JP2014523860A5 - - Google Patents
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Description
Claims (13)
- シクロヘキサンの酸化方法であって、接触による酸化反応条件下、シクロヘキサンと、過酸化水素水溶液と、選択的な有機溶媒とを、反応ゾーンの供給口を通して当該反応ゾーンに供給する工程と、当該反応ゾーンの底部に酸化生成物の９５から１００重量％が提供される工程とを含み、上記反応ゾーン内の充填物の一部またはすべてがチタニウム珪酸塩分子篩触媒であり、上記有機溶媒は、沸点が４０から２５０℃の、アルコール、ケトン、有機カルボン酸のうちの一つまたは複数であり、
上記チタニウム珪酸塩分子篩触媒は、
テトラエチル・シリケートと、水酸化テトラプロピル・アンモニウムとを、加水分解条件下で加水分解してコロイド状溶液を得る工程と、その後、チタニウム珪酸塩分子篩と上記コロイド状溶液とを均質に混合して懸濁液を得る工程と、当該懸濁液を細粒化した後、焼成を行って、微小球型の触媒を得る工程とを含む方法によって調製され、
上記コロイド状溶液と混合するチタニウム珪酸塩分子篩はＭＦＩ構造を有し、上記チタニウム珪酸塩分子篩の結晶粒子は、空洞部分の半径長さが５から３００ｎｍである中空構造を有し、２５℃、Ｐ／Ｐ０＝０．１０、吸着時間が１時間の条件下で測定した上記チタニウム珪酸塩分子篩に対するベンゼンの吸着力は少なくとも７０ｍｇ／ｇであり、上記分子篩の低温時の窒素吸着における吸着等温線と脱着等温線との間にヒステリシスループがあり、
上記酸化生成物の９５から１００重量％が上記反応ゾーンの底部から得られ、当該生成物はシクロヘキサノンおよび／またはシクロヘキサノールを含んでいるか、あるいはシクロヘキサノンおよび／またはシクロヘキサノールから成る群から選ばれることを特徴とする、シクロヘキサンの酸化方法。 - シクロヘキサンの酸化方法であって、シクロヘキサンと、上記過酸化水素水溶液と、上
記有機溶媒とを、上記供給口を通して上記反応ゾーンに供給する方法は、
上記過酸化水素水溶液と上記有機溶媒とを、第一の供給口を通して上記反応ゾーンに供給する工程と、上記シクロヘキサンを、第二の供給口を通して上記反応ゾーンに供給する工程とを含み、
上記第一の供給口とカラム底部との間の段数または理論段数は、上記反応ゾーンの全段数あるいは全理論段数の５０％から１００％であり、上記第二の供給口とカラム底部との間の段数または理論段数は、上記反応ゾーンの全段数あるいは全理論段数の１０％から８０％であることを特徴とする、請求項１に記載のシクロヘキサンの酸化方法。 - 上記第一の供給口とカラム底部との間の段数または理論段数は、上記反応ゾーンの全段数あるいは全理論段数の８０％から１００％であり、上記第二の供給口とカラム底との間の段数または理論段数は、上記反応ゾーンの全段数あるいは全理論段数の３０％から７０％であることを特徴とする、請求項２に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記チタニウム珪酸塩分子篩触媒はキャリアとチタニウム珪酸塩分子篩とを含み、当該触媒の全重量に対する当該キャリアの使用量は１から９０重量％、当該チタニウム珪酸塩分子篩の使用量は１０から９９重量％であることを特徴とする、請求項１に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記チタニウム珪酸塩分子篩触媒は、２から５０００ミクロンの直径を有する微小球型であることを特徴とする、請求項４に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記チタニウム珪酸塩分子篩と、上記テトラエチル・シリケートと、上記チタニウム珪酸塩分子篩とを生成するのに有用な上記水酸化テトラプロピル・アンモニウムと、水との質量比が、１００：１０から２０００：２から４０：５０から１０００であることを特徴とする、請求項１に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記加水分解条件は、０．５から１０時間の加水分解時間と、室温から１００℃までの加水分解温度とを含むことを特徴とする、請求項１または６に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記充填物は２０から１００重量％の上記チタニウム珪酸塩分子篩触媒を含むことを特徴とする、請求項１ないし６のいずれか一項に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 仕込まれるシクロヘキサンと、過酸化水素と、上記有機溶媒との質量比は、１：０．０３から２：３から１５であることを特徴とする、請求項１ないし６のいずれか一項に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記有機溶媒は、アルコール、ケトン、のうちの一つまたは複数であることを特徴とする、請求項１ないし６のいずれか一項に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記有機溶媒は、アセトン、メタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールのうちの一つまたは複数であることを特徴とする、請求項１０に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 上記酸化反応条件は、上記反応ゾーン内の温度が４０から２００℃であることと、還流比が２：１以上であることを含むことを特徴とする、請求項１ないし６のいずれか一項に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
- 未反応のシクロヘキサンと水の一部は、上記反応ゾーンの上部を通って、当該反応ゾーンから取り除かれることを特徴とする、請求項１ないし６のいずれか一項に記載のシクロヘキサンの酸化方法。
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