JP6339498B2 - シクロヘキサンのエポキシ化方法 - Google Patents
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Description
本発明は、オレフィンをエポキシ化する方法に関する。
〔背景技術〕
シクロヘキサノンとシクロヘキサノールは、重要な工業化学物質として、繊維、合成ゴム、工業用塗料、医薬、農薬、有機溶媒などの分野で広く用いられている。ポリアミド工業の急速な発達とともに、シクロヘキサノンとシクロヘキサノール(これらはナイロン6とナイロン66を製造する際の中間体として用いられる)の需要の全体量は二百万トンを超えている。
〔発明の概要〕
本発明の目的は、工業用途に利用可能な、シクロヘキサンの連続的な酸化方法を提供することである。
〔図面の簡単な説明〕
図1は、本発明に係る、シクロヘキサンの酸化方法を行う装置を例示する図である。
〔発明を実施するための形態〕
本発明は、シクロヘキサンの酸化方法であって、接触による酸化反応条件下、シクロヘキサンと、過酸化水素水溶液と、選択的な有機溶媒とを、反応ゾーンの供給口を通して当該反応ゾーンに供給する工程と、当該反応ゾーンの底部に酸化生成物のすべてまたは大半が提供される工程とを含み、上記反応ゾーン内の充填物の一部またはすべてがチタニウム珪酸塩分子篩含有触媒である方法を提供する。
(1)大気圧および室温から約100℃までの温度という条件下、有機珪素化合物を水溶液に添加して、約0.5から約10時間、混合し、撹拌し、加水分解し、コロイド状溶液を得る工程と、
(2)チタニウム珪酸塩分子篩を、上記工程(1)で得られた上記コロイド状溶液に添加し、均質に混合して懸濁液を得る工程であって、上記チタニウム珪酸塩分子篩と、上記有機珪素化合物と、上記チタニウム珪酸塩分子篩を生成するのに有用な上記テンプレート剤と、水との質量比が、約100:約10から約2000:約2から約40:約50から約1000である工程と、
(3)上記懸濁液を一定期間(概して、約0.5から約5時間)連続してかき混ぜた後、従来の噴霧式細粒化(spray granulation)またはボーリング式細粒化(balling granulation)を行い、続いて焼成を行って、微小球型の触媒を得る工程と、を含む。
大気圧下、40℃の条件で、テトラエチル珪酸塩を、水酸化テトラプロピル・アンモニウム水溶液に添加し、2時間撹拌した。その後、中空チタニウム珪酸塩分子篩(HTS)を添加し、さらに1時間撹拌した(HTSとテトラエチル珪酸塩と水酸化テトラプロピル・アンモニウムと水との質量比は、100:350:5:120)。ボーリング式細粒化(balling granulation)の後、550℃で5時間焼成し、直径5ミクロンの微小球の形態の触媒を得た。
HTSとテトラエチル珪酸塩と水酸化テトラプロピル・アンモニウムと水との質量比が100:100:10:50である他は、調製実施例1と同じ方法を行い、ボーリング式細粒化(balling granulation)の後、直径100ミクロンの触媒を得た。
HTSとテトラエチル珪酸塩と水酸化テトラプロピル・アンモニウムと水との質量比が100:200:40:500である他は、調製実施例1と同じ方法を行い、ボーリング式細粒化(balling granulation)の後、直径2000ミクロンの触媒を得た。
ボーリング式細粒化(balling granulation)の後、直径500ミクロンの触媒を得た他は、調製実施例1と同じ方法を行った。
水酸化テトラプロピル・アンモニウムを水酸化テトラエチル・アンモニウムに置き換え、テトラエチル珪酸塩をテトラメチル珪酸塩に置き換えた他は、調製実施例1と同じ方法を行った。
HTSとテトラエチル珪酸塩と水酸化テトラプロピル・アンモニウムと水の質量比が100:300:50:2000である他は、調製実施例1と同じ方法を行った。
中空チタニウム珪酸塩分子篩(HTS)を従来のチタニウム珪酸塩分子篩TS−1に置き換えた他は、調製実施例1と同じ方法を行った。
シクロヘキサンと、過酸化水素溶液(濃度27.5重量%)と、アセトン溶媒とを、1:1.72:15の質量比で、反応ゾーンの複数の供給口を通して供給した。シクロヘキサンは第二供給口を通して供給し、過酸化水素溶液とアセトン溶媒とは第一供給口を通して供給した。反応ゾーンの温度は77±3℃となるように調整した。反応ゾーン内の圧力は0.15±0.02MPaとした。シクロヘキサンの空間速度は2h-1とした。反応ゾーン内の還流比は5:1とした。反応ゾーンの段数は35とした。第一供給口とカラム底部との間の段数は30とした。第二供給口とカラム底部との間の段数は10とした。充填物は、調製実施例1に従って得られたチタニウム珪酸塩分子篩触媒を60重量%と、θ環を40重量%とを含有したものを用いた。12時間の安定稼働の後、標本分析を行った。シクロヘキサンの変換、ケトンおよびアルコールに対する選択性、過酸化水素の有効利用率を表1に示した。
シクロヘキサンと、過酸化水素溶液(濃度27.5重量%)と、シアン化ベンジル溶媒とを、1:3.44:8.89の質量比で、反応ゾーンの複数の供給口を通して供給した。シクロヘキサンは第二供給口を通して供給し、過酸化水素溶液とシアン化ベンジル溶媒とは第一供給口を通して供給した。反応ゾーンの温度は150±5℃となるように調整した。反応ゾーン内の圧力は0.35±0.05MPaとした。シクロヘキサンの空間速度は8h-1とした。反応ゾーン内の還流比は8:1とした。反応ゾーンの段数は35とした。第一供給口とカラム底部との間の段数は30とした。第二供給口とカラム底部との間の段数は10とした。充填物は、調製実施例2に従って得られたチタニウム珪酸塩分子篩触媒を30重量%と、θ環を70重量%とを含有したものを用いた。8時間の安定稼働の後、標本分析を行った。シクロヘキサンの変換、ケトンとアルコールに対する選択性、過酸化水素の有効利用率を表1に示した。
シクロヘキサンと、過酸化水素溶液(濃度50重量%)と、tert−ブタノール溶媒とを、1:1.72:10の質量比で、反応ゾーンの複数の供給口を通して供給した。シクロヘキサンは第二供給口を通して供給し、過酸化水素溶液とtert−ブタノール溶媒は第一供給口を通して供給した。反応ゾーンの温度は110±5℃となるように調整した。反応ゾーン内の圧力は0.20±0.02MPaとした。シクロヘキサンの空間速度は5h-1とした。反応ゾーン内の還流比は3:1とした。反応ゾーンの段数は35とした。第一供給口とカラム底部との間の段数は30とした。第二供給口とカラム底部との間の段数は10とした。充填物は、調製実施例3に従って得られたチタニウム珪酸塩分子篩触媒を60重量%と、θ環を40重量%とを含有したものを用いた。18時間の安定稼働ののち、標本分析を行った。シクロヘキサンの変換、ケトンとアルコールに対する選択性、過酸化水素の有効利用率を表1に示した。
チタニウム珪酸塩分子篩触媒を、調製実施例4の方法に従って得たチタニウム珪酸塩分子篩型触媒にした他は、実施例1と同じ方法を行った。
チタニウム珪酸塩分子篩触媒を、調製実施例5の方法に従って得たチタニウム珪酸塩分子篩型触媒にした他は、実施例1と同じ方法を行った。
チタニウム珪酸塩分子篩触媒を、調製実施例6の方法に従って得たチタニウム珪酸塩分子篩型触媒にした他は、実施例1と同じ方法を行った。
チタニウム珪酸塩分子篩触媒を、調製実施例7の方法に従って得たチタニウム珪酸塩分子篩型触媒にした他は、実施例1と同じ方法を行った。
チタニウム珪酸塩分子篩触媒を、以下の方法に従って得た他は、実施例1と同じ方法を行った。すなわち、HTSとシリカゾル(SiO2含有量40重量%)とを重量比100:250で混ぜ合わせてパルプ状にし(得られた懸濁液は固形分が40重量%であった。ここで、固形分とは当該懸濁液から水分を除いた含有量を意味する)、噴霧式細粒化して、直径50ミクロンの微小球の形態を有する触媒を得た。
溶媒をブタノンにした他は、実施例1と同じ方法を行った。
溶媒を酢酸にした他は、実施例1と同じ方法を行った。
シクロヘキサンと、過酸化水素溶液(濃度50重量%)と、水溶媒とを、2:3:1の質量比で、反応ゾーンの複数の供給口を通して供給した。シクロヘキサンは第二供給口を通して供給し、過酸化水素溶液と水溶媒とは第一供給口を通して供給した。反応ゾーンの温度は69±2℃となるように調整した。反応ゾーン内の圧力は0.10±0.02MPaとした。シクロヘキサンの空間速度は4h-1とした。反応ゾーン内の還流比は10:1とした。反応ゾーンの段数は35とした。第一供給口とカラム底部との間の段数は30とした。第二供給口とカラム底部との間の段数は10とした。充填物は、調製実施例1の方法に従って得られたチタニウム珪酸塩分子篩触媒100重量%とした。15時間の安定稼働の後、標本分析を行った。シクロヘキサンの変換、ケトンとアルコールに対する選択性、過酸化水素の有効利用率を表1に示した。
Claims (13)
- シクロヘキサンの酸化方法であって、接触による酸化反応条件下、シクロヘキサンと、過酸化水素水溶液と、選択的な有機溶媒とを、反応ゾーンの供給口を通して当該反応ゾーンに供給する工程と、当該反応ゾーンの底部に酸化生成物の95から100重量%が提供される工程とを含み、上記反応ゾーン内の充填物の一部またはすべてがチタニウム珪酸塩分子篩触媒であり、上記有機溶媒は、沸点が40から250℃の、アルコール、ケトン、有機カルボン酸のうちの一つまたは複数であり、
上記チタニウム珪酸塩分子篩触媒は、
テトラエチル・シリケートと、水酸化テトラプロピル・アンモニウムとを、加水分解条件下で加水分解してコロイド状溶液を得る工程と、その後、チタニウム珪酸塩分子篩と上記コロイド状溶液とを均質に混合して懸濁液を得る工程と、当該懸濁液を細粒化した後、焼成を行って、微小球型の触媒を得る工程とを含む方法によって調製され、
上記コロイド状溶液と混合するチタニウム珪酸塩分子篩はMFI構造を有し、上記チタニウム珪酸塩分子篩の結晶粒子は、空洞部分の半径長さが5から300nmである中空構造を有し、25℃、P/P0=0.10、吸着時間が1時間の条件下で測定した上記チタニウム珪酸塩分子篩に対するベンゼンの吸着力は少なくとも70mg/gであり、上記分子篩の低温時の窒素吸着における吸着等温線と脱着等温線との間にヒステリシスループがあり、
上記酸化生成物の95から100重量%が上記反応ゾーンの底部から得られ、当該生成物はシクロヘキサノンおよび/またはシクロヘキサノールを含んでいるか、あるいはシクロヘキサノンおよび/またはシクロヘキサノールから成る群から選ばれることを特徴とする、シクロヘキサンの酸化方法。 - シクロヘキサンの酸化方法であって、シクロヘキサンと、上記過酸化水素水溶液と、上
記有機溶媒とを、上記供給口を通して上記反応ゾーンに供給する方法は、
上記過酸化水素水溶液と上記有機溶媒とを、第一の供給口を通して上記反応ゾーンに供給する工程と、上記シクロヘキサンを、第二の供給口を通して上記反応ゾーンに供給する工程とを含み、
上記第一の供給口とカラム底部との間の段数または理論段数は、上記反応ゾーンの全段数あるいは全理論段数の50%から100%であり、上記第二の供給口とカラム底部との間の段数または理論段数は、上記反応ゾーンの全段数あるいは全理論段数の10%から80%であることを特徴とする、請求項1に記載のシクロヘキサンの酸化方法。 - 上記第一の供給口とカラム底部との間の段数または理論段数は、上記反応ゾーンの全段数あるいは全理論段数の80%から100%であり、上記第二の供給口とカラム底との間の段数または理論段数は、上記反応ゾーンの全段数あるいは全理論段数の30%から70%であることを特徴とする、請求項2に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記チタニウム珪酸塩分子篩触媒はキャリアとチタニウム珪酸塩分子篩とを含み、当該触媒の全重量に対する当該キャリアの使用量は1から90重量%、当該チタニウム珪酸塩分子篩の使用量は10から99重量%であることを特徴とする、請求項1に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記チタニウム珪酸塩分子篩触媒は、2から5000ミクロンの直径を有する微小球型であることを特徴とする、請求項4に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記チタニウム珪酸塩分子篩と、上記テトラエチル・シリケートと、上記チタニウム珪酸塩分子篩とを生成するのに有用な上記水酸化テトラプロピル・アンモニウムと、水との質量比が、100:10から2000:2から40:50から1000であることを特徴とする、請求項1に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記加水分解条件は、0.5から10時間の加水分解時間と、室温から100℃までの加水分解温度とを含むことを特徴とする、請求項1または6に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記充填物は20から100重量%の上記チタニウム珪酸塩分子篩触媒を含むことを特徴とする、請求項1ないし6のいずれか一項に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 仕込まれるシクロヘキサンと、過酸化水素と、上記有機溶媒との質量比は、1:0.03から2:3から15であることを特徴とする、請求項1ないし6のいずれか一項に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記有機溶媒は、アルコール、ケトン、のうちの一つまたは複数であることを特徴とする、請求項1ないし6のいずれか一項に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記有機溶媒は、アセトン、メタノール、tert−ブタノールのうちの一つまたは複数であることを特徴とする、請求項10に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記酸化反応条件は、上記反応ゾーン内の温度が40から200℃であることと、還流比が2:1以上であることを含むことを特徴とする、請求項1ないし6のいずれか一項に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 未反応のシクロヘキサンと水の一部は、上記反応ゾーンの上部を通って、当該反応ゾーンから取り除かれることを特徴とする、請求項1ないし6のいずれか一項に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
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