JP6442860B2 - 前駆体ゾルゲル溶液、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、及びインクジェット記録装置 - Google Patents

前駆体ゾルゲル溶液、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、及びインクジェット記録装置 Download PDF

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Description

本発明は、前駆体ゾルゲル溶液、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、及びインクジェット記録装置に関する。
プリンタ、ファクシミリ、複写装置等の画像記録装置或いは画像形成装置として使用されるインクジェット記録装置及び液滴吐出ヘッドに関して、インク滴を吐出するノズルと、ノズルが連通する圧力室と、圧力室内のインクを加圧する圧電素子等の電気機械変換素子とを有するものが知られている。
電気機械変換素子は、例えば、下部電極上に電気機械変換膜及び上部電極を積層した構造を有する。薄膜である電気機械変換膜は、例えば、スパッタリング法、MOCVD法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ゾルゲル法、エアロゾルデポジション法等により製造できる。
ここで、一例としてゾルゲル法を用いた電気機械変換膜の製造方法について説明する。まず、下部電極上に疎水性膜のパターンを形成する。下部電極上の疎水性膜のパターンが形成されていない部分は親水性である。次に、下部電極上の親水性部分(疎水性膜のパターンが形成されていない部分)のみに電気機械変換膜の前駆体塗膜を形成し熱処理を行う。この熱処理により、疎水性膜のパターンは消失する。
前駆体塗膜は、例えば、インクジェット方式により形成できる。インクジェットヘッドから吐出する微小なインク液滴を、直接、親水性部分に着弾させることで、該液滴は、濡れ広がり前駆体塗膜となる。インクジェット方式では、ヘッド内における溶液の固化、ノズル周辺部における固形分の析出等が、液滴の着弾パターン等に影響を及ぼすことが知られている。
複合酸化物強誘電体を構成する金属元素のアルコキシド等を含む溶液を部分加水分解によって増粘させ、一回の塗布で形成される膜厚が大きい強誘電体膜を製造する方法が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
ところで、ゾルゲル法を用いて形成される電気機械変換膜の品質は、インク滴を吐出するインクジェットヘッドの吐出信頼性に依存する。
吐出信頼性は、前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量と関係しており、例えば、溶液に含まれる水分量が少なすぎる場合、ノズルでの溶液の目詰まりで液滴を吐出できない、ヘッドから吐出する液滴が曲がってしまう、等の不具合が生じてしまう。
即ち、前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量が、所定の範囲を満たさない場合、インクジェットヘッドの吐出信頼性が低下し、電気機械変換膜の品質が悪化するという問題がある。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、良質な電気機械変換膜を形成するために使用する前駆体ゾルゲル溶液を提供することを目的とする。
本実施の形態の前駆体ゾルゲル溶液は、一般式ABOで記述されるペロブスカイト構造の酸化物誘電体膜を形成する際に使用する、部分加水分解処理がなされた前駆体ゾルゲル溶液であって、前記前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量が、前記前駆体ゾルゲル溶液に含まれるBサイトを構成する原子に対するモル比で0.5倍以上1.0倍以下であり、前記前駆体ゾルゲル溶液が、A=Pb、B=ZrおよびTiの両方であることを要件とする。
本実施の形態によれば、良質な電気機械変換膜を形成するために使用する前駆体ゾルゲル溶液を提供することができる。
実施の形態1に係る液滴吐出ヘッドを例示する断面図である。 実施の形態1に係る液滴吐出ヘッドを例示する断面図である。 実施の形態1に係る薄膜製造装置を例示する斜視図である。 実施の形態1に係る薄膜製造工程を例示する図である。 実施の形態1に係る薄膜製造工程を例示する図である。 実施の形態1に係る薄膜製造工程を例示する図である。 実施の形態2に係るインクジェット記録装置を例示する斜視図である。 実施の形態2に係るインクジェット記録装置の、機構部を例示する側面図である。 実施の形態3に係る偏向ミラーを例示する斜視図である。 実施の形態4に係る加速度センサを例示する断面図である。 実施の形態5に係るHDDヘッド用微調整装置を例示する斜視図である。 実施の形態6に係る角速度センサを例示する斜視図である。 実施の形態7に係るマイクロポンプを例示する斜視図である。 実施の形態8に係るマイクロバルブを例示する断面図である。 前駆体ゾルゲル溶液の合成の流れを例示する図である。 液滴の様子を撮像したストロボ写真である。 本実施例で作製した電気機械変換膜を示す写真である。 本実施例で作製した電気機械変換素子のP−Eヒステリシス曲線を示すグラフである。
以下、図面及び表を参照して発明を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
〈第1の実施の形態〉
[薄膜]
まず、第1の実施の形態に係る薄膜製造装置及び薄膜製造方法で製造される薄膜の一例として、電気機械変換素子を構成する電気機械変換膜について説明する。なお、第1の実施の形態に係る薄膜製造装置及び薄膜製造方法で製造可能な薄膜が電気機械変換膜に限定されないことは言うまでもない。
電気機械変換素子は、例えば、インクジェット記録装置において使用する液滴吐出ヘッドの構成部品として用いられる。図1は、電気機械変換素子を用いた液滴吐出ヘッドを例示する断面図である。
図1を参照するに、液滴吐出ヘッド1は、ノズル板10と、圧力室基板20と、振動板30と、電気機械変換素子40とを有する。ノズル板10には、インク滴を吐出するノズル11が形成されている。ノズル板10、圧力室基板20、及び振動板30により、ノズル11に連通する圧力室21(インク流路、加圧液室、加圧室、吐出室、液室等と称される場合もある)が形成されている。振動板30は、インク流路の壁面の一部を形成している。
電気機械変換素子40は、密着層41と、下部電極42と、電気機械変換膜43と、上部電極44とを含んで構成され、圧力室21内のインクを加圧する機能を有する。密着層41は、例えばTi、TiO、TiN、Ta、Ta、Ta等からなる層であり、下部電極42と振動板30との密着性を向上する機能を有する。但し、密着層41は、電気機械変換素子40の必須の構成要素ではない。
電気機械変換素子40において、下部電極42と上部電極44との間に電圧が印加されると、電気機械変換膜43が機械的に変位する。電気機械変換膜43の機械的変位にともなって、振動板30が例えば横方向(d31方向)に変形変位し、圧力室21内のインクを加圧する。これにより、ノズル11からインク滴を吐出させることができる。
なお、図2に示すように、液滴吐出ヘッド1を複数個並設し、液滴吐出ヘッド2を構成することもできる。
電気機械変換膜43の材料としては、例えば、PZTを用いることができる。PZTとはジルコン酸鉛(PbZrO)とチタン酸鉛(PbTiO)の固溶体である。例えば、PbZrOとPbTiOの比率が53:47の割合で、化学式で示すとPb(Zr0.53、Ti0.47)O、一般にはPZT(53/47)と示されるPZT等を使用することができる。PbZrOとPbTiOの比率によって、PZTの特性が異なる。
電気機械変換膜43としてPZTを使用する場合、出発材料に酢酸鉛水和物、ジルコニウムアルコキシド化合物、チタンアルコキシド化合物を使用し、共通溶媒として2−メトキシエタノールに溶解させ、PZT前駆体ゾルゲル溶液を作製する。酢酸鉛水和物、ジルコニウムアルコキシド化合物、チタンアルコキシド化合物の混合量は、所望のPZTの組成(PbZrOとPbTiOの比率)に応じて、当業者が適宜選択できるものである。
なお、金属アルコキシド化合物は、大気中の水分により容易に分解する。そのため、PZT前駆体ゾルゲル溶液に、安定剤としてアセチルアセトン、酢酸、ジエタノールアミン等を添加する。これは後述の部分加水分解工程での粘度上昇を抑制する目的もある。
電気機械変換膜43の材料として、例えば、チタン酸バリウム等を用いても構わない。この場合は、バリウムアルコキシド化合物、チタンアルコキシド化合物を出発材料にし、共通溶媒に溶解させることでチタン酸バリウム前駆体ゾルゲル溶液を作製することが可能である。又、例えば、チタン酸バリウムとビスマスペロブスカイトの固溶体等を用いても構わない。
これら材料は一般式ABOで記述され、A=Pb、Ba、Sr、Bi B=Ti、Zr、Sn、Ni、Zn、Mg、Nbを主成分とする複合酸化物が該当する。その具体的な記述として(Pb1−x、Ba)(Zr、Ti)O、(Pb1−x、Sr)(Zr、Ti)O、と表され、これはAサイトのPbを一部BaやSrで置換した場合である。このような置換は2価の元素であれば可能であり、その効果は熱処理中の鉛の蒸発による特性劣化を低減させる作用を示す。
電気機械変換膜43を形成する際に、上述のいずれの材料を用いる場合であっても、部分加水分解工程を行って使用する前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量を、前駆体ゾルゲル溶液に含まれるBサイトを構成する原子に対するモル比で0.50倍以上10倍以下とすることが好ましい。部分加水分解工程では前駆体ゾルゲル溶液に水や水溶液を添加するが、部分加水分解工程による粘度上昇は5割以下となるような安定化処理や添加量とすることが好ましい。
インクジェット記録装置において使用する液滴吐出ヘッドのノズルでの溶液の目詰まり、液滴曲がり、等の発生におけるメカニズムは明確ではないが、ノズルでの前駆体ゾルゲル溶液の固形分の固化、溶媒乾燥、等の現象が起因していると考えられる。
一般に、大気中には水分が含まれている。ノズル付近において、大気中に含まれる水分と前駆体ゾルゲル溶液(例えば、PZT前駆体ゾルゲル溶液)とが接すると、該溶液は、最表面で、加水分解及び重縮合反応を起こす。つまり、前駆体ゾルゲル溶液における、拡散反応の速度、加水分解及び重縮合反応の速度は、前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量に依存すると考えられる。
例えば、前駆体ゾルゲル溶液の水分量が多い場合(0.50倍以上10倍以下である場合)、既に、加水分解及び重縮合反応が十分に進行しているため、重合度が高く、新たに重合する分子の数は少なくなる。
この結果、ノズル付近における加水分解及び重縮合反応の進行速度は、緩慢となり、拡散反応が、加水分解及び重縮合反応と比較して進行し易くなる。つまり、前駆体ゾルゲル溶液の固形分が、ノズル付近に析出し難いため、膜厚が均一で、電気的特性が良好な電気機械変換膜を得易くなる。
例えば、前駆体ゾルゲル溶液の水分量が少ない場合(0.50倍より小さい場合)、加水分解及び重縮合反応は、十分に進行していないため、重合度が低く、新たに重合する分子の数は多くなる。
この結果、ノズル付近における加水分解及び重縮合反応の進行速度は、敏速となり、加水分解及び重縮合反応が、拡散反応と比較して進行し易くなる。連続吐出では1秒間に数千回以上、ノズルから液滴が吐出されるため、連続吐出の際に、加水分解及び重縮合反応が急速に進行することで、前駆体ゾルゲル溶液の固形分がノズル付近でゲル化する。微小量のゲルが、吐出の度に徐々に成長し、ノズル付近に析出することで、ノズルでの溶液の目詰まり、液滴曲がり、等が発生し易くなる。
なお、前駆体ゾルゲル溶液の水分量が多すぎる場合(10倍より大きい場合)、溶液を保管しているだけでも、加水分解及び重縮合反応が進行するため、保存安定性が悪く実用的でない。この場合は、ノズルから吐出できる粘度に溶液を保つことが困難となる。
従って、詳細は後述するが、所定範囲の量を満たす水分を含む前駆体ゾルゲル溶液を利用することで、インクジェットヘッドの吐出信頼性を高めることができる。その結果、良質な電気機械変換膜を得易くなる。
下部電極42の材料としては、高い耐熱性を有し、下記に示すアルカンチオールとの反応により、SAM膜を形成する金属等を用いることができる。具体的には、低い反応性を有するルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)、プラチナ(Pt)等の白金族金属や、これら白金族金属を含む合金材料等を用いることができる。
又、これらの金属層を作製した後に、導電性酸化物層を積層して使用することも可能である。導電性酸化物としては、具体的には、化学式ABOで記述され、A=Sr、Ba、Ca、La、 B=Ru、Co、Ni、を主成分とする複合酸化物があり、SrRuOやCaRuO、これらの固溶体である(Sr1−x Ca)Oのほか、LaNiOやSrCoO、更にはこれらの固溶体である(La, Sr)(Ni1−y Co)O (y=1でも良い)が挙げられる。それ以外の酸化物材料として、IrO、RuOも挙げられる。
下部電極42は、例えば、スパッタ法や真空蒸着等の真空成膜法等の方法により作製することができる。下部電極42は、電気機械変換素子40に信号入力する際の共通電極として電気的接続をするので、その下部にある振動板30は絶縁体又は表面が絶縁処理された導体を用いることができる。
振動板30の具体的な材料としては、例えば、シリコンを用いることができる。又、振動板30(後述する基板31)の表面を絶縁処理する具体的な材料としては、例えば、厚さ約数百nm〜数μm程度のシリコン酸化膜、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜又はこれらの膜を積層した膜等を用いることができる。又、熱膨張差を考慮し、酸化アルミニウム膜、ジルコニア膜等のセラミック膜を用いてもよい。振動板30の表面を絶縁処理するシリコン系絶縁膜は、CVD法やシリコンの熱酸化処理等により形成できる。又、振動板30の表面を絶縁処理する酸化アルミニウム膜等の金属酸化膜は、スパッタリング法等により形成できる。
[薄膜製造装置]
次に、第1の実施の形態に係る薄膜製造装置の構造について説明する。図3は、第1の実施の形態に係る薄膜製造装置を例示する斜視図である。図3を参照するに、薄膜製造装置3において、架台60上には、Y軸駆動手段61が設置されている。Y軸駆動手段61上には、基板63を搭載するステージ62が、Y軸方向に駆動できるように設置されている。
なお、ステージ62には通常、真空又は静電気等を利用した図示しない吸着手段が付随されており、これにより基板63を固定することができる。
又、架台60上には、X軸駆動手段66を支持するためのX軸支持部材65が設置されている。X軸駆動手段66には、ヘッドベース68が取り付けられており、X軸方向に駆動できるように設置されている。ヘッドベース68の上には、機能性インクを吐出させるインクジェットヘッド69が搭載されている。インクジェットヘッド69には図示しない各インクタンクから機能性インク材料供給用パイプ67を介して機能性インクが供給される。
なお、図3は、ステージ62がY方向の1軸の自由度を有し、インクジェットヘッド69がX方向の1軸の自由度を有する構成を示しているが、この形態には限定されない。例えば、ステージ62がX及びY方向の2軸の自由度を有し、インクジェットヘッド69を固定する構成であっても良い。又、ステージ62がY方向の1軸の自由度を有し、インクジェットヘッド69をY軸方向に一列に並べる構成であっても良い。
又、基板63を固定し、インクジェットヘッド69がX及びY方向の2軸の自由度を有する構成であっても良い。又、X軸及びY軸は、X軸及びY軸ベクトルにより、1平面を表現できれば直交する必要はなく、例えば、X軸ベクトルとY軸ベクトルは30度、45度、60度の角度を有しても良い。
薄膜製造装置3は、図示しない装置制御部を有し、インクジェットヘッド69の機能性インクの吐出条件を制御することができる。又、装置制御部は図示しない記録部を有し、機能性インクの状態等を記録部に記録することができる。
[薄膜製造方法]
次に、第1の実施の形態に係る薄膜製造方法について説明する。ここでは、薄膜として図1に示す電気機械変換膜43を作製する例を示す。
まず、図4(A)に示す工程では、基板31の表面に、密着層41、下部電極層46、フォトレジスト層45を、順次積層する。下部電極層46は、2層で形成され、例えば、下層に白金(Pt)を、上層にストロンチウムルテニウム酸化物(SrRuO)を用いることができる。
次に、図4(B)に示す工程では、公知のフォトリソグラフィ法により、フォトレジスト層45をパターニングし、レジストパターンを形成する。該レジストパターンと重ならない下部電極層46の上層電極48を、ドライエッチング等により除去することで、下部電極層46の下層電極47表面の一部を露出させる。なお、レジストパターンは、図1に示す圧力室21のレイアウトに合わせて形成される。
次に、図4(C)に示す工程では、残存するレジストパターンを除去する。これにより、下層電極47表面に所定パターンを有する上層電極48を備える下部電極42が形成される。
次に、図4(D)に示す工程では、下部電極42が形成された基板の表面全体に表面処理が施され、下層電極47表面に、SAM(Self Assembled Monolayer)膜50が形成される。
具体的には、下部電極42が形成された基板をアルカンチオール等からなるSAM材料で浸漬処理する。下層電極47表面に、SAM材料が反応しSAM膜50が付着することで、下層電極47表面を撥水化することができる。アルカンチオールは、分子鎖長により反応性や疎水(撥水)性が異なるが、通常、炭素数6〜18の分子を、アルコール、アセトン又はトルエン等の有機溶媒に溶解させて作製する。通常、アルカンチオールの濃度は数ミリモル/リットル程度である。所定時間後に、基板を取り出し、余剰な分子を溶媒で置換洗浄し、乾燥する。
SAM膜50が形成されている領域は、疎水性領域となる。一方、上層電極48表面が露出している領域は、親水性領域となる。この表面エネルギーのコントラストを利用して、下記で詳述する機能性インク51の塗り分けが可能となる。
次に、図5(A)に示す工程では、薄膜製造装置3のステージ62上に、表面処理が施された基板(図4(D)の基板に相当)を載置する。そして、周知のアライメント装置(CCDカメラやCMOSカメラ等)等を用いて、該基板の位置や傾き等をアライメントする。
そして、インクジェットヘッド69をX軸に駆動させ、基板が載置されたステージ62をY軸に駆動させて、ステージ62上にインクジェットヘッド69を配置する。そして、インクジェットヘッド69から、親水性領域に機能性インク51を吐出させる。
機能性インク51は、前駆体ゾルゲル溶液をインク化調製した溶液である。前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量は、前駆体ゾルゲル溶液に含まれるBサイトを構成する原子に対するモル比で0.50以上10倍以下という範囲内である。なお、この範囲を、より狭くすることも可能である。
次に、図5(B)に示す工程では、親水性領域に、機能性インク膜52が形成される。機能性インク51は、表面エネルギーのコントラストにより、親水性領域のみに濡れ広がる。
次に、図5(C)に示す工程では、機能性インク膜52に対して、加熱処理が施され、加熱処理された機能性インク膜53が形成される。第1の加熱処理により、機能性インク膜52の溶媒を蒸発させ、第2の加熱処理により、機能性インク膜52に含まれる有機物を熱分解させる。なお、この加熱処理により、SAM膜50は、消失する。
次に、図6(A)に示す工程では、SAM膜50が消失した基板を、イソプロピルアルコールにて洗浄する。そして、図4(D)に示す工程と同様に、再び、下層電極47表面に、SAM膜50が形成される。
次に、図6(B)に示す工程では、図5(A)に示す工程と同様に、インクジェットヘッド69から加熱処理された機能性インク膜53表面(親水性領域)に、再び、機能性インク51を吐出させる。
次に、図6(C)に示す工程では、図5(B)に示す工程と同様に、加熱処理された機能性インク膜53表面(親水性領域)に、再び、機能性インク膜52が形成される。機能性インク51は、表面エネルギーのコントラストにより、親水性領域のみに濡れ広がる。
次に、図6(D)に示す工程では、図5(C)に示す工程と同様に、機能性インク膜52に対して、加熱処理が施される。第1の加熱処理により、機能性インク膜52の溶媒を蒸発させ、第2の加熱処理により、機能性インク膜52に含まれる有機物を熱分解させる。
更に、第3の加熱処理により、加熱処理された機能性インク膜を結晶化させる。
図6(D)に示す工程で形成される、結晶化した機能性インク膜54の膜厚は、数10nm程度である。この膜厚では、電気機械変換膜として、不十分であるため、図6(D)に示す工程の後、更に、図4(D)から図6(D)までの工程を必要回数繰り返す。これにより、結晶化した機能性インク膜54が積層され、下部電極42上に、所定のパターンと厚さ(100μm以下であることが好ましい。)を有する結晶化した機能性インク膜、すなわち電気機械変換膜43が作製される。
上述の薄膜製造方法により作製される電気機械変換膜43は、良好な品質を有する。
〈第2の実施の形態〉
第2の実施の形態では、薄膜製造装置3で製造した液滴吐出ヘッド1(図1参照)を搭載したインクジェット記録装置の例を示す。図7は、インクジェット記録装置を例示する斜視図である。図8は、インクジェット記録装置の機構部を例示する側面図である。
図7及び図8を参照するに、インクジェット記録装置4は、記録装置本体81の内部に主走査方向に移動可能なキャリッジ93、キャリッジ93に搭載した液滴吐出ヘッド1の一実施形態であるインクジェット記録ヘッド94、インクジェット記録ヘッド94へインクを供給するインクカートリッジ95等で構成される印字機構部82等を収納する。
記録装置本体81の下方部には、多数枚の用紙83を積載可能な給紙カセット84(或いは給紙トレイでもよい)を抜き差し自在に装着することができる。又、用紙83を手差しで給紙するための手差しトレイ85を開倒することができる。給紙カセット84或いは手差しトレイ85から給送される用紙83を取り込み、印字機構部82によって所要の画像を記録した後、後面側に装着された排紙トレイ86に排紙する。
印字機構部82は、図示しない左右の側板に横架したガイド部材である主ガイドロッド91と従ガイドロッド92とでキャリッジ93を主走査方向に摺動自在に保持する。キャリッジ93にはイエロー(Y)、シアン(C)、マゼンタ(M)、ブラック(Bk)の各色のインク滴を吐出するインクジェット記録ヘッド94を、複数のインク吐出口(ノズル)を主走査方向と交差する方向に配列し、インク滴吐出方向を下方に向けて装着している。又、キャリッジ93は、インクジェット記録ヘッド94に各色のインクを供給するための各インクカートリッジ95を交換可能に装着している。
インクカートリッジ95は、上方に大気と連通する図示しない大気口、下方にはインクジェット記録ヘッド94へインクを供給する図示しない供給口を、内部にはインクが充填された図示しない多孔質体を有している。多孔質体の毛管力によりインクジェット記録ヘッド94へ供給されるインクをわずかな負圧に維持している。又、インクジェット記録ヘッド94としてここでは各色のヘッドを用いているが、各色のインク滴を吐出するノズルを有する1個のヘッドを用いてもよい。
キャリッジ93は、用紙搬送方向下流側を主ガイドロッド91に摺動自在に嵌装し、用紙搬送方向上流側を従ガイドロッド92に摺動自在に載置している。そして、このキャリッジ93を主走査方向に移動走査するため、主走査モータ97で回転駆動される駆動プーリ98と従動プーリ99との間にタイミングベルト100を張装し、主走査モータ97の正逆回転によりキャリッジ93が往復駆動される。タイミングベルト100は、キャリッジ93に固定されている。
又、インクジェット記録装置4は、給紙カセット84から用紙83を分離給装する給紙ローラ101、フリクションパッド102、用紙83を案内するガイド部材103、給紙された用紙83を反転させて搬送する搬送ローラ104、この搬送ローラ104の周面に押し付けられる搬送コロ105、搬送ローラ104からの用紙83の送り出し角度を規定する先端コロ106、を設けている。これにより、給紙カセット84にセットした用紙83を、インクジェット記録ヘッド94の下方側に搬送される。搬送ローラ104は副走査モータ107によってギヤ列を介して回転駆動される。
用紙ガイド部材である印写受け部材109は、キャリッジ93の主走査方向の移動範囲に対応して搬送ローラ104から送り出された用紙83をインクジェット記録ヘッド94の下方側で案内する。この印写受け部材109の用紙搬送方向下流側には、用紙83を排紙方向へ送り出すために回転駆動される搬送コロ111、拍車112を設けている。更に、用紙83を排紙トレイ86に送り出す排紙ローラ113及び拍車114と、排紙経路を形成するガイド部材115、116とを配設している。
画像記録時には、キャリッジ93を移動させながら画像信号に応じてインクジェット記録ヘッド94を駆動することにより、停止している用紙83にインクを吐出して1行分を記録し、用紙83を所定量搬送後次の行の記録を行う。記録終了信号又は用紙83の後端が記録領域に到達した信号を受けることにより、記録動作を終了させ用紙83を排紙する。
キャリッジ93の移動方向右端側の記録領域を外れた位置には、インクジェット記録ヘッド94の吐出不良を回復するための回復装置117を有する。回復装置117はキャップ手段と吸引手段とクリーニング手段を有する。キャリッジ93は、印字待機中に回復装置117側に移動されてキャッピング手段でインクジェット記録ヘッド94をキャッピングされ、吐出口部を湿潤状態に保つことによりインク乾燥による吐出不良を防止する。又、記録途中等に、記録と関係しないインクを吐出することにより、全ての吐出口のインク粘度を一定にし、安定した吐出性能を維持する。
吐出不良が発生した場合等には、キャッピング手段でインクジェット記録ヘッド94の吐出口を密封し、チューブを通して吸引手段で吐出口からインクとともに気泡等を吸い出す。又、吐出口面に付着したインクやゴミ等はクリーニング手段により除去され吐出不良が回復される。更に、吸引されたインクは、本体下部に設置された図示しない廃インク溜に排出され、廃インク溜内部のインク吸収体に吸収保持される。
このように、インクジェット記録装置4においては、薄膜製造装置3で製造した液滴吐出ヘッド1の一実施形態であるインクジェット記録ヘッド94を搭載しているので、振動板駆動不良によるインク滴吐出不良がなく、安定したインク滴吐出特性が得られるため、画像品質を向上できる。
〈第3の実施の形態〉
第3の実施の形態では、第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を備える偏光ミラーの例を示す。図9は、圧電式MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)ミラーを例示する斜視図である。
圧電式MEMSミラー600は、固定ベース606と、反射面を有するミラー部601と、ミラー部601を支持する弾性支持部材604と、弾性支持部材604の一部を、両側から支持する梁状部材603と、梁状部材603に固着する電気機械変換素子605を含む。電圧が印加されることにより駆動部607が歪むことで、ミラー部601が振動する。このような圧電式MEMSミラー600に第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を適用することで、圧電式MEMSミラー600の性能を高められる。
〈第4の実施の形態〉
第4の実施の形態では、第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を備える加速度センサの例を示す。図10は、加速度センサを例示する断面図である。
加速度センサ700は、片面に異方性エッチングが施され、肉厚部X及び肉薄部Yを有するシリコン基板701と、シリコン基板701を挟むガラス基板706A、706Bと、肉薄部Y上に形成され、上部電極702、電気機械変換膜704、下部電極703を備える電気機械変換素子705を含む。加速度が加わると、肉厚部Xと共に、電気機械変換素子705が変形する。加速度センサ700は、電気機械変換素子705の変位量を電圧変換することで加速度を検出する。このような加速度センサ700に第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を適用することで、加速度センサ700の性能を高められる。
〈第5の実施の形態〉
第5の実施の形態では、第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を備えるHDD(Hard Disk Drive)ヘッド用微調整装置の例を示す。図11は、HDDヘッド用微調整装置800を例示する斜視図である。
HDDヘッド用微調整装置800は、移動可能なアクセスアーム805と、中心部材803を介して支持ばね802の先端に取り付けられたヘッド801と、中心部材803に取り付けられた電気機械変換素子804A、804Bを含む。HDDヘッド用微調整装置800は、電気機械変換素子804A、804Bを、交互に伸縮させることにより、ヘッド801を、HDD上の所定位置に移動させ、微調整を行う。このようなHDDヘッド用微調整装置800に第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を適用することで、HDDヘッド用微調整装置800の性能を高められる。
〈第6の実施の形態〉
第6の実施の形態では、第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を備える角速度センサの例を示す。図12は、振動ジャイロ型の角速度センサ900を例示する斜視図である。
振動ジャイロ型の角速度センサ900は、熱膨張の少ない材料で形成されている音叉901と、音叉901に取り付けられている発振駆動用の電気機械変換素子902a及び検出用の電気機械変換素子902bと、電気機械変換素子902aに対応するパッド903aと、電気機械変換素子902bに対応するパッド903bを含む。電気機械変換素子902aと電気機械変換素子902bとは、それぞれ、垂直な面に形成されている。振動ジャイロ型の角速度センサ900は、パッド903を介して、電気機械変換素子902の振動を検知し、周波数の差に基づき角速度を検出する。このような振動ジャイロ型の角速度センサ900に第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を適用することで、角速度センサ900の性能を高められる。
〈第7の実施の形態〉
第7の実施の形態では、第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を備えるマイクロポンプの例を示す。図13は、マイクロポンプ950を例示する斜視図である。
マイクロポンプ950は、流路951が形成された基板952と、振動板953及び振動板953に密着して形成されている電気機械変換素子954を備える圧電アクチュエータ955と、圧電アクチュエータ955が複数配設された流路形成基板956と、蓋基板957と、保護基板958を含む。マイクロポンプ950は、振動板953を順次図中の矢印方向へ駆動させることにより、流体の吸い込み又は吐出を繰り返し、流路951内の流体の輸送を行う。液体流入孔及び流出孔の形状を工夫する、或いは流路951に弁を設けることで、輸送効率を上げることができる。このようなマイクロポンプ950に第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を適用することで、マイクロポンプ950の性能を高められる。
〈第8の実施の形態〉
第8の実施の形態では、第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を備えるマイクロバルブの例を示す。図14は、マイクロバルブ960を例示する断面図である。
マイクロバルブ960は、中央部に吐出口966を有する円板状の基板965と、中央部に弁となる突起部962を有するダイアフラム963と、基板965及びダイアフラム963を固定する固定部964と、ダイアフラム963上に形成されている電気機械変換素子961と、流体が流れ込む導入口967を含む。マイクロバルブ960は、電気機械変換素子961の歪みにより生じる突起部962の振動を利用して、吐出口966を開閉することにより、流体の流れを制御する。このようなマイクロバルブ960に第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を適用することで、マイクロバルブ960の性能を高められる。
〈実施例〉
本実施例では、第1の実施の形態に係る前駆体ゾルゲル溶液、機能性インク、電気機械変換膜、及び電気機械変換素子を実際に作製した。
又、作製した前駆体ゾルゲル溶液の水分量を測定した。又、作製した機能性インクの安定吐出時間を測定した。又、作製した機能性インクを用いてインクジェットヘッドの吐出信頼性を調べた。又、作製した電気機械変換素子の電気的特性及び電気機械変換能を評価した。なお、電気機械変換膜の主成分は、チタン酸ジルコン酸鉛とした。
[PZT前駆体ゾルゲル溶液の合成]
まず、PZT前駆体ゾルゲル溶液の合成について、図15を用いて説明する。本実施例では、水の添加量の異なる5個のPZT前駆体ゾルゲル溶液を作製した(表1参照)。各PZT前駆体ゾルゲル溶液を、サンプルA〜Eとした。実施例のサンプルとして、サンプルA、サンプルB、サンプルCを用いた。比較例のサンプルとして、サンプルD、サンプルEを用いた。
最初に、出発材料を準備した。出発材料としては、酢酸鉛三水和物(Pb(CHCOO)3HO)、ジルコニウムテトラノルマルプロポキシドZr(OCHCHCH、チタニウムテトライソプロポキシドTi(OCH(CHを用いた。
次に、これらの出発材料を、Pb(Zr0.53、Ti0.47)Oの化学両論組成に対し、鉛量が20mol%過剰になる組成、即ち、Pb1.20(Zr0.53、Ti0.47)Oとなるように秤量した。
次に、酢酸鉛三水和物を2−メトキシエタノール(CHOCHCHOH)に溶解し、酢酸鉛の2−メトキシエタノール溶液を形成した。
次に、酢酸鉛の2−メトキシエタノール溶液を、溶媒(2−メトキシエタノール)の沸点(124℃)にて加熱、還流し、酢酸鉛三水和物の脱水、及び酢酸鉛のアルコール交換処理を行った。溶媒が沸点(124℃)に達した後、5個の溶液全てを、該温度で12時間の保持し、アルコール交換反応を進行させた。
次に、各溶液に対して、ジルコニウムテトラノルマルプロポキシド及びチタニウムテトライソプロポキシドを投入し、再び、溶媒の沸点(124℃)にて加熱、還流し、酢酸鉛のアルコール交換反応、及びエステル化反応を進行させた。溶媒が沸点(124℃)に達した後、5個の溶液全てを、該温度で12時間保持した。
次に、各溶液に対して、微量の酢酸を添加し安定化処理を行った。酢酸を添加することで、アルコール交換反応により生成したアルコキシド化合物(例えば、鉛アルコキシド)が、水分等により分解するのを防ぐことができる。なお、安定剤として、アセチルアセトン、ジエタノールアミン等を添加してもよい。
次に、各溶液に対して、2−メトキシエタノールを、更に混合し、濃度調整を行った。重合体から為る固形分の濃度が、0.5モル/リットルとなるように濃度調整を行った。
次に、これらの溶液に水を加え、30分攪拌した(加水分解)。5個の溶液において、水の添加量を変化させ、PZT前駆体ゾルゲル溶液を合成した。なお、部分加水分解工程において、PZT前駆体ゾルゲル溶液に添加する溶液は、水に限定されるものではなく、例えば、物質が水に溶解した水溶液等であっても良い。この部分加水分解工程前後での粘度変化はサンプルA〜Eとも5割以下であった。
このようにして、PZT前駆体ゾルゲル溶液を合成し、5個のPZT前駆体ゾルゲル溶液(サンプルA〜E)を作製した。
[PZT前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量の測定]
続いて、合成した前駆体ゾルゲル溶液(サンプルA〜E)に含まれる水分量を測定した。本実施例では、サンプルA〜Eに含まれる水分量を、カールフィッシャー水分計を用いて測定した。
表1に、サンプルA〜Eにおける前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量を、前駆体ゾルゲル溶液に含まれるBサイトを構成する原子に対するモル比に換算した結果を示す。換算の例を次に示す。サンプルAの水分量の測定結果は0.48wt%であった。この前駆体ゾルゲル液の密度を1.11g/cmであったので水分量は0.30モル/リットルと計算される。本前駆体ゾルゲル液のBサイトはチタンとジルコニウムで構成されるが、前駆体溶液中での量の和はで0.5モル/リットルである。このためモル比では0.59倍と計算される。ほかのサンプルも同様に換算を行った。
サンプルAにおいて、PZT前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量は、0.59倍であった。サンプルBにおいて、PZT前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量は、0.72倍であった。サンプルCにおいて、PZT前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量は、1.0倍であった。サンプルDにおいて、PZT前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量は、0.37倍であった。サンプルEにおいて、PZT前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量は、0.48倍であった。
即ち、サンプルA、サンプルB、サンプルCにおいて、PZT前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量は、0.5倍以上10倍以下という範囲内であった。一方、サンプルD、サンプルEにおいて、PZT前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量は、0.5倍より小さかった。
従って、2−メトキシエタノールを混合して濃度調整を行った後に、更に、溶液に混合する水の添加量を適切に制御することで、前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量を制御できることがわかった。
[PZT前駆体ゾルゲル溶液のインク化調製]
続いて、5個のPZT前駆体ゾルゲル溶液(サンプルA〜E)に対して、インク化調製を行った。各PZT前駆体ゾルゲル溶液に対して、主溶媒及び副溶媒を添加し、該溶液に分散する固形分の濃度を調整することで、インクジェットヘッド69で使用する機能性インクを作製した。作製した機能性インクをサンプルA〜Eに対応させてサンプル1〜5とした(表2参照)。実施例のサンプルとして、サンプル1、サンプル2、サンプル3を用いた。比較例のサンプルとして、サンプル4、サンプル5を用いた。
具体的には、サンプルA〜Eに対して、2−メトキシエタノール(CHOCHCHOH)及び1−ノナノール(CH(CHOH)を添加し、撹拌を行った。主溶媒として、2−メトキシエタノールを、副溶媒として、1−ノナノールを用いた。主溶媒と副溶媒の体積比が、1:1となるように、又、機能性インクに分散する固形分の濃度が、0.25モル/リットルとなるように濃度調整を行った。
1−ノナノールは、各前駆体ゾルゲル溶液との相溶性が良好であり、且つ、沸点が215℃であり、2−メトキシエタノールの沸点(124℃)よりも高いため、副溶媒として1−ノナノールを選択した。
なお、インク化調製を行う際には、各サンプルの乾燥速度、粘度、表面張力、沸点、等も考慮して調製を行うことが好ましい。
[機能性インクの塗布]
続いて、インクジェット方式により、作製した機能性インクを、親水性領域に塗布した。下部電極に対して表面処理を施し、下部電極の表面を親水性領域と疎水性領域に分けることで、機能性インクの塗り分けを行った。
まず、シリコンウェハに、密着層として二酸化チタン膜(膜厚50nm)をスパッタ成膜した。次に、下部電極層として、白金膜(膜厚50nm)及びストロンチウムルテニウム酸化物膜(膜厚60nm)の積層膜をスパッタ成膜した。
次に、下部電極層上に、フォトレジスト層をスピンコートし、フォトリソグラフィにより、フォトレジスト層をパターニングすることで、レジストパターンを形成した。次に、レジストパターンと重ならないストロンチウムルテニウム酸化物膜を、ドライエッチングにより除去した。次に、レジストパターンを剥離し、白金膜上に所定パターンのストロンチウムルテニウム酸化物膜を有する、下部電極が形成された。
なお、レジストパターンは、短手方向の長さが45μm、長手方向の長さが1000μmである矩形を複数含む形状を有する。隣り合う矩形同士の間隔は、45μmであり、ラインとスペースの比は、1:1である。
次に、下部電極が形成されたシリコンウェハを、アルカンチオール希釈液に、10秒間浸漬させ、SAM処理を行った。SAM処理を行ったシリコンウェハを、エタノール溶液に浸し、5分間の超音波洗浄を施し、白金膜表面にSAM膜が形成された。アルカンチオール希釈液は、ドデカンチオールCH(CH11−SHを使用し、濃度0.1ミリモル/リットル(溶媒:エタノール)の希釈液とした。
SAM処理後、SAM膜が形成された領域において、対純水接触角を測定したところ、100°以上となり、疎水性領域となることがわかった。一方、ストロンチウムルテニウム酸化物膜が形成された領域において、対純水接触角を測定したところ、40°以下となり、親水性領域となることがわかった。この結果から、SAM処理が適切になされ、下部電極の表面は、疎水性領域と親水性領域に分けられ、高い接触角コントラストを有することがわかった。
次に、機能性インク(サンプル1〜3)を、インクジェット方式により、インクジェットヘッドから、親水性領域(ストロンチウムルテニウム酸化物膜が形成された領域)に吐出させた。機能性インクは、親水性領域に濡れ広がり、機能性インク膜が形成された。
次に、機能性インク膜に対して、加熱処理を行った。シリコンウェハを、ホットプレートに載せ、シリコンウェハ下面より第1の加熱処理を行った。昇温速度を、30℃/minとして、室温から120℃まで温度上昇させた。ホットプレートの温度が、120℃に到達した後も、機能性インク膜が乾燥するまで、加熱処理を行った。次に、乾燥させた機能性インク膜に対して、第2の加熱処理を行った。500℃での加熱処理を行うことで、乾燥させた機能性インク膜に含まれる有機物の熱分解処理を行った。この加熱処理により、SAM膜は、消失し、加熱処理された機能性インク膜(中央部の膜厚が80nm)が形成された。
次に、加熱処理された機能性インク膜が形成されたシリコンウェハを、イソプロピルアルコールにて洗浄し、アルカンチオール希釈液に、10秒間浸漬させ、SAM処理を行った。SAM処理を行ったシリコンウェハを、エタノール溶液に浸し、5分間の超音波洗浄を施し、白金膜表面にSAM膜が形成された。SAM処理後、加熱処理された機能性インク膜が形成された領域において、対純水接触角を測定したところ、25°以下となり、親水性領域となることがわかった。
次に、再び、機能性インクを、インクジェット方式により、インクジェットヘッドから親水性領域(加熱処理された機能性インク膜が形成された領域)に吐出させた。機能性インクは、親水性領域に濡れ広がり、再び、機能性インク膜が形成された。
次に、再び、機能性インク膜に対して、加熱処理を行った。シリコンウェハを、ホットプレートに載せ、シリコンウェハ下面より第1の加熱処理を行った。昇温速度を、30℃/minとして、室温から120℃まで温度上昇させた。次に、乾燥させた機能性インク膜に対して、第2の加熱処理を行った。500℃での加熱処理を行うことで、乾燥させた機能性インク膜に含まれる有機物の熱分解処理を行った。更に、第3の加熱処理(結晶化処理)を行った。高速熱処理装置を用いて、750℃の急速加熱処理を行うことで、加熱処理された機能性インク膜(重ね塗りされている)を結晶化させた。
その後、引き続き、SAM処理、機能性インクの塗布、加熱処理、SAM処理、機能性インクの塗布、加熱処理、結晶化処理という一連のサイクルを、全く同様の条件で、15サイクル繰り返した。即ち、機能性インクの塗布を30回繰り返し行った。これより、所定の膜厚を有する電気機械変換膜(PZT膜)が形成された。
[インクジェットヘッドの吐出信頼性]
続いて、インクジェットヘッドのノズルから吐出する液滴(機能性インク)の様子、液滴の安定吐出時間、電気機械変換膜(PZT膜)の着弾パターン、から、インクジェットヘッドの吐出信頼性を調べた。
表2に、インクジェットヘッドの吐出信頼性と相関のある、安定吐出時間についてまとめた結果を示す。本明細書において、安定吐出時間とは、インクジェットヘッドのノズルから液滴を連続吐出させた際に、液滴の飛翔挙動が変化せずに安定した吐出が継続する時間を指すものとする。安定吐出時間が長い程、インクジェットヘッドの吐出信頼性は高いと考えられる。
安定吐出時間の測定例を以下に説明する。図16は、液滴の様子を撮像したストロボ写真である。
インクジェットヘッドのノズルから1秒間に、略千回吐出する液滴の様子を0.5分毎に、0分から2分まで撮像した。環境の湿度は50%であった。
図16(a)は、サンプル3を使用した機能性インクの液滴の様子である。図16(b)は、サンプル4を使用した機能性インクの液滴の様子である。図16(a)より、サンプル3を使用した機能性インクは、吐出開始直後から、安定して吐出され、時間が経過しても、吐出安定性は維持され、安定吐出時間は2分以上あることが分かる。
一方、図16(b)より、サンプル4を使用した機能性インクは、吐出開始直後のみ、安定して吐出され、時間の経過と共に、吐出が不安定になることがわかった。時間の経過と共に、液滴のノズル周辺部に固形分が析出して、飛翔速度が上がり、液滴の曲がりが生じることがわかった。安定吐出時間は1分以下であり、吐出信頼性が低い。このようにして各機能性インクに対して安定吐出時間を測定した。
サンプル1において、機能性インクの安定吐出時間は、180秒であった。サンプル2において、機能性インクの安定吐出時間は、600秒であった。サンプル3において、機能性インクの安定吐出時間は、600秒以上であった。サンプル4において、機能性インクの安定吐出時間は、40秒であった。サンプル5において、機能性インクの安定吐出時間は、40秒であった。なお、この時の環境の湿度は50%であった。
サンプル1、サンプル2、サンプル3における機能性インクの安定吐出時間は、サンプル4、サンプル5における機能性インクの安定吐出時間と比較して長く、サンプル3における機能性インクの安定吐出時間は、最も長いことがわかった。
なお、水分量が10倍より大きいPZT前駆体ゾルゲル溶液を使用した機能性インク(比較例のサンプルとして、本実施例では挙げていない)は、保存安定性の問題で実用的ではなかった。
即ち、PZT前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量が0.50倍以上10倍以下という範囲内を満たせば、水分量が多い程、安定吐出時間が長くなり、インクジェットヘッドの吐出信頼性が高まることがわかった。
なお、安定吐出時間は、環境の湿度等により変化する。一般的なクリーンルームの湿度である40〜60%の塗布環境において、PZT前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量は、0.50倍以上であることが好ましい。
又、要求される安定吐出時間は、機能性インクの塗布面積、インクジェットヘッドのノズルのメンテナンス性、等により変化する。機能性インクの塗布面積が大きく、ノズルメンテナンスの簡素化を狙う場合には、PZT前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量は、1.0倍以上であることが好ましい。
図17に、PZT膜の着弾パターンの様子を撮像した写真を示す。図17は、サンプル1、サンプル2、サンプル3を使用して形成されたPZT膜の着弾パターンの様子である。
図17より、インクジェットヘッドから吐出した液滴(機能性インク)は、所定のパターン上に的確に着弾し、良好な形状を有するPZT膜を形成できていることがわかった。
更に、このPZT膜の膜厚を、接触式段差計を用いて測定した。膜厚1.8μm、パターン間の膜厚バラツキ2.5%以内、パターン内の中央部と端部間の膜厚バラツキは±0.5%未満であり、良好な形状のPZT膜が得られた。従って、サンプル1〜3を用いて形成されたPZT膜の膜厚は、パターン間及びパターン内のどちらにおいても、膜厚バラツキは小さく、コーヒーステイン現象を抑制できることがわかった。
即ち、PZT前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量が0.50倍以上10倍以下という範囲内を満たす機能性インクを使用することで、インクジェットヘッドの吐出信頼性を高められるため、良質な電気機械変換膜を形成できることが示唆される。
[電気的特性及び電気機械変換能の評価]
続いて、良質なPZT膜に上部電極(白金)を成膜し、電気機械変換素子を作製し、電気的特性、電気機械変換能(圧電定数)の評価を行った。
比誘電率は1500、誘電損失は0.05、耐圧は50Vであった。従って、電気機械変換素子は、優れた電気的特性を示すことがわかった。
図20に、P−Eヒステリシス曲線を示す。残留分極は12[μC/cm]、抗電界は28[kV/cm]であり、通常のセラミック焼結体と同等の特性を持つことがわかった。又、電気機械変換能は、電界印加による変形量をレーザードップラー振動計で計測し、シミュレーションによる合わせ込みから算出した。圧電定数d31は、142pm/Vとなった。従って、圧電定数も通常のセラミック焼結体と同等の値であることがわかった。この値は、液滴吐出ヘッドに用いられる電気機械変換素子として十分設計できうる特性値である。
従って、良質な電気機械変換膜を使用して形成された電気機械変換素子は、良好な素子特性を有することがわかった。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳述したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の実施形態の要旨の範囲内において、種々の変形、変更が可能である。
1 液滴吐出ヘッド
3 薄膜製造装置
4 インクジェット記録装置
11 ノズル
40 電気機械変換素子
42 電極
43 電気機械変換膜
51 機能性インク
600 偏向ミラー
700 加速度センサ
800 HDD用微調整装置
900 角速度センサ
950 マイクロポンプ
960 マイクロバルブ
特開2010−219148号公報

Claims (15)

  1. 一般式ABOで記述されるペロブスカイト構造の酸化物誘電体膜を形成する際に使用する、部分加水分解処理がなされた前駆体ゾルゲル溶液であって、
    前記前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量が、前記前駆体ゾルゲル溶液に含まれるBサイトを構成する原子に対するモル比で0.5倍以上1.0倍以下であり、
    前記前駆体ゾルゲル溶液が、A=Pb、B=ZrおよびTiの両方である、前駆体ゾルゲル溶液。
  2. 前記部分加水分解処理に対して粘度変化が5割以下となる安定化処理がなされる、請求項1記載の前駆体ゾルゲル溶液。
  3. 薄膜製造装置に備えられる液滴吐出装置のノズルから吐出する、請求項1又は2記載の前駆体ゾルゲル溶液。
  4. 請求項1から3の何れか一つに記載の前駆体ゾルゲル溶液を塗布して形成される酸化物誘電体膜。
  5. 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えた液滴吐出ヘッド。
  6. 請求項5記載の液滴吐出ヘッドを備えたインクジェット記録装置。
  7. 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えた偏向ミラー。
  8. 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えた加速度センサ。
  9. 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えたHDDヘッド用微調整装置。
  10. 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えた角速度センサ。
  11. 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えたマイクロポンプ。
  12. 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えたマイクロバルブ。
  13. 一般式ABOで記述されるペロブスカイト構造の酸化物誘電体膜を形成する際に使用する前駆体ゾルゲル溶液の製造方法であって、
    部分加水分解工程での粘度変化を抑制する安定化処理工程と、
    部分加水分解工程を有し、
    前記部分加水分解工程後の前記前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量が、前記前駆体ゾルゲル溶液に含まれるBサイトを構成する原子に対するモル比で0.5倍以上1.0倍以下であり、
    前記前駆体ゾルゲル溶液が、A=Pb、B=ZrおよびTiの両方である、前駆体ゾルゲル溶液の製造方法。
  14. 前記部分加水分解工程は、工程前後での粘度変化が5割以下である、請求項13に記載の前駆体ゾルゲル溶液の製造方法。
  15. 前記部分加水分解工程は、前記前駆体ゾルゲル溶液に、水又は水溶液を加えることにより行われる、請求項13又は14記載の前駆体ゾルゲル溶液の製造方法。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011089748A1 (ja) * 2010-01-21 2011-07-28 株式会社ユーテック Pbnzt強誘電体膜、ゾルゲル溶液、成膜方法及び強誘電体膜の製造方法
JP6442860B2 (ja) * 2014-04-23 2018-12-26 株式会社リコー 前駆体ゾルゲル溶液、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、及びインクジェット記録装置
FR3027380A1 (fr) * 2014-10-17 2016-04-22 Commissariat Energie Atomique Dispositif de refroidissement par liquide caloporteur pour composants electroniques
CN108455698B (zh) * 2017-02-22 2020-12-25 南方科技大学 光催化组件及其制备方法
CN108953123B (zh) * 2018-07-06 2019-07-23 西安交通大学 一种基于PVC-gel柔性驱动的微泵结构
US11145803B2 (en) 2019-07-30 2021-10-12 Ricoh Company, Ltd. Piezoelectric element substrate, bonded substrate, liquid discharge head, liquid discharge unit, and liquid discharge apparatus

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR920701048A (ko) * 1989-04-21 1992-08-11 원본미기재 졸 겔 가공에 의한 박막 세라믹 제법
JPH04264317A (ja) * 1991-02-19 1992-09-21 Ricoh Co Ltd 強誘電体
JPH0891841A (ja) 1994-09-27 1996-04-09 Sharp Corp 強誘電体膜の製造方法
JP3359436B2 (ja) * 1994-11-07 2002-12-24 京セラ株式会社 PbTiO3配向膜の製造方法
JP3485417B2 (ja) * 1995-09-08 2004-01-13 京セラ株式会社 誘電体薄膜の製法
US6455106B1 (en) 1998-01-19 2002-09-24 Seiko Epson Corporation Method of forming oxide-ceramics film
JP2000034575A (ja) 1998-03-30 2000-02-02 Minolta Co Ltd 金属酸化物薄膜およびアレイ状金属酸化物機能性素子の製造法
JPH11286653A (ja) 1998-03-31 1999-10-19 Kansai Shingijutsu Kenkyusho:Kk 強誘電体薄膜形成用前駆体溶液およびその製造方法
JP2000128645A (ja) * 1998-04-17 2000-05-09 Ssi Technol Inc ゾル・ゲルバインダ―溶液及びそれによる溶液析出法
JP2000058935A (ja) 1998-08-13 2000-02-25 Citizen Watch Co Ltd 強誘電体素子の製造方法
JP2000091657A (ja) 1998-09-11 2000-03-31 Citizen Watch Co Ltd 強誘電体素子の製造方法
US6589457B1 (en) * 2000-07-31 2003-07-08 The Regents Of The University Of California Polymer-assisted aqueous deposition of metal oxide films
KR100408517B1 (ko) 2000-12-28 2003-12-06 삼성전자주식회사 졸-겔 공정을 이용한 강유전성 박막 제조방법
CN100421275C (zh) 2002-05-15 2008-09-24 精工爱普生株式会社 压电致动器及液体喷头
JP4464171B2 (ja) * 2004-03-18 2010-05-19 株式会社アート科学 酸化物セラミックスナノシートの製造方法及び製造装置
US9125968B2 (en) * 2005-03-30 2015-09-08 Boston Scientific Scimed, Inc. Polymeric/ceramic composite materials for use in medical devices
JP2010219148A (ja) 2009-03-13 2010-09-30 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd ゾル−ゲル前駆体液及びそのゾル−ゲル前駆体液を用いて得られる酸化物誘電体膜
JP5526810B2 (ja) 2010-01-28 2014-06-18 株式会社リコー ゾルゲル液、電気−機械変換素子、液体吐出ヘッド及びインクジェット記録装置
JP2013225671A (ja) 2012-03-22 2013-10-31 Ricoh Co Ltd 薄膜製造装置、電気−機械変換素子、液体吐出ヘッド、画像形成装置および薄膜製造方法
JP2014030008A (ja) * 2012-07-02 2014-02-13 Ricoh Co Ltd 圧電体素子の製造方法、圧電体素子、液滴吐出ヘッド、画像形成装置、偏向ミラー、加速度センサ、ヘッド位置調整装置、強誘電体メモリ素子、角速度センサ、マイクロポンプ、マイクロバルブ及び高周波スイッチ
JP6060582B2 (ja) * 2012-09-18 2017-01-18 株式会社リコー 電気機械変換膜の形成方法、電気機械変換素子の製造方法、液滴吐出ヘッドの製造方法及び画像形成装置の製造方法
JP2015005568A (ja) 2013-06-19 2015-01-08 株式会社リコー 前駆体ゾルゲル溶液、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、及びインクジェット記録装置
JP6442860B2 (ja) * 2014-04-23 2018-12-26 株式会社リコー 前駆体ゾルゲル溶液、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、及びインクジェット記録装置

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