JP2010050226A - 基板の処理装置及び処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板を回転させながら処理液によって処理する基板の処理装置であって、
基板を保持して回転駆動される回転テーブル16と、回転テーブルの上方に設けられ基板を横切る方向に駆動されならが基板に処理液を供給する第1のノズル体46と、基板の中心部に向けて処理液を供給し第1のノズル体によって基板の中心部以外の部分が処理されているときに基板の中心部が乾燥するのを防止する第2のノズル体54を具備する。
【選択図】 図1
Description
上記基板を保持して回転駆動される回転テーブルと、
この回転テーブルの上方に設けられ上記基板を横切る方向に駆動されならが上記基板に上記処理液を供給する処理液供給手段と、
上記基板の中心部に向けて処理液を供給し上記処理液供給手段によって上記基板の中心部以外の部分が処理されているときに上記基板の中心部が乾燥するのを防止する乾燥防止手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
を具備することが好ましい。
上記基板を回転駆動させる工程と、
回転駆動される上記基板の上面にこの上面を横切る方向に上記処理液を供給して上記基板を処理する工程と、
上記基板の中心部に向けて上記処理液を供給し上記基板の中心部以外の部分が上記処理液によって処理されているときに上記基板の中心部が乾燥するのを防止する工程と
を具備したことを特徴とする基板の処理方法にある。
図1乃至図5はこの発明の第1の実施の形態を示し、図1に示すスピン処理装置は処理槽1を備えている。この処理槽1内にはカップ体2が配置されている。このカップ体2は、上記処理槽1の底板上に設けられた下カップ3と、この下カップ3に対して図示しない上下駆動機構により上下動可能に設けられた上カップ4とからなる。
半導体ウエハWを回転テーブル16に保持し、この回転テーブル16を所定の回転数で回転させたならば、アーム体47の先端の取付け部材48に設けられた第1のノズル体46からミスト状の処理液を半導体ウエハWに向けて噴射する。
Claims (5)
- 基板を回転させながら処理液によって処理する基板の処理装置であって、
上記基板を保持して回転駆動される回転テーブルと、
この回転テーブルの上方に設けられ上記基板を横切る方向に駆動されならが上記基板に上記処理液を供給する処理液供給手段と、
上記基板の中心部に向けて処理液を供給し上記処理液供給手段によって上記基板の中心部以外の部分が処理されているときに上記基板の中心部が乾燥するのを防止する乾燥防止手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。 - 上記回転テーブルの上方には基端を支点として水平方向に円弧運動するアーム体が設けられ、このアーム体の先端には上記処理液供給手段及び上記アーム体の円弧運動に応じて首振りして上記基板の中心部に上記処理液を供給する上記乾燥防止手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 上記乾燥防止手段を駆動して首振りさせる首振り機構と、上記アーム体の円弧運動に応じて上記乾燥防止手段からの処理液が上記基板の中心部に供給されるよう上記乾燥防止手段の首振り角度を制御する制御手段と
を具備することを特徴とする請求項2記載の基板の処理装置。 - 基板を回転させながら処理液によって処理する基板の処理方法であって、
上記基板を回転駆動させる工程と、
回転駆動される上記基板の上面にこの上面を横切る方向に上記処理液を供給して上記基板を処理する工程と、
上記基板の中心部に向けて上記処理液を供給し上記基板の中心部以外の部分が上記処理液によって処理されているときに上記基板の中心部が乾燥するのを防止する工程と
を具備したことを特徴とする基板の処理方法。 - 処理液を上記基板の中心部に供給しているときに、その中心部に液状の処理液の供給を停止することを特徴とする請求項4記載の基板の処理方法。
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