JP2015000888A - 半導体封止用エポキシ樹脂組成物および半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】エポキシ樹脂、硬化剤、および無機充填剤を必須成分として含有しリードフレームに搭載された半導体を封止するための成形材料として用いられる半導体封止用エポキシ樹脂組成物において、アクリル樹脂に水酸基をグラフト化した水酸基当量4000〜6000g/eqの低応力化剤を含有することを特徴とする。
【選択図】なし
Description
(エポキシ樹脂)
O−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、DIC(株)製「N663EXP」
(硬化剤)
フェノールノボラック樹脂、明和化成工業(株)製「HF−1M」
(無機充填剤)
溶融シリカ
(硬化促進剤)
トリフェニルホスフィン(TPP)
(低応力化剤)
アクリル樹脂に水酸基をグラフト化した低応力化剤、水酸基当量4800g/eq
(その他の添加剤)
水酸化アルミニウム、昭和電工(株)製「HP360」
カルナバワックス
カーボンブラック
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
表1に示す各配合成分を、表1に示す割合で配合し、ブレンダーで30分間混合し均一化した後、80℃に加熱したニーダーで混練溶融させて押し出し、冷却後、粉砕機で所定粒度に粉砕して粒状の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を得た。
[スパイラルフロー]
ASTM D3123に準拠したスパイラルフロー測定金型を用いて、金型温度170℃、注入圧力6.9MPa、成形時間120秒の条件で半導体封止用エポキシ樹脂組成物の成形を行い、流動距離(cm)を測定した。スパイラルフローは成形性の目安となり、この値が長いほど流動性が良い材料であることを示す。
[ゲルタイム]
キュラストメータ(オリエンテック社製)を用いて、170℃にて半導体封止用エポキシ樹脂組成物の硬化トルクを経時的に測定し、硬化トルク値が0.1kgfになるまでの時間(s)をゲルタイムとして測定した。速硬化性という観点では、この値の小さい方が良好である。
[密着性]
25×25×5mmtの銅基板に前記の半導体封止用エポキシ樹脂組成物のプリン状の成形品を175℃×120sで低圧トランスファ成形により作製した。成形後、175℃で6時間後硬化し、得られたテストピースについてボンドテスタを用いてせん断密着力(MPa)を測定した。
[曲げ弾性率、曲げ強度]
JIS K6911に準じたテストピースを作製し、オートグラフにて曲げ弾性率(GPa)、曲げ強度(MPa)を測定した(試験片:80×10×4mm、支点間距離:64mm、試験速度:2mm/min)
評価結果を表1に示す。
Claims (3)
- エポキシ樹脂、硬化剤、および無機充填剤を必須成分として含有しリードフレームに搭載された半導体を封止するための成形材料として用いられる半導体封止用エポキシ樹脂組成物において、アクリル樹脂に水酸基をグラフト化した水酸基当量4000〜6000g/eqの低応力化剤を含有することを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
- 前記低応力化剤の含有量は、半導体封止用エポキシ樹脂組成物の全量に対して0.5〜5質量%の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
- 請求項1または2に記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物により半導体素子が封止されていることを特徴とする半導体装置。
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2013
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