JP6286847B2 - ガスバリア性フィルム及びその製造方法 - Google Patents
ガスバリア性フィルム及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6286847B2 JP6286847B2 JP2013063587A JP2013063587A JP6286847B2 JP 6286847 B2 JP6286847 B2 JP 6286847B2 JP 2013063587 A JP2013063587 A JP 2013063587A JP 2013063587 A JP2013063587 A JP 2013063587A JP 6286847 B2 JP6286847 B2 JP 6286847B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic layer
- gas barrier
- ionizing radiation
- radiation curable
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Description
本発明に係るガスバリア性フィルム10の製造方法は、図1〜図3に示すガスバリア性フィルムを製造するための方法であって、基材1上に、電離放射線硬化性樹脂と耐紫外線劣化剤とを含有する電離放射線硬化性樹脂組成物を塗布する工程(塗布工程)と、塗布された前記電離放射線硬化性樹脂組成物に電子線を照射して有機層2を形成する工程(有機層形成工程)と、その有機層2上に無機層3を形成する工程(無機層形成工程)とを有する。そして、前記電離放射線硬化性樹脂として、17℃以上のガラス転移温度を示す高分子化合物の含有割合が50質量%以上の硬化物を形成する樹脂を用いる。
塗布工程は、電離放射線硬化性樹脂と耐紫外線劣化剤とを含有する電離放射線硬化性樹脂組成物を基材1上に塗布する工程である。
基材1は、有機層2を形成できるフィルムであれば特に限定されないが、実使用の見地からは、ポリエステル系樹脂、オレフィン系樹脂、及びセルロース系樹脂等からなる基材1を挙げることができる。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、これらの共重合体、及びポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート(PCT)等を挙げることができる。ポリエステル系樹脂のうちでも、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、及びこれらの共重合体が好ましく、ポリエチレンナフタレート及びポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。オレフィン系樹脂としては、ノルボルネン系ポリマー、シクロペンテン系ポリマー、シクロブテン系ポリマー等を挙げることができ、中でも、ノルボルネン系ポリマーを好ましく挙げることができる。
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性樹脂と、耐紫外線劣化剤とを含有する。電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線を照射することにより架橋して硬化する樹脂のことであり、電離放射線硬化性樹脂を硬化して形成された有機層2は、高い密度で架橋し、良好なガスバリア性を示すことができる。なお、電離放射線は、電子線、紫外線、可視光線、X線、γ線等の電磁波、α線等の荷電粒子線である。
耐紫外線劣化剤は、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれ、形成された有機層2中にも含まれる。耐紫外線劣化剤は、形成された有機層2に紫外線等が照射して光酸化劣化が生じるのを抑制するように作用する。耐紫外線劣化剤としては、例えば、紫外線吸収剤と光安定剤の一方又は両方が用いられる。
電離放射線硬化性組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲内で、必要に応じて他の添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、例えば、熱安定剤、消泡剤、レベリング剤、可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、酸化防止剤、赤外線吸収剤、色素(着色染料、着色顔料)、体質顔料、光拡散剤、カップリング剤等が挙げられる。
電離放射線硬化性樹脂組成物を基材1上に塗布する方法としては、例えば、ロールコート法、グラビアロールコート法、キスロールコート法、リバースロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法、スピンコート法、及びダイコート法等を挙げることができる。
有機層形成工程は、基材1上に塗布した電離放射線硬化性樹脂組成物に電子線を照射して電離放射線硬化性樹脂を硬化させ、有機層2を形成する工程である。電離放射線硬化性樹脂を電子線照射により硬化することで、有機層2がより密に架橋する。そのため、得られた有機層2は、良好なガスバリア性を示すと共に、耐熱性と耐紫外線劣化性の点でも好ましい。電子線源としては、コッククロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器を用いることができる。電子線の加速電圧は、通常100keV以上1000keV以下であり、好ましくは、100keV以上300keV以下である。電子線の照射量は、通常1Mrad以上30Mrad以下である。
無機層形成工程は、有機層2上に無機層3を乾式成膜により成膜する工程である。無機層3は、水蒸気や酸素等のガスを遮断するガスバリア層として機能する。
ガスバリア性フィルム10が機能層を有する場合には、それらの機能層の形成工程が任意に含まれる。機能層は、無機層3上や、有機層2と無機層3の間に用途に応じて適宜設けてもよい。機能層としては、例えば、プライマー層、マット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、及び被印刷層等が挙げられる。例えば、基材1と有機層2との間にプライマー層4が設けられる場合は、基材1上にプライマー層形成用塗布液を上記した塗布方法で塗布し、その後、硬化させることでプライマー層4を形成する。この場合、上記した塗布工程では、電離放射線硬化性樹脂組成物はプライマー層4上に塗布する。
一例として、プライマー層4について説明する。プライマー層4は、図3に示すように、ガスバリア性フィルム10に必須の構成ではないが、基材1と有機層2との間に設けられ、耐紫外線劣化剤を含有させて、ガスバリア性フィルム10の耐紫外線劣化性を向上させるためや、基材1と有機層2との密着性を向上させるために好ましく設けられる。プライマー層4を構成する樹脂としては、上記した目的を達成できるものであれば特に限定されない。中でも、有機層2との密着性との観点から、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂であることが好ましい。こうした樹脂としては、上記した有機層2の形成材料として使用される各種モノマー、オリゴマー及びプレポリマーを挙げることができ、さらに、こうしたモノマー、オリゴマー及びプレポリマーが重合したポリマーを挙げることができる。中でも、有機層2との密着性と耐紫外線劣化性の点で、ウレタンアクリレート系樹脂を好ましく挙げることができる。こうしたウレタンアクリレート系樹脂としては、例えば、ポリカーボネート系ウレタン−アクリル共重合体樹脂を挙げることができる。
本発明に係るガスバリア性フィルム10は、上記した製造方法によって得ることができ、図1〜図3に示すように、基材1と、基材1上に形成された有機層2と、有機層2上に形成された無機層3とを有し、その有機層2が、ガラス転移温度が17℃以上の高分子化合物の含有割合が50質量%以上の硬化物と、該硬化物中に含まれる耐紫外線劣化剤とを有する。これらの各構成と効果は、既に説明したのでここでは省略する。
本発明に係る装置は、上記本発明に係るガスバリア性フィルム10を備える表示装置又は発電装置である。この装置は、良好な耐紫外線劣化性を示し、特に屋外に使用される場合の紫外線の影響を低減できる。
基材1として、厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名:コスモシャイン A4100、東洋紡績株式会社製)の片面に、下記の組成に調製したプライマー層形成用組成物をダイコートにて塗布量4g/m2で塗布し、60℃で30秒間保持することにより硬化させて厚さ4μmのプライマー層4を形成した。次いで、そのプライマー層4の上に下記の組成に調製した電離放射線硬化性樹脂組成物Aをダイコートにて塗布量3g/m2で塗布し、70℃で1分間乾燥させた後、165keV及び5Mrad(50kGy)の条件で電子線を照射して電離放射線硬化性樹脂組成物Aを硬化させて、厚さ3μmの有機層2を形成した。
・ポリカーボネート系ウレタン−アクリル共重合体樹脂(ポリカーボネート系ウレタンウレタンとアクリルとの質量比 70:30)24質量部
・ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤(商品名:チヌビン400、BASFジャパン株式会社製)3質量部
・ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤(商品名:チヌビン479、BASFジャパン株式会社製)4質量部
・ヒンダードアミン系光安定剤(商品名:チヌビン123、BASFジャパン株式会社製) 2質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネート(硬化剤)6質量部
・ウレタンアクリレート(商品名:UV7000B、日本合成化学工業株式会社製)100質量部
・ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤(商品名:チヌビン400、BASFジャパン株式会社製)3質量部
・反応性ヒンダードアミン系光安定剤(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート、商品名:サノールLS−3410、日本乳化剤株式会社製)3質量部
無機層3をプラズマ化学気相成長法(プラズマCVD法)で形成したこと以外は、実施例1と同様にして実施例2のガスバリア性フィルムを得た。なお、プラズマ化学気相成長法での無機層3の形成は、プラズマCVD装置にヘキサメチルジシロキサン(信越化学工業株式会社製)をアルゴンガス(ガス流量50sccm)とともに導入し、100mTorrの真空圧力、高周波出力100Wのプラズマ条件下で5分間成膜を行い、実施例1と同じ厚さ80nmの酸化珪素層を形成した。
電離放射線硬化性樹脂組成物Aに含まれるウレタンアクリレートの種類を、ウレタンアクリレート(商品名:UV7510B、日本合成化学工業株式会社製)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして実施例3のガスバリア性フィルムを得た。
電離放射線硬化性樹脂組成物Aに含まれるウレタンアクリレートの種類を、ウレタンアクリレート(商品名:UV7600B、日本合成化学工業株式会社製)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして実施例4のガスバリア性フィルムを得た。
電離放射線硬化性樹脂組成物Aに含まれるウレタンアクリレートの種類を、ウレタンアクリレート(商品名:UV7630B、日本合成化学工業株式会社製)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして実施例5のガスバリア性フィルムを得た。
電離放射線硬化性樹脂組成物Aに含まれるウレタンアクリレートの種類を、ウレタンアクリレート(商品名:EBECRYL284、ダイセル・サイテック株式会社製)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして実施例6のガスバリア性フィルムを得た。
電離放射線硬化性樹脂組成物Aに含まれるウレタンアクリレートの種類を、ウレタンアクリレート(商品名:EBECRYL285、ダイセル・サイテック株式会社製)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして実施例7のガスバリア性フィルムを得た。
電離放射線硬化性樹脂組成物Aに含まれるウレタンアクリレートの種類を、ウレタンアクリレート(商品名:EBECRYL8701、ダイセル・サイテック株式会社製)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして実施例8のガスバリア性フィルムを得た。
下記の組成に調製した電離放射線硬化性樹脂組成物Bを用いたこと以外は、実施例1と同様にして実施例9のガスバリア性フィルムを得た。電離放射線硬化性樹脂組成物Bは、電離放射線硬化性樹脂組成物Aに含まれるウレタンアクリレートの種類と組成が変更されているが、それ以外は、電離放射線硬化性樹脂組成物Aと同様のものである。
・ウレタンアクリレート(商品名:UA−306H、共栄社化学株式会社製)70質量部
・アクリル樹脂(商品名:3EG−A、共栄社化学株式会社製)30質量部
・反応性ヒンダードアミン系光安定剤(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート、商品名:サノールLS−3410、日本乳化剤株式会社製)3質量部
下記の組成に調製した電離放射線硬化性樹脂組成物Cを用いたこと以外は、実施例1と同様にして実施例9のガスバリア性フィルムを得た。電離放射線硬化性樹脂組成物Cは、電離放射線硬化性樹脂組成物Bに含まれるウレタンアクリレートとアクリル樹脂の配合量が変更されているが、それ以外は、電離放射線硬化性樹脂組成物Bと同様のものである。
・ウレタンアクリレート(商品名:UA−306H、共栄社化学株式会社製)60質量部
・アクリル樹脂(商品名:3EG−A、共栄社化学株式会社製)40質量部
・反応性ヒンダードアミン系光安定剤(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート、商品名:サノールLS−3410、日本乳化剤株式会社製)3質量部
下記の組成に調製した電離放射線硬化性樹脂組成物Dを用いたこと以外は、実施例1と同様にして実施例11のガスバリア性フィルムを得た。電離放射線硬化性樹脂組成物Dは、電離放射線化性樹脂組成物Aに含まれるウレタンアクリレートの種類と組成が変更されているが、それ以外は、電離放射線硬化性樹脂組成物Aと同様のものである。
・ウレタンアクリレート(商品名:UA−306H、共栄社化学株式会社製)70質量部
・アクリル樹脂(商品名:40EM、共栄社化学株式会社製)30質量部
・反応性ヒンダードアミン系光安定剤(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート、商品名:サノールLS−3410、日本乳化剤株式会社製)3質量部
プライマー層を設けないこと以外は、実施例1と同様にして実施例12のガスバリア性フィルムを得た。
電離放射線硬化性樹脂組成物Aに含まれるウレタンアクリレートの種類を、ウレタンアクリレート(商品名:UV3000B、日本合成化学工業株式会社製)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして比較例1のガスバリア性フィルムを得た。
下記の組成に調製した紫外線硬化用の電離放射線硬化性樹脂組成物Eを用い、波長250nm〜400nmの範囲の紫外線を積算光量300mJ/cm2で照射して、電離放射線硬化性樹脂組成物Eを硬化させて有機層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして比較例2のガスバリア性フィルムを得た。電離放射線硬化性樹脂組成物Eは、電離放射線硬化性樹脂組成物Aに含まれるウレタンアクリレートの種類を変更し、紫外線吸収剤を配合せず、光重合開始剤を配合したものである。なお、それ以外は、電離放射線硬化性樹脂組成物Aと同様のものである。
・ウレタンアクリレート(商品名:UV7600B、日本合成化学工業株式会社製)100質量部
・反応性ヒンダードアミン系光安定剤(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート、商品名:サノールLS−3410、日本乳化剤株式会社製)3質量部
・1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名:イルガキュア184):5質量部
電離放射線硬化性樹脂組成物Aに含まれるウレタンアクリレートを、アクリル樹脂(商品名:EBECRYL150、ダイセル・サイテック株式会社製)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして比較例3のガスバリア性フィルムを得た。
電離放射線硬化性樹脂組成物Aに含まれるウレタンアクリレートを、アクリル樹脂(商品名:AMP20GY、新中村化学工業株式会社製)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして比較例4のガスバリア性フィルムを得た。
下記の組成に調製した電離放射線硬化性樹脂組成物Fを用いたこと以外は、実施例1と同様にして比較例5のガスバリア性フィルムを得た。電離放射線硬化性樹脂組成物Fは、電離放射線硬化性樹脂組成物Bに含まれるウレタンアクリレートとアクリル樹脂の配合量が変更されているが、それ以外は、電離放射線硬化性樹脂組成物Bと同様のものである。
・ウレタンアクリレート(商品名:UA−306H、共栄社化学株式会社製)40質量部
・アクリル樹脂(商品名:3EG−A、共栄社化学株式会社製)60質量部
・反応性ヒンダードアミン系光安定剤(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート、商品名:サノールLS−3410、日本乳化剤株式会社製)3質量部
実施例1〜12及び比較例1〜5のガスバリア性フィルムについて、(ア)有機層を構成する高分子化合物のガラス転移温度の測定、(イ)製造直後(初期)の外観観察、(ウ)耐紫外線劣化性試験後の外観観察、(エ)製造直後の水蒸気透過率の測定を行った。
(B)散水処理(シャワー)を30秒間行う、
(C)温度:63℃、湿度:98%RHの雰囲気下で4時間保持する(紫外線の照射は無し)。
2,2’ 有機層
3,3’ 無機層
4 プライマー層
10,10A,10B,10C ガスバリア性フィルム
S1 基材の片面
S2 基材の他の面
Claims (4)
- 基材上に、電離放射線硬化性樹脂とトリアジン系紫外線吸収剤及びヒンダードアミン系光安定剤とを含有する電離放射線硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、塗布された前記電離放射線硬化性樹脂組成物に電子線を照射して有機層を形成する工程と、前記有機層上に無機層を形成する工程とを有し、
前記有機層は、17℃以上のガラス転移温度を示す高分子化合物が全体の50質量%以上を占め、
前記17℃以上のガラス転移温度を示す高分子化合物が、ウレタンアクリレートであることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。 - 前記基材と前記有機層との間に、前記紫外線吸収剤及びヒンダードアミン系光安定剤と同じ又は異なる紫外線吸収剤及びヒンダードアミン系光安定剤を含有するプライマー層が設けられている、請求項1に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
- 基材と、該基材上に形成された有機層と、該有機層上に形成された無機層とを有し、前記有機層が、ガラス転移温度が17℃以上の高分子化合物の含有割合が50質量%以上の硬化物と、該硬化物中に含まれるトリアジン系紫外線吸収剤及びヒンダードアミン系光安定剤とを有し、
前記17℃以上のガラス転移温度を示す高分子化合物が、ウレタンアクリレートであることを特徴とするガスバリア性フィルム。 - 請求項3に記載のガスバリア性フィルムを備える表示装置又は発電装置であることを特徴とする装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013063587A JP6286847B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-03-26 | ガスバリア性フィルム及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012141171 | 2012-06-22 | ||
JP2012141171 | 2012-06-22 | ||
JP2013063587A JP6286847B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-03-26 | ガスバリア性フィルム及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014024321A JP2014024321A (ja) | 2014-02-06 |
JP6286847B2 true JP6286847B2 (ja) | 2018-03-07 |
Family
ID=50198429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013063587A Expired - Fee Related JP6286847B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-03-26 | ガスバリア性フィルム及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6286847B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6260412B2 (ja) * | 2014-04-01 | 2018-01-17 | 三菱ケミカル株式会社 | ガスバリア性フィルム |
JP2015231680A (ja) * | 2014-06-09 | 2015-12-24 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム |
JP6424553B2 (ja) * | 2014-10-03 | 2018-11-21 | 凸版印刷株式会社 | ガスバリア性フィルム |
KR20170137824A (ko) * | 2015-04-15 | 2017-12-13 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 투명 가스 배리어 적층 필름 및 그것을 사용한 전자 페이퍼 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4717497B2 (ja) * | 2005-04-20 | 2011-07-06 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルム |
JP5215891B2 (ja) * | 2008-01-31 | 2013-06-19 | 三菱樹脂株式会社 | 耐候性に優れたガスバリア性フィルム |
JP5326341B2 (ja) * | 2008-04-28 | 2013-10-30 | 凸版印刷株式会社 | ガスバリア性積層フィルム |
JP5381017B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2014-01-08 | 凸版印刷株式会社 | 積層体 |
JP5659327B2 (ja) * | 2009-04-08 | 2015-01-28 | サンノプコ株式会社 | 放射線硬化型コーティング組成物 |
JP5422787B2 (ja) * | 2009-11-13 | 2014-02-19 | 名阪真空工業株式会社 | 積層フィルム及び成形体の製造方法 |
JP5549448B2 (ja) * | 2010-07-20 | 2014-07-16 | コニカミノルタ株式会社 | バリア性フィルム、バリア性フィルムの製造方法及び有機電子デバイス |
-
2013
- 2013-03-26 JP JP2013063587A patent/JP6286847B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014024321A (ja) | 2014-02-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8470445B2 (en) | Resin laminate, method for production thereof, and transfer film for use in the production of resin laminate | |
KR102070632B1 (ko) | 배리어 필름의 제조 방법 | |
US20150367602A1 (en) | Gas barrier film laminate, production method therefor, and electronic device | |
JP6286847B2 (ja) | ガスバリア性フィルム及びその製造方法 | |
WO2009096390A1 (ja) | 耐候性に優れたガスバリア性フィルム | |
JP2011071387A (ja) | 太陽電池モジュール用裏面保護シート、及び太陽電池モジュール | |
JP4536417B2 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
EP2982506A1 (en) | Laminate, method for producing same, member for electronic device, and electronic device | |
WO2014148389A1 (ja) | ガスバリア性フィルム及びその製造方法 | |
JP2017177647A (ja) | 転写用ハードコートフィルム、基材フィルム付ハードコート層積層体、及びハードコート層積層体の製造方法 | |
JP5958201B2 (ja) | 透明賦形フィルムの製造方法 | |
JP6733465B2 (ja) | 転写用ハードコートフィルム及びハードコート積層体 | |
JP6119113B2 (ja) | ガスバリア性フィルム及びその製造方法 | |
JP5870834B2 (ja) | ガスバリア性フィルムの製造方法 | |
JP5543818B2 (ja) | ガスバリア性フィルム、ガスバリア層、装置及びガスバリア性フィルムの製造方法 | |
JP7069497B2 (ja) | ガスバリア性フィルム、及び封止体 | |
JP5927943B2 (ja) | ガスバリア性フィルム及びその製造方法並びにガスバリア性フィルムを用いた装置 | |
JP6186804B2 (ja) | 太陽電池モジュール用裏面保護シート | |
JP6428864B2 (ja) | 透明フィルム及びその製造方法 | |
KR102346652B1 (ko) | 태양광 배리어필름, 및 이를 포함하는 전기화학소자 | |
JP6582833B2 (ja) | 転写用ハードコートフィルム及びその製造方法、ハードコート層積層体 | |
JP6171275B2 (ja) | 透明フィルム及びその製造方法 | |
JP2004143202A (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物、それを用いた硬化皮膜の形成方法およびその硬化物、ならびに反射防止体 | |
JP4401592B2 (ja) | 高分子樹脂積層体及びそれからなる自動車用窓材 | |
JP5757170B2 (ja) | ガスバリア性フィルムの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161117 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170303 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170516 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170712 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180109 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6286847 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |