JP6695735B2 - 液処理装置、その制御方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
FP=F1+F2+F(y)
ここで、
力FPは、操作圧力PPに由来する弁体212を開こうとする力であり、
力F1は、一次側圧力P1に由来する弁体212を閉じようとする力であり、
力F2は、二次側圧力P2に由来する弁体212を閉じようとする力であり、
力F(y)は、バネ220の反発力により弁体を閉じようとする力であり、弁体の上下方向位置の一次関数である。
力F1は、弁体212の一次側圧力の受圧面積と下ダイアフラム216の一次側圧力の受圧面積との差により決定される。公知の定圧弁では、弁体212の一次側圧力の受圧面積と下ダイアフラム216の一次側圧力の受圧面積が、力F1がゼロになるように決定されているか、あるいは力F1とF(y)とが打ち消し合うように決定されている。いずれにせよ、定圧弁200としての機能を実現するためには、F1+F(y)は定数と見なせるか、変数であるとしても概ね無視できる程度の変動しかしないように定圧弁200の形状寸法パラメータが決定されているので、本明細書の開示を理解するという目的の下では、近似的にFP=F2+C(Cは定数)と考えてよい。
V1が、第1開閉弁114の状態(1が開、0が閉)
P1が、定圧弁200の一次側圧力(0〜150kPa)
V2が、第2開閉弁118の状態(1が開、0が閉)
P2が、定圧弁200の二次側圧力(0〜150kPa)
PPが、定圧弁200の操作ポート222に与えられる操作圧力(0〜200kPa)
VRSが、定圧弁200の弁体212の状態(0が全閉、1が開(開度不問))
VRJが、定圧弁200の弁体212と上ダイアフラム214との関係(0が密接、1が隙間有り)
をそれぞれ示している。
また、最上段に記載された数字1〜4は、動作フェーズ(詳細は下記)を示している。
フェーズ1は、基板処理システムの運転が完全に停止している段階である。このとき、第1開閉弁114が閉、定圧弁200の一次側圧力P1が0kPa、第2開閉弁118が閉、定圧弁200の二次側圧力P2が0kPa、定圧弁200の弁体212が全閉(弁座に着座)、定圧弁200の弁体212と上ダイアフラム214とが密接、となっている。なお、定圧弁200の弁体212と上ダイアフラム214とが密接している理由は、後述のフェーズ5で示したようなシャットダウンの手順を踏んでいるからである。
フェーズ2では、各処理ユニット16にそれぞれ対応する処理液供給機構(ノズル41、第1、第2開閉弁114,118、定圧弁200、電空レギュレータ300等からなる)を、ノズル41からウエハWに処理液を吐出できる状態(以下、「吐出待機状態」とも呼ぶ)に移行させる吐出準備手順が実行される。まず、弁体212が弁座に着座している状態にある定圧弁200を全開状態に移行させる。すなわち、時点t1において、電空レギュレータ300から定圧弁200の操作ポート222に供給される操作圧力PPを、ゼロから200kPaに立ち上げる。以下、この200kPaの操作圧力PPを「待機時操作圧力」とも呼ぶこととする。これにより、定圧弁200の弁体212が弁座210から離れる。
フェーズ3ではノズル41からウエハWへの吐出サイクル(吐出待機→吐出開始→吐出停止→吐出待機)が繰り返し行われる。
フェーズ3の吐出サイクルが(吐出待機→吐出開始→吐出停止→吐出待機)が1回または複数回繰り返し行われた後、例えば当分の間この処理ユニット16(または基板処理システム1全体)で処理を行う予定が無い場合には、フェーズ4にて装置のシャットダウンが行われる。
4 制御部(制御装置)
30 基板保持部
41 ノズル
112 処理液供給ライン(分岐ライン)
116 流量計
118 下流側開閉弁(第2開閉弁)
200 定圧弁
202 弁箱
208 弁室
208a 上流側弁室
208b 下流側弁室
212 弁体
214 ダイアフラム(上ダイアフラム)
220 バネ
221 操作圧力室
300 操作圧力供給部(電空レギュレータ)
PP 操作圧力
P2 二次側圧力
Claims (10)
- 被処理体に処理液を供給するノズルと、
前記ノズルに処理液を供給する処理液供給ラインと、
前記処理液供給ラインに設けられた定圧弁と、
前記定圧弁と前記ノズルの間の前記処理液供給ラインに設けられた下流側開閉弁と、
前記定圧弁に、操作圧力を供給する操作圧力供給部と、
前記下流側開閉弁の開閉動作、及び前記操作圧力供給部から前記定圧弁に供給される操作圧力を制御する制御部と、
を備え、
前記定圧弁は、弁室及び弁座を有する弁箱と、前記弁室内に移動可能に設けられた弁体と、前記弁体を閉弁方向に付勢するバネと、を有しており、
前記弁室は、前記弁体が閉弁したときに前記弁体より上流側にある上流側弁室と、前記弁体より下流側にある下流側弁室とを有し、前記弁体にダイアフラムが連結されており、前記ダイアフラムの第1面は前記下流側弁室に面しており、前記ダイアフラムの前記第1面と反対側の第2面に面して前記操作圧力が印加される操作圧力室が設けられており、前記操作圧力室に印加される操作圧力により前記ダイアフラムは前記弁体に開弁方向の力を印加するようになっており、前記弁体と前記ダイアフラムとは、相互に連結された状態を維持しながら前記弁体の移動方向に相対変位が可能であり、
前記制御部は、前記下流側開閉弁を閉じることと、その後、前記定圧弁の調圧作用により前記定圧弁が閉弁した後に前記操作圧力が前記定圧弁の二次側圧力を下回ることがないように、前記操作圧力供給部から供給される前記操作圧力を制御することと、を実行する
液処理装置。 - 前記制御部は、前記下流側開閉弁が閉じられかつ前記定圧弁が閉弁しているときに前記操作圧力を前記定圧弁の二次側圧力を下回ることがないように制御するときに、前記操作圧力を前記定圧弁の一次側圧力よりも高い圧力まで上昇させる、請求項1記載の液処理装置。
- 被処理体に処理液を供給するノズルと、
前記ノズルに処理液を供給する処理液供給ラインと、
前記処理液供給ラインに設けられた定圧弁と、
前記定圧弁と前記ノズルの間の前記処理液供給ラインに設けられた下流側開閉弁と、
前記定圧弁に、操作圧力を供給する操作圧力供給部と、
前記下流側開閉弁の開閉動作、及び前記操作圧力供給部から前記定圧弁に供給される操作圧力を制御する制御部と、
を備え、
前記定圧弁は、弁室及び弁座を有する弁箱と、前記弁室内に移動可能に設けられた弁体と、前記弁体を閉弁方向に付勢するバネと、を有しており、
前記制御部は、前記下流側開閉弁を閉じることと、その後、前記定圧弁の調圧作用により前記定圧弁が閉弁する前に前記操作圧力を上昇させて前記定圧弁の閉弁を防止することと、を実行する、液処理装置。 - 前記制御部は、前記操作圧力を上昇させて前記定圧弁の閉弁を防止するときに、前記操作圧力を少なくとも前記定圧弁の一次側圧力よりも高い圧力まで上昇させる、請求項3記載の液処理装置。
- 前記弁室は、前記弁体が閉弁したときに前記弁体より上流側にある上流側弁室と、前記弁体より下流側にある下流側弁室とを有し、前記弁体にダイアフラムが連結されており、前記ダイアフラムの第1面は前記下流側弁室に面しており、前記ダイアフラムの前記第1面と反対側の第2面に面して前記操作圧力が印加される操作圧力室が設けられており、前記操作圧力室に印加される操作圧力により前記ダイアフラムは前記弁体に開弁方向の力を印加するようになっている、請求項3記載の液処理装置。
- 前記処理液供給ラインに設けられた流量計をさらに備え、前記制御部は、前記下流側開閉弁を開いて前記ノズルから被処理体に処理液を供給するときに、前記流量計により測定された流量に基づいて、当該流量が目標値となるように前記操作圧力をフィードバック制御する、請求項1から5のうちのいずれか一項に記載の液処理装置。
- 被処理体に処理液を供給するノズルと、
前記ノズルに処理液を供給する処理液供給ラインと、
前記処理液供給ラインに設けられ、弁室及び弁座を有する弁箱と、前記弁室内に移動可能に設けられた弁体と、前記弁体を閉弁方向に付勢するバネと、を有する定圧弁と、
前記定圧弁と前記ノズルの間の前記処理液供給ラインに設けられた下流側開閉弁と、
前記定圧弁に、操作圧力を供給する操作圧力供給部と、
を備えた液処理装置の制御方法であって、
前記弁室は、前記弁体が閉弁したときに前記弁体より上流側にある上流側弁室と、前記弁体より下流側にある下流側弁室とを有し、前記弁体にダイアフラムが連結されており、前記ダイアフラムの第1面は前記下流側弁室に面しており、前記ダイアフラムの前記第1面と反対側の第2面に面して前記操作圧力が印加される操作圧力室が設けられており、前記操作圧力室に印加される操作圧力により前記ダイアフラムは前記弁体に開弁方向の力を印加するようになっており、前記弁体と前記ダイアフラムとは、相互に連結された状態を維持しながら前記弁体の移動方向に相対変位が可能であり、
前記制御方法が、
前記ノズルから被処理体に処理液を供給した後に前記下流側開閉弁を閉じることと、
その後、前記定圧弁の調圧作用により前記定圧弁が閉弁した後に前記操作圧力が前記定圧弁の二次側圧力を下回ることがないように、前記操作圧力供給部から供給される前記操作圧力を制御することと、
を備えている、制御方法。 - 被処理体に処理液を供給するノズルと、
前記ノズルに処理液を供給する処理液供給ラインと、
前記処理液供給ラインに設けられ、弁室及び弁座を有する弁箱と、前記弁室内に移動可能に設けられた弁体と、前記弁体を閉弁方向に付勢するバネと、を有する定圧弁と、
前記定圧弁と前記ノズルの間の前記処理液供給ラインに設けられた下流側開閉弁と、
前記定圧弁に、操作圧力を供給する操作圧力供給部と、
を備えた液処理装置の制御方法であって、
前記ノズルから被処理体に処理液を供給した後に前記下流側開閉弁を閉じることと、
その後、前記定圧弁の調圧作用により前記定圧弁が閉弁する前に前記操作圧力を上昇させて前記定圧弁の閉弁を防止することと、
を備えた制御方法。 - 前記操作圧力供給部から供給される前記操作圧力を制御することは、前記操作圧力を前記定圧弁の一次側圧力よりも高い圧力まで上昇させることを含む、請求項7記載の制御方法。
- 液処理装置の動作を制御するためのコンピュータにより実行されたときに、前記コンピュータが前記液処理装置を制御して請求項7から9のうちのいずれか一項に記載の制御方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体。
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