JP6297824B2

JP6297824B2 - 環状オレフィン系樹脂組成物フィルム

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Inventors: 健細谷; 堀井　明宏; 明宏堀井; 慶小幡; 石森　拓; 拓石森; 香奈子橋本; 一樹平田
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Description

本発明は、環状オレフィン系樹脂にエラストマー等を添加分散させた環状オレフィン系樹脂組成物フィルムに関する。

環状オレフィン系樹脂は、その主鎖に環状のオレフィン骨格を持った非晶性で熱可塑性のオレフィン系樹脂であり、優れた光学特性（透明性、低複屈折性）を持ち、低吸水性とそれに基づく寸法安定性、高防湿性といった、優れた性能を有している。そのため環状オレフィン系樹脂からなるフィルムもしくはシートは、各種光学用途、例えば位相差フィルム、偏光板保護フィルム、光拡散板等や、防湿包装用途、例えば医薬品包装、食品包装等への展開が期待されている。

環状オレフィン系樹脂のフィルムは、靭性に劣るため、ハードセグメンとソフトセグメントを有するエラストマー等を添加分散することにより、靱性を改善することが知られている（例えば、特許文献１参照。）。

しかしながら、エラストマーを添加分散した環状オレフィン系樹脂のフィルムは、環状オレフィン系樹脂が持つ低屈折性が損なわれ、面内リタデーションが大きく、実用性に乏しかった。

特開２００４−１５６０４８７号公報

本発明は、このような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、面内リタデーションが小さく、優れた靱性を有する環状オレフィン系樹脂組成物フィルムを提供する。

本発明者は、環状オレフィン系樹脂に所定の貯蔵弾性率を有するスチレン系エラストマーを添加することにより、優れた靱性を保ったまま、面内リタデーションを改善できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明に係る環状オレフィン系樹脂組成物フィルムは、ノルボルネンとエチレンとの付加共重合体と、０℃〜１００℃における貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、スチレン含有率が２０〜４０ｍｏｌ％であるスチレン系エラストマーとを含有することを特徴とする。

また、本発明に係る環状オレフィン系樹脂組成物フィルムの製造方法は、ノルボルネンとエチレンとの付加共重合体と、０℃〜１００℃における貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、スチレン含有率が２０〜４０ｍｏｌ％であるスチレン系エラストマーとを溶融し、前記溶融された環状オレフィン系樹脂組成物を押出法により、フィルム状に押し出し、前記スチレン系エラストマーが、前記環状オレフィン系樹脂に分散されてなる環状オレフィン系樹脂組成物フィルムを得ることを特徴とする。

また、本発明に係る環状オレフィン系樹脂組成物フィルムは、透明導電性素子、入力装置、表示装置、及び電子機器に適用して好適なものである。

本発明によれば、環状オレフィン系樹脂に分散されたスチレン系エラストマーの０℃〜１００℃における貯蔵弾性率が１００ＭＰａ未満であることにより、面内リタデーションを小さくすることができ、優れた靱性を得ることができる。

図１は、本実施の形態に係る環状オレフィン系樹脂組成物フィルムの概略を示す断面斜視図である。図２は、フィルム製造装置の一構成例を示す模式図である。図３Ａ及び図３Ｂは、透明導電性フィルムの一例を示す断面図であり、図３Ｃ及び図３Ｄは、モスアイ形状の構造体を設けた透明導電性フィルムの一例を示す断面図である。図４は、タッチパネルの一構成例を示す概略断面図である。図５は、電子機器としてテレビ装置の例を示す外観図である。図６Ａ及び図６Ｂは、電子機器としてデジタルカメラの例を示す外観図である。図７は、電子機器としてノート型パーソナルコンピュータの例を示す外観図である。図８は、電子機器としてビデオカメラの例を示す外観図である。図９は、電子機器として携帯電話の一例を示す外観図である。図１０は、電子機器としてタブレット型コンピュータの一例を示す外観図である。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら下記順序にて詳細に説明する。
１．環状オレフィン系樹脂組成物フィルム
２．環状オレフィン系樹脂組成物フィルムの製造方法
３．電子機器への適用例
４．実施例

＜１．環状オレフィン系樹脂組成物フィルム＞
本実施の形態に係る環状オレフィン系樹脂組成物フィルムは、環状オレフィン系樹脂と、０℃〜１００℃における貯蔵弾性率が１００ＭＰａ未満であるスチレン系エラストマーとを含有することにより、面内リタデーションを小さくすることができ、優れた靱性を得ることができる。

図１は、本実施の形態に係る環状オレフィン系樹脂組成物フィルムの概略を示す断面斜視図である。環状オレフィン系樹脂組成物フィルムは、例えば短形状のフィルム又はシートであり、幅方向（ＴＤ：Transverse Direction）であるＸ軸方向と、長さ方向（ＭＤ：Machine Direction）であるＹ軸方向と、厚さ方向であるＺ軸方向とを有する。環状オレフィン系樹脂組成物フィルムの厚さＺは、０．１μｍ〜２ｍｍであることが好ましく、より好ましくは１μｍ〜１ｍｍである。

環状オレフィン系樹脂組成物フィルムは、環状オレフィン系樹脂１１と、スチレン系エラストマー１２とを含有し、スチレン系エラストマー１２が、環状オレフィン系樹脂１２に５〜３５ｗｔ％分散されている。すなわち、環状オレフィン系樹脂／スチレン系エラストマーの質量％比は、９５／５〜６５／３５（両者の合計は１００質量％である。）である。また、より好ましい環状オレフィン系樹脂／スチレン系エラストマーの質量％比は、９３／７〜８０／２０である。スチレン系エラストマー１２の添加比率が多すぎると光学特性（リタデーション、ヘイズ）が低下し、少なすぎると靭性が十分でなくなる。

以下、環状オレフィン系樹脂及びスチレン系エラストマーについて、詳細に説明する。

［環状オレフィン系樹脂］
環状オレフィン系樹脂は、主鎖が炭素−炭素結合からなり、主鎖の少なくとも一部に環状炭化水素構造を有する高分子化合物である。この環状炭化水素構造は、ノルボルネンやテトラシクロドデセンに代表されるような、環状炭化水素構造中に少なくとも一つのオレフィン性二重結合を有する化合物（環状オレフィン）を単量体として用いることで導入される。

環状オレフィン系樹脂は、環状オレフィンの付加（共）重合体又はその水素添加物（１）、環状オレフィンとα−オレフィンの付加共重合体又はその水素添加物（２）、環状オレフィンの開環（共）重合体又はその水素添加物（３）に分類される。

環状オレフィンの具体例としては、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロオクテン；シクロペンタジエン、１，３−シクロヘキサジエン等の１環の環状オレフィン；ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、５−メチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５，５−ジメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−エチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−ブチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−エチリデン−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−ヘキシル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−オクチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−オクタデシル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−メチリデン−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−ビニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−プロペニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン等の２環の環状オレフィン；

トリシクロ［４．３．０．１^２，５］デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、トリシクロ［４．３．０．１^２，５］デカ−３−エン；トリシクロ［４．４．０．１^２，５］ウンデカ−３，７−ジエン若しくはトリシクロ［４．４．０．１^２，５］ウンデカ−３，８−ジエン又はこれらの部分水素添加物（又はシクロペンタジエンとシクロヘキセンの付加物）であるトリシクロ［４．４．０．１^２，５］ウンデカ−３−エン；５−シクロペンチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−シクロヘキシル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−シクロヘキセニルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−フェニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンといった３環の環状オレフィン；

テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン（単にテトラシクロドデセンともいう）、８−メチルテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン、８−エチルテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン、８−メチリデンテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン、８−エチリデンテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン、８−ビニルテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン、８−プロペニル−テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エンといった４環の環状オレフィン；

８−シクロペンチル−テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン、８−シクロヘキシル−テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン、８−シクロヘキセニル−テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン、８−フェニル−シクロペンチル−テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン；テトラシクロ［７．４．１^３，６．０^１，９．０^２，７］テトラデカ−４，９，１１，１３−テトラエン（１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレンともいう）、テトラシクロ［８．４．１^４，７．０^１，１０．０^３，８］ペンタデカ−５，１０，１２，１４−テトラエン（１，４−メタノ−１，４，４ａ，５，１０，１０ａ−へキサヒドロアントラセンともいう）；ペンタシクロ［６．６．１．１^３，６．０^２，７．０^９，１４］−４−ヘキサデセン、ペンタシクロ［６．５．１．１^３，６．０^２，７．０^９，１３］−４−ペンタデセン、ペンタシクロ［７．４．０．０^２，７．１^３，６．１^{１０，１３}］−４−ペンタデセン；ヘプタシクロ［８．７．０．１^２，９．１^４，７．１^{１１，１７}．０^３，８．０^{１２，１６}］−５−エイコセン、ヘプタシクロ［８．７．０．１^２，９．０^３，８．１^４，７．０^{１２，１７}．１^{１３,ｌ６}］−１４−エイコセン；シクロペンタジエンの４量体などの多環の環状オレフィンが挙げられる。これらの環状オレフィンは、それぞれ単独であるいは２種以上組み合わせて用いることができる。

環状オレフィンと共重合可能なα−オレフィンの具体例としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−へキセン、３−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、３−エチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−へキセン、４，４−ジメチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、４−エチル−１−へキセン、３−エチル−１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンなどの炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜８のエチレン又はα−オレフィンなどが挙げられる。これらのα−オレフィンは、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。これらのα−オレフィンは、環状ポリオレフィンに対して、５〜２００％の範囲で含有されたものを使用することができる。

環状オレフィン又は環状オレフィンとα−オレフィンとの重合方法及び得られた重合体の水素添加方法に、格別な制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。

環状オレフィン系樹脂として、本実施の形態では、エチレンとノルボルネンの付加共重合体が好ましく用いられる。

環状オレフィン系樹脂の構造には、特に制限はなく、鎖状でも、分岐状でも、架橋状でもよいが、好ましくは直鎖状である。

環状オレフィン系樹脂の分子量は、ＧＰＣ法による数平均分子量が５０００〜３０万、好ましくは１万〜１５万、さらに好ましくは１．５万〜１０万である。数平均分子量が低すぎると機械的強度が低下し、大きすぎると成形性が悪くなる。

また、環状オレフィン系樹脂には、前述の環状オレフィン系樹脂（１）〜（３）に極性基（例えば、カルボキシル基、酸無水物基、エポキシ基、アミド基、エステル基、ヒドロキシル基など）を有する不飽和化合物（ｕ）をグラフト及び／又は共重合したもの（４）を含めることができる。上記環状オレフィン系樹脂（１）〜（４）は、二種以上混合使用してもよい。

上記不飽和化合物（ｕ）としては、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸アルキル（炭素数１〜１０）エステル、マレイン酸アルキル（炭素数１〜１０）エステル、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル等が挙げられる。

極性基を有する不飽和化合物（ｕ）をグラフト及び／又は共重合した変性環状オレフィン系樹脂（４）を用いることにより金属や極性樹脂との親和性を高めることができるので、蒸着、スパッタ、コーティング、接着等、各種二次加工の強度を高めることができ、二次加工が必要な場合に好適である。しかし、極性基の存在は環状オレフィン系樹脂の吸水率を高めてしまう欠点がある。そのため極性基（例えば、カルボキシル基、酸無水物基、エポキシ基、アミド基、エステル基、ヒドロキシル基など）の含有量は、環状オレフィン系樹脂１ｋｇ当り０〜１ｍｏｌ／ｋｇであることが好ましい。

［スチレン系エラストマー］
スチレン系エラストマーは、０℃〜１００℃における貯蔵弾性率が１００ＭＰａ未満である。すなわち、スチレン系エラストマーの０℃〜１００℃における貯蔵弾性率の最大値が１００ＭＰａ未満である。また、より好ましい貯蔵弾性率は、２０ＭＰａ以下である。０℃〜１００℃における貯蔵弾性率が大きい場合、フィルムの面内リタデーションが大きくなってしまう。

高分子の複屈折は、２種類の要因が絡んでいる。１つ目は、分子鎖が高度に配向することで発現する配向屈折である。配向屈折は、配向の度合いと高分子主鎖が持っている固有の値で決まる。２つ目は、応力による複屈折であり、外部より力を加えるとその歪をうけて複屈折が変化する。

スチレン系エラストマーは、外力が働いていな状態ではエネルギーの低い縮こまった糸鞠状の形態となるが、伸長やせん断などの外力が加わると、それによって分子鎖が引き伸ばされ一方向に配向するようになる。そして、主鎖とそれを横切る方向とで光学特性（屈折率）が異なり、分子鎖が高度に配向した製品はいわゆる複屈折現象を呈するようになる。

本実施の形態では、０℃〜１００℃におけるスチレン系エラストマーの貯蔵弾性率が１００ＭＰａ未満であるため、溶融時の流動性が高く、残留応力を小さくすることができ、また、分子鎖の配向度を小さく抑えることが可能である。それに加えて、スチレン部分のマイナスの屈折率とエチレン部分のプラスの屈折率を内在することで、固有屈折率を小さくできるものと考えられる。

スチレン系エラストマーの分子量は、ＧＰＣ法による数平均分子量が５０００〜３０万、好ましくは１万〜１５万、さらに好ましくは２万〜１０万である。数平均分子量が低すぎると機械的強度が低下し、大きすぎると成形性が悪くなる。

スチレン系エラストマーは、スチレンとブタジエンもしくはイソプレン等の共役ジエンの共重合体、及び／又は、その水素添加物である。スチレン系エラストマーは、スチレンをハードセグメント、共役ジエンをソフトセグメントとしたブロック共重合体である。ソフトセグメントの構造が、スチレン系エラストマーの貯蔵弾性率を変化させ、ハードセグメントであるスチレンの含有率が、屈折率を変化させ、フィルム全体のヘイズを変化させる。スチレン系エラストマーは、加硫工程が不用であり、好適に用いられる。また、水素添加をしたものの方が、熱安定性が高く、さらに好適である。

スチレン系エラストマーの例としては、スチレン／ブタジエン／スチレンブロック共重合体、スチレン／イソプレン／スチレンブロック共重合体、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンブロック共重合体、スチレン／エチレン／プロピレン／スチレンブロック共重合体、スチレン／ブタジエンブロック共重合体などが挙げられる。

また、水素添加により共役ジエン成分の二重結合をなくした、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンブロック共重合体、スチレン／エチレン／プロピレン／スチレンブロック共重合体、スチレン／ブタジエンブロック共重合体（水素添加されたスチレン系エラストマーともいう。）などを用いてもよい。

スチレン系エラストマーの構造には、特に制限はなく、鎖状でも、分岐状でも、架橋状でもよいが、貯蔵弾性率を小さくするため、好ましくは直鎖状である。

本実施の形態では、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンブロック共重合体、スチレン／エチレン／プロピレン／スチレンブロック共重合体、水素添加スチレン／ブタジエンブロック共重合体からなる群より選ばれる１種以上のスチレン系エラストマーが好適に用いられる。特に、水素添加スチレン／ブタジエンブロック共重合体は、高い引裂き強度と、環境保存後のヘイズ上昇が小さいため、さらに好適に用いられる。水素添加スチレン／ブタジエンブロック共重合体のスチレンに対するブタジエンの比率は、環状オレフィン系樹脂との相溶性を損なわないために、１０〜９０％の範囲であることが好ましい。

また、スチレン系エラストマーのスチレン含有率は、２０〜４０ｍｏｌ％であることが好ましい。スチレン含有率を２０〜４０ｍｏｌ％とすることにより、ヘイズを小さくすることができる。

環状オレフィン系樹脂組成物には、環状オレフィン系樹脂、及びスチレン系エラストマーの他に、その特性を損なわない範囲で、必要に応じて各種配合剤が添加されていてもよい。各種配合剤としては、熱可塑性樹脂材料で通常用いられているものであれば格別な制限はなく、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、可塑剤、滑剤、帯電防止剤、難燃剤、染料や顔料などの着色剤、近赤外線吸収剤、蛍光増白剤などの配合剤、充填剤等が挙げられる。

このような構成からなる環状オレフィン系樹脂組成物フィルムによれば、引裂き強度を６０Ｎ／ｍｍ以上、好ましくは１００Ｎ／ｍｍ以上、さらに好ましくは１２０Ｎ／ｍｍ以上とすることができる。また、ヘイズを１５％以下、好ましくは２％以下とすることができる。引裂き強度が上記範囲より小さすぎると、製造時や使用時にフィルムの破壊が起きやすく不適である。また、ヘイズが高すぎると、使用上、初期設定の特性から逸脱し、本来目的の特性を満足しない。

＜２．環状オレフィン系樹脂組成物フィルムの製造方法＞
本実施の形態に係る環状オレフィン系樹脂組成物フィルムの製造方法は、環状オレフィン系樹脂と、０℃〜１００℃における貯蔵弾性率が１００ＭＰａ未満であるスチレン系エラストマーとを溶融し、溶融された環状オレフィン系樹脂組成物を押出法により、フィルム状に押し出し、スチレン系エラストマーが、環状オレフィン系樹脂に分散されてなる環状オレフィン系樹脂組成物フィルムを得る。環状オレフィン系樹脂組成物フィルムは、無延伸のものでも、一軸延伸のものでも、二軸延伸のものでもよい。

図２は、フィルム製造装置の一構成例を示す模式図である。このフィルム製造装置は、ダイ２１と、ロール２２とを備える。ダイ２１は、溶融成形用のダイであり、溶融状態の樹脂材料２３をフィルム状に押し出す。樹脂材料２３は、例えば前述の環状オレフィン系樹脂組成物を含む。ロール２２は、ダイ２１からフィルム状に押し出された樹脂材料２３を搬送する役割をもつ。また、ロール２２は、その内部に媒体の流路を有し、それぞれ個別の温調装置により任意の温度に表面を調整可能である。また、ロール２２の表面の材質は、特に限定されるものではなく、金属ゴム、樹脂、エラストマーなどを用いることができる。

本実施の形態では、樹脂材料２３として、前述の環状オレフィン系樹脂と、スチレン系エラストマーとを含有する環状オレフィン系樹脂組成物を用い、２１０℃〜３００℃の範囲の温度で溶融混合する。溶融温度が高いほど短軸分散径が小さくなる傾向にある。

＜３．電子機器への適用例＞
本実施の形態に係る環状オレフィン系樹脂組成物フィルムは、各種光学用途、例えば位相差フィルム、偏光板保護フィルム、光拡散板等、特にプリズムシート、液晶セル基板への用途に用いることができる。以下では、環状オレフィン系樹脂組成物フィルムを位相差フィルムとして用いた適用例について説明する。

図３Ａ及び図３Ｂは、透明導電性フィルムの一例を示す断面図である。この透明導電性フィルム（透明導電性素子）は、前述の環状オレフィン系樹脂組成物フィルムをベースフィルム（基材）として構成される。具体的には、この透明導電性フィルムは、ベースフィルム（基材）としての位相差フィルム３１と、位相差フィルム３１の少なくとも一方の表面に透明導電層３３とを備える。図３Ａは、位相差フィルム３１の一方の表面に透明導電層３３を設けた例であり、図３Ｂは、位相差フィルム３１の両方の表面に透明導電層３３を設けた例である。また、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、位相差フィルム３１と透明導電層３３との間にハードコート層３２をさらに備えるようにしてもよい。

透明導電層３３の材料としては、例えば、電気的導電性を有する金属酸化物材料、金属材料、炭素材料、及び導電性ポリマーなどからなる群より選ばれる１種以上を用いることができる。金属酸化物材料としては、例えば、インジウム鈴酸化物（ＩＴＯ）酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、ガリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などが挙げられる。金属材料としては、例えば、金属ナノ粒子、金属ナノワイヤーなどの金属ナノフィラーを用いることができる。これらの具体的材料としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンタル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛などの金属又はこれらの合金などが挙げられる。炭素材料としては、例えば、カーボンブラック、炭素繊維、フラーレン、グラフェン、カーボンナノチューブ、カーボンマイクロコイル、ナノホーンなどが挙げられる。導電性ポリマーとしては、例えば、置換又は無置換のポリアニリン、ポリビロール、ポリチオフィン、及びこれらから選ばれる１種又は２種からなる（共）重合体などを用いることができる。

透明導電層３３の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法や、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを用いることができる。透明導電層３３は、所定の電極パターンを有する透明電極であってもよい。電極パターンとしては、ストライプ状などが挙げられるが、これに限定されるものではない。

ハードコート層３２の材料としては、光又は電子線などにより硬化する電離放射線硬化樹脂、又は熱により硬化する熱硬化型樹脂を用いることが好ましく、紫外線により硬化する感光性樹脂が最も好ましい。このような感光性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。例えば、ウレタンアクリレート樹脂は、ポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、あるいはプレポリマーを藩王させ、得られた生成物に、水酸基を有するアクリレート又はメタアクリレート系のモノマーを反応させることによって得られる。ハードコート層３２の厚みは、１μｍ〜２０μｍであることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。

また、透明導電性フィルムは、図３Ｃ及び図３Ｄに示すように、上述の位相差フィルムの少なくとも一方の表面に反射防止層としてのモスアイ（蛾の目）形状の構造体３４を設けるようにしてもよい。図３Ｃは、位相差フィルム３１の一方の表面にモスアイ形状の構造体３４を設けた例であり、図３Ｄは、位相差フィルムの両方の表面にモスアイ形状の構造体を設けた例である。なお、位相差フィルム１１の表面に設けられる反射防止層は、上述のモスアイ形状の構造体に限定されるものではなく、低屈折率層などの従来公知の反射防止層を用いることも可能である。

図４は、タッチパネルの一構成例を示す概略断面図である。このタッチパネル（入力装置）４０は、いわゆる抵抗膜方式タッチパネルである。抵抗膜方式タッチパネルとしては、アナログ抵抗膜方式タッチパネル、又はデジタル抵抗膜方式タッチパネルのいずれであってもよい。

タッチパネル４０は、第１の透明導電性フィルム４１と、第１の透明導電性フィルム４１と対向する第２の透明導電性フィルム４２とを備える。第１の透明導電性フィルム４１と第２の透明導電性フィルム４２は、それらの周縁部間において貼り合わせ部４５を介して貼り合わされている。貼り合わせ部４５としては、例えば、粘着ペースト、粘着テープなどが用いられる。このタッチパネル４０は、例えば表示装置４４に対して貼り合わせ層４３を介して貼り合わされる。貼り合わせ層４３の材料としては、例えば、アクリル系、ゴム系、シリコン系などの粘着剤を用いることができ、透明性の観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。

タッチパネル４０は、第１の透明導電性フィルム４１のタッチ側となる面に対して、貼り合わせ層５０などを介して貼り合わされた偏光子４８をさらに備える。第１の透明導電性フィルム４１及び／又は第２の透明導電性フィルム４２としては、前述の透明導電性フィルムを用いることができる。但し、ベースフィルム（基材）としての位相差フィルムは、λ／４に設定される。このように偏光子４８と位相差フィルム３１とを採用することにより、反射率を低減し、視認性を向上させることができる。

タッチパネル４０は、第１の透明導電性フィルム４１及び第２の透明導電性フィルム４２の対向する表面、すなわち透明導電層３３の表面にモスアイ構造体３４を設けることが好ましい。これにより、第１の透明導電性フィルム４１及び第２の透明導電性フィルム４２の光学特性（例えば反射特性や透過特性など）を向上させることができる。

タッチパネル４０は、第１の透明導電性フィルム４１のタッチ側となる面に単層又は多層の反射防止層をさらに備えることが好ましい。これにより、反射率を低減し、視認性を向上させることができる。

タッチパネル４０は、耐擦傷性の向上の観点から、第１の透明導電性フィルム４１のタッチ側となる面にハードコート層をさらに備えることが好ましい。このハードコート層の表面には、防汚性が付与されていることが好ましい。

タッチパネル４０は、第１の透明導電性フィルム４１のタッチ側となる面に対して、貼り合わせ層５１を介して貼り合わされたフロントパネル（表面部材）４９をさらに備えることが好ましい。また、タッチパネル４０は、第２の透明導電性フィルム４２の表示装置４４に貼り合わされる面に、貼り合わせ層４７を介して貼り合わされたガラス基板４６をさらに備えることが好ましい。

タッチパネル４０は、第２の透明導電性フィルム４２の表示装置４４などと貼り合わされる面に、複数の構造体をさらに備えることが好ましい。複数の構造体のアンカー効果により、タッチパネル４０と貼り合わせ層４３との間の接着性を向上することができる。この構造体としては、モスアイ形状の構造体が好ましい。これにより、界面反射を抑制することができる。

表示装置４４としては、例えば、液晶ディスプレイ、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence：ＥＬ）ディスプレイ、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（Surface-conduction Electron-emitter Display：ＳＥＤ）などの各種表示装置を用いることができる。

次に、前述した入力装置４０を備える電子機器について説明する。図５は、電子機器としてテレビ装置の例を示す外観図である。テレビ装置１００は、表示部１０１を備え、その表示部１０１にタッチパネル４０を備える。

図６Ａ及び図６Ｂは、電子機器としてデジタルカメラの例を示す外観図である。図６Ａは、デジタルカメラを表側から見た外観図であり、図６Ｂは、デジタルカメラを裏側から見た外観図である。デジタルカメラ１１０は、フラッシュ用の発光部１１１、表示部１１２、メニュースイッチ１１３、シャッターボタン１１４などを備え、その表示部１１２に前述のタッチパネル４０を備える。

図７は、電子機器としてノート型パーソナルコンピュータの例を示す外観図である。ノート型パーソナルコンピュータ１２０は、本体部１２１に、文字を入力するキーボード１２２、画像を表示する表示部１２３などを備え、その表示部１２３に前述のタッチパネル４０を備える。

図８は、電子機器としてビデオカメラの例を示す外観図である。ビデオカメラ１３０は、本体部１３１、前方を向いた側面に被写体撮影用のレンズ１３２、撮影時のスタート／ストップスイッチ１３３、表示部１３４などを備え、その表示部１３４に前述のタッチパネル４０を備える。

図９は、電子機器として携帯電話の一例を示す外観図である。携帯電話１４０は、いわゆるスマートフォンであり、その表示部１４１に前述のタッチパネル４０を備える。

図１０は、電子機器としてタブレット型コンピュータの一例を示す外観図である。タブレット型コンピュータ１５０は、その表示部１５１に前述のタッチパネル４０を備える。

以上のような各電子機器であっても、表示部に、面内リタデーションが小さく、靱性に優れた環状オレフィン系樹脂組成物フィルムが使用されているため、高耐久で高画質な表示が可能になる。

＜４．実施例＞
以下、本発明の実施例について詳細に説明する。本実施例では、環状オレフィン系樹脂に所定の貯蔵弾性率を有するスチレン系エラストマーを添加した環状オレフィン系樹脂組成物フィルムを作成し、面内リタデーション、引き裂き強度、及びヘイズを評価した。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

スチレン系エラストマーの貯蔵弾性率、及びスチレン含有率、並びに、環状オレフィン系樹脂組成物フィルムの面内リタデーション、引裂き強度、及びヘイズは、次のように測定した。

［貯蔵弾性率］
８ｍｍ×２０ｍｍ、厚み０．２〜０．３ｍｍの試験片を用い、ＪＩＳＫ７３４４−４に従い、粘弾性測定装置（ＤＭＳ６１００、エスアイアイナノテクノロジー社製）を使用し、貯蔵弾性率Ｇ’を測定した。試験雰囲気はＮ_２、試験開始温度は−７０℃〜２００℃、測定周波数は１Ｈｚとした。そして、０℃〜１００℃における最大値を貯蔵弾性率とした。

［スチレン含有率］
ＮＭＲ（核磁気共鳴装置）を使用し、スチレン系エラストマーのスチレン含有率を測定した。

［面内リタデーション］
光学材料検査装置（ＲＥＴＳ−１００、大塚電子社製）を使用し、環状オレフィン系樹脂組成物フィルムの面内方向のリタデーションＲ_０を測定した。リタデーションＲ_０が１０ｎｍ未満のものを「○」と評価し、１０ｎｍ以上のものを「×」と評価した。

［引裂き強度（直角形引き裂き）］
厚み８０μｍのフィルムをＪＩＳＫ７１２８に従い測定した。試験片として３号形試験片を用い、引張試験機（ＡＧ−Ｘ、島津製作所（株）製）を用いて試験速度２００ｍｍ／分で測定し、ＭＤ方向及びＴＤ方向の平均値を引裂き強度とした。引裂き強度が６０Ｎ／ｍｍ以上のものを「○」と評価し、６０Ｎ／ｍｍ未満のものを「×」と評価した。引き裂き強度が、６０Ｎ／ｍｍ以上あれば、コーティング工程などの後工程での破断の恐れが低下する点で、実用上の使用が可能である。

［ヘイズ］
厚み８０μｍのフィルムについて、ヘイズメーター（ＨＭ１５０、（株）村上色彩技術研究所製）を使用し、ヘイズを測定した。

［環状オレフィン系樹脂、及びスチレン系エラストマー］
環状オレフィン系樹脂としては、ＴＯＰＡＳ６０１３−Ｓ０４（ポリプラスチック（株）製、化学名：エチレンとノルボルネンの付加共重合体）を使用した。

また、スチレン系エラストマーとしては、表１に示す９種類を使用した。タフテックＨ１０４１（旭化成ケミカルズ（株）製）、タフテックＨ１０５２Ｘ（旭化成ケミカルズ（株）製）、タフテックＨ１０５３（旭化成ケミカルズ（株）製）、タフテックＨ１０６２（旭化成ケミカルズ（株）製）、及びタフテックＨ１５１７（旭化成ケミカルズ（株）製）は、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンブロック共重合体である。また、Ｓ．Ｏ．ＥＬ６０９（旭化成ケミカルズ（株）製）、及びＳ．Ｏ．ＥＬ６０６（旭化成ケミカルズ（株）製）は、水添スチレン／ブタジエンブロック共重合体である。また、セプトン２１０４（（株）クラレ製）、及びセプトン８１０４（（株）クラレ製）は、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンブロック共重合体である。

［実施例１］
スチレン系エラストマーとして、タフテックＨ１０５２Ｘを用いた。表２に示すように、このスチレン系エラストマーの貯蔵弾性率は１０ＭＰａであり、スチレン含有率は１２ｍｏｌ％であった。

環状オレフィン系樹脂を９０質量部、及びスチレン系エラストマーを１０質量部配合し、これを先端にＴダイを取り付けた二軸押出機（仕様：直径２５ｍｍ、長さ：２６Ｄ、Ｔダイ幅：１６０ｍｍ）を用いて２１０℃〜３００℃の温度範囲の所定温度で混練した後、環状オレフィン系樹脂組成物を、２５０ｇ／ｍｉｎの速さで押し出し、厚さが８０μｍのフィルムをロールに巻きとった。

表２に示すように、フィルムのリタデーションＲ_０は２．４ｎｍで○の評価であった。また、引裂き強度は８５Ｎ／ｍｍで○の評価であった。また、ヘイズは１３．８％であった。

［実施例２］
スチレン系エラストマーとして、タフテックＨ１０６２を用いた以外は、実施例１と同様にしてフィルムを作製した。

表２に示すように、スチレン系エラストマーの貯蔵弾性率は２０ＭＰａであり、スチレン含有率は１１ｍｏｌ％であった。また、フィルムのリタデーションＲ_０は４．０ｎｍで○の評価であった。また、引裂き強度は７０Ｎ／ｍｍで○の評価であった。また、ヘイズは１１．３％であった。

［実施例３］
スチレン系エラストマーとして、タフテックＨ１０４１を用いた以外は、実施例１と同様にしてフィルムを作製した。

表２に示すように、スチレン系エラストマーの貯蔵弾性率は９０ＭＰａであり、スチレン含有率は２０ｍｏｌ％であった。また、フィルムのリタデーションＲ_０は７．７ｎｍで○の評価であった。また、引裂き強度は８２Ｎ／ｍｍで○の評価であった。また、ヘイズは１．５％であった。

［実施例４］
スチレン系エラストマーとして、Ｓ．Ｏ．ＥＬ６０９を用いた以外は、実施例１と同様にしてフィルムを作製した。

表２に示すように、スチレン系エラストマーの貯蔵弾性率は６ＭＰａであり、スチレン含有率は４０ｍｏｌ％であった。また、フィルムのリタデーションＲ_０は１．０ｎｍで○の評価であった。また、引裂き強度は９０Ｎ／ｍｍで○の評価であった。また、ヘイズは１．２％であった。

［実施例５］
スチレン系エラストマーとして、Ｓ．Ｏ．ＥＬ６０６を用いた以外は、実施例１と同様にしてフィルムを作製した。

表２に示すように、スチレン系エラストマーの貯蔵弾性率は７ＭＰａであり、スチレン含有率は３６ｍｏｌ％であった。また、フィルムのリタデーションＲ_０は０．５ｎｍで○の評価であった。また、引裂き強度は１０２Ｎ／ｍｍで○の評価であった。また、ヘイズは０．７％であった。

［比較例１］
スチレン系エラストマーとして、タフテックＨ１０５３を用いた以外は、実施例１と同様にしてフィルムを作製した。

表２に示すように、スチレン系エラストマーの貯蔵弾性率は１００ＭＰａであり、スチレン含有率は１８ｍｏｌ％であった。また、フィルムのリタデーションＲ_０は１１．３ｎｍで×の評価であった。また、引裂き強度は７０Ｎ／ｍｍで○の評価であった。また、ヘイズは８．８％であった。

［比較例２］
スチレン系エラストマーとして、タフテックＨ１５１７を用いた以外は、実施例１と同様にしてフィルムを作製した。

表２に示すように、スチレン系エラストマーの貯蔵弾性率は３００ＭＰａであり、スチレン含有率は２９ｍｏｌ％であった。また、フィルムのリタデーションＲ_０は１５．３ｎｍで×の評価であった。また、引裂き強度は６２Ｎ／ｍｍで○の評価であった。また、ヘイズは１．４％であった。

［比較例３］
スチレン系エラストマーとして、セプトン８１０４を用いた以外は、実施例１と同様にしてフィルムを作製した。

表２に示すように、スチレン系エラストマーの貯蔵弾性率は８００ＭＰａであり、スチレン含有率は４４ｍｏｌ％であった。また、フィルムのリタデーションＲ_０は１４．６ｎｍで×の評価であった。また、引裂き強度は７５Ｎ／ｍｍで○の評価であった。また、ヘイズは２．０％であった。

［比較例４］
スチレン系エラストマーとして、セプトン２１０４を用いた以外は、実施例１と同様にしてフィルムを作製した。

表２に示すように、スチレン系エラストマーの貯蔵弾性率は８５０ＭＰａであり、スチレン含有率は５０ｍｏｌ％であった。また、フィルムのリタデーションＲ_０は１５．３ｎｍで×の評価であった。また、引裂き強度は７０Ｎ／ｍｍで○の評価であった。また、ヘイズは３．２％であった。

［比較例５］
スチレン系エラストマーを配合しなかった以外は、実施例１と同様にしてフィルムを作製した。

表２に示すように、フィルムのリタデーションＲ_０は０．４ｎｍで○の評価であった。また、引裂き強度は５５Ｎ／ｍｍで×の評価であった。また、ヘイズは０．２％であった。

スチレン系エラストマーの貯蔵弾性率が１００ＭＰａ以上である比較例１〜４は、リタデーションＲ_０の値が１０ｎｍ以上と高く、×の評価あった。また、スチレン系エラストマーが添加されていない比較例５は、引裂き強度が低く、×の評価であった。

一方、スチレン系エラストマーの貯蔵弾性率が１００ＭＰａ未満である実施例１〜５は、リタデーションＲ_０の値が１０ｎｍ未満で良好であった。また、貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下である実施例１，２，４，５は、リタデーションＲ_０の値が５ｎｍ未満で特に良好であった。

また、スチレン系エラストマーのスチレン含有率が２０〜４０ｍｏｌ％である実施例３〜５は、２％以下のヘイズを得ることができた。また、スチレン系エラストマーとして水素添加スチレン／ブタジエンブロック共重合体を添加した実施例４及び実施例５は、９０Ｎ／ｍｍ以上の引裂き強度を得ることができた。

１１環状オレフィン系樹、１２スチレン系エラストマー、２１ダイ、２２ロール、２３樹脂材料、３１位相差フィルム、３２ハードコート層、３３透明導電層、３４モスアイ形状の構造体、４０タッチパネル、４１第１の透明導電性フィルム、４２第２の透明導電性フィルム、４３貼り合わせ層、４４表示装置、４５貼り合わせ部、４６ガラス基板、４７貼り合わせ層、４８偏光子、４９フロントパネル、５０貼り合わせ層、５１貼り合わせ層、１００テレビ装置、１０１表示部、１１０デジタルカメラ、１１１発光部、１１２表示部、１１３メニュースイッチ、１１４シャッターボタン、１２０ノート型パーソナルコンピュータ、１２１本体部、１２２キーボード、１２３表示部、１３０ビデオカメラ、１３１本体部、１３２レンズ、１３３スタート／ストップスイッチ、１３４表示部、１４０携帯電話、１４１表示部、１５０タブレット型コンピュータ、１５１表示部

Claims

ノルボルネンとエチレンとの付加共重合体と、
０℃〜１００℃における貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、スチレン含有率が２０〜４０ｍｏｌ％であるスチレン系エラストマーと
を含有する環状オレフィン系樹脂組成物フィルム。
前記スチレン系エラストマーが、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンブロック共重合体、スチレン／エチレン／プロピレン／スチレンブロック共重合体、水素添加スチレン／ブタジエンブロック共重合体からなる群より選ばれる１種以上である請求項１記載の環状オレフィン系樹脂組成物フィルム。
前記スチレン系エラストマーが、前記付加共重合体に５〜３５ｗｔ％分散されてなる請求項１又は２記載の環状オレフィン系樹脂組成物フィルム。
前記請求項１乃至３のいずれか１項に記載の環状オレフィン系樹脂組成物フィルムを基材として備える透明導電性素子。
前記請求項１乃至３のいずれか１項に記載の環状オレフィン系樹脂組成物フィルムを備える入力装置。
前記請求項１乃至３のいずれか１項に記載の環状オレフィン系樹脂組成物フィルムを備える表示装置。
前記請求項１乃至３のいずれか１項に記載の環状オレフィン系樹脂組成物フィルムを備える電子機器。
ノルボルネンとエチレンとの付加共重合体と、０℃〜１００℃における貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、スチレン含有率が２０〜４０ｍｏｌ％であるスチレン系エラストマーとを溶融し、
前記溶融された環状オレフィン系樹脂組成物を押出法により、フィルム状に押し出し、前記スチレン系エラストマーが、前記環状オレフィン系樹脂に分散されてなる環状オレフィン系樹脂組成物フィルムを得る環状オレフィン系樹脂組成物フィルムの製造方法。