂れ防止部の抵抗と、上
記排液管から処理液を排出することでノズル管に生じる
引き込み力とにより、被処理物を乾燥処理するときや乾
燥処理後に処理液がノズル口から滴下するのを防止する
ことができる。
記排液管から処理液を排出することでノズル管に生じる
引き込み力とにより、被処理物を乾燥処理するときや乾
燥処理後に処理液がノズル口から滴下するのを防止する
ことができる。
【図１】この発明の一実施の形態のスピン処理装置を示
す断面図。
す断面図。
【図２】ノズル管の形状を示す図。
【図３】この発明の液垂れ防止部の変形例を示す図。
【図４】この発明の液垂れ防止部のさらに他の変形例を
示す図。
示す図。
３…回転テーブル
２２…アーム体
２７…ノズル管
３１…ノズル口
３２…供給制御弁
３３…排液制御弁
３４…排液管
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｂ０８Ｂ 3/02 Ｂ０８Ｂ 3/02 Ｂ
(72)発明者 磯 明典
神奈川県横浜市栄区笠間二丁目５番１号
芝浦メカトロニクス株式会社横浜事業所内
(72)発明者 山崎 貴弘
神奈川県横浜市栄区笠間二丁目５番１号
芝浦メカトロニクス株式会社横浜事業所内
Ｆターム(参考） 3B201 AA01 AB33 AB47 BB22 BB92
CC13 CD33
4F035 AA04 BA06 BA15
Claims (3)
- 【請求項１】 被処理物に処理液を供給する供給装置に
おいて、 上記処理液が供給されその処理液を先端のノズル口から
吐出するノズル管と、 このノズル管の先端部に形成され処理液の非供給時にノ
ズル管内の処理液が上記ノズル口から滴下するのを阻止
する液垂れ防止部と、 上記ノズル管に設けられこのノズル管への処理液の供給
を制御する供給制御弁と、 上記ノズル管から分岐された排液管と、 この排液管に設けられ上記供給制御弁を閉じて処理液の
供給を停止したときに開放されて上記ノズル管内に残留
する処理液を排出する排液制御弁とを具備したことを特
徴とする処理液の供給装置。 - 【請求項２】 上記液垂れ防止部は、上記ノズル管をル
ープ状に巻回してなることを特徴とする請求項１記載の
処理液の供給装置。 - 【請求項３】 被処理物に処理液を供給して処理する処
理装置において、 上記被処理物を保持して回転駆動される回転テーブル
と、 この回転テーブルの上方に配置され回転テーブルの径方
向に沿って揺動駆動されるアーム体と、 このアーム体に設けられ上記処理液が供給されるととも
にその処理液を先端のノズル口から吐出するノズル管
と、 このノズル管の先端部に形成され処理液の非供給時にノ
ズル管内の処理液が上記ノズル口から滴下するのを阻止
する液垂れ防止部と、 上記ノズル管に設けられこのノズル管への処理液の供給
を制御する供給制御弁と、 上記ノズル管から分岐された排液管と、 この排液管に設けられ上記供給制御弁を閉じて処理液の
供給を停止するときに開放されて上記ノズル管内に残留
する処理液を排出する排液制御弁とを具備したことを特
徴とする処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002015896A JP3999523B2 (ja) | 2002-01-24 | 2002-01-24 | 被処理物の処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002015896A JP3999523B2 (ja) | 2002-01-24 | 2002-01-24 | 被処理物の処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003218081A true JP2003218081A (ja) | 2003-07-31 |
| JP3999523B2 JP3999523B2 (ja) | 2007-10-31 |
Family
ID=27652128
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002015896A Expired - Fee Related JP3999523B2 (ja) | 2002-01-24 | 2002-01-24 | 被処理物の処理装置 |
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|---|---|---|---|---|
| JP2007042856A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Pre-Tech Co Ltd | 洗浄装置および洗浄液垂れ落ち防止方法 |
| JP2015177090A (ja) * | 2014-03-17 | 2015-10-05 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 処理液供給装置 |
| JP2016182540A (ja) * | 2015-03-25 | 2016-10-20 | 旭有機材株式会社 | 液体吐出装置 |
| JP2017176917A (ja) * | 2016-03-28 | 2017-10-05 | 株式会社テックインテック | 処理液吐出装置 |
| JP2017224701A (ja) * | 2016-06-15 | 2017-12-21 | 三菱電機株式会社 | 薬液ノズルおよび回転塗布装置 |
| JP2018077506A (ja) * | 2017-12-26 | 2018-05-17 | 株式会社ニコン | 培地供給装置、顕微鏡システム |
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| KR102376782B1 (ko) * | 2017-05-11 | 2022-03-22 | 주식회사 케이씨텍 | 약액 누설 방지 장치 및 약액 누설 방지 방법 |
-
2002
- 2002-01-24 JP JP2002015896A patent/JP3999523B2/ja not_active Expired - Fee Related
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