JP6455255B2 - 画像形成装置及びプロセスカートリッジ - Google Patents
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Description
本発明は、画像形成装置及びプロセスカートリッジに関する。
電子写真方式の画像形成装置は、一般的に、電子写真感光体（以下、「感光体」と記す場合がある。）、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、定着手段などを備えて構成されている。
特許文献１には、「基材に感光膜を浸漬塗布法により形成してなるとともに回転する感光体と、この感光体における前記感光膜の浸漬塗布引き上げ時に上方側に位置する上端部から内側の部位に設定される当接開始位置から始まる領域に接触帯電部材を感光体の軸方向に沿った状態で当接させ、その感光体を帯電させる帯電装置とを有する画像形成装置であって、前記感光体の寿命予定回転数をＡ（回転）、その感光体の１回転当たりにおける前記感光膜の磨耗量をＢ（μｍ）、その感光体の前記帯電装置による帯電電位（絶対値）をＣ（Ｖ）、その感光体の帯電電圧付与時間に対する絶縁破壊電界強度をＤ（Ｖ／μｍ）としたとき、前記接触帯電部材の当接開始位置を、前記感光体における感光膜の膜厚が「Ｃ÷Ｄ＋Ａ×Ｂ」から求められる値以上でかつ「画像形成領域における感光膜の平均膜厚−２μｍ」から求められる値以下である部位に設定したことを特徴とする画像形成装置」が開示されている。
特許文献２には、「少なくとも電子写真感光体およびクリーニング部材を有する電子写真装置において、該電子写真感光体が支持体上に電荷発生層および電荷輸送層をこの順に有し、該電荷輸送層が少なくとも電荷輸送物質と、結着樹脂として粘度平均分子量が５万以上の鎖状熱可塑性樹脂を含有し、該電荷輸送層が下記式（１）を満たす膜厚プロフィールを有し、かつ、クリーニング部材としてのゴムブレードを該電子写真感光体に当接していることを特徴とする電子写真装置
（塗布開始位置から７ｍｍの位置の膜厚）≧（塗布中央部の膜厚）×０．７５ ：式（１）
（但し、塗布中央部の膜厚は２２μｍ以上）」が開示されている。
（塗布開始位置から７ｍｍの位置の膜厚）≧（塗布中央部の膜厚）×０．７５ ：式（１）
（但し、塗布中央部の膜厚は２２μｍ以上）」が開示されている。
特許文献３には、「プロセススピードが２５０ｍｍ／ｓｅｃ以上である電子写真装置において、電子写真感光体が支持体上に電荷発生層および電荷輸送層をこの順に有し、該電荷輸送層が下記式（１）を満たす膜厚プロフィールを有し、かつ、クリーニング部材としてのゴムブレードを該電子写真感光体に当接していることを特徴とする電子写真装置
（塗布開始位置から７ｍｍの位置の膜厚）≧（塗布中央部の膜厚）×０．８０ ：式（１）」が開示されている。
（塗布開始位置から７ｍｍの位置の膜厚）≧（塗布中央部の膜厚）×０．８０ ：式（１）」が開示されている。
特許文献４には、「基体上に浸漬塗布により形成された感光膜を有する電子写真感光体において、感光膜が、画像形成領域および画像形成領域を覆う帯電領域を有し、帯電領域における画像形成領域の外側部分のうちの、浸漬塗布時に下方に位置する部分の膜厚Ａが、画像形成領域における浸漬塗布時に下方に位置する端部の膜厚Ｂよりも大きいことを特徴とする電子写真感光体」が開示されている。
特許文献５には、「電子写真感光体と、該感光体に接触配置された帯電用部材とを有し、前記電子写真感光体の表面層の中央部領域の膜厚ｄ1と端部側領域の膜厚ｄ2との比率が下記の式（１）の範囲内にあり、
０．５０≦ｄ2／ｄ1≦１．２０ （１）
前記帯電用部材の帯電幅領域における端部側部分の電気抵抗値を、中央部領域部分の電気抵抗値より高く分布させたことを特徴とする電子写真装置」が開示されている。
０．５０≦ｄ2／ｄ1≦１．２０ （１）
前記帯電用部材の帯電幅領域における端部側部分の電気抵抗値を、中央部領域部分の電気抵抗値より高く分布させたことを特徴とする電子写真装置」が開示されている。
特許文献６には、「円筒状の導電性基体に少なくとも感光層を含む塗布層を有する電子写真感光体を用い、帯電工程、露光工程、トナーを含む現像剤による現像工程、トナー像転写工程、電子写真感光体に残留するトナーをクリーニング手段で除去する工程を繰り返して画像を形成する画像形成方法において、該電子写真感光体の画像形成幅方向の中央部の塗布層膜厚の平均値をＰ（μｍ）、画像形成領域外での膜厚の最大値の平均をＰｍａｘ（μｍ）、該最大値を形成している点から、塗布層端部までの距離の平均値をＤ（μｍ）とすると、下記式（１）及び式（２）を共に満足する形状であって、前記帯電工程は前記電子写真感光体に帯電部材を接触させて帯電することを特徴とする画像形成方法。
式（１） ０＜Ｐｍａｘ＜２Ｐ
式（２） ２≦（Ｐｍａｘ／Ｄ）×１００≦５０」が開示されている。
式（１） ０＜Ｐｍａｘ＜２Ｐ
式（２） ２≦（Ｐｍａｘ／Ｄ）×１００≦５０」が開示されている。
本発明は、導電性基体及び導電性基体上に配置された少なくとも感光層を含む有機物層を有する電子写真感光体と、電子写真感光体の表面に接触して電子写真感光体の表面を帯電させる帯電部材と、電子写真感光体の表面に接触して電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング部材と、を備え、帯電部材との接触領域における有機物層の平均総膜厚をｄ、帯電部材との非接触領域であり、かつ電子写真感光体の軸方向における帯電部材との接触領域の端部からクリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａにおける有機物層の総膜厚をｄ’、クリーニング部材との非接触領域で、かつ電子写真感光体の軸方向におけるクリーニング部材との接触領域の端部から総膜厚最大部までの領域Ｂにおける有機物層の総膜厚をｄ’’、有機物層の総膜厚最大部の総膜厚をｄ’’ｍａｘ、としたときに、電子写真感光体の軸方向における電子写真感光体とクリーニング部材との接触領域が、電子写真感光体と帯電部材との接触領域よりも広く、かつ、電子写真感光体の一端部において、ｄ’／ｄ＜０．９７、ｄ’’／ｄ＜０．９７、及びｄ’’ｍａｘ／ｄ＜１．０３となる場合に比べ、電子写真感光体の軸方向端部における絶縁破壊に起因する画像欠陥の発生が抑制される画像形成装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、以下の発明が提供される。
請求項１の発明は、
導電性基体及び前記導電性基体上に配置された少なくとも感光層を含む有機物層を有する電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電部材と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング部材と、
を備え、
前記電子写真感光体の軸方向における前記電子写真感光体と前記クリーニング部材との接触領域が、前記電子写真感光体と前記帯電部材との接触領域よりも広く、
前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ前記有機物層の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、前記クリーニング部材との非接触領域に有し、
前記帯電部材との接触領域における前記有機物層の平均総膜厚をｄ、
前記帯電部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記帯電部材との接触領域の端部から前記クリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’、
前記クリーニング部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記クリーニング部材との接触領域の端部から前記総膜厚最大部までの領域Ｂにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’’、
前記有機物層の前記総膜厚最大部の総膜厚をｄ’’ｍａｘ、としたときに、前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係式（１）乃至（３）を全て満たす画像形成装置。
０．９７≦ｄ’／ｄ≦１．０３ （１）
０．９７≦ｄ’’／ｄ≦１．１ （２）
１．０３≦ｄ’’ｍａｘ／ｄ≦１．１ （３）
請求項１の発明は、
導電性基体及び前記導電性基体上に配置された少なくとも感光層を含む有機物層を有する電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電部材と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング部材と、
を備え、
前記電子写真感光体の軸方向における前記電子写真感光体と前記クリーニング部材との接触領域が、前記電子写真感光体と前記帯電部材との接触領域よりも広く、
前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ前記有機物層の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、前記クリーニング部材との非接触領域に有し、
前記帯電部材との接触領域における前記有機物層の平均総膜厚をｄ、
前記帯電部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記帯電部材との接触領域の端部から前記クリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’、
前記クリーニング部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記クリーニング部材との接触領域の端部から前記総膜厚最大部までの領域Ｂにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’’、
前記有機物層の前記総膜厚最大部の総膜厚をｄ’’ｍａｘ、としたときに、前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係式（１）乃至（３）を全て満たす画像形成装置。
０．９７≦ｄ’／ｄ≦１．０３ （１）
０．９７≦ｄ’’／ｄ≦１．１ （２）
１．０３≦ｄ’’ｍａｘ／ｄ≦１．１ （３）
請求項２の発明は、
前記電子写真感光体の軸方向における前記領域Ａの長さをａとしたときに、前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係を満たす請求項１に記載の画像形成装置。
１ｍｍ≦ａ≦５ｍｍ
前記電子写真感光体の軸方向における前記領域Ａの長さをａとしたときに、前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係を満たす請求項１に記載の画像形成装置。
１ｍｍ≦ａ≦５ｍｍ
請求項３の発明は、
前記電子写真感光体の軸方向における前記領域Ｂの長さをｂとしたときに、前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係を満たす請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。
０．１ｍｍ≦ｂ≦１０ｍｍ
前記電子写真感光体の軸方向における前記領域Ｂの長さをｂとしたときに、前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係を満たす請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。
０．１ｍｍ≦ｂ≦１０ｍｍ
請求項４の発明は、
前記電子写真感光体が、前記有機物層として、前記導電性基体側から、下引層と、電荷発生層及び電荷輸送層を含む感光層とを備え、前記有機物層の平均総膜厚ｄが２０μｍ以上７０μｍ以下の範囲にある請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
前記電子写真感光体が、前記有機物層として、前記導電性基体側から、下引層と、電荷発生層及び電荷輸送層を含む感光層とを備え、前記有機物層の平均総膜厚ｄが２０μｍ以上７０μｍ以下の範囲にある請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
請求項５の発明は、
前記電子写真感光体が、前記有機物層として、前記導電性基体側から、下引層と、電荷発生層と、電荷輸送層と、保護層とを備え、前記有機物層の平均総膜厚ｄが２０μｍ以上６０μｍ以下の範囲にある請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
前記電子写真感光体が、前記有機物層として、前記導電性基体側から、下引層と、電荷発生層と、電荷輸送層と、保護層とを備え、前記有機物層の平均総膜厚ｄが２０μｍ以上６０μｍ以下の範囲にある請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
請求項６の発明は、
前記電子写真感光体が、前記有機物層として単層型の前記感光層を備え、前記有機物層の平均総膜厚ｄが１５μｍ以上４０μｍ以下の範囲にある請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
前記電子写真感光体が、前記有機物層として単層型の前記感光層を備え、前記有機物層の平均総膜厚ｄが１５μｍ以上４０μｍ以下の範囲にある請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
請求項７の発明は、
導電性基体及び前記導電性基体上に配置された少なくとも感光層を含む有機物層を有する電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電部材と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング部材と、
を備え、
前記電子写真感光体の軸方向における前記電子写真感光体と前記クリーニング部材との接触領域が、前記電子写真感光体と前記帯電部材との接触領域よりも広く、
前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ前記有機物層の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、前記クリーニング部材との非接触領域に有し、
前記帯電部材との接触領域における前記有機物層の平均総膜厚をｄ、
前記帯電部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記帯電部材との接触領域の端部から前記クリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’、
前記クリーニング部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記クリーニング部材との接触領域の端部から前記総膜厚最大部までの領域Ｂにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’’、
前記有機物層の前記総膜厚最大部の総膜厚をｄ’’ｍａｘ、としたときに、前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係式（１）乃至（３）を全て満たし、画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。
０．９７≦ｄ’／ｄ≦１．０３ （１）
０．９７≦ｄ’’／ｄ≦１．１ （２）
１．０３≦ｄ’’ｍａｘ／ｄ≦１．１ （３）
導電性基体及び前記導電性基体上に配置された少なくとも感光層を含む有機物層を有する電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電部材と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング部材と、
を備え、
前記電子写真感光体の軸方向における前記電子写真感光体と前記クリーニング部材との接触領域が、前記電子写真感光体と前記帯電部材との接触領域よりも広く、
前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ前記有機物層の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、前記クリーニング部材との非接触領域に有し、
前記帯電部材との接触領域における前記有機物層の平均総膜厚をｄ、
前記帯電部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記帯電部材との接触領域の端部から前記クリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’、
前記クリーニング部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記クリーニング部材との接触領域の端部から前記総膜厚最大部までの領域Ｂにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’’、
前記有機物層の前記総膜厚最大部の総膜厚をｄ’’ｍａｘ、としたときに、前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係式（１）乃至（３）を全て満たし、画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。
０．９７≦ｄ’／ｄ≦１．０３ （１）
０．９７≦ｄ’’／ｄ≦１．１ （２）
１．０３≦ｄ’’ｍａｘ／ｄ≦１．１ （３）
請求項１の発明によれば、導電性基体及び導電性基体上に配置された少なくとも感光層を含む有機物層を有する電子写真感光体と、電子写真感光体の表面に接触して電子写真感光体の表面を帯電させる帯電部材と、電子写真感光体の表面に接触して電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング部材と、を備え、帯電部材との接触領域における有機物層の平均総膜厚をｄ、帯電部材との非接触領域で、かつ電子写真感光体の軸方向における帯電部材との接触領域の端部からクリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａにおける有機物層の総膜厚をｄ’、クリーニング部材との非接触領域で、かつ電子写真感光体の軸方向におけるクリーニング部材との接触領域の端部から総膜厚最大部までの領域Ｂにおける有機物層の総膜厚をｄ’’、有機物層の総膜厚最大部の総膜厚をｄ’’ｍａｘ、としたときに、電子写真感光体の軸方向における電子写真感光体とクリーニング部材との接触領域が、電子写真感光体と帯電部材との接触領域よりも広く、かつ、電子写真感光体の一端部において、ｄ’／ｄ＜０．９７、ｄ’’／ｄ＜０．９７、及びｄ’’ｍａｘ／ｄ＜１．０３となる場合に比べ、電子写真感光体の軸方向端部における絶縁破壊に起因する画像欠陥の発生が抑制される画像形成装置が提供される。
請求項２の発明によれば、前記電子写真感光体の軸方向における前記領域Ａの長さａが、前記電子写真感光体の少なくとも一端部においてａ＜１ｍｍ又はａ＞５ｍｍである場合に比べ、帯電部材の端部放電による局所摩耗の抑制及び装置の小型化が図られる画像形成装置が提供される。
請求項３の発明によれば、前記電子写真感光体の軸方向における前記領域Ｂの長さｂが、前記電子写真感光体の少なくとも一端部においてｂ＜０．１ｍｍ又はｂ＞１０ｍｍである場合に比べ、有機物層の摩耗の抑制及び装置の小型化が図られる画像形成装置が提供される。
請求項４の発明によれば、前記電子写真感光体が、前記有機物層として、前記導電性基体側から、下引層と、電荷発生層及び電荷輸送層を含む感光層とを備え、前記有機物層の平均総膜厚ｄが２０μｍ未満又は７０μｍを超える場合に比べ、電子写真感光体の軸方向端部における絶縁破壊に起因する画像欠陥の抑制及び材料コストの抑制が可能となる画像形成装置が提供される。
請求項５の発明によれば、前記電子写真感光体が、前記有機物層として、前記導電性基体側から、下引層と、電荷発生層と、電荷輸送層と、保護層とを備え、前記有機物層の平均総膜厚ｄが２０μｍ未満又は６０μｍを超える場合に比べ、電子写真感光体の軸方向端部における絶縁破壊に起因する画像欠陥の抑制及び材料コストの抑制が可能となる画像形成装置が提供される。
請求項６の発明によれば、前記電子写真感光体が、前記有機物層として単層型の感光層を備え、前記有機物層の平均総膜厚ｄが１５μｍ未満又は４０μｍを超える場合に比べ、電子写真感光体の軸方向端部における絶縁破壊に起因する画像欠陥の抑制及び材料コストの抑制が可能となる画像形成装置が提供される。
請求項７の発明によれば、導電性基体及び導電性基体上に配置された少なくとも感光層を含む有機物層を有する電子写真感光体と、電子写真感光体の表面に接触して電子写真感光体の表面を帯電させる帯電部材と、電子写真感光体の表面に接触して電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング部材と、を備え、帯電部材との接触領域における有機物層の平均総膜厚をｄ、帯電部材との非接触領域で、かつ電子写真感光体の軸方向における帯電部材との接触領域の端部からクリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａにおける有機物層の総膜厚をｄ’、クリーニング部材との非接触領域で、かつ電子写真感光体の軸方向におけるクリーニング部材との接触領域の端部から総膜厚最大部までの領域Ｂにおける有機物層の総膜厚をｄ’’、有機物層の総膜厚最大部の総膜厚をｄ’’ｍａｘ、としたときに、電子写真感光体の軸方向における電子写真感光体とクリーニング部材との接触領域が、電子写真感光体と帯電部材との接触領域よりも広く、かつ、電子写真感光体の一端部において、ｄ’／ｄ＜０．９７、ｄ’’／ｄ＜０．９７、及びｄ’’ｍａｘ／ｄ＜１．０３となる場合に比べ、電子写真感光体の軸方向端部における絶縁破壊に起因する画像欠陥の発生が抑制されるプロセスカートリッジが提供される。
以下、本実施形態に係る画像形成装置について詳細に説明する。
本実施形態に係る画像形成装置は、導電性基体及び前記導電性基体上に配置された少なくとも感光層を含む有機物層を有する電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電部材と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング部材と、
を備え、
前記電子写真感光体の軸方向における前記電子写真感光体と前記クリーニング部材との接触領域が、前記電子写真感光体と前記帯電部材との接触領域よりも広く、
前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ前記有機物層の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、前記クリーニング部材との非接触領域に有し、
前記帯電部材との接触領域における前記有機物層の平均総膜厚をｄ、
前記帯電部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記帯電部材との接触領域の端部から前記クリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’、
前記クリーニング部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記クリーニング部材との接触領域の端部から前記総膜厚最大部までの領域Ｂにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’’、
前記有機物層の前記総膜厚最大部の総膜厚をｄ’’ｍａｘ、としたときに、前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係式（１）乃至（３）を全て満たす画像形成装置。
０．９７≦ｄ’／ｄ≦１．０３ （１）
０．９７≦ｄ’’／ｄ≦１．１ （２）
１．０３≦ｄ’’ｍａｘ／ｄ≦１．１ （３）
本実施形態に係る画像形成装置において感光体の軸方向端部における絶縁破壊の発生が抑制される理由は、以下のように推測される。
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電部材と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング部材と、
を備え、
前記電子写真感光体の軸方向における前記電子写真感光体と前記クリーニング部材との接触領域が、前記電子写真感光体と前記帯電部材との接触領域よりも広く、
前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ前記有機物層の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、前記クリーニング部材との非接触領域に有し、
前記帯電部材との接触領域における前記有機物層の平均総膜厚をｄ、
前記帯電部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記帯電部材との接触領域の端部から前記クリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’、
前記クリーニング部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記クリーニング部材との接触領域の端部から前記総膜厚最大部までの領域Ｂにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’’、
前記有機物層の前記総膜厚最大部の総膜厚をｄ’’ｍａｘ、としたときに、前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係式（１）乃至（３）を全て満たす画像形成装置。
０．９７≦ｄ’／ｄ≦１．０３ （１）
０．９７≦ｄ’’／ｄ≦１．１ （２）
１．０３≦ｄ’’ｍａｘ／ｄ≦１．１ （３）
本実施形態に係る画像形成装置において感光体の軸方向端部における絶縁破壊の発生が抑制される理由は、以下のように推測される。
電子写真感光体の表面に帯電ロール等の帯電部材を接触させて感光体の表面を帯電させる接触帯電方式は、コロナ放電器を用いた非接触帯電方式と比較して低電圧化が図れ、オゾン発生量が減少する反面、帯電部材が感光体の表面と接触するため、画像形成を繰り返すうちに感光体の表面層の削れ量が大きくなり、特に、感光体の軸方向中央部よりも端部において偏って摩耗（偏摩耗）し易く、層の剥がれや絶縁破壊に至る場合がある。
一方、電子写真感光体としては、導電性基体上に各層に求められる機能に応じた材料、結着樹脂、溶媒等を含む塗布液によって感光層等を形成した有機感光体が主流となっており、簡便、高品質かつ高生産性の観点から、主に浸漬塗布法により生産されている。
しかし、浸漬塗布法では、塗布開始側（上端側）の塗膜が原理的に重力により流れて薄膜化し、感光層の薄い部位ほど電流値が大きくなるため厚膜部よりも摩耗し易い。また、薄膜であることから元々摩耗シロが少ないため、接触帯電方式を採用した画像形成装置では、感光体の上端側（塗布開始側）で層の剥がれや絶縁破壊が発生し易くなる。
しかし、浸漬塗布法では、塗布開始側（上端側）の塗膜が原理的に重力により流れて薄膜化し、感光層の薄い部位ほど電流値が大きくなるため厚膜部よりも摩耗し易い。また、薄膜であることから元々摩耗シロが少ないため、接触帯電方式を採用した画像形成装置では、感光体の上端側（塗布開始側）で層の剥がれや絶縁破壊が発生し易くなる。
そこで、本発明者らが鋭意検討した結果、帯電領域と感光体の有機物層の膜厚を規定するだけでは感光体の軸方向の両端部での偏摩耗による絶縁破壊の発生を抑制する対策としては不十分であり、クリーニング部材との接触領域も含めて感光体の有機物層の膜厚を適切に構成することが必要であることを見い出した。具体的には、画像形成装置内でクリーニング部材として設けられたクリーニングブレード（以下、ブレードと称する場合がある。）の端部に残留トナーが付着し、感光体の周方向に転写されると、ブレードの端部付近に相当する位置においてスジ状に付着したトナー（以下、「トナースジ」と称する場合がある）が発生する。特に、感光体の軸方向におけるブレードの端部の位置と帯電ロールの端部の位置が近いと、トナースジ部分の感光体の摩耗が促進され、特にトナースジ部分の感光体の有機物層の厚みが薄いと絶縁破壊に至り易いと考えられる。
これに対し、本実施形態に係る画像形成装置では、感光体と帯電部材との接触領域、感光体とクリーニング部材との接触領域、および感光体の有機物層の総膜厚が、特定の関係を有していることで、感光体の軸方向端部における有機物層の偏摩耗が抑制され、絶縁破壊の発生が抑制されると考えられる。
以下、本実施形態に係る画像形成装置及びプロセスカートリッジの一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。また、本実施形態に係る画像形成装置を構成する部材等について符号を省略する場合がある。
図１は、本実施形態に係る画像形成装置の構成の一例を概略的に示している。
図１に示す画像形成装置１００は、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０と、クリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）とを備える。
図１に示す画像形成装置１００は、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０と、クリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）とを備える。
電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）は、プロセスカートリッジ３００のハウジング内に一体に支持されている。
露光装置９は、プロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されている。転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
露光装置９は、プロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されている。転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成についてより具体的に説明する。なお、以下の説明では、接触帯電方式の帯電部材として帯電ロールを、クリーニング部材としてクリーニングブレードを備える場合について説明するが、本実施形態における帯電部材及びクリーニング部材はこれらに限定されない。
−電子写真感光体−
本実施形態における電子写真感光体は、導電性基体及び導電性基体上に配置された少なくとも感光層を含む有機物層を有する。
本実施形態における電子写真感光体は、導電性基体及び導電性基体上に配置された少なくとも感光層を含む有機物層を有する。
感光層としては、電荷発生材料を含む電荷発生層と電荷輸送材料を含む電荷輸送層とを積層した機能分離型の感光層でもよいし、電荷発生材料と電荷輸送材料が１つの層に含まれた単層型の感光層でもよい。また、導電性基体上に配置される感光層以外の有機物層としては、例えば、導電性基体と感光層との間に配置される下引層、下引層と感光層との間に配置される中間層、感光層上に配置される保護層が挙げられる。感光層以外のこれらの有機物層は必要に応じて設けられる。
図２は、本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を概略的に示している。図２に示す電子写真感光体は、導電性支持体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂ、保護層５がこの順に積層された層構成を有し、感光層２は電荷発生層２Ａ及び電荷輸送層２Ｂの２層から構成される。
図３は、本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を概略的に示している。図３に示す電子写真感光体は、導電性支持体１上に、下引層４、感光層６、保護層５がこの順に積層された層構成を有する。図３に示す電子写真感光体の感光層６は、図２に示す電荷発生層２Ａおよび電荷輸送層２Ｂの機能が一体となった単層型の感光層６である。
なお、本実施形態における電子写真感光体は、図２、図３に示す層構成に限定されず、例えば、下引層４及び保護層５は無くてもよいし、下引層４と感光層との間に中間層を有していてもよい。
なお、本実施形態における電子写真感光体は、図２、図３に示す層構成に限定されず、例えば、下引層４及び保護層５は無くてもよいし、下引層４と感光層との間に中間層を有していてもよい。
−帯電装置−
帯電装置における帯電部材８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ロールが使用される。本実施形態に係る画像形成装置は、帯電ロールが電子写真感光体７の表面に接触して電子写真感光体７の表面を帯電させる接触帯電方式である。
帯電装置における帯電部材８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ロールが使用される。本実施形態に係る画像形成装置は、帯電ロールが電子写真感光体７の表面に接触して電子写真感光体７の表面を帯電させる接触帯電方式である。
本実施形態における帯電ロール８としては、公知の帯電ロールを用いることができる。例えば、円筒状又は円柱状の棒状部材（シャフト）と、シャフトの外周面に配設された導電性弾性層と、導電性弾性層の外周面に配設された表面層と、を有するロール状の部材が挙げられる。
なお、本実施形態に係る画像形成装置における帯電部材８は、帯電ロールに限定されず、例えば、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を備えていてもよい。
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１（クリーニング部材の一例）を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１（クリーニング部材の一例）を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。
本実施形態におけるクリーニング部材としては、公知のクリーニングブレードを用いることができる。クリーニングブレード１３１は単層構造でもよいし、基材層と、電子写真感光体７に接触する表面層とからなる２層構造を有してもよい。クリーニングブレード１３１を構成する材料はポリウレタンからなる弾性ゴム部材であることが望ましい。
なお、本実施形態におけるクリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、繊維状部材を単独で、又はクリーニングブレード１３１とクリーニングを補助する繊維状部材を併用してもよい。
図１には、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
図４は、本実施形態における電子写真感光体７と、帯電部材（帯電ロール）８と、クリーニング部材（クリーニングブレード）１３１との関係について概略的に示している。なお、図４では、電子写真感光体の有機物層の膜厚を誇張して示している。
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体７の軸方向における電子写真感光体７とクリーニング部材１３１との接触領域が、電子写真感光体７と帯電部材８との接触領域よりも広く、電子写真感光体７の両端部においてそれぞれ有機物層３の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、クリーニング部材１３１との非接触領域に有している。
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体７の軸方向における電子写真感光体７とクリーニング部材１３１との接触領域が、電子写真感光体７と帯電部材８との接触領域よりも広く、電子写真感光体７の両端部においてそれぞれ有機物層３の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、クリーニング部材１３１との非接触領域に有している。
電子写真感光体７の表面は、帯電部材８との接触領域が帯電され、露光によって静電潜像が形成された後、トナー画像が形成され、中間転写体を介して又は直接記録媒体に転写される。例えば図４に示すように、帯電部材８との接触領域よりも内側がトナー画像が形成される領域（画像領域）となるため、電子写真感光体７の表面は帯電部材８との接触領域においてトナーが残留し易い。本実施形態では、電子写真感光体７に対して、クリーニング部材１３１が、帯電部材８よりも軸方向に広範囲に接触していることで電子写真感光体７の表面に残留するトナーが確実に除去される。
なお、本実施形態における電子写真感光体は、帯電部材との非接触領域で、かつ電子写真感光体の軸方向における帯電部材との接触領域の端部からクリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａの長さをａとしたときに、電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係を満たすことが好ましい。
１ｍｍ≦ａ≦５ｍｍ
領域Ａの長さａが１ｍｍ以上であることで、クリーニング部材端部付近に形成されるトナースジと帯電部材端部放電による局所摩耗が抑制される。また、領域Ａの長さａが５ｍｍ以下であることで、画像形成装置全体の小型化が図られる。
このような観点から、１ｍｍ≦ａ≦３ｍｍであることがより好ましい。
１ｍｍ≦ａ≦５ｍｍ
領域Ａの長さａが１ｍｍ以上であることで、クリーニング部材端部付近に形成されるトナースジと帯電部材端部放電による局所摩耗が抑制される。また、領域Ａの長さａが５ｍｍ以下であることで、画像形成装置全体の小型化が図られる。
このような観点から、１ｍｍ≦ａ≦３ｍｍであることがより好ましい。
また、電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ有機物層の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、クリーニング部材１３１との非接触領域に有し、クリーニング部材１３１に接触している有機物層の総膜厚が略一定となっていることで、クリーニング部材１３１端部での接触圧力の集中による感光体表面の偏摩耗の影響が抑制される。
有機物層３の総膜厚とは、導電性基体上に配置されている少なくとも感光層を含む有機物層３の厚みを合計した厚みであり、導電性基体の表面から電子写真感光体の最表面層の表面までの厚さ方向の厚みに等しい。
例えば、有機物層として単層型の感光層のみを有する単層型感光体の場合は、単層型感光層の膜厚が有機物層の総膜厚となる。また、例えば、有機物層として、下引層、電荷発生層、電荷輸送層が積層された三層構成の場合は、これら三層の合計膜厚が有機物層の総膜厚となり、さらに最表面層として保護層が積層された四層構成の場合は、これら四層の合計膜厚が有機物層の総膜厚となる。
例えば、有機物層として単層型の感光層のみを有する単層型感光体の場合は、単層型感光層の膜厚が有機物層の総膜厚となる。また、例えば、有機物層として、下引層、電荷発生層、電荷輸送層が積層された三層構成の場合は、これら三層の合計膜厚が有機物層の総膜厚となり、さらに最表面層として保護層が積層された四層構成の場合は、これら四層の合計膜厚が有機物層の総膜厚となる。
なお、本実施形態における電子写真感光体の有機物層の膜厚は、渦電流膜厚計（ＦＩＳＣＨＥＲ社製）を用いて以下のように求めた値を採用する。
有機物層の中央部の膜厚の平均値ｄは、中央部及び中央部から８０ｍｍずつ離れた各断面における互いに直角方向（周方向に９０°間隔）の４位置の１２カ所を測定し、その平均を採用した。
また、有機物層の端部の膜厚ｄ’およびｄ’’については、感光体軸方向に多点測定することで評価した。具体的には、有機物層の端部を０ｍｍとし、１ｍｍずつ測定個所を基体軸方向にずらし、中央部同様に、各断面における互いに直角方向（周方向に９０°間隔）の４カ所を測定し、平均することで軸方向各位置での膜厚を定義した。測定長は、有機物層端部から帯電ロールの接触位置までの距離とする。
有機物層の中央部の膜厚の平均値ｄは、中央部及び中央部から８０ｍｍずつ離れた各断面における互いに直角方向（周方向に９０°間隔）の４位置の１２カ所を測定し、その平均を採用した。
また、有機物層の端部の膜厚ｄ’およびｄ’’については、感光体軸方向に多点測定することで評価した。具体的には、有機物層の端部を０ｍｍとし、１ｍｍずつ測定個所を基体軸方向にずらし、中央部同様に、各断面における互いに直角方向（周方向に９０°間隔）の４カ所を測定し、平均することで軸方向各位置での膜厚を定義した。測定長は、有機物層端部から帯電ロールの接触位置までの距離とする。
ここで、「電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ有機物層の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部」とは、電子写真感光体における全ての有機物層が積層されている領域について軸方向に沿って有機物層の総膜厚を測定した場合に、電子写真感光体の軸方向の中心位置から各端部までのそれぞれの厚み分布においてそれぞれ有機物層の総膜厚が最も大きい部分を意味する。
本実施形態に係る画像形成装置では、電子写真感光体の軸方向の両端部におけるクリーニング部材との非接触領域においてそれぞれ有機物層の総膜厚最大部を有することになるが、両端部における総膜厚最大部の厚みは必ずしも同じである必要はない。ただし、有機物層の偏摩耗を抑制する観点から、両端部における総膜厚最大部の厚みの差は小さいことが望ましい。
本実施形態に係る画像形成装置では、電子写真感光体の軸方向の両端部におけるクリーニング部材との非接触領域においてそれぞれ有機物層の総膜厚最大部を有することになるが、両端部における総膜厚最大部の厚みは必ずしも同じである必要はない。ただし、有機物層の偏摩耗を抑制する観点から、両端部における総膜厚最大部の厚みの差は小さいことが望ましい。
また、クリーニング部材との非接触領域で、かつ電子写真感光体の軸方向におけるクリーニング部材との接触領域の端部から総膜厚最大部までの領域Ｂの長さをｂとしたときに、電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係を満たすことが好ましい。
０．１ｍｍ≦ｂ≦１０ｍｍ
領域Ｂの長さｂが０．１ｍｍ以上であることで、電子写真感光体の有機物層の総膜厚最大部付近の膜厚となっている領域がクリーニング部材と接触して有機物層の摩耗が促進されることを抑制することができる。また、領域Ｂの長さｂが１０ｍｍ以下であることで、装置の小型化が図られる。
このような観点から、０．１ｍｍ≦ｂ≦５ｍｍであることがより好ましい。
０．１ｍｍ≦ｂ≦１０ｍｍ
領域Ｂの長さｂが０．１ｍｍ以上であることで、電子写真感光体の有機物層の総膜厚最大部付近の膜厚となっている領域がクリーニング部材と接触して有機物層の摩耗が促進されることを抑制することができる。また、領域Ｂの長さｂが１０ｍｍ以下であることで、装置の小型化が図られる。
このような観点から、０．１ｍｍ≦ｂ≦５ｍｍであることがより好ましい。
本実施形態に係る画像形成装置は、帯電部材との接触領域における有機物層の平均総膜厚ｄと、帯電部材との非接触領域で、かつ電子写真感光体の軸方向における帯電部材との接触領域の端部からクリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａにおける有機物層の総膜厚ｄ’とが、以下の関係式（１）を満たしている。
０．９７≦ｄ’／ｄ≦１．０３ （１）
０．９７≦ｄ’／ｄ≦１．０３ （１）
すなわち、帯電部材との接触領域における電子写真感光体の有機物層の平均総膜厚ｄに対して、領域Ａにおける電子写真感光体の有機物層の総膜厚ｄ’が±３％の範囲にあることで、電子写真感光体の外周面は、クリーニング部材との接触領域全体において平滑となり、局部的な異常摩耗の発生が抑制される。
かかる観点から、０．９８≦ｄ’／ｄ≦１．０２であることが好ましい。
かかる観点から、０．９８≦ｄ’／ｄ≦１．０２であることが好ましい。
なお、帯電部材との接触領域における電子写真感光体の有機物層の平均総膜厚ｄは、層構成にもよるが、帯電ムラを抑制する観点から、帯電部材との接触領域における電子写真感光体の有機物層の総膜厚は、軸方向及び周方向とも、±５％以内にあることが好ましく、±３％以内にあることがより好ましい。
本実施形態に係る画像形成装置は、帯電部材との接触領域における電子写真感光体の有機物層の平均総膜厚ｄと、クリーニング部材との非接触領域で、かつ電子写真感光体の軸方向におけるクリーニング部材との接触領域の端部から総膜厚最大部までの領域Ｂにおける有機物層の総膜厚ｄ’’とが、以下の関係式（２）を満たしている。
０．９７≦ｄ’’／ｄ≦１．１ （２）
０．９７≦ｄ’’／ｄ≦１．１ （２）
すなわち、帯電部材との接触領域における電子写真感光体の有機物層の平均総膜厚ｄに対して、領域Ｂにおける電子写真感光体の有機物層の総膜厚ｄ’’が−３％〜＋１０％の範囲にあることで、ばらつきを含む範囲で平均総膜厚ｄを下回らず、かつクリーニング部材の欠けや端部摩耗の影響が抑制される。
かかる観点から、０．９８≦ｄ’’／ｄ≦１．０５であることが好ましい。
かかる観点から、０．９８≦ｄ’’／ｄ≦１．０５であることが好ましい。
帯電部材との接触領域における電子写真感光体の有機物層の平均総膜厚ｄと、有機物層における総膜厚最大部の総膜厚ｄ’’ｍａｘとが、以下の関係式（３）を満たしている。
１．０３≦ｄ’’ｍａｘ／ｄ≦１．１ （３）
１．０３≦ｄ’’ｍａｘ／ｄ≦１．１ （３）
すなわち、帯電部材との接触領域における電子写真感光体の有機物層の平均総膜厚ｄに対して、電子写真感光体の有機物層における総膜厚最大部の総膜厚ｄ’’ｍａｘが＋３％〜＋１０％の範囲にあることで、 領域Ａ及び領域Ｂにおける電子写真感光体の有機物層の急激な変化が抑制され、領域Ａにおけるクリーニング部材の欠けや端部摩耗が抑制される。
かかる観点から、１．０３≦ｄ’’ｍａｘ／ｄ≦１．０５であることが好ましい。
かかる観点から、１．０３≦ｄ’’ｍａｘ／ｄ≦１．０５であることが好ましい。
＜有機物層の成膜方法＞
本実施形態における電子写真感光体の有機物層の成膜方法は、電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ有機物層の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、クリーニング部材との非接触領域となる端部（非画像領域）に有し、かつ、有機物層の総膜厚が関係式（１）乃至（３）を全て満たすことができれば特に限定されない。
導電性基体上に各有機物層を形成するための塗布液を塗布した後、乾燥して順次形成する方法が挙げられるが、例えば、円筒状の導電性基体の一方の端部を上端、他方の端部を下端として浸漬塗布法によって各有機物層を成膜した場合、上端部では膜厚が薄く、下端部では膜厚が厚くなり易く、特に上端部側では、有機物層の総膜厚最大部をクリーニング部材との非接触領域に形成することが難しい。
本実施形態における電子写真感光体の有機物層の成膜方法は、電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ有機物層の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、クリーニング部材との非接触領域となる端部（非画像領域）に有し、かつ、有機物層の総膜厚が関係式（１）乃至（３）を全て満たすことができれば特に限定されない。
導電性基体上に各有機物層を形成するための塗布液を塗布した後、乾燥して順次形成する方法が挙げられるが、例えば、円筒状の導電性基体の一方の端部を上端、他方の端部を下端として浸漬塗布法によって各有機物層を成膜した場合、上端部では膜厚が薄く、下端部では膜厚が厚くなり易く、特に上端部側では、有機物層の総膜厚最大部をクリーニング部材との非接触領域に形成することが難しい。
本実施形態における各有機物層を形成するための塗布液を塗布する方法としては、各有機物層の膜厚を高精度に制御する観点から、インクジェット法、ビーム塗布法、ノズル塗布法等の方法が挙げられ、各有機物層を形成するための塗布液をインクジェット法、ビーム塗布法、ノズル塗布法により吐出し、回転する導電性基体の一端部から他端部に向けて順次塗布する方法が好適である。
導電性基体上に感光層等の有機物層を成膜する場合、帯電部材との接触領域として一定条件で成膜する中央部（画像領域）に対し、軸方向の両端部では関係式（１）乃至（３）を全て満たすように、単位時間当りの吐出量（流量）を調整してパターン成膜すればよい。具体的には、流量一定で両端部でのヘッド移動速度を遅くすること、ヘッド移動速度一定で両端部での流量を多くすることなどが挙げられる。
例えば、導電性基体上に有機物層として感光層のみを有する単層型感光体を作製する場合は、感光層の厚みを調整する。
一方、電荷発生層と電荷輸送層が積層された機能分離型の感光層を有する機能分離型感光体では、通常、電荷発生層の膜厚は、電荷輸送層の膜厚に比べて非常に小さく、必要に応じて形成される下引層や保護層の厚みに比べても非常に小さい。そのため、例えば、図３に示すように、導電性基体上に、下引層、電荷発生層、電荷輸送層、及び保護層が順次積層された機能分離型の電子写真感光体では、有機物層の総膜厚は、下引層、電荷輸送層、及び保護層の合計膜厚に近似し、下引層、電荷輸送層、及び保護層のうちの１層又２層以上の膜厚を調整して有機物層の総膜厚を調整すればよい。
一方、電荷発生層と電荷輸送層が積層された機能分離型の感光層を有する機能分離型感光体では、通常、電荷発生層の膜厚は、電荷輸送層の膜厚に比べて非常に小さく、必要に応じて形成される下引層や保護層の厚みに比べても非常に小さい。そのため、例えば、図３に示すように、導電性基体上に、下引層、電荷発生層、電荷輸送層、及び保護層が順次積層された機能分離型の電子写真感光体では、有機物層の総膜厚は、下引層、電荷輸送層、及び保護層の合計膜厚に近似し、下引層、電荷輸送層、及び保護層のうちの１層又２層以上の膜厚を調整して有機物層の総膜厚を調整すればよい。
図５及び図６は、インクジェット方式によって塗布する方法の一例を概略的に示している。図５に示すようにノズル２０２から吐出され着弾した後の液滴２０４が、隣り合う液滴同士で接するよう、図６に示すように各液滴吐出ヘッド２００を円筒状の導電性基体の軸に対して傾斜させて設置し、塗布液を塗布する。図５に示すように、吐出時の液滴の径は点線で示すようにノズル径程度であるが、導電性基体２０６の表面に着弾した後は実線に示すように拡がって隣り合う液滴と接触して塗膜を形成する。
具体的には、導電性基体２０６を水平に回転する装置に装着し、導電性基体２０６に液滴が吐出されるように塗布液を充填した液滴吐出ヘッド２００を配置する。この状態で、導電性基体２０６を回転させ、ノズル２０２から塗布液を吐出し、図６に示すように、導電性基体２０６の一方の端部から反対側の端部まで液滴吐出ヘッド２００を水平に移動させる。例えば、このような液滴吐出ヘッド２００を用いたインクジェット方式によれば、塗布液中の固形分濃度、液滴吐出ヘッドからの単位時間当たりの吐出量、導電性基体の軸方向に対する液滴吐出ヘッドの傾斜角度（θ）、液滴吐出ヘッドの移動速度、導電性基体の回転速度等によって塗布膜の厚み、及び塗布膜ムラが調整される。
なお、インクジェット方式における吐出方式としては、連続型、間欠型（ピエゾ（圧電素子）、サーマル、静電型など）など一般的な方式が用いられるが、連続型およびピエゾを用いた間欠型が望ましく、生産性および吐出安定性の観点から、連続型がより望ましい。
塗布後、加熱乾燥して硬化させることにより有機物層を形成する。
有機物層を構成する成分となる材料として、例えば熱によって重合する単量体を用いる場合、上記加熱による方法を用いることで、単量体が重合するとともに、溶媒の除去も行われ、硬化した有機物層が形成される。その場合の加熱温度としては、単量体の種類、溶媒の沸点等によって選択すればよい。
以下、本実施形態における電子写真感光体について、図３に示す層構成を有する電子写真感光体を例に取って説明する。
有機物層を構成する成分となる材料として、例えば熱によって重合する単量体を用いる場合、上記加熱による方法を用いることで、単量体が重合するとともに、溶媒の除去も行われ、硬化した有機物層が形成される。その場合の加熱温度としては、単量体の種類、溶媒の沸点等によって選択すればよい。
以下、本実施形態における電子写真感光体について、図３に示す層構成を有する電子写真感光体を例に取って説明する。
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。
４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基体からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。ｎ−型の電荷発生材料としては、例えば、特開２０１２−１５５２８２号公報の段落［０２８８］〜［０２９１］に記載された化合物（ＣＧ−１）〜（ＣＧ−２７）が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、ｎ−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ−型とする。
なお、ｎ−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ−型とする。
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。
構造式（ａ−１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７、及びＲＴ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
構造式（ａ−２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を示し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
ここで、構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
（保護層）
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１ ３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。
電荷輸送性材料としては、下記一般式（Ｉ）で示される化合物であることが望ましい。
Ｆ−（（−Ｒ７−Ｘ）ｎ１（Ｒ８）ｎ３−Ｙ）ｎ２ （Ｉ）
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０または１を示し、ｎ２は１以上４以下の整数を示し、ｎ３は０または１を示す。Ｘは酸素、ＮＨ、または硫黄原子を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、または−ＣＯＯＨ（即ち上記反応性基）を示す。
Ｆ−（（−Ｒ７−Ｘ）ｎ１（Ｒ８）ｎ３−Ｙ）ｎ２ （Ｉ）
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０または１を示し、ｎ２は１以上４以下の整数を示し、ｎ３は０または１を示す。Ｘは酸素、ＮＨ、または硫黄原子を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、または−ＣＯＯＨ（即ち上記反応性基）を示す。
一般式（Ｉ）中、Ｆで示される正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。
一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物（Ｉ−１）乃至（Ｉ−３１）が挙げられる。なお、上記一般式（Ｉ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよく、例えばフッ素含有粒子を含ませてもよい。フッ素含有粒子を構成する材料としては、フッ素原子を含有する樹脂であれば特に限定されるものではないが、例えば、４フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂、及びそれらの共重合体の中から選ばれる１種又は２種以上から構成される。上記フッ素樹脂の中でも、４フッ化エチレン樹脂又はフッ化ビニリデン樹脂が望ましく、特に望ましくは４フッ化エチレン樹脂である。
保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
（単層型感光層）
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して１０質量％以上８５質量％以下がよく、好ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して１０質量％以上８５質量％以下がよく、好ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
本実施形態における電子写真感光体の有機物層の構成は少なくとも感光層を有していればよいが、例えば、電子写真感光体の有機物層の構成と、帯電部材との接触領域における有機物層の平均総膜厚ｄは、以下のような関係が好ましい。
電子写真感光体が、有機物層として、導電性基体側から、下引層と、電荷発生層及び電荷輸送層を含む感光層とを備える場合、帯電性や摩耗寿命、生産性や材料コストの観点から、有機物層の平均総膜厚ｄが２０μｍ以上７０μｍ以下の範囲にあることが好ましい。
電子写真感光体が、有機物層として、導電性基体側から、下引層と、電荷発生層及び電荷輸送層を含む感光層とを備える場合、帯電性や摩耗寿命、生産性や材料コストの観点から、有機物層の平均総膜厚ｄが２０μｍ以上７０μｍ以下の範囲にあることが好ましい。
電子写真感光体が、有機物層として、導電性基体側から、下引層と、電荷発生層と、電荷輸送層と、保護層とを備える場合、帯電性や摩耗寿命、生産性や材料コストの観点から、有機物層の平均総膜厚ｄが２０μｍ以上６０μｍ以下の範囲にあることが好ましい。
電子写真感光体が、有機物層として単層型の感光層を備える場合、帯電性や摩耗寿命、生産性や材料コストの観点から、有機物層の平均総膜厚ｄが１５μｍ以上４０μｍ以下の範囲にあることが好ましい。
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体と、帯電部材と、クリーニング部材とを備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体、帯電部材、クリーニング部材以外に、例えば、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
図７は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図７に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
図７に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
以下、実施例及び比較例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
［塗布液の調製］
（下引層形成用塗布液の調製）
酸化亜鉛（平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、ＫＢＭ６０３（信越化学工業社製）１．２５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
（下引層形成用塗布液の調製）
酸化亜鉛（平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、ＫＢＭ６０３（信越化学工業社製）１．２５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛粒子６０質量部と、アリザリン０．６質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学工業社製）１５質量部とを、メチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部と、メチルエチルケトン２５質量部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間の分散を行い、分散液を得た。
得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）４．０質量部とを添加し、下引層形成用塗布液を得た。
得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）４．０質量部とを添加し、下引層形成用塗布液を得た。
（電荷発生層形成用塗布液の調製）
Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニンの２．５質量部をポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学工業社製）２．５質量部にシクロヘキサノンを９５質量部混合し、直径１ｍｍのガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間分散させることにより、固形分濃度約５．０質量％の電荷発生層形成用塗布液を得た 。
Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニンの２．５質量部をポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学工業社製）２．５質量部にシクロヘキサノンを９５質量部混合し、直径１ｍｍのガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間分散させることにより、固形分濃度約５．０質量％の電荷発生層形成用塗布液を得た 。
（電荷輸送層形成用塗布液の調製）
‐電荷輸送層形成用塗布液１：三層感光体用‐
４フッ化エチレン樹脂粒子１質量部及びフッ素系グラフトポリマー０．０２質量部とテトラヒドロフラン５質量部、トルエン２質量部とともに十分攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を得た。
‐電荷輸送層形成用塗布液１：三層感光体用‐
４フッ化エチレン樹脂粒子１質量部及びフッ素系グラフトポリマー０．０２質量部とテトラヒドロフラン５質量部、トルエン２質量部とともに十分攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を得た。
次に、電荷輸送物質としてＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部と、ビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４０，０００）６質量部とを、テトラヒドロフラン２３質量部及びトルエン１０質量部を含む溶媒に混合溶解した。次いで、前記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて攪拌混合した後、微細な流露を持つ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（ナノマイザー株式会社製、商品名ＬＡ−３３Ｓ）を用いて、４００ｋｇｆ／ｃｍ２（３．９２×１０−１Ｐａ）まで昇圧しての分散処理を６回繰り返し、４フッ化エチレン樹脂粒子分散液を得た。さらに、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２質量部を混合して電荷輸送層形成用塗布液１を得た。
‐電荷輸送層形成用塗布液２：保護層有り四層感光体用‐
Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン４２質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（ＴＳ２０５０：粘度平均分子量５０，０００：帝人化成社製）５８質量部と、をテトロヒドロフラン２８０質量部及びトルエン１２０質量部を含む溶媒に溶解して混合し、電荷輸送層形成用塗布液２を得た。
Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン４２質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（ＴＳ２０５０：粘度平均分子量５０，０００：帝人化成社製）５８質量部と、をテトロヒドロフラン２８０質量部及びトルエン１２０質量部を含む溶媒に溶解して混合し、電荷輸送層形成用塗布液２を得た。
（保護層形成用塗布液の調製）
ＰＴＦＥ粒子（ルブロンＬ−２、平均粒径：０．２μｍ、ダイキン工業社製）：６４質量部、分散助剤（フッ素含有櫛型グラフトポリマー ＧＦ４００、東亞合成社製）：３．２質量部、及びシクロペンタノン：３３３質量部を配合し、超音波で３０分加振後、ナノマイザーにて分散することでフッ素含有粒子（ＰＴＦＥ粒子）を１６質量％含む分散液を調製した。
ＰＴＦＥ粒子（ルブロンＬ−２、平均粒径：０．２μｍ、ダイキン工業社製）：６４質量部、分散助剤（フッ素含有櫛型グラフトポリマー ＧＦ４００、東亞合成社製）：３．２質量部、及びシクロペンタノン：３３３質量部を配合し、超音波で３０分加振後、ナノマイザーにて分散することでフッ素含有粒子（ＰＴＦＥ粒子）を１６質量％含む分散液を調製した。
次に、下記の成分を配合し、保護層形成用塗布液を調製した。
上記フッ素含有粒子分散液；１７．８質量部
電荷輸送材料；３５質量部
熱硬化性樹脂（ベンゾグアナミン）；２．１質量部
酸化防止剤（Ｔｒｉｓ−ＴＰＭ：ビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−（４−ジエチルアミノフェニル）−メタン）；０．２質量部
触媒（ＮＡＣＵＲＥ５２２５、キングインダストリー社製）；０．７質量部
シクロペンタノン；２７．７質量部
シクロペンタノール；１８．５質量部
上記フッ素含有粒子分散液；１７．８質量部
電荷輸送材料；３５質量部
熱硬化性樹脂（ベンゾグアナミン）；２．１質量部
酸化防止剤（Ｔｒｉｓ−ＴＰＭ：ビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−（４−ジエチルアミノフェニル）−メタン）；０．２質量部
触媒（ＮＡＣＵＲＥ５２２５、キングインダストリー社製）；０．７質量部
シクロペンタノン；２７．７質量部
シクロペンタノール；１８．５質量部
なお、電荷輸送材料としては、前述の化合物（Ｉ−１０）、化合物（Ｉ−２５）を使用し、各々５０／５０の配合比率（質量部）とした。
（単層型感光層形成用塗布液の調製）
結着樹脂としてビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）５０質量部と、正孔輸送材料として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン４０質量部とを、テトラヒドロフラン２５０質量部及びトルエン２５０質量部を含む溶媒に溶解した感光層形成用塗布液Ｐ´を得た。
結着樹脂としてビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）５０質量部と、正孔輸送材料として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン４０質量部とを、テトラヒドロフラン２５０質量部及びトルエン２５０質量部を含む溶媒に溶解した感光層形成用塗布液Ｐ´を得た。
電荷発生材料としてＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料 １．５質量部と、結着樹脂としてビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）５０質量部と、下記構造を有する電子輸送材料として、３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチル−ジナフトキノン １１．５質量部と、正孔輸送材料として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン ３７質量部と、溶媒としてテトラヒドロフラン２５０質量部と、トルエン２５０質量部からなる混合物を、分散処理前の感光層形成用塗布液Ｐ´と混合し、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてダイノーミルにて４時間分散し、単層型感光層形成用塗布液Ｐを得た。
［電子写真感光体の作製］
上記のように調製した各塗布液を用いて以下の例に示す電子写真感光体を作製した。なお、各層の厚み、有機物層全体の厚み（総膜厚）は、前述した方法によって測定した。
上記のように調製した各塗布液を用いて以下の例に示す電子写真感光体を作製した。なお、各層の厚み、有機物層全体の厚み（総膜厚）は、前述した方法によって測定した。
＜実施例１＞
（下引層成膜工程）
下引層形成用塗布液を直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍの円筒状のアルミニウム基材（導電性基体）上に連続型インクジェット法にて塗布し、１８０℃、１００分の乾燥硬化を行った。なお、塗布による成膜は、軸方向両端部（塗布開始時及び塗布終了時）においてインクジェットヘッドの移動速度を減速してパターン成膜を行い、軸方向中央部の厚さが２２．８μｍの下引層を形成した。成膜条件は以下の通りである。
（下引層成膜工程）
下引層形成用塗布液を直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍの円筒状のアルミニウム基材（導電性基体）上に連続型インクジェット法にて塗布し、１８０℃、１００分の乾燥硬化を行った。なお、塗布による成膜は、軸方向両端部（塗布開始時及び塗布終了時）においてインクジェットヘッドの移動速度を減速してパターン成膜を行い、軸方向中央部の厚さが２２．８μｍの下引層を形成した。成膜条件は以下の通りである。
ヘッドのノズル個数：７個
ノズル径：φ２２．５μｍ
ノズル間距離：０．５ｍｍ
ノズル１個当たりの流量：０．３ｍｌ／分
ピエゾ駆動：正弦波６５．０ｋＨｚ
印加電圧：３．０Ｖ
ギャップ（ノズルプレート面と円筒状基材との間隔）：１０ｍｍ
ヘッド傾斜角：８０．０°
ヘッド移動速度（定速成膜時）：１５６．８ｍｍ／分
基材回転速度：２２４ｒｐｍ
ノズル径：φ２２．５μｍ
ノズル間距離：０．５ｍｍ
ノズル１個当たりの流量：０．３ｍｌ／分
ピエゾ駆動：正弦波６５．０ｋＨｚ
印加電圧：３．０Ｖ
ギャップ（ノズルプレート面と円筒状基材との間隔）：１０ｍｍ
ヘッド傾斜角：８０．０°
ヘッド移動速度（定速成膜時）：１５６．８ｍｍ／分
基材回転速度：２２４ｒｐｍ
（電荷発生層成膜工程）
電荷発生層形成用塗布液を上記下引層上に連続型インクジェット法を用いて塗布し、１２０℃で８分間加熱乾燥し、厚さ約０．２μｍの電荷発生層を形成した。成膜条件は以下の通りである。
ヘッドのノズル個数：４個
ノズル径：φ１０μｍ
ノズル間距離：１ｍｍ
ノズル１個当たりの流量：０．０５ｍｌ／分
ピエゾ駆動：正弦波６５．０ｋＨｚ
印加電圧：３．０Ｖ
ギャップ：１ｍｍ
ヘッド傾斜角：８０．０°
ヘッド移動速度：２８６．１ｍｍ／分
基材回転速度：４１１．９ｒｐｍ
電荷発生層形成用塗布液を上記下引層上に連続型インクジェット法を用いて塗布し、１２０℃で８分間加熱乾燥し、厚さ約０．２μｍの電荷発生層を形成した。成膜条件は以下の通りである。
ヘッドのノズル個数：４個
ノズル径：φ１０μｍ
ノズル間距離：１ｍｍ
ノズル１個当たりの流量：０．０５ｍｌ／分
ピエゾ駆動：正弦波６５．０ｋＨｚ
印加電圧：３．０Ｖ
ギャップ：１ｍｍ
ヘッド傾斜角：８０．０°
ヘッド移動速度：２８６．１ｍｍ／分
基材回転速度：４１１．９ｒｐｍ
（電荷輸送層成膜工程）
電荷発生層が成膜された基材に、電荷輸送層形成用塗布液１を連続型インクジェット法にて塗布し、１３５℃、４０分の乾燥を行い、厚さ３７μｍ電荷輸送層を形成した。塗布条件は以下の通りである。
ヘッドのノズル個数：４個
ノズル径：φ２６．５μｍ
ノズル間距離：１ｍｍ
ノズル１個当たりの流量：０．６５ｍｌ／分
ピエゾ駆動：正弦波４１．３ｋＨｚ
印加電圧：３．０Ｖ
液温：６０℃
ギャップ：１０ｍｍ
ヘッド傾斜角：８７°
ヘッド移動速度（定速成膜時）：１４０ｍｍ／分
基材回転速度：２８０ｒｐｍ
電荷発生層が成膜された基材に、電荷輸送層形成用塗布液１を連続型インクジェット法にて塗布し、１３５℃、４０分の乾燥を行い、厚さ３７μｍ電荷輸送層を形成した。塗布条件は以下の通りである。
ヘッドのノズル個数：４個
ノズル径：φ２６．５μｍ
ノズル間距離：１ｍｍ
ノズル１個当たりの流量：０．６５ｍｌ／分
ピエゾ駆動：正弦波４１．３ｋＨｚ
印加電圧：３．０Ｖ
液温：６０℃
ギャップ：１０ｍｍ
ヘッド傾斜角：８７°
ヘッド移動速度（定速成膜時）：１４０ｍｍ／分
基材回転速度：２８０ｒｐｍ
上記工程により三層構成の有機物層（軸方向長さ：３２９ｍｍ）を有する電子写真感光体を作製した。
＜実施例２＞
実施例１において、下引層は軸方向全体にわたって定速成膜を行い、電荷輸送層は、軸方向両端部（塗布開始時及び塗布終了時）においてインクジェットヘッドの移動速度を減速してパターン成膜を行ったこと以外は実施例１と同様にして三層構成の有機物層を有する電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引層は軸方向全体にわたって定速成膜を行い、電荷輸送層は、軸方向両端部（塗布開始時及び塗布終了時）においてインクジェットヘッドの移動速度を減速してパターン成膜を行ったこと以外は実施例１と同様にして三層構成の有機物層を有する電子写真感光体を作製した。
＜実施例３＞
実施例１において、下引層は平均膜厚が２２．８μｍとなるよう軸方向全体にわたって定速成膜を行い、電荷輸送層用の塗液として電荷輸送層形成用塗布液２を用い、平均膜厚が１８．５μｍとなるようヘッド移動速度を２６４ｍｍ/分、基材回転速度を５２８ｒｐｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして下引層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成して三層構成の有機物層を有する電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引層は平均膜厚が２２．８μｍとなるよう軸方向全体にわたって定速成膜を行い、電荷輸送層用の塗液として電荷輸送層形成用塗布液２を用い、平均膜厚が１８．５μｍとなるようヘッド移動速度を２６４ｍｍ/分、基材回転速度を５２８ｒｐｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして下引層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成して三層構成の有機物層を有する電子写真感光体を作製した。
（保護層成膜工程）
上記電荷輸送層上に連続型インクジェット法にて保護層形成用塗布液を塗布し、１５０℃、３０分の乾燥を行い厚さ約７μｍの保護層を形成した。なお、塗布による成膜は、軸方向両端部（塗布開始時及び塗布終了時）においてインクジェットヘッドの移動速度を減速してパターン成膜を行った。成膜条件は以下の通りである。
上記電荷輸送層上に連続型インクジェット法にて保護層形成用塗布液を塗布し、１５０℃、３０分の乾燥を行い厚さ約７μｍの保護層を形成した。なお、塗布による成膜は、軸方向両端部（塗布開始時及び塗布終了時）においてインクジェットヘッドの移動速度を減速してパターン成膜を行った。成膜条件は以下の通りである。
ヘッドのノズル個数：７個
ノズル径：φ１１．０μｍ
ノズル間距離０．５ｍｍ
ノズル１個当たりの流量：０．０７ｍｌ／分
ピエゾ駆動：正弦波６５．０ｋＨｚ
印加電圧：３．０Ｖ
ギャップ：１ｍｍ
ヘッド傾斜角：８０．０°
ヘッド移動速度：２３２．４ｍｍ／分
基材回転速度：７６４．４ｒｐｍ
ノズル径：φ１１．０μｍ
ノズル間距離０．５ｍｍ
ノズル１個当たりの流量：０．０７ｍｌ／分
ピエゾ駆動：正弦波６５．０ｋＨｚ
印加電圧：３．０Ｖ
ギャップ：１ｍｍ
ヘッド傾斜角：８０．０°
ヘッド移動速度：２３２．４ｍｍ／分
基材回転速度：７６４．４ｒｐｍ
＜実施例４＞
実施例１において、電荷輸送層の成膜において、両端部においてインクジェットヘッドの移動速度を減速してパターン成膜を行い、両端部の厚さを４０μｍに調整したこと以外は、実施例１と同様にして下引層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成して三層構成の有機物層を有する電子写真感光体を作製した。
実施例１において、電荷輸送層の成膜において、両端部においてインクジェットヘッドの移動速度を減速してパターン成膜を行い、両端部の厚さを４０μｍに調整したこと以外は、実施例１と同様にして下引層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成して三層構成の有機物層を有する電子写真感光体を作製した。
＜実施例５＞
下引層及び電荷発生層を実施例４と同様にして成膜し、電荷輸送層を、軸方向両端部（塗布開始時及び塗布終了時）においてインクジェットヘッドの移動速度を減速してパターン成膜を行ったこと以外は実施例３と同様にしてパターン成膜し、さらに電荷輸送層上に保護層を実施例３と同様にしてパターン成膜して四層構成の有機物層を有する電子写真感光体を作製した。
下引層及び電荷発生層を実施例４と同様にして成膜し、電荷輸送層を、軸方向両端部（塗布開始時及び塗布終了時）においてインクジェットヘッドの移動速度を減速してパターン成膜を行ったこと以外は実施例３と同様にしてパターン成膜し、さらに電荷輸送層上に保護層を実施例３と同様にしてパターン成膜して四層構成の有機物層を有する電子写真感光体を作製した。
＜実施例６＞
直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍの円筒状のアルミニウム基材（導電性基体）上に単層型感光層形成用塗布液Ｐをパターン成膜して単層型の感光層を形成し、単層型の電子写真感光体を作製した。単層型感光層の成膜条件は、両端部においてインクジェットヘッドの移動速度を減速してパターン成膜を行ったこと以外は実施例１における電荷輸送層の成膜条件と同様とした。
直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍの円筒状のアルミニウム基材（導電性基体）上に単層型感光層形成用塗布液Ｐをパターン成膜して単層型の感光層を形成し、単層型の電子写真感光体を作製した。単層型感光層の成膜条件は、両端部においてインクジェットヘッドの移動速度を減速してパターン成膜を行ったこと以外は実施例１における電荷輸送層の成膜条件と同様とした。
＜比較例１＞
実施例４における下引層及び電荷輸送層のパターン成膜において両端部における成膜パターンを変更したこと以外は実施例４と同様にして三層構成の有機物層を有する電子写真感光体を作製した。
実施例４における下引層及び電荷輸送層のパターン成膜において両端部における成膜パターンを変更したこと以外は実施例４と同様にして三層構成の有機物層を有する電子写真感光体を作製した。
＜比較例２＞
［電子写真感光体の作製］
円筒状のアルミニウム基体（導電性基体）上に、浸漬塗布法により、下引層、電荷発生層、及び電荷輸送層を順次塗布及び乾燥により形成した。
［電子写真感光体の作製］
円筒状のアルミニウム基体（導電性基体）上に、浸漬塗布法により、下引層、電荷発生層、及び電荷輸送層を順次塗布及び乾燥により形成した。
（下引層成膜工程）
下引層形成用塗布液を直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍの円筒状のアルミニウム基材（導電性基体）上に浸漬塗布法にて塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行った。
塗布は、基体の引き上げ速度を１６０ｍｍ／分として軸方向に引き上げ、基体の上端部（塗布開始時）に塗膜を形成する際には引き上げ速度を調整して塗膜を形成した。
引き上げ後、下端部の塗膜を拭き取り、乾燥後、軸方向中央部の厚さが２２．８μｍの下引き層を得た。
下引層形成用塗布液を直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍの円筒状のアルミニウム基材（導電性基体）上に浸漬塗布法にて塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行った。
塗布は、基体の引き上げ速度を１６０ｍｍ／分として軸方向に引き上げ、基体の上端部（塗布開始時）に塗膜を形成する際には引き上げ速度を調整して塗膜を形成した。
引き上げ後、下端部の塗膜を拭き取り、乾燥後、軸方向中央部の厚さが２２．８μｍの下引き層を得た。
（電荷発生層成膜工程）
下引層が成膜された基材に、電荷発生層形成用塗布液を上記下引層上に浸漬塗布法を用いて塗布し、１２０℃で８分間加熱乾燥し、厚さ約０．２μｍの電荷発生層を形成した。塗布は、基体の引き上げ速度を引き上げ速度を１５０ｍｍ／分とし、引き上げ後、下端部の塗膜を拭き取った。
下引層が成膜された基材に、電荷発生層形成用塗布液を上記下引層上に浸漬塗布法を用いて塗布し、１２０℃で８分間加熱乾燥し、厚さ約０．２μｍの電荷発生層を形成した。塗布は、基体の引き上げ速度を引き上げ速度を１５０ｍｍ／分とし、引き上げ後、下端部の塗膜を拭き取った。
（電荷輸送層成膜工程）
電荷発生層が成膜された基材に、電荷輸送層形成用塗布液１を浸漬塗布法にて塗布し、１１５℃、４０分の乾燥を行い、厚さ３７μｍ電荷輸送層を形成した。
塗布は、基体の引き上げ速度を２００ｍｍ／分として軸方向に引き上げ、基体の上端部（塗布開始時）に塗膜を形成する際には引き上げ速度を調整して塗膜を形成した。
電荷発生層が成膜された基材に、電荷輸送層形成用塗布液１を浸漬塗布法にて塗布し、１１５℃、４０分の乾燥を行い、厚さ３７μｍ電荷輸送層を形成した。
塗布は、基体の引き上げ速度を２００ｍｍ／分として軸方向に引き上げ、基体の上端部（塗布開始時）に塗膜を形成する際には引き上げ速度を調整して塗膜を形成した。
＜比較例３＞
比較例２と同様にしてアルミニウム基材上に下引層、電荷発生層をそれぞれ浸漬塗布法により成膜した。
比較例２と同様にしてアルミニウム基材上に下引層、電荷発生層をそれぞれ浸漬塗布法により成膜した。
（電荷輸送層成膜工程）
電荷発生層が成膜された基材に、電荷輸送層形成用塗布液２を浸漬塗布法にて塗布し、１１５℃、４０分の乾燥を行い、厚さ１８．５μｍ電荷輸送層を形成した。
塗布は、基体の引き上げ速度を１２０ｍｍ／分として軸方向に引き上げ、基体の上端部（塗布開始時）に塗膜を形成する際には引き上げ速度を調整して塗膜を形成した。
（保護膜形成工程）
上記電荷輸送層上に浸漬塗布法にて保護層形成用塗布液を塗布し、１５０℃、３０分の乾燥を行い厚さ約７μｍの保護層を形成した。なお、塗布は、基体の引き上げ速度を１５０ｍｍ／分として軸方向に引き上げ、基体の上端部（塗布開始時）に塗膜を形成する際に引き上げ速度を調整して塗膜を形成した。
電荷発生層が成膜された基材に、電荷輸送層形成用塗布液２を浸漬塗布法にて塗布し、１１５℃、４０分の乾燥を行い、厚さ１８．５μｍ電荷輸送層を形成した。
塗布は、基体の引き上げ速度を１２０ｍｍ／分として軸方向に引き上げ、基体の上端部（塗布開始時）に塗膜を形成する際には引き上げ速度を調整して塗膜を形成した。
（保護膜形成工程）
上記電荷輸送層上に浸漬塗布法にて保護層形成用塗布液を塗布し、１５０℃、３０分の乾燥を行い厚さ約７μｍの保護層を形成した。なお、塗布は、基体の引き上げ速度を１５０ｍｍ／分として軸方向に引き上げ、基体の上端部（塗布開始時）に塗膜を形成する際に引き上げ速度を調整して塗膜を形成した。
＜比較例４＞
直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍの円筒状のアルミニウム基材（導電性基体）上に単層型感光層形成用塗布液Ｐを浸漬塗布法によりパターン成膜して単層型の感光層を形成し、単層型の電子写真感光体を作製した。なお、塗布は、基体の引き上げ速度を１５０ｍｍ／分として軸方向に引き上げ、基体の上端部（塗布開始時）に塗膜を形成する際には引き上げ速度を調整して塗膜を形成した。
直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍの円筒状のアルミニウム基材（導電性基体）上に単層型感光層形成用塗布液Ｐを浸漬塗布法によりパターン成膜して単層型の感光層を形成し、単層型の電子写真感光体を作製した。なお、塗布は、基体の引き上げ速度を１５０ｍｍ／分として軸方向に引き上げ、基体の上端部（塗布開始時）に塗膜を形成する際には引き上げ速度を調整して塗膜を形成した。
各例で作製した電子写真感光体について、電荷発生層以外の有機物層の成膜条件を表１に示す。
［評価］
上記のように各例で作製した電子写真感光体を、モノクロ現像システムベンチモデル機にそれぞれ装着し、３００×１０００サイクルの複写を行い、感光体の軸方向端部でのリークに伴う画像欠陥（バンド状のスジ故障）の発生を観察した。
上記のように各例で作製した電子写真感光体を、モノクロ現像システムベンチモデル機にそれぞれ装着し、３００×１０００サイクルの複写を行い、感光体の軸方向端部でのリークに伴う画像欠陥（バンド状のスジ故障）の発生を観察した。
なお、すべての実施例における帯電ロールとクリーニングブレードについては、以下の構成を有するものを用いた。
［帯電ロール］
感光体との接触領域の材質：導電剤が分散されたポリアミド樹脂
表面層の軸方向長さ（感光体との接触領域の長さ）：３１２ｍｍ
感光体との接触領域の材質：導電剤が分散されたポリアミド樹脂
表面層の軸方向長さ（感光体との接触領域の長さ）：３１２ｍｍ
［クリーニングブレード］
感光体との接触領域の材質：ウレタンゴム
ブレードの幅（感光体との接触領域の長さ）：３１６ｍｍ
感光体との接触領域の材質：ウレタンゴム
ブレードの幅（感光体との接触領域の長さ）：３１６ｍｍ
電子写真感光体の有機物層の総膜厚、電子写真感光体と帯電部材との接触領域の端部から電子写真感光体とクリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａの軸方向長さａ、電子写真感光体のクリーニング部材との接触領域の端部から有機物層の総膜厚最大部までの領域Ｂの軸方向長さｂ、及び評価結果を下記表２に示す。
１ 導電性支持体、２ 感光層、２Ａ 電荷発生層、２Ｂ 電荷輸送層、３ 有機物層、 ４ 下引層、５ 保護層、６ 機能一体型の感光層、７ 電子写真感光体、８ 帯電ロール（帯電部材の一例）、９ 露光装置、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑剤、１７ 感光体、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、１３１ クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）、１３２ 繊維状部材（ロール状）、１３３ 繊維状部材（平ブラシ状）
Claims (7)
- 導電性基体及び前記導電性基体上に配置された少なくとも感光層を含む有機物層を有する電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電部材と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング部材と、
を備え、
前記電子写真感光体の軸方向における前記電子写真感光体と前記クリーニング部材との接触領域が、前記電子写真感光体と前記帯電部材との接触領域よりも広く、
前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ前記有機物層の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、前記クリーニング部材との非接触領域に有し、
前記帯電部材との接触領域における前記有機物層の平均総膜厚をｄ、
前記帯電部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記帯電部材との接触領域の端部から前記クリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’、
前記クリーニング部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記クリーニング部材との接触領域の端部から前記総膜厚最大部までの領域Ｂにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’’、
前記有機物層の前記総膜厚最大部の総膜厚をｄ’’ｍａｘ、としたときに、前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係式（１）乃至（３）を全て満たす画像形成装置。
０．９７≦ｄ’／ｄ≦１．０３ （１）
０．９７≦ｄ’’／ｄ≦１．１ （２）
１．０３≦ｄ’’ｍａｘ／ｄ≦１．１ （３） - 前記電子写真感光体の軸方向における前記領域Ａの長さをａとしたときに、以下の関係を満たす請求項１に記載の画像形成装置。
１ｍｍ≦ａ≦５ｍｍ - 前記電子写真感光体の軸方向における前記領域Ｂの長さをｂとしたときに、以下の関係を満たす請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。
０．１ｍｍ≦ｂ≦１０ｍｍ - 前記電子写真感光体が、前記有機物層として、前記導電性基体側から、下引層と、電荷発生層及び電荷輸送層を含む感光層とを備え、前記有機物層の平均総膜厚ｄが２０μｍ以上７０μｍ以下の範囲にある請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
- 前記電子写真感光体が、前記有機物層として、前記導電性基体側から、下引層と、電荷発生層と、電荷輸送層と、保護層とを備え、前記有機物層の平均総膜厚ｄが２０μｍ以上６０μｍ以下の範囲にある請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
- 前記電子写真感光体が、前記有機物層として単層型の前記感光層を備え、前記有機物層の平均総膜厚ｄが１５μｍ以上４０μｍ以下の範囲にある請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
- 導電性基体及び前記導電性基体上に配置された少なくとも感光層を含む有機物層を有する電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電部材と、
前記電子写真感光体の表面に接触して前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング部材と、
を備え、
前記電子写真感光体の軸方向における前記電子写真感光体と前記クリーニング部材との接触領域が、前記電子写真感光体と前記帯電部材との接触領域よりも広く、
前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ前記有機物層の総膜厚が最も大きい総膜厚最大部を、前記クリーニング部材との非接触領域に有し、
前記帯電部材との接触領域における前記有機物層の平均総膜厚をｄ、
前記帯電部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記帯電部材との接触領域の端部から前記クリーニング部材との接触領域の端部までの領域Ａにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’、
前記クリーニング部材との非接触領域で、かつ前記電子写真感光体の軸方向における前記クリーニング部材との接触領域の端部から前記総膜厚最大部までの領域Ｂにおける前記有機物層の総膜厚をｄ’’、
前記有機物層の前記総膜厚最大部の総膜厚をｄ’’ｍａｘ、としたときに、前記電子写真感光体の軸方向の両端部においてそれぞれ以下の関係式（１）乃至（３）を全て満たし、画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。
０．９７≦ｄ’／ｄ≦１．０３ （１）
０．９７≦ｄ’’／ｄ≦１．１ （２）
１．０３≦ｄ’’ｍａｘ／ｄ≦１．１ （３）
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