JP6357784B2 - Imaging unit and imaging apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、撮像ユニット及び撮像装置に関する。   The present invention relates to an imaging unit and an imaging apparatus.

セラミックパッケージ内に撮像チップが実装されたパッケージ構造の撮像ユニットが知られている。
[先行技術文献]
[特許文献]
[特許文献1] 特開2007−019423号公報
An imaging unit having a package structure in which an imaging chip is mounted in a ceramic package is known.
[Prior art documents]
[Patent Literature]
[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-019423

撮像チップと撮像チップの環囲部材とが設けられた実装基板を備える撮像ユニットの製造過程等において、環囲部材に反りが生じてしまう場合がある。環囲部材に反りが生じると、実装基板にも反りが生じる場合がある。   In a manufacturing process of an imaging unit including an imaging chip and a mounting substrate provided with an imaging chip surrounding member, the surrounding member may be warped. When the surrounding member is warped, the mounting substrate may be warped.

第1の態様においては、撮像ユニットは、実装基板と、実装基板の実装面に実装された撮像チップと、実装基板に設けられ、撮像チップを環囲する第1環囲部と、第1環囲部に設けられ、撮像チップを環囲する第2環囲部とを備え、第1環囲部は、実装基板と接する第1面の反対の第2面に実装面に沿う方向に延伸する突部が形成され、第2環囲部は、少なくとも突部の上面に接して第1環囲部に設けられる。   In the first aspect, the imaging unit includes a mounting substrate, an imaging chip mounted on the mounting surface of the mounting substrate, a first surrounding portion provided on the mounting substrate and surrounding the imaging chip, and a first ring. And a second surrounding portion that surrounds the imaging chip. The first surrounding portion extends in a direction along the mounting surface to a second surface opposite to the first surface that contacts the mounting substrate. A protrusion is formed, and the second surrounding part is provided in the first surrounding part at least in contact with the upper surface of the protrusion.

第2の態様においては、撮像ユニットは、実装基板と、実装基板に実装された撮像チップと、実装基板に設けられ、撮像チップを環囲する第1環囲部と、第1環囲部に設けられ、撮像チップを環囲する第2環囲部とを備え、第1環囲部は、撮像チップを環囲する内縁部から内縁部より外側の外縁部までの幅が第1の幅である第1部分と、内縁部から外縁部までの幅が、第1の幅より大きい第2の幅である第2部分とを有し、第2環囲部は、第1部分及び第2部分に接して、第1環囲部が実装基板と接する第1面の反対の第2面に設けられ、内縁部から外縁部への方向において、第2環囲部が第1部分と接する長さは、第2環囲部が第2部分と接する長さより小さい。   In the second aspect, the imaging unit includes a mounting substrate, an imaging chip mounted on the mounting substrate, a first surrounding portion provided on the mounting substrate and surrounding the imaging chip, and a first surrounding portion. And a second surrounding portion surrounding the imaging chip, wherein the first surrounding portion has a first width from an inner edge portion surrounding the imaging chip to an outer edge portion outside the inner edge portion. A first portion and a second portion having a second width greater than the first width from the inner edge to the outer edge, and the second surrounding portion includes the first portion and the second portion The first surrounding portion is provided on the second surface opposite to the first surface in contact with the mounting substrate, and the second surrounding portion is in contact with the first portion in the direction from the inner edge portion to the outer edge portion. Is smaller than the length of the second surrounding portion in contact with the second portion.

第3の態様においては、撮像装置は、上記撮像ユニットを備える。   In a third aspect, an imaging device includes the imaging unit.

なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。   It should be noted that the above summary of the invention does not enumerate all the necessary features of the present invention. In addition, a sub-combination of these feature groups can also be an invention.

撮像装置の一例であるカメラ10の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the camera 10 which is an example of an imaging device. 第1実施例に係るフレーム140を有する撮像ユニット40を模式的に示す上面図である。It is a top view which shows typically the imaging unit 40 which has the flame | frame 140 which concerns on 1st Example. フレーム140を模式的に示す図である。It is a figure which shows the flame | frame 140 typically. 図2のA−A断面を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the AA cross section of FIG. 2 typically. 図4のC部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows the C section of FIG. 図2のB−B断面を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the BB cross section of FIG. 2 typically. 第2実施例に係るフレーム740を模式的に示す背面図である。It is a rear view which shows typically the flame | frame 740 which concerns on 2nd Example. 第3実施例に係るフレーム840を備える撮像ユニット890を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the imaging unit 890 provided with the flame | frame 840 which concerns on 3rd Example. 第4実施例に係るフレーム940を備える撮像ユニット990を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the imaging unit 990 provided with the flame | frame 940 which concerns on 4th Example.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。   Hereinafter, the present invention will be described through embodiments of the invention, but the following embodiments do not limit the invention according to the claims. In addition, not all the combinations of features described in the embodiments are essential for the solving means of the invention.

図1は、撮像装置の一例であるカメラ10の模式的な断面図である。カメラ10は、レンズユニット20及びカメラボディ30を備える。カメラボディ30には、レンズユニット20が装着される。レンズユニット20は、その鏡筒内に、光軸22に沿って配列された光学系を備え、入射する被写体光束をカメラボディ30の撮像ユニット40へ導く。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a camera 10 that is an example of an imaging apparatus. The camera 10 includes a lens unit 20 and a camera body 30. The lens unit 20 is attached to the camera body 30. The lens unit 20 includes an optical system arranged along the optical axis 22 in the lens barrel, and guides an incident subject light flux to the imaging unit 40 of the camera body 30.

本実施形態において、光軸22に沿う方向をz軸方向と定める。すなわち、撮像ユニット40が有する撮像チップ100へ被写体光束が入射する方向をz軸方向と定める。具体的には、被写体光束が入射する方向をz軸マイナス方向と定め、その反対方向をz軸プラス方向と定める。撮像チップ100の長手方向をx軸方向と定める。撮像チップ100の短手方向をy軸方向と定める。具体的には、x軸方向及びy軸方向は、図1に図示した方向に定められる。x軸、y軸、z軸は右手系の直交座標系である。なお、説明の都合上、z軸プラス方向を前方、前側、上方等と呼ぶ場合がある。また、z軸マイナス方向を後方、後側、下方等と呼ぶ場合がある。また、z軸プラス方向の位置からz軸マイナス方向に見た場合の図を上面図等と呼ぶ場合がある。また、z軸マイナス方向の位置からz軸プラス方向に見た場合の図を背面図等と呼ぶ場合がある。   In the present embodiment, the direction along the optical axis 22 is defined as the z-axis direction. That is, the direction in which the subject light beam enters the imaging chip 100 included in the imaging unit 40 is defined as the z-axis direction. Specifically, the direction in which the subject luminous flux is incident is defined as the z-axis minus direction, and the opposite direction is defined as the z-axis plus direction. The longitudinal direction of the imaging chip 100 is defined as the x-axis direction. The short direction of the imaging chip 100 is defined as the y-axis direction. Specifically, the x-axis direction and the y-axis direction are determined in the directions illustrated in FIG. The x-axis, y-axis, and z-axis are right-handed orthogonal coordinate systems. For convenience of explanation, the z-axis plus direction may be referred to as front, front, upper, or the like. Also, the z-axis minus direction may be referred to as rear, rear, lower, etc. Further, a view when viewed in the z-axis minus direction from a position in the z-axis plus direction may be referred to as a top view or the like. Further, a view when viewed in the z-axis plus direction from a position in the z-axis minus direction may be referred to as a rear view or the like.

カメラボディ30は、レンズマウント24に結合されるボディマウント26よりz軸マイナス方向の位置に、ミラーユニット31を有する。ミラーユニット31は、メインミラー32及びサブミラー33を含む。メインミラー32は、レンズユニット20が射出した被写体光束の光路中に進入した進入位置と、被写体光束の光路から退避した退避位置との間で回転可能に軸支される。サブミラー33は、メインミラー32に対して回転可能に軸支される。サブミラー33は、メインミラー32とともに進入位置に進入し、メインミラー32とともに退避位置に退避する。このように、ミラーユニット31は、被写体光束の光路中に進入した進入状態と、被写体光束から退避した退避状態とをとる。   The camera body 30 has a mirror unit 31 at a position in the negative z-axis direction from the body mount 26 coupled to the lens mount 24. The mirror unit 31 includes a main mirror 32 and a sub mirror 33. The main mirror 32 is rotatably supported between an entry position where it enters the optical path of the subject light beam emitted from the lens unit 20 and a retreat position where it is retracted from the optical path of the subject light flux. The sub mirror 33 is rotatably supported with respect to the main mirror 32. The sub mirror 33 enters the entry position together with the main mirror 32 and retracts to the retract position together with the main mirror 32. As described above, the mirror unit 31 takes the approach state in which the subject light flux enters the optical path and the retreat state in which the subject light flux is retracted.

ミラーユニット31が進入状態にある場合、メインミラー32に入射した被写体光束の一部は、メインミラー32に反射されてピント板80に導かれる。ピント板80は、撮像ユニット40が有する撮像チップ100の撮像面と共役な位置に配されて、レンズユニット20の光学系が形成した被写体像を可視化する。ピント板80に形成された被写体像は、ペンタプリズム82及びファインダ光学系84を通じてファインダ窓86から観察される。   When the mirror unit 31 is in the entering state, a part of the subject light beam incident on the main mirror 32 is reflected by the main mirror 32 and guided to the focus plate 80. The focus plate 80 is disposed at a position conjugate with the imaging surface of the imaging chip 100 included in the imaging unit 40, and visualizes the subject image formed by the optical system of the lens unit 20. The subject image formed on the focus plate 80 is observed from the finder window 86 through the pentaprism 82 and the finder optical system 84.

ミラーユニット31が進入状態にある場合、メインミラー32に入射した被写体光束のうちメインミラー32で反射した被写体光束以外の光束は、サブミラー33に入射する。具体的には、メインミラー32はハーフミラー領域を有し、メインミラー32のハーフミラー領域を透過した被写体光束がサブミラー33に入射する。サブミラー33は、ハーフミラー領域から入射した光束を、結像光学系70に向かって反射する。結像光学系70は、入射光束を、焦点位置を検出するための焦点検出センサ72に導く。焦点検出センサ72は、焦点位置の検出結果をMPU51へ出力する。   When the mirror unit 31 is in the entering state, light beams other than the subject light beam reflected by the main mirror 32 out of the subject light beam incident on the main mirror 32 enter the sub mirror 33. Specifically, the main mirror 32 has a half mirror area, and the subject light flux that has passed through the half mirror area of the main mirror 32 enters the sub mirror 33. The sub mirror 33 reflects the light beam incident from the half mirror region toward the imaging optical system 70. The imaging optical system 70 guides the incident light beam to a focus detection sensor 72 for detecting the focus position. The focus detection sensor 72 outputs the focus position detection result to the MPU 51.

ピント板80、ペンタプリズム82、メインミラー32、サブミラー33及びファインダ光学系84は、支持部材としてのミラーボックス60に支持される。ミラーユニット31が退避状態にあり、シャッタユニット38の先幕及び後幕が開状態となれば、レンズユニット20を透過する被写体光束は、撮像チップ100の撮像面に到達する。   The focus plate 80, the pentaprism 82, the main mirror 32, the sub mirror 33, and the finder optical system 84 are supported by a mirror box 60 as a support member. When the mirror unit 31 is in the retracted state and the front curtain and the rear curtain of the shutter unit 38 are in the open state, the subject luminous flux that passes through the lens unit 20 reaches the imaging surface of the imaging chip 100.

撮像ユニット40のz軸マイナス方向の位置には、基板62及び表示部88が順次配置される。表示部88としては、例えば液晶パネル等を適用できる。表示部88の表示面は、カメラボディ30の背面に現れる。表示部88は、撮像チップ100からの出力信号から生成される画像を表示する。   A substrate 62 and a display unit 88 are sequentially arranged at a position in the negative z-axis direction of the imaging unit 40. As the display unit 88, for example, a liquid crystal panel or the like can be applied. The display surface of the display unit 88 appears on the back surface of the camera body 30. The display unit 88 displays an image generated from the output signal from the imaging chip 100.

基板62には、MPU51、ASIC52等の電子回路が実装される。MPU51は、カメラ10の全体の制御を担う。撮像チップ100からの出力信号は、フレキシブルプリント基板等を介してASIC52へ出力される。ASIC52は、撮像チップ100から出力された出力信号を処理する。   Electronic circuits such as MPU 51 and ASIC 52 are mounted on the substrate 62. The MPU 51 is responsible for overall control of the camera 10. An output signal from the imaging chip 100 is output to the ASIC 52 via a flexible printed circuit board or the like. The ASIC 52 processes the output signal output from the imaging chip 100.

ASIC52は、撮像チップ100からの出力信号に基づいて、表示用の画像データを生成する。表示部88は、ASIC52が生成した表示用の画像データに基づいて画像を表示する。ASIC52は、撮像チップ100からの出力信号に基づいて、記録用の画像データを生成する。ASIC52は、撮像チップの出力信号に対して例えば画像処理や圧縮処理を施すことで記録用の画像データを生成する。ASIC52が生成した記録用の画像データは、カメラボディ30に装着された記録媒体に記録される。記録媒体は、カメラボディ30に着脱可能に構成されている。   The ASIC 52 generates image data for display based on the output signal from the imaging chip 100. The display unit 88 displays an image based on the display image data generated by the ASIC 52. The ASIC 52 generates image data for recording based on the output signal from the imaging chip 100. The ASIC 52 generates image data for recording by performing, for example, image processing or compression processing on the output signal of the imaging chip. The recording image data generated by the ASIC 52 is recorded on a recording medium attached to the camera body 30. The recording medium is configured to be detachable from the camera body 30.

図2は、第1実施例に係るフレーム140を有する撮像ユニット40を模式的に示す上面図である。図3は、フレーム140を模式的に示す図である。図3(a)は、フレーム140を模式的に示す上面図である。図3(b)は、フレーム140を模式的に示す背面図である。図4は、図2のA−A断面を模式的に示す断面図である。図5は、図4のC部を拡大して示す断面図である。   FIG. 2 is a top view schematically showing the imaging unit 40 having the frame 140 according to the first embodiment. FIG. 3 is a diagram schematically showing the frame 140. FIG. 3A is a top view schematically showing the frame 140. FIG. 3B is a rear view schematically showing the frame 140. FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the AA cross section of FIG. FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a portion C in FIG.

撮像ユニット40は、撮像チップ100と、実装基板120と、フレーム140と、カバーガラス160とを含んで構成される。撮像チップ100は、CMOSイメージセンサやCCDイメージセンサである。撮像チップ100は、撮像領域101と周辺領域102とを含んで構成される。撮像領域101は、撮像チップ100の中央部分に形成される。撮像チップ100の撮像領域101には、被写体光を光電変換する複数の光電変換素子で撮像面が形成されている。撮像チップ100の周辺領域102は、撮像領域101の周辺に位置する。撮像チップ100の周辺領域102には、光電変換素子における光電変換によって得られた画素信号を読み出して信号処理を行う処理回路を有する。処理回路は、出力された画素信号をデジタル信号に変換するAD変換回路を含む。   The imaging unit 40 includes an imaging chip 100, a mounting substrate 120, a frame 140, and a cover glass 160. The imaging chip 100 is a CMOS image sensor or a CCD image sensor. The imaging chip 100 includes an imaging area 101 and a peripheral area 102. The imaging region 101 is formed in the central part of the imaging chip 100. In the imaging region 101 of the imaging chip 100, an imaging surface is formed by a plurality of photoelectric conversion elements that photoelectrically convert subject light. The peripheral area 102 of the imaging chip 100 is located around the imaging area 101. The peripheral area 102 of the imaging chip 100 includes a processing circuit that reads out a pixel signal obtained by photoelectric conversion in the photoelectric conversion element and performs signal processing. The processing circuit includes an AD conversion circuit that converts the output pixel signal into a digital signal.

撮像チップ100は、xy平面において長方形の形状を持つ。撮像チップ100は、第1短辺105a及び第2短辺105bと、第1長辺106a及び第2長辺106bとを有する。第1短辺105aは、第2短辺105bよりx軸プラス方向に位置する。第1長辺106aは、第2長辺106bよりy軸プラス方向に位置する。   The imaging chip 100 has a rectangular shape on the xy plane. The imaging chip 100 has a first short side 105a and a second short side 105b, and a first long side 106a and a second long side 106b. The first short side 105a is located in the x-axis plus direction from the second short side 105b. The first long side 106a is positioned in the y-axis plus direction from the second long side 106b.

撮像チップ100は、実装基板120に実装される。撮像チップ100は、実装基板120に例えばフリップチップ実装で実装される。撮像チップ100は、ボンディングワイヤ110を介して実装基板120と電気的に接続される。撮像チップ100のAD変換回路でデジタル信号に変換された画素信号は、ボンディングワイヤ110を介して実装基板120に出力される。撮像チップ100は、実装基板120に接着剤で接着される。撮像チップ100は、フレーム140の開口部138に収容されている。フレーム140は、撮像チップ100を環囲する環囲部材の一例である。   The imaging chip 100 is mounted on the mounting substrate 120. The imaging chip 100 is mounted on the mounting substrate 120 by, for example, flip chip mounting. The imaging chip 100 is electrically connected to the mounting substrate 120 via bonding wires 110. The pixel signal converted into a digital signal by the AD conversion circuit of the imaging chip 100 is output to the mounting substrate 120 via the bonding wire 110. The imaging chip 100 is bonded to the mounting substrate 120 with an adhesive. The imaging chip 100 is accommodated in the opening 138 of the frame 140. The frame 140 is an example of a surrounding member that surrounds the imaging chip 100.

実装基板120は、撮像チップ100を実装する。実装基板120は、第1層121と、芯層207と、第2層122とを含む。第1層121は、ソルダレジスト層201と、配線層202と、絶縁層203と、配線層204と、絶縁層205とを含む。第2層122は、絶縁層215と、配線層214と、絶縁層213と、配線層212と、ソルダレジスト層211とを含む。実装基板120は、芯層207をコア層として有する多層コア基板である。   The mounting substrate 120 mounts the imaging chip 100. The mounting substrate 120 includes a first layer 121, a core layer 207, and a second layer 122. The first layer 121 includes a solder resist layer 201, a wiring layer 202, an insulating layer 203, a wiring layer 204, and an insulating layer 205. The second layer 122 includes an insulating layer 215, a wiring layer 214, an insulating layer 213, a wiring layer 212, and a solder resist layer 211. The mounting substrate 120 is a multilayer core substrate having the core layer 207 as a core layer.

実装基板120において、光軸22に沿って、撮像チップ100、ソルダレジスト層201、配線層202、絶縁層203、配線層204、絶縁層205、芯層207、絶縁層215、配線層214、絶縁層213、配線層212、ソルダレジスト層211の順で配されている。   On the mounting substrate 120, along the optical axis 22, the imaging chip 100, solder resist layer 201, wiring layer 202, insulating layer 203, wiring layer 204, insulating layer 205, core layer 207, insulating layer 215, wiring layer 214, insulating The layer 213, the wiring layer 212, and the solder resist layer 211 are arranged in this order.

絶縁層203、絶縁層205、絶縁層215及び絶縁層213は、例えば樹脂層である。絶縁層203、絶縁層205、絶縁層215及び絶縁層213それぞれの厚みは、20μm〜50μmである。なお、厚みとは、z軸方向における長さである。   The insulating layer 203, the insulating layer 205, the insulating layer 215, and the insulating layer 213 are, for example, resin layers. The thickness of each of the insulating layer 203, the insulating layer 205, the insulating layer 215, and the insulating layer 213 is 20 μm to 50 μm. The thickness is a length in the z-axis direction.

配線層202、配線層204、配線層214及び配線層212は、配線パターンを含む。配線層202、配線層204、配線層214及び配線層212の材料として、ニッケルと鉄の合金(例えば42alloy、56alloy)、銅、アルミニウム等を用いることができる。配線層202、配線層204、配線層214及び配線層212が有する配線パターンそれぞれの厚みは、10μmから50μm程度である。   The wiring layer 202, the wiring layer 204, the wiring layer 214, and the wiring layer 212 include a wiring pattern. As a material for the wiring layer 202, the wiring layer 204, the wiring layer 214, and the wiring layer 212, an alloy of nickel and iron (for example, 42 alloy, 56 alloy), copper, aluminum, or the like can be used. Each of the wiring patterns included in the wiring layer 202, the wiring layer 204, the wiring layer 214, and the wiring layer 212 has a thickness of about 10 μm to 50 μm.

芯層207は、金属で形成される。芯層207を金属で形成する場合、芯層207の材料として例えばニッケルと鉄の合金(例えば42alloy、56alloy)、銅、アルミニウム等を用いてよい。芯層207の厚みは、配線層202、配線層204、配線層214及び配線層212のいずれの配線層の厚みより厚い。芯層207の厚みは、絶縁層203、絶縁層205、絶縁層215及び絶縁層213のいずれの絶縁層の厚みより厚い。具体的には、芯層207の厚みは、0.1mmから0.8mm程度である。芯層207の剛性は、配線層202、配線層204、配線層214及び配線層212のいずれの配線層の剛性よりも高い。芯層207の剛性は、第1層121の剛性より高くてもよい。芯層207の剛性は、第2層122の剛性より高くてもよい。   The core layer 207 is made of metal. When the core layer 207 is formed of a metal, for example, an alloy of nickel and iron (for example, 42 alloy, 56 alloy), copper, aluminum, or the like may be used as the material of the core layer 207. The thickness of the core layer 207 is thicker than any of the wiring layers 202, 204, 214, and 212. The thickness of the core layer 207 is thicker than any of the insulating layers 203, 205, 215, and 213. Specifically, the thickness of the core layer 207 is about 0.1 mm to 0.8 mm. The rigidity of the core layer 207 is higher than the rigidity of any of the wiring layers 202, 204, 214, and 212. The rigidity of the core layer 207 may be higher than the rigidity of the first layer 121. The rigidity of the core layer 207 may be higher than the rigidity of the second layer 122.

なお、芯層207は樹脂で形成されてもよい。芯層207を樹脂で形成する場合、芯層207は、例えばFR4、FR4より弾性率の高い材料を用いて形成されてよい。芯層207は樹脂で形成する場合、芯層207はz軸方向において配線層に挟まれる。例えば、芯層207は樹脂で形成する場合、光軸22に沿って、撮像チップ100、ソルダレジスト層201、配線層202、絶縁層203、配線層204、芯層207、配線層214、絶縁層213、配線層212、ソルダレジスト層211の順で配されてよい。2層の配線層を追加で配する場合は、配線層204と芯層207との間に、配線層204に接触する追加の絶縁層と芯層207に接触する追加の配線層とが光軸22に沿って順で配され、芯層207と配線層214との間に、芯層207に接触する追加の配線層と、配線層214に接触する追加の絶縁層とを光軸22に沿って順に配される。   The core layer 207 may be made of resin. When the core layer 207 is formed of resin, the core layer 207 may be formed using, for example, FR4 or a material having a higher elastic modulus than FR4. When the core layer 207 is formed of resin, the core layer 207 is sandwiched between the wiring layers in the z-axis direction. For example, when the core layer 207 is formed of resin, along the optical axis 22, the imaging chip 100, the solder resist layer 201, the wiring layer 202, the insulating layer 203, the wiring layer 204, the core layer 207, the wiring layer 214, and the insulating layer 213, the wiring layer 212, and the solder resist layer 211 may be arranged in this order. When two wiring layers are additionally disposed, an additional insulating layer that contacts the wiring layer 204 and an additional wiring layer that contacts the core layer 207 are between the wiring layer 204 and the core layer 207. 22, and an additional wiring layer that contacts the core layer 207 and an additional insulating layer that contacts the wiring layer 214 are disposed along the optical axis 22 between the core layer 207 and the wiring layer 214. Are arranged in order.

このように、実装基板120は、金属コアまたは樹脂コアを有する多層コア基板である。実装基板120の厚みは、全体として0.3mmから1.0mm程度であってよい。   As described above, the mounting substrate 120 is a multilayer core substrate having a metal core or a resin core. The thickness of the mounting substrate 120 may be about 0.3 mm to 1.0 mm as a whole.

配線層202の少なくとも一部は、撮像チップ100からボンディングワイヤ110を介して出力された画素信号を受け取る配線パターンに使用される。配線層202は、ボンディングワイヤ110が接続されるボンディングパッド240を含む。   At least a part of the wiring layer 202 is used for a wiring pattern that receives a pixel signal output from the imaging chip 100 via the bonding wire 110. The wiring layer 202 includes a bonding pad 240 to which the bonding wire 110 is connected.

配線層204に含まれる配線パターン及び配線層214に含まれる配線パターンは、例えば、グランドライン、電源ライン等に使用できる。   The wiring pattern included in the wiring layer 204 and the wiring pattern included in the wiring layer 214 can be used for, for example, a ground line, a power supply line, and the like.

撮像チップ100は、ソルダレジスト層201上に実装される。撮像チップ100は、ボンディングワイヤ110によってボンディングパッド240に電気的に接続される。ボンディングパッド240と配線層212とは、第1層121及び芯層207を貫通するビア131によって電気的に接続されている。ビア131は、絶縁体132により覆われている。撮像チップ100から出力された画素信号は、配線層202及びビア131を介して、配線層212に伝送される。   The imaging chip 100 is mounted on the solder resist layer 201. The imaging chip 100 is electrically connected to the bonding pad 240 by the bonding wire 110. The bonding pad 240 and the wiring layer 212 are electrically connected by a via 131 that penetrates the first layer 121 and the core layer 207. The via 131 is covered with an insulator 132. Pixel signals output from the imaging chip 100 are transmitted to the wiring layer 212 through the wiring layer 202 and the via 131.

ソルダレジスト層211上には、電子部品180が設けられる。すなわち、電子部品180は、実装基板120において撮像チップ100が実装された第1主面111とは反対側の第2主面112に実装される。電子部品180は、例えばコネクタ、キャパシタ、抵抗、レギュレータ、トランジスタ等を含む。電子部品180の一部の部品は、撮像チップ100に電力を供給する電源回路等を構成する。   An electronic component 180 is provided on the solder resist layer 211. That is, the electronic component 180 is mounted on the second main surface 112 on the opposite side of the mounting substrate 120 from the first main surface 111 on which the imaging chip 100 is mounted. The electronic component 180 includes, for example, a connector, a capacitor, a resistor, a regulator, a transistor, and the like. Some components of the electronic component 180 constitute a power supply circuit that supplies power to the imaging chip 100.

電子部品180の一部としてのコネクタは、例えばフレキシブル基板が接続される。電子部品180の一部としてのコネクタは、配線層212に接続され、配線層212に伝送された画素信号は、コネクタ及びフレキシブル基板を介して、ASIC52等の外部の電子回路へ伝送される。   For example, a flexible board is connected to the connector as a part of the electronic component 180. The connector as a part of the electronic component 180 is connected to the wiring layer 212, and the pixel signal transmitted to the wiring layer 212 is transmitted to an external electronic circuit such as the ASIC 52 via the connector and the flexible substrate.

電子部品180と配線層212とは、リード部材によって電気的に接続される。電子部品180のリード部材は、配線層212にはんだ等で固定されている。配線層212の一部は、ソルダレジスト層211に形成された開口から外部に露出して、ランド等の電極を提供する。   Electronic component 180 and wiring layer 212 are electrically connected by a lead member. The lead member of the electronic component 180 is fixed to the wiring layer 212 with solder or the like. A part of the wiring layer 212 is exposed to the outside through an opening formed in the solder resist layer 211 to provide an electrode such as a land.

撮像チップ100は、実装基板120にCOB(Chip On Board)実装されている。撮像チップ100は、実装基板120に例えば接着部551で接着されることで実装されている。具体的には、撮像チップ100は、実装基板120のソルダレジスト層201に接着部551で接着されている。接着部551は、例えば接着剤により形成される。具体的には、接着部551は、熱硬化性接着剤を熱硬化させることで形成される。撮像チップ100は、撮像チップ実装工程を経ることにより、実装基板120に実装される。撮像チップ実装工程において、撮像チップ100を実装基板120に実装する場合に、実装基板120が加熱される。撮像チップ100は、加熱された実装基板120に熱圧着によって実装される。   The imaging chip 100 is mounted on the mounting substrate 120 by COB (Chip On Board). The imaging chip 100 is mounted on the mounting substrate 120 by being bonded by, for example, an adhesive portion 551. Specifically, the imaging chip 100 is bonded to the solder resist layer 201 of the mounting substrate 120 with an adhesive portion 551. The bonding part 551 is formed of, for example, an adhesive. Specifically, the bonding portion 551 is formed by thermosetting a thermosetting adhesive. The imaging chip 100 is mounted on the mounting substrate 120 through an imaging chip mounting process. In the imaging chip mounting step, the mounting substrate 120 is heated when the imaging chip 100 is mounted on the mounting substrate 120. The imaging chip 100 is mounted on a heated mounting substrate 120 by thermocompression bonding.

ボンディングワイヤ110は、撮像チップ100及びボンディングパッド240に実装される。ボンディングワイヤ110は、ワイヤボンディング工程(ボンディングワイヤ実装工程)を経ることにより、撮像チップ100とボンディングパッド240とを電気的に接続する。ワイヤボンディング工程において、ボンディングワイヤ110をボンディングパッド240に実装する場合に、ボンディングパッド240が加熱され、ボンディングワイヤ110は、加熱されたボンディングパッド240に、熱圧着によって実装される。ワイヤボンディング工程において、ボンディングワイヤ110は、超音波圧着によってボンディングパッド240に実装されてもよい。   The bonding wire 110 is mounted on the imaging chip 100 and the bonding pad 240. The bonding wire 110 electrically connects the imaging chip 100 and the bonding pad 240 through a wire bonding process (bonding wire mounting process). In the wire bonding process, when the bonding wire 110 is mounted on the bonding pad 240, the bonding pad 240 is heated, and the bonding wire 110 is mounted on the heated bonding pad 240 by thermocompression bonding. In the wire bonding process, the bonding wire 110 may be mounted on the bonding pad 240 by ultrasonic pressure bonding.

フレーム140は、実装基板120に接着部552で接着される。具体的には、フレーム140は、実装基板120のソルダレジスト層201に、接着部552により接着されている。接着部552は、例えば接着剤により形成される。具体的には、接着部552は、熱硬化性接着剤を熱硬化させることで形成される。接着部552は、熱硬化性接着剤を熱硬化させることで形成される。フレーム実装工程において、フレーム140は、実装基板120に実装される。フレーム実装工程において、フレーム140を実装基板120に実装する場合に、フレーム140が加熱され、フレーム140は、加熱された実装基板120に、熱圧着によって実装される。   The frame 140 is bonded to the mounting substrate 120 with an adhesive portion 552. Specifically, the frame 140 is bonded to the solder resist layer 201 of the mounting substrate 120 by the bonding portion 552. The bonding part 552 is formed of, for example, an adhesive. Specifically, the bonding portion 552 is formed by thermosetting a thermosetting adhesive. The bonding portion 552 is formed by thermosetting a thermosetting adhesive. In the frame mounting process, the frame 140 is mounted on the mounting substrate 120. In the frame mounting process, when the frame 140 is mounted on the mounting substrate 120, the frame 140 is heated, and the frame 140 is mounted on the heated mounting substrate 120 by thermocompression bonding.

フレーム140は、第1面141と、第2面142と、第3面143と、第4面144と、第5面145と、第6面146とを有する。第6面146は、開口部138を形成する。第6面146は、フレーム140の内壁面を形成する。開口部138は、例えばxy面内の中央部分に形成される。   The frame 140 has a first surface 141, a second surface 142, a third surface 143, a fourth surface 144, a fifth surface 145, and a sixth surface 146. The sixth surface 146 forms an opening 138. The sixth surface 146 forms the inner wall surface of the frame 140. The opening 138 is formed at, for example, a central portion in the xy plane.

第1面141は、カバーガラス160と接着部553により接着される面である。第1面141は、第6面146の端部に接する面である。第1面141は、第6面146の外縁に沿って形成される。第1面141は、xy平面と略平行な面である。   The first surface 141 is a surface that is bonded by the cover glass 160 and the bonding portion 553. The first surface 141 is a surface in contact with the end of the sixth surface 146. The first surface 141 is formed along the outer edge of the sixth surface 146. The first surface 141 is a surface substantially parallel to the xy plane.

第2面142は、第1面141の端部に接する面である。第2面142は、第1面141の外縁に沿って形成される面である。第2面142は、yz平面に略平行な面と、xz平面に略平行な面とを有する。   The second surface 142 is a surface in contact with the end of the first surface 141. The second surface 142 is a surface formed along the outer edge of the first surface 141. The second surface 142 has a surface substantially parallel to the yz plane and a surface substantially parallel to the xz plane.

第3面143は、第2面142の端部に接する面である。第3面143は、xy平面と略平行な面であり、第1面141と略平行な面である。   The third surface 143 is a surface in contact with the end of the second surface 142. The third surface 143 is a surface substantially parallel to the xy plane and a surface substantially parallel to the first surface 141.

第4面144は、第3面143の端部に接する面である。第4面144は、第3面143の外縁に沿って形成される面である。第4面144は、yz平面に略平行な面と、xz平面に略平行な面とを有する。   The fourth surface 144 is a surface in contact with the end of the third surface 143. The fourth surface 144 is a surface formed along the outer edge of the third surface 143. The fourth surface 144 has a surface substantially parallel to the yz plane and a surface substantially parallel to the xz plane.

第5面145は、第4面144の端部に接する面である。第5面145は、第4面144の外縁に沿って形成される面である。第5面145は、xy平面と略平行な面である。第5面145は、第1面141及び第3面143と略平行な面である。第5面145は、実装基板120のソルダレジスト層201と接着部552により接着される面である。第5面145は、接着部552に面する。第5面145は、第6面146の端部に接する面である。第5面145は、第6面146の外縁に沿って形成される。   The fifth surface 145 is a surface in contact with the end of the fourth surface 144. The fifth surface 145 is a surface formed along the outer edge of the fourth surface 144. The fifth surface 145 is a surface substantially parallel to the xy plane. The fifth surface 145 is a surface substantially parallel to the first surface 141 and the third surface 143. The fifth surface 145 is a surface that is bonded to the solder resist layer 201 of the mounting substrate 120 by the bonding portion 552. The fifth surface 145 faces the adhesive portion 552. The fifth surface 145 is a surface in contact with the end of the sixth surface 146. The fifth surface 145 is formed along the outer edge of the sixth surface 146.

フレーム140は、第1面141と第2面142と第3面143とにより形成された段部を有する。フレーム140は、取付部として取付穴148を有する。フレーム140は、例えば3つの取付穴148を有する。3つの取付穴148はいずれも第3面143から第5面145までを貫通する穴である。3つの取付穴148はいずれも、撮像ユニット40をミラーボックス60等の他の構造体に取り付けるために利用される。   The frame 140 has a step portion formed by the first surface 141, the second surface 142, and the third surface 143. The frame 140 has a mounting hole 148 as a mounting portion. The frame 140 has, for example, three attachment holes 148. All of the three attachment holes 148 pass through the third surface 143 to the fifth surface 145. All of the three attachment holes 148 are used for attaching the imaging unit 40 to another structure such as the mirror box 60.

フレーム140は、3つの取付穴148を介して、ビスでビス止めされることで、ブラケット150に固定される。ブラケット150は、例えばビス止めされることでミラーボックス60に固定される。よって、撮像ユニット40は、ミラーボックス60に固定される。   The frame 140 is fixed to the bracket 150 by being screwed with screws through the three mounting holes 148. The bracket 150 is fixed to the mirror box 60 by, for example, screwing. Therefore, the imaging unit 40 is fixed to the mirror box 60.

取付穴148を用いてフレーム140とブラケット150とを例えば金属のビスでビス止めした場合、撮像チップ100が動作している場合に生じた熱を、ビスを介してミラーボックス60の方へ熱を逃がすための伝熱経路を形成することができる。   When the frame 140 and the bracket 150 are screwed with, for example, a metal screw using the mounting holes 148, the heat generated when the imaging chip 100 is operating is heated toward the mirror box 60 via the screw. A heat transfer path for escape can be formed.

フレーム140は、位置決め穴147を有する。フレーム140は、例えば2つの位置決め穴147を有する。2つの位置決め穴147はいずれも第3面143から第5面145までを貫通する穴である。位置決め穴147はいずれも、撮像ユニット40に対して撮像ユニット40を位置決めするために利用される。2つの位置決め穴147のうち、一方の位置決め穴は嵌合穴で形成され、他方の位置決め穴147は長穴で形成されている。   The frame 140 has a positioning hole 147. The frame 140 has two positioning holes 147, for example. Each of the two positioning holes 147 is a hole penetrating from the third surface 143 to the fifth surface 145. Any of the positioning holes 147 is used to position the imaging unit 40 with respect to the imaging unit 40. Of the two positioning holes 147, one positioning hole is a fitting hole, and the other positioning hole 147 is a long hole.

フレーム140は、2つの位置決め穴147を用いてブラケット150に対して位置決めされる。例えばブラケット150に設けられた2つの位置決めピンが2つの位置決め穴147に挿入されることで、フレーム140とブラケット150とが位置決めされる。フレーム140は、ブラケット150に対して位置決めされた状態で固定される。よって、撮像ユニット40は、ミラーボックス60に位置決めされた状態で固定される。なお、フレーム140及びブラケット150は、ミラーボックス60以外の他の構造体に対して固定されてよい。   The frame 140 is positioned with respect to the bracket 150 using the two positioning holes 147. For example, the frame 140 and the bracket 150 are positioned by inserting two positioning pins provided on the bracket 150 into the two positioning holes 147. The frame 140 is fixed while being positioned with respect to the bracket 150. Therefore, the imaging unit 40 is fixed while being positioned on the mirror box 60. The frame 140 and the bracket 150 may be fixed to a structure other than the mirror box 60.

なお、撮像ユニット40は、ブラケット150を介さずにミラーボックス60に固定されてもよい。撮像ユニット40は、3つの取付穴148を介して例えばビス止めされることで、ミラーボックス60に固定されてよい。   The imaging unit 40 may be fixed to the mirror box 60 without using the bracket 150. The imaging unit 40 may be fixed to the mirror box 60 by, for example, screwing through the three mounting holes 148.

カバーガラス160は、撮像チップ100を封止するために用いられる。カバーガラス160は、フレーム140の開口部138を覆うようにフレーム140に固定される。カバーガラス160は、フレーム140及び実装基板120とともに開口部138を密封空間とする。   The cover glass 160 is used for sealing the imaging chip 100. Cover glass 160 is fixed to frame 140 so as to cover opening 138 of frame 140. The cover glass 160 uses the opening 138 as a sealed space together with the frame 140 and the mounting substrate 120.

カバーガラス160は、接着部553によりフレーム140と接着される。接着部553は、接着剤により形成される。具体的には、接着部552は、光硬化型接着剤を硬化させることで形成される。例えば、接着部553は、紫外線硬化型接着剤を紫外線で硬化させることで形成される。カバーガラス160の材料として、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス、無アルカリガラス、耐熱ガラス等を用いることができる。カバーガラス160は、透光性を有している。カバーガラス160の厚みは、0.5mmから0.8mmである。   The cover glass 160 is bonded to the frame 140 by the bonding portion 553. The adhesion part 553 is formed of an adhesive. Specifically, the bonding portion 552 is formed by curing a photocurable adhesive. For example, the bonding portion 553 is formed by curing an ultraviolet curable adhesive with ultraviolet rays. As a material for the cover glass 160, borosilicate glass, quartz glass, non-alkali glass, heat-resistant glass, or the like can be used. The cover glass 160 has translucency. The thickness of the cover glass 160 is 0.5 mm to 0.8 mm.

カバーガラス160は、撮像チップ100、ボンディングワイヤ110及びフレーム140が実装基板120に実装された後に、フレーム140に固定される。カバーガラス160は透光性を有するので、カバーガラス160とフレーム140との間を、光硬化型接着剤を用いて接着することができる。なお、カバーガラス160は、透光性部材の一例である。透光性部材としては、ガラスの他に水晶等を適用できる。   The cover glass 160 is fixed to the frame 140 after the imaging chip 100, the bonding wire 110 and the frame 140 are mounted on the mounting substrate 120. Since the cover glass 160 has a light-transmitting property, the cover glass 160 and the frame 140 can be bonded using a photo-curing adhesive. The cover glass 160 is an example of a translucent member. As the translucent member, quartz or the like can be applied in addition to glass.

このように、実装基板120とフレーム140とカバーガラス160とによって、密封空間が形成される。撮像チップ100は、実装基板120とフレーム140とカバーガラス160とによって形成される密封空間内に配置されている。これにより、撮像チップ100が外部環境の影響を受けにくくなる。例えば、撮像チップ100が密封空間外に存在する水分の影響を受けにくくなる。そのため、撮像チップ100の劣化を防止できる。   Thus, the mounting space is formed by the mounting substrate 120, the frame 140, and the cover glass 160. The imaging chip 100 is disposed in a sealed space formed by the mounting substrate 120, the frame 140, and the cover glass 160. As a result, the imaging chip 100 is less affected by the external environment. For example, the imaging chip 100 is not easily affected by moisture existing outside the sealed space. Therefore, deterioration of the imaging chip 100 can be prevented.

フレーム140は、第1フレーム部210と、第2フレーム部220とを有する。第1フレーム部210は、第1主面311と、第2主面312と、内側面314と、外側面313とを有する。第2フレーム部220は、第1主面321と、第2主面322と、内側面324と、外側面323とを有する。第1主面311、第2主面312、第1主面321及び第2主面312は、xy平面に略平行な面である。   The frame 140 includes a first frame part 210 and a second frame part 220. The first frame portion 210 has a first main surface 311, a second main surface 312, an inner surface 314, and an outer surface 313. The second frame part 220 has a first main surface 321, a second main surface 322, an inner surface 324, and an outer surface 323. The first main surface 311, the second main surface 312, the first main surface 321, and the second main surface 312 are surfaces substantially parallel to the xy plane.

第1フレーム部210の第1主面311は、一部が第2フレーム部220と接する。第2主面312は、一部が実装基板120と接する。内側面314及び外側面313は、第1主面311と第2主面312との間の面である。内側面314は、撮像チップ100を環囲する、第1フレーム部210の内縁部を形成する。外側面313は、内側面314より外側に位置する。外側面313は、第1フレーム部210の外縁部を形成する。内側面314は、yz平面に略平行な面と、xz平面に略平行な面とを有する。外側面313は、yz平面に略平行な面と、xz平面に略平行な面とを有する。   A part of the first main surface 311 of the first frame part 210 is in contact with the second frame part 220. A portion of second main surface 312 is in contact with mounting substrate 120. The inner side surface 314 and the outer side surface 313 are surfaces between the first main surface 311 and the second main surface 312. The inner side surface 314 forms an inner edge portion of the first frame portion 210 that surrounds the imaging chip 100. The outer side surface 313 is located outside the inner side surface 314. The outer side surface 313 forms an outer edge portion of the first frame portion 210. The inner side surface 314 has a surface substantially parallel to the yz plane and a surface substantially parallel to the xz plane. The outer side surface 313 has a surface substantially parallel to the yz plane and a surface substantially parallel to the xz plane.

第2フレーム部220の第1主面321は、一部がカバーガラス160と接する。第2主面322は、一部が第1フレーム部210と接する。第2主面322は、一部が第1フレーム部210の第1主面321と接する。内側面324及び外側面323は、第1主面321と第2主面322との間の面である。内側面324は、撮像チップ100を環囲する、第2フレーム部220の内縁部を形成する。外側面323は、内側面324より外側に位置する。外側面323は、第2フレーム部220の外縁部を形成する。内側面324は、yz平面に略平行な面と、xz平面に略平行な面とを有する。外側面323は、yz平面に略平行な面と、xz平面に略平行な面とを有する。   Part of the first main surface 321 of the second frame part 220 is in contact with the cover glass 160. A part of second main surface 322 is in contact with first frame portion 210. A part of the second main surface 322 is in contact with the first main surface 321 of the first frame portion 210. The inner side surface 324 and the outer side surface 323 are surfaces between the first main surface 321 and the second main surface 322. The inner side surface 324 forms an inner edge portion of the second frame portion 220 that surrounds the imaging chip 100. The outer side surface 323 is located outside the inner side surface 324. The outer side surface 323 forms an outer edge portion of the second frame portion 220. The inner side surface 324 has a surface substantially parallel to the yz plane and a surface substantially parallel to the xz plane. The outer side surface 323 has a surface substantially parallel to the yz plane and a surface substantially parallel to the xz plane.

第2フレーム部220の第1主面321は、フレーム140の第1面141を提供する。第2フレーム部220の外側面323は、フレーム140の第2面142を提供する。第1フレーム部210の第1主面311の一部は、フレーム140の第3面143を提供する。第1フレーム部210の外側面313は、フレーム140の第4面144を提供する。第1フレーム部210の第2主面312は、フレーム140の第5面145を提供する。第1フレーム部210の内側面314、第2フレーム部220第2主面322の一部及び第2フレーム部220の内側面324は、フレーム140の第6面146を提供する。   The first main surface 321 of the second frame part 220 provides the first surface 141 of the frame 140. The outer surface 323 of the second frame part 220 provides the second surface 142 of the frame 140. A part of the first main surface 311 of the first frame part 210 provides a third surface 143 of the frame 140. The outer surface 313 of the first frame part 210 provides the fourth surface 144 of the frame 140. The second main surface 312 of the first frame part 210 provides the fifth surface 145 of the frame 140. The inner surface 314 of the first frame part 210, a part of the second main surface 322 of the second frame part 220 and the inner surface 324 of the second frame part 220 provide a sixth surface 146 of the frame 140.

第2フレーム部220を形成する材料は、第1フレーム部210を形成する材料とは異なる。第2フレーム部220を形成する材料の熱膨張率は、第1フレーム部210を形成する材料の熱膨張率とは異なる。本実施形態において、第2フレーム部220は、樹脂で形成される。第1フレーム部210は、金属で形成される。第1フレーム部210を形成する材料は、ニッケルと鉄の合金(例えば42alloy、56alloy)、銅、アルミニウム等であってよい。フレーム140は、第1フレーム部210を形成する材料と第2フレーム部220を形成する材料がインサート成型されることにより、形成される。なお、フレーム140はアウトサート成型によって形成されてよい。フレーム140を形成する方法はインサート成形やアウトサート成形に限られず、様々な工法を適用できる。   The material forming the second frame part 220 is different from the material forming the first frame part 210. The coefficient of thermal expansion of the material forming the second frame part 220 is different from the coefficient of thermal expansion of the material forming the first frame part 210. In the present embodiment, the second frame part 220 is formed of resin. The first frame part 210 is made of metal. The material forming the first frame part 210 may be an alloy of nickel and iron (for example, 42 alloy, 56 alloy), copper, aluminum, or the like. The frame 140 is formed by insert molding the material forming the first frame part 210 and the material forming the second frame part 220. The frame 140 may be formed by outsert molding. The method of forming the frame 140 is not limited to insert molding or outsert molding, and various methods can be applied.

第1フレーム部210は、第1主面311に、突部400a及び突部400bを有する。突部400a及び突部400bは、xy面内を延伸する。突部400a及び突部400bは、第1フレーム部210を製造する工程において、第1フレーム部210を形成する材料を半押し加工することによって、形成される。第2フレーム部220は、突部400aの上面410a及び突部400bの上面410bに少なくとも接して設けられる。   The first frame part 210 has a protrusion 400 a and a protrusion 400 b on the first main surface 311. The protrusion 400a and the protrusion 400b extend in the xy plane. The protrusion 400 a and the protrusion 400 b are formed by half-pressing the material forming the first frame part 210 in the process of manufacturing the first frame part 210. The second frame part 220 is provided at least in contact with the upper surface 410a of the protrusion 400a and the upper surface 410b of the protrusion 400b.

突部400aの上面410aの反対側の下面420aは、第1フレーム部210の第2主面312から離間している。突部400bの上面410bの反対側の下面420bは、第1フレーム部210の第2主面312から離間している。具体的には、下面420a及び下面420bは、第1フレーム部210の第2主面312よりz軸プラス方向に位置している。このように、第1フレーム部210の第1主面311には凸部が形成され、第2主面312には、第1主面311の凸部のz軸マイナス方向の位置に、凸部に対応する凹部が形成されている。   A lower surface 420 a opposite to the upper surface 410 a of the protrusion 400 a is separated from the second main surface 312 of the first frame unit 210. A lower surface 420b opposite to the upper surface 410b of the protrusion 400b is separated from the second main surface 312 of the first frame portion 210. Specifically, the lower surface 420 a and the lower surface 420 b are located in the z-axis plus direction from the second main surface 312 of the first frame portion 210. As described above, a convex portion is formed on the first main surface 311 of the first frame portion 210, and a convex portion is formed on the second main surface 312 at a position in the z-axis minus direction of the convex portion of the first main surface 311. The recessed part corresponding to is formed.

第1フレーム部210の内側面314は、撮像チップ100を環囲する内縁部305a、内縁部305b、内縁部306a及び内縁部306bを提供する。第1フレーム部210の外側面313は、内縁部305b、内縁部306a及び内縁部306bより外側の、外縁部307a、外縁部307b、外縁部308a及び外縁部308bを提供する。   The inner side surface 314 of the first frame part 210 provides an inner edge part 305a, an inner edge part 305b, an inner edge part 306a, and an inner edge part 306b that surround the imaging chip 100. The outer surface 313 of the first frame part 210 provides an outer edge part 307a, an outer edge part 307b, an outer edge part 308a, and an outer edge part 308b outside the inner edge part 305b, the inner edge part 306a, and the inner edge part 306b.

第1フレーム部210は、第1部分301a及び第1部分301bと、第2部分302a及び第2部分302bとを有する。第1部分301a、第1部分301b、第2部分302a及び第2部分302bは、矩形の枠体を形成する。第1部分301aは、内縁部305aと外縁部307aとの間の部分である。第1部分301bは、内縁部305bと外縁部307bとの間の部分である。第2部分302aは、内縁部306aと外縁部308aとの間の部分である。第2部分302bは、内縁部306bと外縁部308bとの間の部分である。   The first frame portion 210 includes a first portion 301a and a first portion 301b, and a second portion 302a and a second portion 302b. The first portion 301a, the first portion 301b, the second portion 302a, and the second portion 302b form a rectangular frame. The first portion 301a is a portion between the inner edge portion 305a and the outer edge portion 307a. The first portion 301b is a portion between the inner edge portion 305b and the outer edge portion 307b. The second portion 302a is a portion between the inner edge portion 306a and the outer edge portion 308a. The second portion 302b is a portion between the inner edge portion 306b and the outer edge portion 308b.

内縁部305a、内縁部305b、内縁部306a及び内縁部306bは、xy平面に平行な面において矩形を形成する。内縁部305aは、内縁部305bと略平行であり、内縁部305bよりx軸プラス方向に位置する。内縁部306aは、内縁部306bと略平行であり、内縁部306bよりy軸プラス方向に位置する。   The inner edge portion 305a, the inner edge portion 305b, the inner edge portion 306a, and the inner edge portion 306b form a rectangle in a plane parallel to the xy plane. The inner edge portion 305a is substantially parallel to the inner edge portion 305b and is located in the x-axis plus direction from the inner edge portion 305b. The inner edge portion 306a is substantially parallel to the inner edge portion 306b and is located in the y-axis plus direction from the inner edge portion 306b.

また、内縁部305a及び内縁部305bは、第1短辺105aに略平行である。内縁部306a及び内縁部306bは、第1長辺106aに略平行である。内縁部305aの長さ及び内縁部305bの長さは、内縁部306aの長さより短い。内縁部305aの長さ及び内縁部305bの長さは、内縁部306bの長さより短い。   The inner edge portion 305a and the inner edge portion 305b are substantially parallel to the first short side 105a. The inner edge portion 306a and the inner edge portion 306b are substantially parallel to the first long side 106a. The length of the inner edge portion 305a and the length of the inner edge portion 305b are shorter than the length of the inner edge portion 306a. The length of the inner edge portion 305a and the length of the inner edge portion 305b are shorter than the length of the inner edge portion 306b.

なお、第1部分301aは、外側面313においてyz平面に平行な面のうちx軸プラス側の面と、内側面314においてyz平面に平行な面のうちx軸プラス側の面との間の部分である。第1部分301bは、外側面313においてyz平面に平行な面のうちx軸マイナス側の面と、内側面314においてyz平面に平行な面のうちx軸マイナス側の面との間の部分である。   The first portion 301a is between the surface on the x-axis plus side of the outer surface 313 parallel to the yz plane and the surface on the x-axis plus side of the inner surface 314 parallel to the yz plane. Part. The first portion 301b is a portion between the surface on the negative side of the x axis in the surface parallel to the yz plane in the outer surface 313 and the surface on the negative side of the x axis in the surface parallel to the yz plane on the inner surface 314. is there.

また、第2部分302aは、外側面313におけるxz平面に平行な面のうちy軸プラス側の面と、内側面314におけるxz平面に平行な面のうちy軸プラス側の面との間の部分である。第2部分302aは、外側面313におけるxz平面に平行な面のうちy軸マイナス側の面と、内側面314におけるxz平面に平行な面のうちy軸マイナス側の面との間の部分である。   In addition, the second portion 302a is between the surface on the y-axis plus side of the surface parallel to the xz plane on the outer side surface 313 and the surface on the y-axis plus side of the surface parallel to the xz plane on the inner side surface 314. Part. The second portion 302a is a portion between the surface on the negative side of the y-axis in the surface parallel to the xz plane on the outer surface 313 and the surface on the negative side of the y-axis in the surface parallel to the xz plane on the inner surface 314. is there.

本実施形態の説明において、第1部分301a、第1部分301b、第2部分302a及び第1部分301bの幅を、内縁部から外縁部に向かう方向の長さで表すこととする。本実施形態で設定した座標軸でいうと、第1部分301aの幅及び第1部分301bの幅は、x軸に沿う方向の長さで表される。第2部分302a及び第2部分302bの幅は、y軸に沿う方向の長さで表される。   In the description of the present embodiment, the widths of the first portion 301a, the first portion 301b, the second portion 302a, and the first portion 301b are represented by lengths in the direction from the inner edge portion toward the outer edge portion. In terms of the coordinate axes set in the present embodiment, the width of the first portion 301a and the width of the first portion 301b are expressed by the length in the direction along the x-axis. The widths of the second portion 302a and the second portion 302b are represented by the length in the direction along the y-axis.

この場合、第1部分301aの幅は、第1部分301bの幅と略同一である。第2部分302aの幅は、第2部分302bの幅と略同一である。第1部分301aの幅及び第1部分301bの幅は、第2部分302aの幅より小さい。第1部分301aの幅及び第1部分301bの幅は、第2部分302bの幅より小さい。   In this case, the width of the first portion 301a is substantially the same as the width of the first portion 301b. The width of the second portion 302a is substantially the same as the width of the second portion 302b. The width of the first portion 301a and the width of the first portion 301b are smaller than the width of the second portion 302a. The width of the first portion 301a and the width of the first portion 301b are smaller than the width of the second portion 302b.

ここで、突部400aは、第1部分301aに設けられる。突部400bは、第1部分301bに設けられる。第2部分302a及び第2部分302bには、突部400a及び突部400bと同様の突部は設けられていない。このように、第1フレーム部210は、幅が小さい第1部分301a及び第1部分301bに、突部が設けられている。すなわち、第1フレーム部210のうち外力に対して変形し易い部分に、突部が設けられている。   Here, the protrusion 400a is provided in the first portion 301a. The protrusion 400b is provided on the first portion 301b. The second portion 302a and the second portion 302b are not provided with a protrusion similar to the protrusion 400a and the protrusion 400b. Thus, the 1st frame part 210 is provided with the protrusion in the 1st part 301a and the 1st part 301b with a small width. That is, the protrusion is provided in a portion of the first frame portion 210 that is easily deformed by an external force.

突部400a及び突部400bは、xy平面に沿う方向に延伸する。具体的には、突部400aは、内縁部305aに沿って延伸する。そのため、第1部分301aをyz面内で凸形または凹形に変形させる応力に対する強度が高まる。また、第1部分301bをyz面内で凸形または凹形に変形させる曲げ応力に対する強度が高まる。このため、第1フレーム部210に生じるz軸方向の反りを抑制できる。また、フレーム140の反りを抑制できる。また、実装基板120の反りも抑制できる。   The protrusion 400a and the protrusion 400b extend in a direction along the xy plane. Specifically, the protrusion 400a extends along the inner edge 305a. Therefore, the strength against the stress that deforms the first portion 301a into a convex shape or a concave shape in the yz plane is increased. Further, the strength against bending stress that deforms the first portion 301b into a convex shape or a concave shape in the yz plane is increased. For this reason, the curvature of the z-axis direction which arises in the 1st frame part 210 can be controlled. Further, the warp of the frame 140 can be suppressed. Further, warpage of the mounting substrate 120 can be suppressed.

例えば、第1フレーム部210の熱膨張率と第2フレーム部220の熱膨張率とが異なる場合、第1フレーム部210と第2フレーム部220との間で、温度変化によって生じるxy面内における膨張率または収縮率に差が生じる場合がある。膨張率または収縮率に差があると、第1フレーム部210は、第2フレーム部220と接した面で第2フレーム部220に引っ張られて、第1フレーム部210に反りが生じる場合がある。その結果、フレーム140全体に、反りが生じる場合がある。例えば、フレーム140の製造工程、撮像チップ100、電子部品180、カバーガラス160等の実装工程やその後の冷却過程における温度変化によって、フレーム140に反りが生じる場合がある。また、フレーム140に生じた反りに応じて、実装基板120に反りが生じる場合がある。   For example, when the coefficient of thermal expansion of the first frame unit 210 and the coefficient of thermal expansion of the second frame unit 220 are different, between the first frame unit 210 and the second frame unit 220 in the xy plane caused by a temperature change. There may be a difference in expansion rate or contraction rate. If there is a difference in expansion rate or contraction rate, the first frame part 210 may be pulled by the second frame part 220 on the surface in contact with the second frame part 220, and the first frame part 210 may be warped. . As a result, the entire frame 140 may be warped. For example, the frame 140 may be warped due to temperature changes in the manufacturing process of the frame 140, the mounting process of the imaging chip 100, the electronic component 180, the cover glass 160, and the like and the subsequent cooling process. Further, the mounting substrate 120 may be warped in accordance with the warp generated in the frame 140.

しかし、本実施形態のフレーム140によれば、第1フレーム部210に突部400a及び突部400bが形成されているので、第1フレーム部210の強度を高めることができる。そのため、第1フレーム部210に生じる反り等の変形を抑制できる。   However, according to the frame 140 of the present embodiment, since the protrusion 400a and the protrusion 400b are formed on the first frame portion 210, the strength of the first frame portion 210 can be increased. Therefore, deformation such as warpage occurring in the first frame portion 210 can be suppressed.

図6は、図2のB−B断面を模式的に示す断面図である。図6及び図3(b)に示されるように、第1フレーム部210は、貫通穴610aと、貫通穴610bと、貫通穴610cと、貫通穴610dと、貫通穴610eと、貫通穴610fとを有する。第2フレーム部220は、貫通部620aと、貫通部620bと、貫通部620cと、貫通部620dと、貫通部620eと、貫通部620fとを有する。   6 is a cross-sectional view schematically showing a BB cross section of FIG. As shown in FIGS. 6 and 3B, the first frame part 210 includes a through hole 610a, a through hole 610b, a through hole 610c, a through hole 610d, a through hole 610e, and a through hole 610f. Have The second frame part 220 includes a penetration part 620a, a penetration part 620b, a penetration part 620c, a penetration part 620d, a penetration part 620e, and a penetration part 620f.

貫通穴610a、貫通穴610c及び貫通穴610eは、第2部分302aに設けられる。貫通穴610b、貫通穴610d及び貫通穴610fは、第2部分302bに設けられる。貫通穴610a、貫通穴610c及び貫通穴610eは、内縁部306aに沿って形成される。貫通穴610b、貫通穴610d及び貫通穴610fは、内縁部306bに沿って形成される。   The through hole 610a, the through hole 610c, and the through hole 610e are provided in the second portion 302a. The through hole 610b, the through hole 610d, and the through hole 610f are provided in the second portion 302b. The through hole 610a, the through hole 610c, and the through hole 610e are formed along the inner edge 306a. The through hole 610b, the through hole 610d, and the through hole 610f are formed along the inner edge portion 306b.

貫通穴610a及び貫通穴610bは、それぞれ第1フレーム部210の第1主面311から第2主面312まで達する。貫通穴610c、貫通穴610d、貫通穴610e及び貫通穴610fも同様に、それぞれ第1フレーム部210の第1主面311から第2主面312まで達する。   The through hole 610 a and the through hole 610 b reach from the first main surface 311 to the second main surface 312 of the first frame part 210, respectively. Similarly, the through hole 610c, the through hole 610d, the through hole 610e, and the through hole 610f reach the first main surface 311 to the second main surface 312 of the first frame portion 210, respectively.

貫通部620aは、貫通穴610aを満たすように形成される。貫通部620bは、貫通穴610bを満たすように形成される。貫通部620cは、貫通穴610cを満たすように形成される。貫通部620dは、貫通穴610dを満たすように形成される。貫通部620eは、貫通穴610eを満たすように形成される。貫通部620fは、貫通穴610fを満たすように形成される。貫通部620a、貫通部620b、貫通部620c、貫通部620d、貫通部620e及び貫通部620fは、実装基板120の第1層121まで達する。このように、貫通部620a、貫通部620c及び貫通部620eは、第2部分302aにおいて第1主面311から第2主面312まで貫通するように設けられる。貫通部620b、貫通部620d及び貫通部620fは、第2部分302bにおいて第1主面311から第2主面312まで貫通するように設けられる。   The through portion 620a is formed to fill the through hole 610a. The through portion 620b is formed to fill the through hole 610b. The through portion 620c is formed so as to fill the through hole 610c. The through portion 620d is formed to fill the through hole 610d. The through portion 620e is formed to fill the through hole 610e. The through portion 620f is formed so as to fill the through hole 610f. The through part 620 a, the through part 620 b, the through part 620 c, the through part 620 d, the through part 620 e, and the through part 620 f reach the first layer 121 of the mounting substrate 120. Thus, the penetration part 620a, the penetration part 620c, and the penetration part 620e are provided so as to penetrate from the first main surface 311 to the second main surface 312 in the second portion 302a. The through part 620b, the through part 620d, and the through part 620f are provided so as to penetrate from the first main surface 311 to the second main surface 312 in the second portion 302b.

このように、第1フレーム部210が、内縁部より外側に、貫通穴610a、貫通穴610b、貫通穴610c、貫通穴610d、貫通穴610e及び貫通穴610fを有し、第2フレーム部220が、第1フレーム部210の内縁部より外側に、貫通部620a、貫通部620b、貫通部620c、貫通部620d、貫通部620e及び貫通部620fを有する。そのため、第2フレーム部220と第1フレーム部210とを強く密着することができる。また、第2フレーム部220が第1フレーム部210から剥がれにくくなる。また、第2フレーム部220と実装基板120との間の接触面積が増大する。そのため、フレーム140と実装基板120との間の接着性も高まる。また、第1フレーム部210の変形を低減でき、第1フレーム部210の反りを低減できる場合がある。   As described above, the first frame part 210 has the through hole 610a, the through hole 610b, the through hole 610c, the through hole 610d, the through hole 610e, and the through hole 610f outside the inner edge part, and the second frame part 220 is provided. The first frame portion 210 has a penetrating portion 620a, a penetrating portion 620b, a penetrating portion 620c, a penetrating portion 620d, a penetrating portion 620e, and a penetrating portion 620f outside the inner edge portion of the first frame portion 210. Therefore, the second frame part 220 and the first frame part 210 can be tightly adhered. In addition, the second frame part 220 is unlikely to peel off from the first frame part 210. Further, the contact area between the second frame part 220 and the mounting substrate 120 increases. For this reason, the adhesion between the frame 140 and the mounting substrate 120 is also improved. In addition, deformation of the first frame unit 210 can be reduced, and warpage of the first frame unit 210 can be reduced in some cases.

図7は、第2実施例に係るフレーム740を模式的に示す背面図である。フレーム740は、第1フレーム部210の変形例としての第1フレーム部710を有する。第1フレーム部710は、フレーム140が備える構成要素に加えて、突部400c及び突部400dを更に備える。この点を除いて、フレーム740は、フレーム140が備える構成と略同様の構成を有する。   FIG. 7 is a rear view schematically showing the frame 740 according to the second embodiment. The frame 740 includes a first frame portion 710 as a modification of the first frame portion 210. The first frame portion 710 further includes a protrusion 400 c and a protrusion 400 d in addition to the components included in the frame 140. Except for this point, the frame 740 has substantially the same configuration as that of the frame 140.

突部400cは、内縁部306aに沿って設けられる。突部400dは、内縁部306bに沿って設けられる。このように、突部は、第1フレーム部210が有する矩形の内縁部に沿って設けられる。すなわち、第1フレーム部210が撮像チップ100を環囲する矩形の内形を形成する4つの内縁部に沿って、撮像チップ100を囲うように突部が設けられる。これにより、フレーム140に生じる反りをより抑制できる。   The protrusion 400c is provided along the inner edge 306a. The protrusion 400d is provided along the inner edge 306b. As described above, the protrusion is provided along the rectangular inner edge of the first frame portion 210. That is, the protrusions are provided so as to surround the imaging chip 100 along four inner edge portions that form a rectangular inner shape in which the first frame portion 210 surrounds the imaging chip 100. Thereby, the curvature which arises in the frame 140 can be suppressed more.

なお、第1実施例に係るフレーム140及び第2実施例に係るフレーム740において、第2フレーム部220が6個の貫通部を有する形態を説明した。しかし、第2フレーム部220が有する貫通部の数は6に限られない。第2フレーム部220は1個以上の任意の数の貫通部を有してよい。第2フレーム部220に貫通部を設ける場合、第1フレーム部210の第2部分302a及び第2部分302bにそれぞれ1個以上の貫通部を設けることが好ましい。また、貫通部を設ける位置は、図3等で示した位置に限られない。しかし、xy平面内における貫通部の位置は、光軸22について点対称であることが好ましい。なお、貫通部620a、貫通部620b、貫通部620c、貫通部620d、貫通部620e及び貫通部620fを設けない構成を適用してよい。   In addition, in the frame 140 according to the first example and the frame 740 according to the second example, the form in which the second frame part 220 has six through parts has been described. However, the number of penetrating parts included in the second frame part 220 is not limited to six. The second frame part 220 may have one or more arbitrary numbers of through parts. When providing a penetration part in the 2nd frame part 220, it is preferred to provide one or more penetration parts in the 2nd portion 302a and the 2nd part 302b of the 1st frame part 210, respectively. Further, the position where the penetrating portion is provided is not limited to the position shown in FIG. However, the position of the penetrating portion in the xy plane is preferably point-symmetric with respect to the optical axis 22. A configuration in which the penetrating portion 620a, the penetrating portion 620b, the penetrating portion 620c, the penetrating portion 620d, the penetrating portion 620e, and the penetrating portion 620f are not provided may be applied.

図8は、第3実施例に係るフレーム840を備える撮像ユニット890を模式的に示す断面図である。フレーム840は、第2フレーム部220の変形例としての第2フレーム部820を有する。図8は、撮像ユニット890を図2のA−A断面に対応する断面で切断した場合の断面図である。ここでは、撮像ユニット890と撮像ユニット40との相違点を主として説明する。撮像ユニット890が備える構成要素のうち、撮像ユニット40が備える構成と同様の構成を有する構成要素には同じ符号を付して、その説明を省略する場合がある。   FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing an imaging unit 890 including a frame 840 according to the third embodiment. The frame 840 includes a second frame portion 820 as a modification of the second frame portion 220. 8 is a cross-sectional view of the imaging unit 890 cut along a cross section corresponding to the AA cross section of FIG. Here, differences between the imaging unit 890 and the imaging unit 40 will be mainly described. Among the components included in the imaging unit 890, components having the same configuration as the configuration included in the imaging unit 40 may be denoted by the same reference numerals and description thereof may be omitted.

第2フレーム部820が第1フレーム部210の第1部分301aと接しているx軸方向の幅は、フレーム140において第2フレーム部220が第1部分301aと接しているx軸方向の幅より小さい。また、第2フレーム部820が第1フレーム部210の第1部分301bと接しているx軸方向の幅は、フレーム140において第2フレーム部220が第1部分301bと接しているx軸方向の幅より小さい。   The width in the x-axis direction in which the second frame portion 820 is in contact with the first portion 301a of the first frame portion 210 is greater than the width in the x-axis direction in which the second frame portion 220 is in contact with the first portion 301a in the frame 140. small. Further, the width in the x-axis direction in which the second frame portion 820 is in contact with the first portion 301b of the first frame portion 210 is the width in the x-axis direction in which the second frame portion 220 is in contact with the first portion 301b in the frame 140. Less than width.

第2フレーム部820のx軸方向の幅は、カバーガラス160のx軸方向の幅と同程度である。第2フレーム部820のx軸方向の幅は、カバーガラス160のx軸方向の幅と実質的に同じであってよい。第2フレーム部820とカバーガラス160との組み付けを考慮して、第2フレーム部820のx軸方向の幅に多少の遊びをもたせ、第2フレーム部820のx軸方向の幅は、カバーガラス160のx軸方向の幅よりわずかに長くしてよい。なお、カバーガラス160を第2フレーム部820に接着できるよう、カバーガラス160と第2フレーム部820とが接する部分の面積を、予め定められた値以上にする必要がある。したがって、カバーガラス160と第2フレーム部820とが接するx軸方向の幅を、カバーガラス160を第2フレーム部820に接着するために必要な予め定められた下限値以上にすることが好ましい。カバーガラス160と第2フレーム部820とが接するx軸方向の幅が当該下限値になるまで、第2フレーム部820のx軸方向の幅を小さくしてよい。   The width of the second frame portion 820 in the x-axis direction is approximately the same as the width of the cover glass 160 in the x-axis direction. The width of the second frame portion 820 in the x-axis direction may be substantially the same as the width of the cover glass 160 in the x-axis direction. Considering the assembly of the second frame part 820 and the cover glass 160, the width of the second frame part 820 in the x-axis direction is allowed to have some play, and the width of the second frame part 820 in the x-axis direction is determined by the cover glass. It may be slightly longer than the width of 160 in the x-axis direction. Note that the area of the portion where the cover glass 160 and the second frame portion 820 are in contact with each other needs to be a predetermined value or more so that the cover glass 160 can be bonded to the second frame portion 820. Therefore, the width in the x-axis direction where the cover glass 160 and the second frame portion 820 are in contact with each other is preferably equal to or greater than a predetermined lower limit necessary for bonding the cover glass 160 to the second frame portion 820. The width in the x-axis direction of the second frame portion 820 may be reduced until the width in the x-axis direction where the cover glass 160 and the second frame portion 820 are in contact reaches the lower limit.

フレーム840によれば、第2フレーム部820が第1部分301a及び第1部分301bと接しているx軸方向の幅が小さいので、第2フレーム部820が第1フレーム部210に与える応力を低減することができる。そのため、第1フレーム部210の反りをより抑制できる。   According to the frame 840, since the width in the x-axis direction in which the second frame portion 820 is in contact with the first portion 301a and the first portion 301b is small, the stress applied to the first frame portion 210 by the second frame portion 820 is reduced. can do. Therefore, the warp of the first frame part 210 can be further suppressed.

なお、第3実施例においては、第2フレーム部820が第1部分301aと接しているx軸方向の幅は、第2フレーム部820が第2部分302aと接しているy軸方向の幅より小さい。また、第2フレーム部820が第1部分301aと接しているx軸方向の幅は、第2フレーム部820が第2部分302bと接しているy軸方向の幅より小さい。同様に、第2フレーム部820が第1部分301bと接しているx軸方向の幅は、第2フレーム部820が第2部分302aと接しているy軸方向の幅より小さい。また、第2フレーム部820が第1部分301bと接しているx軸方向の幅は、第2フレーム部820が第2部分302bと接しているy軸方向の幅より小さい。このように、第1フレーム部210の第2部分302a及び第2部分302bと第2フレーム部820とが接しているy方向の幅を長くしているので、第2フレーム部820と第1フレーム部210との密着性を確保できる。なお、第2部分302a及び第2部分302bのy方向の幅は、第1部分301a及び第1部分301bのx方向の幅より長いので、第2部分302a及び第2部分302bの反りに対する強度は、第1部分301a及び第1部分301bの反りに対する強度より高い。そのため、第2部分302a及び第2部分302bと第2フレーム部820とが接しているy方向の幅を長くしても、yz面内で大きな反りが生じることは抑制できる。   In the third embodiment, the width in the x-axis direction where the second frame portion 820 is in contact with the first portion 301a is greater than the width in the y-axis direction where the second frame portion 820 is in contact with the second portion 302a. small. Further, the width in the x-axis direction where the second frame portion 820 is in contact with the first portion 301a is smaller than the width in the y-axis direction where the second frame portion 820 is in contact with the second portion 302b. Similarly, the width in the x-axis direction where the second frame portion 820 is in contact with the first portion 301b is smaller than the width in the y-axis direction where the second frame portion 820 is in contact with the second portion 302a. Further, the width in the x-axis direction where the second frame portion 820 is in contact with the first portion 301b is smaller than the width in the y-axis direction where the second frame portion 820 is in contact with the second portion 302b. Thus, since the width in the y direction where the second portion 302a and the second portion 302b of the first frame portion 210 are in contact with the second frame portion 820 is increased, the second frame portion 820 and the first frame are Adhesion with the part 210 can be ensured. In addition, since the width in the y direction of the second part 302a and the second part 302b is longer than the width in the x direction of the first part 301a and the first part 301b, the strength against the warp of the second part 302a and the second part 302b is The strength against warpage of the first portion 301a and the first portion 301b is higher. Therefore, even if the width in the y direction in which the second portion 302a and the second portion 302b are in contact with the second frame portion 820 is increased, it is possible to suppress the occurrence of a large warp in the yz plane.

なお、第2フレーム部820の変形例として、第2フレーム部820が第2部分302aと接しているy軸方向の幅を、第2フレーム部820が第1部分301aと接しているx軸方向の幅と略同一の幅まで小さくしてもよい。また、第2フレーム部820が第2部分302bと接しているy軸方向の幅を、第2フレーム部820が第1部分301aと接しているx軸方向の幅と略同一の幅まで小さくしてもよい。同様に、第2フレーム部820が第2部分302aと接しているy軸方向の幅を、第2フレーム部820が第1部分301bと接しているx軸方向の幅と略同一の幅まで小さくしてもよい。また、第2フレーム部820が第2部分302bと接しているy軸方向の幅を、第2フレーム部820が第1部分301bと接しているx軸方向の幅と略同一の幅まで小さくしてもよい。   As a modification of the second frame portion 820, the width in the y-axis direction where the second frame portion 820 is in contact with the second portion 302a, and the x-axis direction where the second frame portion 820 is in contact with the first portion 301a. The width may be reduced to substantially the same width. Further, the width in the y-axis direction where the second frame portion 820 is in contact with the second portion 302b is reduced to substantially the same width as the width in the x-axis direction where the second frame portion 820 is in contact with the first portion 301a. May be. Similarly, the width in the y-axis direction in which the second frame portion 820 is in contact with the second portion 302a is reduced to substantially the same width as the width in the x-axis direction in which the second frame portion 820 is in contact with the first portion 301b. May be. Further, the width in the y-axis direction in which the second frame portion 820 is in contact with the second portion 302b is reduced to substantially the same width as the width in the x-axis direction in which the second frame portion 820 is in contact with the first portion 301b. May be.

なお、以上に説明したフレーム840において、突部400a及び突部400bを有さない構成を採用してもよい。   Note that the frame 840 described above may employ a configuration that does not include the protrusion 400a and the protrusion 400b.

図9は、第4実施例に係るフレーム940を備える撮像ユニット990を模式的に示す断面図である。フレーム940は、第1フレーム部210の変形例としての第1フレーム部910と、第2フレーム部220の変形例としての第2フレーム部920とを有する。図9は、撮像ユニット990を図2のA−A断面に対応する断面で切断した場合の断面図である。ここでは、撮像ユニット990と撮像ユニット40との相違点を主として説明する。撮像ユニット990が備える構成要素のうち、撮像ユニット40が備える構成と同様の構成を有する構成要素には同じ符号を付して、その説明を省略する場合がある。   FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing an imaging unit 990 including a frame 940 according to the fourth embodiment. The frame 940 includes a first frame part 910 as a modification example of the first frame part 210 and a second frame part 920 as a modification example of the second frame part 220. FIG. 9 is a cross-sectional view of the imaging unit 990 taken along a cross section corresponding to the AA cross section of FIG. Here, differences between the imaging unit 990 and the imaging unit 40 will be mainly described. Of the components included in the imaging unit 990, components having the same configuration as the configuration included in the imaging unit 40 may be denoted by the same reference numerals and description thereof may be omitted.

第1フレーム部910は、第1部分301aに対応する第1部分901aと、第1部分301bに対応する第1部分901bとを有する。第1フレーム部910は概して、第1フレーム部210において突部400aより内縁側の部分及び突部400bより内縁側の部分を有しない形状を有する。第1フレーム部910は、内縁部に突部900a及び突部900bを備えた形状を有する。突部400a及び突部400bと同様、突部900a及び突部900bは半抜き加工によって形成される。   The first frame portion 910 includes a first portion 901a corresponding to the first portion 301a and a first portion 901b corresponding to the first portion 301b. The first frame portion 910 generally has a shape that does not have a portion on the inner edge side from the protrusion 400a and a portion on the inner edge side from the protrusion 400b in the first frame portion 210. The first frame portion 910 has a shape provided with a protrusion 900a and a protrusion 900b on the inner edge. Similar to the protrusion 400a and the protrusion 400b, the protrusion 900a and the protrusion 900b are formed by half punching.

突部900aは、上面911aと、上面911aの反対の下面912aと、上面911aと下面912aとの間の側面913aとを有する。下面912aは、実装基板120から離間している。同様に、突部900bは、上面911bと、上面911bの反対の下面912bと、上面911bと下面912bとの間の側面913bとを有する。下面912bは、実装基板120から離間している。   The protrusion 900a has an upper surface 911a, a lower surface 912a opposite to the upper surface 911a, and a side surface 913a between the upper surface 911a and the lower surface 912a. The lower surface 912a is separated from the mounting substrate 120. Similarly, the protrusion 900b has an upper surface 911b, a lower surface 912b opposite to the upper surface 911b, and a side surface 913b between the upper surface 911b and the lower surface 912b. The lower surface 912b is separated from the mounting substrate 120.

第2フレーム部920は、突部900aの上面911a及び突部900aの下面912aに接して設けられる。第2フレーム部920は、突部900aの側面913aにも接して設けられる。第2フレーム部920は、突部900aの3面を囲うように設けられる。また、第2フレーム部920は、実装基板120に接するように設けられる。このように、第1フレーム部910の第1部分901aの内縁部は、第2フレーム部920で覆われている。   The second frame portion 920 is provided in contact with the upper surface 911a of the protrusion 900a and the lower surface 912a of the protrusion 900a. The second frame portion 920 is provided in contact with the side surface 913a of the protrusion 900a. The second frame part 920 is provided so as to surround the three surfaces of the protrusion 900a. The second frame portion 920 is provided so as to contact the mounting substrate 120. Thus, the inner edge portion of the first portion 901a of the first frame portion 910 is covered with the second frame portion 920.

同様に、第2フレーム部920は、突部900bの上面911b及び突部900bの下面912bに接して設けられる。第2フレーム部920は、突部900bの側面913bにも接して設けられる。第2フレーム部920は、突部900bの3面を囲うように設けられる。また、第2フレーム部920は、実装基板120に接するように設けられる。このように、第1フレーム部910の第1部分901bの内縁部は、第2フレーム部920で覆われている。   Similarly, the second frame portion 920 is provided in contact with the upper surface 911b of the protrusion 900b and the lower surface 912b of the protrusion 900b. The second frame portion 920 is provided in contact with the side surface 913b of the protrusion 900b. The second frame part 920 is provided so as to surround the three surfaces of the protrusion 900b. The second frame portion 920 is provided so as to contact the mounting substrate 120. Thus, the inner edge portion of the first portion 901b of the first frame portion 910 is covered with the second frame portion 920.

フレーム940によれば、第2フレーム部920が、突部900aの上面911a、突部900bの下面912a、突部900bの上面911b及び突部900bの下面912bに接して設けられる。このように第2フレーム部920が、突部の上面及び下面の両面に接して設けられるので、例えば第1フレーム部910と第2フレーム部920との間で膨張率の差によって生じる応力を低減できる。また、第1フレーム部910と第2フレーム部920とをより強く固定することができる。また、第1フレーム部210の反りをより抑制できる。また、第2フレーム部920が実装基板120に接しているので、フレーム940と実装基板120との間の接着性を高まる。   According to the frame 940, the second frame portion 920 is provided in contact with the upper surface 911a of the protrusion 900a, the lower surface 912a of the protrusion 900b, the upper surface 911b of the protrusion 900b, and the lower surface 912b of the protrusion 900b. Thus, since the second frame portion 920 is provided in contact with both the upper surface and the lower surface of the protrusion, for example, stress caused by a difference in expansion coefficient between the first frame portion 910 and the second frame portion 920 is reduced. it can. Further, the first frame part 910 and the second frame part 920 can be more strongly fixed. Moreover, the curvature of the 1st frame part 210 can be suppressed more. In addition, since the second frame portion 920 is in contact with the mounting substrate 120, the adhesion between the frame 940 and the mounting substrate 120 is enhanced.

また、第3実施例に係るフレーム840と同様、第2フレーム部920が第1フレーム部910の第1部分901aと接しているx軸方向の幅は、フレーム140において第2フレーム部220が第1部分301aと接しているx軸方向の幅より小さい。また、第2フレーム部920が第1フレーム部910の第1部分901bと接しているx軸方向の幅は、フレーム140において第2フレーム部220が第1部分301bと接しているx軸方向の幅より小さい。このため、第2フレーム部920が第1部分901a及び第1部分901bと接しているx軸方向の幅が小さいので、第2フレーム部920が第1フレーム部910に与える応力を低減することができる。そのため、第1フレーム部210の反りをより抑制できる。   Similarly to the frame 840 according to the third embodiment, the width in the x-axis direction in which the second frame portion 920 is in contact with the first portion 901a of the first frame portion 910 is equal to the second frame portion 220 in the frame 140. It is smaller than the width in the x-axis direction in contact with the one portion 301a. Further, the width in the x-axis direction in which the second frame portion 920 is in contact with the first portion 901b of the first frame portion 910 is the width in the x-axis direction in which the second frame portion 220 is in contact with the first portion 301b in the frame 140. Less than width. For this reason, since the width in the x-axis direction in which the second frame portion 920 is in contact with the first portion 901a and the first portion 901b is small, the stress applied to the first frame portion 910 by the second frame portion 920 can be reduced. it can. Therefore, the warp of the first frame part 210 can be further suppressed.

なお、突部900a及び突部900bと同様の突部を、他の第1フレーム部910の他の内縁部に沿って設けてもよい。すなわち、第1フレーム部910が有する矩形の内縁部に沿って突部を設けてよい。このように、第1フレーム部910が撮像チップ100を環囲する矩形の内形を形成する4つの内縁部に沿って、撮像チップ100を囲うように突部を設けることで、フレーム940に生じる反りをより抑制できる。   In addition, you may provide the protrusion similar to the protrusion 900a and the protrusion 900b along the other inner edge part of the other 1st flame | frame part 910. FIG. That is, a protrusion may be provided along the rectangular inner edge of the first frame portion 910. As described above, the first frame portion 910 is formed in the frame 940 by providing the protrusions so as to surround the imaging chip 100 along the four inner edges forming the rectangular inner shape surrounding the imaging chip 100. Warpage can be further suppressed.

また、第4実施例に係るフレーム940に関連して、突部900a及び突部900b等の突部を半抜き加工で形成する例について説明した。しかし、突部900a及び突部900bと同様に、第2フレーム部920と第1フレーム部910とが接する面に、絞り加工によって突部を形成してもよい。   In addition, in connection with the frame 940 according to the fourth embodiment, the example in which the protrusions such as the protrusions 900a and the protrusions 900b are formed by half punching has been described. However, similar to the protrusions 900a and 900b, the protrusions may be formed by drawing on the surface where the second frame part 920 and the first frame part 910 are in contact.

また、以上に説明したフレーム940において、第2フレーム部920のx軸方向の幅をより大きくした構成を適用してもよい。例えば、第2フレーム部920を、突部900a及び突部900bよりx軸方向に外縁部の方向に広げた構成を適用してもよい。   In the frame 940 described above, a configuration in which the width of the second frame portion 920 in the x-axis direction is further increased may be applied. For example, a configuration in which the second frame portion 920 is expanded in the x-axis direction in the direction of the outer edge portion from the protrusion 900a and the protrusion 900b may be applied.

以上に説明した実施形態において、第1フレーム部210、第1フレーム部710及び第1フレーム部910を形成する材料は金属である。他の実施形態において、第1フレーム部210及び第1フレーム部910等のフレーム部を、樹脂で形成してもよい。   In the embodiment described above, the material forming the first frame part 210, the first frame part 710, and the first frame part 910 is a metal. In other embodiments, the frame portions such as the first frame portion 210 and the first frame portion 910 may be formed of resin.

以上の説明においては、レンズユニット20及びカメラボディ30を含むカメラ10を、撮像装置の一例として取り上げて説明した。しかし、撮像装置とは、レンズユニット20を含まなくてよい。例えば、カメラボディ30は撮像装置の一例である。また、撮像装置とは、一眼レフレックスカメラ等のレンズ交換式の撮像装置の他に、レンズ非交換式の撮像装置を含む概念である。また、撮像チップ100は、電子デバイスの一例である。以上に説明したフレーム、実装基板及びカバーガラスに係る各構成の組み合わせは、撮像チップ100に限らず、密封される様々な種類の電子デバイスに適用できる。   In the above description, the camera 10 including the lens unit 20 and the camera body 30 has been described as an example of an imaging apparatus. However, the imaging device may not include the lens unit 20. For example, the camera body 30 is an example of an imaging device. The imaging device is a concept that includes a lens non-exchangeable imaging device in addition to a lens-exchangeable imaging device such as a single-lens reflex camera. The imaging chip 100 is an example of an electronic device. The combination of each structure which concerns on the flame | frame, mounting board | substrate, and cover glass demonstrated above is applicable not only to the imaging chip 100 but various electronic devices sealed.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。   As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above embodiment. It is apparent from the description of the scope of claims that embodiments with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.

特許請求の範囲、明細書、及び図面中において示した装置、システム、プログラム、及び方法における動作、手順、ステップ、及び段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。特許請求の範囲、明細書、及び図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。   The execution order of each process such as operation, procedure, step, and stage in the apparatus, system, program, and method shown in the claims, the description, and the drawings is particularly “before” or “prior to”. It should be noted that the output can be realized in any order unless the output of the previous process is used in the subsequent process. Regarding the operation flow in the claims, the specification, and the drawings, even if it is described using “first”, “next”, etc. for the sake of convenience, it means that it is essential to carry out in this order. It is not a thing.

10 カメラ
20 レンズユニット
22 光軸
24 レンズマウント
26 ボディマウント
30 カメラボディ
31 ミラーユニット
32 メインミラー
33 サブミラー
38 シャッタユニット
40 撮像ユニット
51 MPU
52 ASIC
60 ミラーボックス
62 基板
70 結像光学系
72 焦点検出センサ
80 ピント板
82 ペンタプリズム
84 ファインダ光学系
86 ファインダ窓
88 表示部
100 撮像チップ
101 撮像領域
102 周辺領域
105 短辺
106 長辺
110 ワイヤ
111 第1主面
112 第2主面
120 実装基板
121 第1層
122 第2層
131 ビア
132 絶縁体
138 開口部
140 フレーム
141 第1面
142 第2面
143 第3面
144 第4面
145 第5面
146 第6面
147 位置決め穴
148 取付穴
150 ブラケット
160 カバーガラス
180 電子部品
201、211 ソルダレジスト層
202、204、212、214 配線層
203、205、213、215 絶縁層
207 芯層
551、552、553 接着部
240 ボンディングパッド
301 第1部分
302 第2部分
10 Camera 20 Lens unit 22 Optical axis 24 Lens mount 26 Body mount 30 Camera body 31 Mirror unit 32 Main mirror 33 Sub mirror 38 Shutter unit 40 Imaging unit 51 MPU
52 ASIC
60 mirror box 62 substrate 70 imaging optical system 72 focus detection sensor 80 focus plate 82 penta prism 84 finder optical system 86 finder window 88 display unit 100 imaging chip 101 imaging region 102 peripheral region 105 short side 106 long side 110 wire 111 first Main surface 112 second main surface 120 mounting substrate 121 first layer 122 second layer 131 via 132 insulator 138 opening 140 frame 141 first surface 142 second surface 143 third surface 144 fourth surface 145 fifth surface 146 first 6 surfaces 147 Positioning hole 148 Mounting hole 150 Bracket 160 Cover glass 180 Electronic component 201, 211 Solder resist layer 202, 204, 212, 214 Wiring layer 203, 205, 213, 215 Insulating layer 207 Core layer 551, 552, 553 Adhesive part 240 Bonding pad 3 1 the first portion 302 second portion

Claims (12)

被写体を撮像する撮像チップが配置される第1面を有する基板と、  A substrate having a first surface on which an imaging chip for imaging a subject is disposed;
前記第1面において前記撮像チップの少なくとも一部を環囲するように配置され、前記第1面に対向する第2面と前記第2面とは反対側の第3面とを有する部材であって、前記第3面において前記第2面から前記第3面に向かう方向に突き出る突部が形成された、前記基板とは異なる熱膨張率を有する第1環囲部と、  A member disposed on the first surface so as to surround at least a part of the imaging chip, and having a second surface facing the first surface and a third surface opposite to the second surface; A first surrounding portion having a thermal expansion coefficient different from that of the substrate, wherein a protrusion protruding in the direction from the second surface toward the third surface is formed on the third surface;
前記第3面に配置され、前記第3面に対向する第4面を有する部材であって前記第1環囲部とは異なる熱膨張率を有する第2環囲部と、を備え、  A second surrounding portion disposed on the third surface and having a fourth surface facing the third surface and having a coefficient of thermal expansion different from that of the first surrounding portion,
前記基板及び前記第1環囲部は、前記第1面と前記第2面との間に配置される熱硬化性接着剤により接着され、  The substrate and the first surrounding portion are bonded by a thermosetting adhesive disposed between the first surface and the second surface,
前記第1環囲部及び前記第2環囲部は、前記第3面と前記第4面との間に配置される熱硬化性接着剤により接着される撮像ユニット。  The imaging unit in which the first surrounding portion and the second surrounding portion are bonded by a thermosetting adhesive disposed between the third surface and the fourth surface.
前記第1環囲部は、前記基板とともに前記撮像チップの収容空間を形成する内縁部と、前記内縁部より外側の外縁部と、前記第3面において前記内縁部から前記外縁部までが第1幅の第1部分と、前記第3面において前記内縁部から前記外縁部までが前記第1幅より大きい第2幅の第2部分と、を有し、  The first surrounding portion includes an inner edge portion that forms an accommodation space for the imaging chip together with the substrate, an outer edge portion outside the inner edge portion, and a first surface from the inner edge portion to the outer edge portion on the third surface. A first portion having a width, and a second portion having a second width larger than the first width from the inner edge portion to the outer edge portion on the third surface;
前記突部は、前記第1部分に形成される請求項1に記載の撮像ユニット。  The imaging unit according to claim 1, wherein the protrusion is formed in the first portion.
前記突部は、前記第1部分において前記内縁部に沿って延伸するように形成される請求項2に記載の撮像ユニット。The imaging unit according to claim 2, wherein the protrusion is formed to extend along the inner edge portion in the first portion. 前記第1環囲部は、前記内縁部により形成される矩形形状の第1開口部を有し、  The first surrounding portion has a rectangular first opening formed by the inner edge portion,
前記突部は、前記第1部分において前記第1開口部を形成する辺の長さ以上になるように形成される請求項3に記載の撮像ユニット。  The imaging unit according to claim 3, wherein the protrusion is formed to have a length equal to or longer than a side forming the first opening in the first portion.
前記第2環囲部は、前記第1開口部よりも開口面積が小さい第2開口部を有する請求項4に記載の撮像ユニット。  The imaging unit according to claim 4, wherein the second surrounding portion has a second opening having an opening area smaller than that of the first opening. 前記第1環囲部は、金属により構成され、前記第2面から前記第3面に向かう方向において第1の厚さを有し、  The first surrounding portion is made of metal and has a first thickness in a direction from the second surface toward the third surface;
前記第2環囲部は、樹脂により構成され、前記第2面から前記第3面に向かう方向において前記第1の厚さよりも厚い第2の厚さを有する請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の撮像ユニット。  The said 2nd surrounding part is comprised with resin, and has any 2nd thickness thicker than a said 1st thickness in the direction which goes to the said 3rd surface from the said 2nd surface. The imaging unit according to claim 1.
前記第1環囲部は、前記基板とともに前記撮像チップの収容空間を形成する内縁部と、前記内縁部より外側の外縁部と、前記第3面において前記内縁部から前記外縁部までが第1幅の第1部分と、前記第3面において前記内縁部から前記外縁部までが前記第1幅より大きい第2幅の第2部分と、を有し、  The first surrounding portion includes an inner edge portion that forms an accommodation space for the imaging chip together with the substrate, an outer edge portion outside the inner edge portion, and a first surface from the inner edge portion to the outer edge portion on the third surface. A first portion having a width, and a second portion having a second width larger than the first width from the inner edge portion to the outer edge portion on the third surface;
前記第2部分は、前記第3面よりも前記第2面から前記第3面に向かう方向側に配置された構造体に取り付けられるための取付部が形成される請求項6に記載の撮像ユニット。  The imaging unit according to claim 6, wherein the second portion is formed with an attachment portion to be attached to a structure disposed on the direction side from the second surface toward the third surface with respect to the third surface. .
前記取付部は、前記第2部分において前記第2面から前記第3面に向かう方向に貫通された貫通穴を有する請求項7に記載の撮像ユニット。  The imaging unit according to claim 7, wherein the attachment portion has a through hole that penetrates in the direction from the second surface toward the third surface in the second portion. 前記第2環囲部は、前記第4面において前記突部が挿入される挿入部が形成される請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の撮像ユニット。  The imaging unit according to any one of claims 1 to 8, wherein the second surrounding portion is formed with an insertion portion into which the protrusion is inserted on the fourth surface. 前記基板は、前記第1面とは反対側の第5面を有し、前記第5面において前記撮像チップに電力を供給する電源回路部と前記撮像チップで撮像された被写体の画像信号を外部に出力するためのコネクタ部とが配置されている請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の撮像ユニット。  The substrate has a fifth surface opposite to the first surface, and a power supply circuit unit that supplies power to the imaging chip on the fifth surface and an image signal of a subject imaged by the imaging chip externally The imaging unit according to any one of claims 1 to 9, wherein a connector portion for outputting to the camera is disposed. 前記突部は、半抜き加工によって形成される請求項1から請求項10のいずれか一項に記載の撮像ユニット。  The imaging unit according to any one of claims 1 to 10, wherein the protrusion is formed by half punching. 請求項1から請求項11のいずれか一項に記載の撮像ユニットを備える撮像装置。 An imaging device comprising the imaging unit according to any one of claims 1 to 11 .
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6672747B2 (en) * 2015-11-30 2020-03-25 株式会社ニコン Electronic unit, imaging device and flexible substrate
CN108450036B (en) * 2015-12-24 2023-03-28 京瓷株式会社 Substrate for mounting imaging element and imaging device
JP6648525B2 (en) * 2015-12-28 2020-02-14 株式会社ニコン Substrate, imaging unit and imaging device
JP7251537B2 (en) * 2020-10-12 2023-04-04 株式会社ニコン Imaging unit and imaging device
WO2023166849A1 (en) * 2022-03-03 2023-09-07 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 Package member and method for manufacturing package

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5646566A (en) * 1979-09-26 1981-04-27 Hitachi Ltd Solid image pickup device
JPS58127474A (en) * 1982-01-25 1983-07-29 Hitachi Ltd Silid state image pickup device
JPS58140155A (en) * 1982-02-16 1983-08-19 Canon Inc Solid-state image pickup device
JPS61131690A (en) * 1984-11-30 1986-06-19 Toshiba Corp Solid-state image pick-up device
JPH04359564A (en) * 1991-06-06 1992-12-11 Mitsui Petrochem Ind Ltd Solid image pick-up device using hollow package for same
JPH0832041A (en) * 1994-07-14 1996-02-02 Toshiba Corp Case of solid state image pickup device
JP3138191B2 (en) * 1995-08-10 2001-02-26 三洋電機株式会社 Solid-state imaging device
JP3821718B2 (en) * 2002-01-28 2006-09-13 セイコープレシジョン株式会社 Solid-state imaging device
JP2004228098A (en) * 2002-11-28 2004-08-12 Kyocera Corp Package for housing semiconductor device and semiconductor apparatus
JP5540465B2 (en) * 2008-01-11 2014-07-02 株式会社ニコン Package body
JP2010219696A (en) * 2009-03-13 2010-09-30 Sharp Corp Solid-state imaging apparatus and electronic equipment with the same
JP5595066B2 (en) * 2009-03-25 2014-09-24 京セラ株式会社 Imaging device and imaging module
JP2012034070A (en) * 2010-07-29 2012-02-16 Casio Comput Co Ltd Method of bonding substrate, mounting structure of substrate, electronic apparatus, and substrate
US9065991B2 (en) * 2010-11-04 2015-06-23 Lensvector Inc. Methods of adjustment free manufacture of focus free camera modules
JP5885690B2 (en) * 2012-04-27 2016-03-15 キヤノン株式会社 Electronic components and equipment
JP5944224B2 (en) * 2012-05-15 2016-07-05 Ngkエレクトロデバイス株式会社 Electronic component element storage package and manufacturing method thereof
IN2015DN00551A (en) * 2012-06-22 2015-06-26 Nikon Corp

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