JP6315367B2 - 半導体封止用エポキシ樹脂組成物および半導体装置 - Google Patents
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Description
式(III)で表わされるビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂としては、例えばR11〜R18が全て水素原子であるNC−3000(日本化薬(株)製)が市販品として入手可能である。
イミダゾールシランの一般的な製法としては、イミダゾール化合物とシラン化合物とを反応させる方法が知られており、例えばイミダゾール化合物とハロゲンアルキルシランを反応させる方法、イミダゾール化合物としてビニルイミダゾールを使用する方法、アミノシランやアクリル系シランを使用する方法などが知られているが、式(I)又は(II)で表わされるイミダゾールシランは、公知の方法に準じて製造することができる。
(無機充填剤)
・球状溶融シリカ:電気化学工業 FB940
(シランカップリング剤)
・γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業(株)製「KBM403」
・γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業(株)製「KBM803」
(エポキシ樹脂)
・ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC−3000」、エポキシ当量275g/eq、軟化点56℃
・ビフェニル型エポキシ樹脂
(フェノール樹脂硬化剤)
・フェノールアラルキル樹脂、明和化成(株)製「MEH−7800」、水酸基当量175mgKOH/g、軟化点70℃
・ビフェニルアラルキル樹脂、明和化成(株)製「MEH−7851SS」、水酸基当量198g/eq、軟化点64℃
・フェノールノボラック樹脂
(離型剤)
・カルナバワックス、大日化学社製「F1−100」
(硬化促進剤)
・トリフェニルホスフィン、北興化学工業(株)製「TPP」
(顔料)
・カーボンブラック、三菱化学(株)製「MA100」
(イミダゾールシラン)
・イミダゾールシランA、JX日鉱日石金属株式会社「SP−10」、イミダゾールとエポキシシランを反応させて得られるエーテル基含有のイミダゾールシラン(特許文献3)
・イミダゾールシランB、式(II-1)で表わされるイミダゾールシラン 常温固形
・イミダゾールシランC、式(I-1)で表わされるイミダゾールシラン 常温固形
・イミダゾールシランD、式(I-2)で表わされるイミダゾールシラン 常温固形
(硫黄含有化合物)
・4,4−ジチオモルホリン
・ジ−2−ベンゾチアゾリルジスルフィド
・1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリチオール
表1に示す各配合成分を、表1に示す割合で配合し、ブレンダーで30分間混合し均一化した。その後、約100℃に加熱したニーダーで混練溶融させて押し出し、冷却後、粉砕機で所定粒度に粉砕し、圧縮によりタブレット化して半導体封止用エポキシ樹脂組成物を得た。
[密着力]
25×25×5mmtの基板に前記の半導体封止用エポキシ樹脂組成物のプリン状の成形品を低圧トランスファ成形(175℃)により作製した。成形後、175℃で6時間後硬化し、得られたテストピースについてDage社製のボンドテスターを用いてせん断密着力(MPa)を測定した。密着力の測定は、銅基板(KFC、Cu密着力)、銀メッキ銅基板(Ag密着力)のそれぞれについて測定した。なお、Agメッキ部の接着力が25MPaを下回るとリフロー時に剥離する可能性が高い。
[耐リフロー性評価]
銅リードフレームのワイヤボンド部に銀メッキが施されている28□LQFPリードフレームを用いて、マルチトランスファプレス(APIC YAMDA)にて成形を行い後硬化(175℃×6hr処理)を行い試験用パッケージを得た。超音波探傷装置(日立建機社製)にて内部状態の非破壊観察を行った後、パッケージを125℃×24hで乾燥処理し、その後60℃で相対湿度60%の恒温恒湿機中に120時間放置して吸湿処理を行い、リフロー処理(265℃ピークの熱風併用式遠赤外線式リフロー炉での処理)を3回行い、超音波探傷装置で内部状態を確認し、成形直後では発生していなかった剥離がリフロー処理後に発生している場合をNGとして評価した。
[銅ワイヤ腐食評価]
銅ワイヤでボンディングされている16DIPパッケージをコンベンショナルプレスによって成形し、後硬化を行った後、250℃で任意の時間熱処理を行い、取り出し時間でのワイヤの電気抵抗を確認し、抵抗値が上がってきた時点で腐食起因の不良とした。
Claims (6)
- 硫黄原子を含む添加剤を含有せず、不純物を含む硫黄含有量が硬化物の蛍光X線分析(SO3換算)で0.05質量%以下であることを特徴とする請求項1に記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
- 前記シランカップリング剤として、式(I)または(II)で表わされるイミダゾールシランに加えて、グリシドキシシランおよびアミノシランから選ばれる少なくとも1種の硫黄原子を含まない化合物を含有することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
- 銀メッキが施されていてもよい銅製リードフレームが使用され、銅または銀ワイヤで半導体素子とリードフレームとが端子間接続されるリードフレーム型半導体装置の封止に用いられることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
- 請求項1から4のいずれか一項に記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物により半導体素子が封止されていることを特徴とする半導体装置。
- 銀メッキが施されていてもよい銅製リードフレームが使用され、銀または銅ワイヤで半導体素子とリードフレームとが端子間接続されるリードフレーム型半導体装置であることを特徴とする請求項5に記載の半導体装置。
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