JP5659327B2 - 放射線硬化型コーティング組成物 - Google Patents

Description

本発明は放射線硬化型コーティング組成物に関する。

従来、指紋の拭き取り性に優れた硬化塗膜を得ることができるものとして、フッ素系界面活性剤含んでなる放射線硬化型樹脂組成物が知られている（特許文献１）。

特開２００７−２６２２８６号公報

しかし、従来の放射線硬化型樹脂組成物を用いた硬化塗膜では、硬化体表面へのリコート性が著しく悪く、硬化塗膜上への印刷や多重コーティングができないという問題点がある。すなわち、本発明の目的は、指紋の拭き取り性及びリコート性に優れた硬化塗膜を得ることができる放射線硬化型コーティング組成物を提供することである。

本発明の指紋付着防汚性コーティング層形成用放射線硬化型コーティング組成物の特徴は、
放射線硬化型樹脂（Ａ）と、一般式（１）で表される脂肪酸エステル化合物（Ｂ）とを含み、放射線硬化型樹脂（Ａ）が（メタ）アクリレート（Ａ１）及び／又は（メタ）アクリロイル基含有オリゴマー（Ａ２）を含み、脂肪酸エステル化合物（Ｂ）の親水親油バランス（ＨＬＢ）が９〜１１である点を要旨とする。
｛Ｒ−｝ｍＱ （１）

Ｑは二糖類の１級水酸基からｍ個の水素原子を除いた残基、Ｒは炭素原子数４〜３０の脂肪酸のカルボキシル基からＯＨを除いた残基を表し、ｍ個のＲは同じでも異なっていてもよく、ｍは１〜３の整数である。

本発明の放射線硬化型コーティング組成物を用いると、指紋拭き取り性及びリコート性に優れた硬化塗膜を容易に得ることができる。したがって、本発明の放射線硬化型コーティング組成物は、携帯電話やタッチパネル等に用いられる傷つき防止用コーティング剤として好適である。

＜放射線硬化型樹脂＞
放射線硬化型樹脂（Ａ）としては、放射線｛電子線、紫外線、可視光線及び赤外線等｝の照射を受けた際に、硬化反応を開始する樹脂であれば制限がなく、公知の樹脂｛たとえば、特開２００５−１５４６０９号公報に記載された（メタ）アクリレートや（メタ）アクリロイル基含有オリゴマー、及び特開２００４−１４９７５８号公報に記載のエポキシ樹脂等｝等が使用できる。

放射線硬化型樹脂（Ａ）としては、（メタ）アクリレート（Ａ１）及び／又は（メタ）アクリロイル基含有オリゴマー（Ａ２）を含むことが好ましい。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレート及び／又はメタクリレートを意味し、(メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基及び／又はメタクリロイル基を意味する。

（メタ）アクリレート（Ａ１）のうち、（メタ）アクリロイル基を分子中に１〜８個含有する（メタ）アクリレートが好ましく、さらに好ましくは（メタ）アクリロイル基を分子中に２〜６個含有する（メタ）アクリレート、特に好ましくはペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート及びビスフェノールＡエチレンオキシド２〜４モル付加物のジ（メタ）アクリレートである。

（メタ）アクリロイル基含有オリゴマー（Ａ２）のうち、イソシアナト基含有ウレタンプレポリマーとヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートとを反応させて製造され得るウレタンアクリレートオリゴマーが好ましく、さらに好ましくはイソシアナト基を２〜５個有するウレタンプレポリマーと（メタ）アクリロイル基を２〜５個有するヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートとの反応生成物、特に好ましくはイソシアナト基を２〜３個有する脂環式ウレタンプレポリマーと（メタ）アクリロイル基を２〜５個有するヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートとの反応生成物である。

（メタ）アクリロイル基含有オリゴマー（Ａ２）は公知の方法｛たとえば特開２００３−３４２５２５号公報及び特開２００６−０２８４９９号公報等｝等により調製できるが、市場から入手できるものをそのまま用いてもよい。

市場から入手できるオリゴマーとしては、アートレジンＵＮ−９０４、アートレジンＵＮ−９０３、アートレジンＨＭＰ−２、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ及びアートレジンＵＮ−３３２０ＨＣ｛以上、根上工業（株）製｝；ＮＫオリゴ Ｕ−１５ＨＡ及びＮＫオリゴ Ｕ−９ＨＡ｛以上、新中村化学（株）製｝；並びにＵＡ−３０６Ｉ及びＵＡ−３０６Ｈ｛以上、共栄社化学（株）製｝等が挙げられる。

なお、これらの（メタ）アクリレート（Ａ１）及び／又は（メタ）アクリロイル基含有オリゴマー（Ａ２）は単独で用いてもよいし、また２種類以上を併用してもよい。硬化膜の形成性の観点から、（メタ）アクリレート（Ａ１）と（メタ）アクリロイル基含有オリゴマー（Ａ２）を組みあわせて用いることが好ましい。

＜脂肪酸エステル化合物（Ｂ）＞
二糖類の１級水酸基からｍ個の水素原子を除いた残基（Ｑ）を構成することができる二糖類としては、蔗糖（スクロース）、トレハロース、イソトレハロース、イソスクロース、マルトース、ガラクトース及びラクトース等が含まれる。これらのうち、指紋拭き取り性の観点から、蔗糖、トレハロース、イソトレハロース及びイソスクロースが好ましく、さらに好ましくは蔗糖及びトレハロース、特に好ましくは蔗糖である。これらは単独で、または混合して用いてもよい。

炭素原子数４〜３０の脂肪酸のカルボキシル基からＯＨを除いた残基（Ｒ）を構成することができる脂肪酸としては、炭素原子数４〜３０の飽和脂肪酸及び炭素原子数４〜３０の不飽和脂肪酸が使用できる。飽和脂肪酸としては、直鎖飽和脂肪酸｛酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、セロチン酸及びメリシン酸等｝及び分岐飽和脂肪酸｛イソ酪酸、イソ吉草酸、ピバル酸及びイソステアリン酸等｝が使用できる。不飽和脂肪酸としては、直鎖不飽和脂肪酸｛アクリル酸、クロトン酸、ヘプテン酸、ミリストレイン酸、パルミトレイン酸、オレイン酸及びトリアコンテン酸等｝及び分岐不飽和脂肪酸｛メタクリル酸、イソミリストレイン酸及びイソオレイン｝が使用できる。

これらのうち、指紋拭き取り性の観点から、直鎖飽和脂肪酸及び直鎖不飽和脂肪酸が好ましく、さらに好ましくは炭素原子数１２〜２２の直鎖飽和脂肪酸及び炭素原子数１２〜２２の直鎖不飽和脂肪酸が好ましく、特に好ましくは炭素原子数１６〜１８の直鎖飽和脂肪酸及び炭素原子数１６〜１８の直鎖不飽和脂肪酸である。これらの脂肪酸は１種または２種以上の混合物のいずれでも良い。

脂肪酸エステル化合物（Ｂ）はｍが１、２及び３のものをそれぞれ単独で用いることも、それらの混合物して用いることも出来る。指紋拭き取り性の観点から、単独で用いる場合には、ｍは１又は２が好ましく、２が特に好ましく、ｍが１〜３の脂肪酸エステル化合物（Ｂ）の混合物として用いる場合は、ｍが１のモノエステル化合物の含有量が脂肪酸エステル化合物（Ｂ）の重量に基づいて３０〜８０重量％であることが好ましく、さらに好ましくは４０〜７０重量％、特に好ましくは５０〜５５重量％である。

脂肪酸エステル化合物（Ｂ）の親水親油バランス（ＨＬＢ）は５〜１６であることが好ましく、さらに好ましくは７〜１５、特に好ましくは９〜１１である。この範囲であると指紋拭き取り性が特に良好となり好ましい。なお、ｍが１、２又は３である脂肪酸エステル化合物（Ｂ）のＨＬＢは、それぞれ「親版界面活性剤ハンドブック」（工業図書株式会社、１９９１年刊）の第２３４頁に記載されたＧｒｉｆｆｉｎの方法により求めらる。すなわち、脂肪酸エステル化合物（Ｂ）の親水部分の分子量と全分子量とから算出される。ここで親水部分とは、脂肪酸エステル分子全体から、脂肪酸の炭化水素鎖を除いた部分を言う。ｍが１〜３の混合物である脂肪酸エステル化合物（Ｂ）のＨＬＢは一般式（２）で表される実験式に数値を当てはめることにより得ることが出来る。

ＨＬＢ＝０．０３１４×｛ｐ｝＋０．２１１×｛ｑ｝−１．２３９ （２）

ｐは脂肪酸の炭素原子数、ｑは脂肪酸エステル化合物（Ｂ）に基づくｍ＝１であるモノエステル化合物の含有量（重量％）である。

脂肪酸エステル化合物（Ｂ）は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の反応溶媒中で、アルカリ触媒の存在下、ショ糖と脂肪酸アルキルエステルとをエステル交換反応させる方法等の公知の方法で容易に調製できるが、リョートーシュガーエステルシリーズ（三菱化学フーズ（株）製、「リョートー」は三菱化学（株）の登録商標である。）及びＤＫエステルシリーズ（第一工業製薬（株）製、「ＤＫエステル」は第一工業製薬（株）の登録商標である。）等の市場から入手できるものをそのまま用いてもよい。

市場から入手できる脂肪酸エステル化合物（Ｂ）としては、ｍが１〜３のショ糖ステアリン酸エステルの混合物｛リョートーシュガーエステルＳ−０７０［ＨＬＢ＝１以下、モノエステル化合物の含有量＝０％］、Ｓ−２７０［ＨＬＢ＝２、モノエステル化合物の含有量＝１０％］、Ｓ−３７０［ＨＬＢ＝３、モノエステル化合物の含有量＝２０％］、Ｓ−５７０［ＨＬＢ＝５、モノエステ化合物の含有量＝３０％］、Ｓ−７７０［ＨＬＢ＝７、モノエステル化合物の含有量＝４０％］、Ｓ−９７０［ＨＬＢ＝９、モノエステル化合物の含有量＝５０％］、Ｓ−１１７０［ＨＬＢ＝１１、モノエステル化合物の含有量＝５５％］、Ｓ−１５７０［ＨＬＢ＝１５、モノエステル化合物の含有量＝７０％］、Ｓ−１６７０［ＨＬＢ＝１６、モノエステル化合物の含有量＝７５％］｝、ｍが１〜３のショ糖パルミチン酸エステルの混合物｛リョートーシュガーエステルＰ−１７０［ＨＬＢ＝１、モノエステル化合物の含有量＝１％］、Ｐ−１５７０［ＨＬＢ＝１５、モノエステル化合物の含有量＝７０％］、Ｐ−１６７０［ＨＬＢ＝１６、モノエステル化合物の含有量＝８０％］｝、ｍが１〜３のショ糖ミリスチン酸エステルの混合物｛リョートーシュガーエステルＭ−１６９５［ＨＬＢ＝１６、モノエステル化合物の含有量＝８０％］｝、ｍが１〜３のショ糖オレイン酸エステルの混合物｛Ｏ−１７０［ＨＬＢ＝１、モノエステル化合物の含有量＝１％］、Ｏ−１５７０［ＨＬＢ＝１５、モノエステル化合物の含有量＝７０％］｝、ｍが１〜３のショ糖ラウリン酸エステルの混合物｛Ｌ−１９５［ＨＬＢ＝１、モノエステル化合物の含有量＝１％］、Ｌ−５９５［ＨＬＢ＝５、モノエステル化合物の含有量＝８０％］、Ｌー１６９５［ＨＬＢ＝１５、モノエステル化合物の含有量＝８０％］｝、ｍが１〜３のショ糖ベヘニン酸エステルの混合物｛Ｂ−３７０［ＨＬＢ＝３、モノエステル化合物の含有量＝２０％］｝、ｍが１〜３のショ糖エルカ酸エステルの混合物｛ＥＲ−２９０［ＨＬＢ＝２、モノエステル化合物の含有量＝２％］｝等が好ましく例示できる。

脂肪酸エステル化合物（Ｂ）の含有量（重量％）は、放射線硬化型樹脂（Ａ）の重量に基づいて、０．０５〜１０であることが好ましく、さらに好ましくは０．５〜８、特に好ましくは２〜６である。この範囲であると、放射線硬化後のコーティング層としての性能（透明性、硬度、密着性及び耐硬化クラック性等）を悪化させることなく、指紋拭き取り性をさらに良好とすることができる。

本発明の放射線硬化型コーティング組成物には、光学特性や擦り傷防止を向上させる目的で、必要によりさらにフィラー（Ｃ）を含有することが好ましい。フィラー（Ｃ）としては、無機フィラー（Ｃ１）及び有機フィラー（Ｃ２）等が含まれる。

無機フィラー（Ｃ１）としては、シリカ、酸化チタン、タルク、クレー、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、硫酸バリウム、マイカ、珪藻土シリカ、水酸化アルミニウム、アルミナ、酸化ジルコニウム及び水酸化ジルコニウム等が挙げられる。

有機フィラー（Ｃ２）としては、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、メラミン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド及びポリビニルピロリドン等が挙げられる。

これらのフィラーは単独で用いてもよいし、また２種類以上を併用してもよい。これらのフィラー（Ｃ）のうち、無機フィラー（Ｃ１）が好ましく、さらに好ましくは酸化チタン及びシリカ、特に好ましくはシリカである。

フィラー（Ｃ）の体積平均粒子径（μｍ）としては、０．００１〜３０が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜２０、特に好ましくは０．１〜１０である。
なお、体積平均粒子径は、ＪＩＳ Ｚ８８２５−１−２００１「粒子径解析−レーザー回折法」に準拠した測定原理を有するレーザー回折式粒度分布測定装置（たとえば、（株）島津製作所製ＳＡＬＤ−１１００、堀場製作所（株）製ＬＡ−９２０等）で測定される。

フィラー（Ｃ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、放射線硬化型樹脂（Ａ）の重量に基づいて、１〜１００が好ましく、さらに好ましくは３〜５０、特に好ましくは５〜３０である。

本発明の放射線硬化型コーティング組成物には、指紋の拭き取り性をさらに向上させる目的で、さらにポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ）を含むことが好ましい。ポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ）としては、分岐型ポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ１）、末端変性型ポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ２）及びブロック型ポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ３）等が含まれる。

分岐型ポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ１）としては、ＳＨ３７４６［ＨＬＢ＝１０］、ＳＨ８４２８［ＨＬＢ＝０］、ＳＨ３７７１［ＨＬＢ＝１４］、ＢＹ１６−０３６［ＨＬＢ＝９］、ＢＹ１６−０２７［ＨＬＢ＝７］、ＳＨ８４００［ＨＬＢ＝８］、ＳＨ３７４９［ＨＬＢ＝７］、ＳＨ３７４８［ＨＬＢ＝５］、ＳＦ８４１０［ＨＬＢ＝６］、Ｌ−７７［ＨＬＢ＝１０］、Ｌ−７００１［ＨＬＢ＝７］、Ｌ−７００２［ＨＬＢ＝７］、Ｌ−７６０４［ＨＬＢ＝１３］、Ｙ−７００６［ＨＬＢ＝７］、ＦＺ−２１０１［ＨＬＢ＝９］、ＦＺ−２１０４［ＨＬＢ＝１４］、ＦＺ−２１０５［ＨＬＢ＝１１］、ＦＺ−２１１０［ＨＬＢ＝１］、ＦＺ−２１１８［ＨＬＢ＝１２］、ＦＺ−２１２０［ＨＬＢ＝６］、ＦＺ−２１２３［ＨＬＢ＝８］、ＦＺ−２１３０［ＨＬＢ＝７］、ＦＺ−２１６１［ＨＬＢ＝１８］、ＦＺ−２１６２［ＨＬＢ＝１５］、ＦＺ−２１６３［ＨＬＢ＝１３］、ＦＺ−２１６４［ＨＬＢ＝８］、ＦＺ−２１６６［ＨＬＢ＝５］及びＦＺ−２１９１［ＨＬＢ＝５］｛以上、東レダウコーニングシリコーン（株）製｝；ＫＦ−３５１［ＨＬＢ＝１２］、ＫＦ−３５２［ＨＬＢ＝７］、ＫＦ−３５３［ＨＬＢ＝１０］、ＫＦ−３５４Ｌ［ＨＬＢ＝１６］、ＫＦ−３５５Ａ［ＨＬＢ＝１２］、ＫＦ−６１５Ａ［ＨＬＢ＝１０］、ＫＦ−９４５［ＨＬＢ＝４］、ＫＦ−６１８［ＨＬＢ＝１１］、ＫＦ−６０１１［ＨＬＢ＝１２］及びＫＦ−６０１５［ＨＬＢ＝４］｛以上、信越化学工業（株）製｝；ＴＳＦ４４４０［ＨＬＢ＝１２］、ＴＳＦ４４４５［ＨＬＢ＝７］、ＴＳＦ４４４６［ＨＬＢ＝７］、ＴＳＦ４４５２［ＨＬＢ＝７］、ＴＳＦ４４５３［ＨＬＢ＝６］及びＴＳＦ４４６０［ＨＬＢ＝１］｛以上、東芝シリコーン（株）製｝；並びにＴＥＧＯＰＲＥＮ５０００シリーズ［ＨＬＢ＝３〜１５］｛以上、ＤＥＧＵＳＳＡ社製｝等が挙げられる。

末端変性型ポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ２）としては、Ｌ−７２０［ＨＬＢ＝７］及びＦＺ−２１２２［ＨＬＢ＝１］｛東レダウコーニングシリコーン（株）製｝等が挙げられる。
ブロック型ポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ３）としては、ＳＦ８４２７［ＨＬＢ＝１０］及びＢＹ１６−００４［ＨＬＢ＝０］｛以上、東レダウコーニングシリコーン（株）製｝；ＫＦ−６００４［ＨＬＢ＝５］｛以上、信越化学工業（株）製｝；ＦＺ−２２０３［ＨＬＢ＝１］、ＦＺ−２２０７［ＨＬＢ＝３］及びＦＺ−２２０８［ＨＬＢ＝７］｛以上、日本ユニカー（株）製｝；並びにＴＥＧＯＰＲＥＮ３０００シリーズ［ＨＬＢ＝１〜５］｛以上、ＤＥＧＵＳＳＡ社製｝等が挙げられる。

これらのポリオキシアルキレン変性シリコーンのうち、指紋の拭き取り性の観点等から、分岐型ポリエーテル変性シリコーン（Ｄ１）が好ましい。これらのポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ）は１種又は２種以上の混合物として用いることができるが、２種以上の混合物として用いる場合、分岐型ポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ１）を含むことが好ましい。

ポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ）の親水親油バランス（ＨＬＢ）は、２０以下であることが好ましく、さらに好ましくは１５以下、特に好ましくは１０以下、最も好ましくは５以下である。これらの範囲であると、指紋拭き取り性がさらに良好となり好ましい。

ポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、放射線硬化型樹脂（Ａ）の重量に基づいて、０．０１〜２が好ましく、さらに好ましくは０．０５〜１、特に好ましくは０．１〜０．５である。

本発明の放射線硬化型コーティング組成物には、さらに光重合開始剤（Ｅ）を含有させることが好ましい。光重合開始剤（Ｅ）としては、光ラジカル開始剤（Ｅ１）及び光カチオン開始剤（Ｅ２）等が含まれる。

光ラジカル開始剤（Ｅ１）としては、紫外線（波長２００〜４００ｎｍ程度）を受けることによりラジカルを発生する化合物であれば制限なく使用でき、ベンゾイル基含有ラジカル開始剤、モルフォニル基含有ラジカル開始剤、リン原子含有ラジカル開始剤及びイオウ原子含有ラジカル開始剤等が使用できる。

ベンゾイル基含有ラジカル開始剤としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン及びベンゾフェノン等が挙げられる。

モルフォニル基含有ラジカル開始剤としては、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン及び２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン等が挙げられる。

リン原子含有ラジカル開始剤としては、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド及び２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド等が挙げられる。

イオウ原子含有ラジカル開始剤としては、２，４−ジエチルチオキサントン及びイソプロピルチオキサントン等が挙げられる。

光カチオン開始剤（Ｅ２）としては、紫外線（波長２００〜４００ｎｍ程度）を受けることによりカチオンを発生する化合物であれば制限なく使用でき、ヘキサフルオロリン酸塩及びヘキサフルオロアンチモン塩等が使用できる。

ヘキサフルオロリン酸塩としては、トリフェニルスルホニウムホスフェート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロフォスフェート及び（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。

ヘキサフルオロアンチモン酸塩としては、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート及びジアリルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。

これらの光重合開始剤（Ｅ）は単独で用いてもよいし、また２種類以上を併用してもよい。これらの光重合開始剤（Ｅ）のうち、光ラジカル開始剤（Ｅ１）が好ましく、さらに好ましくはベンゾイル基含有ラジカル開始剤、モルフォニル基含有ラジカル開始剤及びリン原子含有ラジカル開始剤、特に好ましくはモルフォニル基含有ラジカル開始剤及びリン原子含有ラジカル開始剤である。

光重合開始剤（Ｅ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、放射線硬化型樹脂（Ａ）の重量に基づいて、１〜１５が好ましく、さらに好ましくは２〜１０、特に好ましくは３〜８である。この範囲であると放射線硬化型コーティング組成物の硬化性がさらに良好となる。

本発明の放射線硬化型コーティング組成物には、紫外線重合開始剤（Ｅ）と共に光増感剤（Ｆ）を併用してもよい。
光増感剤（Ｆ）としては、公知の光増感剤等が使用でき、アルキルアミノ光増感剤（Ｆ１）及びジアルキルアミノフェニル光増感剤（Ｆ２）等が含まれる。

アルキルアミノ光増感剤（Ｆ１）としては、モノアルキルアミン（ｎ−ブチルアミン及び２−エチルヘキシルアミン等）、ジアルキルアミン（ジｎ−ブチルアミン、ジエタノールアミン及びメチルデシルアミン等）、トリアルキルアミン（トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン及び２−ジメチルアミノエチル安息香酸等）が挙げられる。

ジアルキルアミノフェニル光増感剤（Ｆ２）としては、４，４'−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４'−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジメチルアミノ安息香酸エチル、ジメチルアミノ安息香酸２−（ｎ−ブトキシ）エチル及びジメチルアミノ安息香酸イソアシル等が挙げられる。

これらの他に、トリｎ−ブチルホスフィン等のりん化合物も使用できる。これらの光増感剤（Ｆ）のうち、トリアルキリアミン及びジアルキルアミノフェニル光増感剤（Ｆ２）が好ましく、さらに好ましくはジアルキルアミノフェニル増感剤、特に好ましくは４，４'−ジアルキルアミノベンゾフェノンである。

光増感剤（Ｆ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、光重合開始剤（Ｅ）の重量に基づいて、５〜１００が好ましく、さらに好ましくは１０〜８０、特に好ましくは２０〜５０である。この範囲であると、放射線硬化型コーティング組成物の硬化性がさらに良好となる。

本発明の放射線硬化型コーティング組成物には、耐候性を向上させる目的で、紫外線吸収剤（光安定剤を含む）（Ｇ）を含有することができる。
紫外線吸収剤（Ｇ）としては、ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤（Ｇ１）、ヒンダードアミン紫外線吸収剤（Ｇ２）、ベンゾフェノン紫外線吸収剤（Ｇ３）、サリチル酸紫外線吸収剤（Ｇ４）及びトリアジン紫外線吸収剤（Ｇ５）等が含まれる。

ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤（Ｇ１）としては、２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール及び２−（２'−ヒドロキシ−５'−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。

ヒンダードアミン紫外線吸収剤（Ｇ２）としては、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドリキシフェニル］メチル］ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート及びビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート等が挙げられる。

ベンゾフェノン紫外線吸収剤（Ｇ３）としては、２，４−ジヒドロベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン及び２，２'−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。

サリチル酸紫外線吸収剤（Ｇ４）としては、フェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート及びｐ−オクチルフェニルサリシレート等が挙げられる。

トリアジン紫外線吸収剤（Ｇ５）としては、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン及び２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシフェニル−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。

これらの紫外線吸収剤は単独で用いてもよいし、また２種類以上を併用してもよく、２種以上併用する場合、ヒンダードアミン紫外線吸収剤（Ｇ２）とトリアジン紫外線吸収剤（Ｇ５）との併用が好ましい。

これらの紫外線吸収剤（Ｇ）のうち、ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤（Ｇ１）、ヒンダードアミン紫外線吸収剤（Ｇ２）及びトリアジン紫外線吸収剤（Ｇ５）が好ましく、さらに好ましくはヒンダードアミン紫外線吸収剤（Ｇ２）及びトリアジン紫外線吸収剤（Ｇ５）である。

紫外線吸収剤（Ｇ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、放射線硬化型樹脂（Ａ）の重量に基づいて、０．１〜１０が好ましく、さらに好ましくは０．３〜８、特に好ましくは０．５〜５である。

本発明の放射線硬化型コーティング組成物には、塗工適性を向上させる目的で必要によりさらに溶剤（Ｈ）を含有することができる。溶剤（Ｈ）としては、アルコール（Ｈ１）、ケトン（Ｈ２）、エステル（Ｈ３）、エーテル（Ｈ４）、芳香族炭化水素（Ｈ５）、脂環式炭化水素（Ｈ６）及び脂肪族炭化水素（Ｈ７）等が含まれる。

アルコール（Ｈ１）としては、炭素原子数１〜１０のアルコール等が使用でき、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル及びプロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。

ケトン（Ｈ２）としては、炭素原子数３〜６のケトン等が使用でき、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン等が挙げられる。

エステル（Ｈ３）としては、炭素原子数４〜１０のエステル等が使用でき、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。

エーテル（Ｈ４）としては、炭素原子数４〜１０のエーテル等が使用でき、エチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル及び１，４−ジオキサン等が挙げられる。

芳香族炭化水素（Ｈ５）としては、炭素原子数６〜９の芳香族炭化水素等が使用でき、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン及びトリメチルベンゼン等が挙げられる。

脂環式炭化水素（Ｈ６）としては、炭素原子数５〜１０の脂環式炭化水素等が使用でき、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロペプタン、シクロオクタン、シクロノナン及びシクロデカン等が挙げられる。

脂肪族炭化水素（Ｈ７）としては、炭素原子数５〜１０の脂肪族炭化水素等が使用でき、ペンタン、ヘキサン、ペプタン、オクタン、ノナン及びデカン等が挙げられる。

以上の他に、石油エーテル及び石油ナフサ等も使用できる。これらの溶剤（Ｈ）のうち、アルコール（Ｈ１）、ケトン（Ｈ２）及びエーテル（Ｈ４）が好ましく、さらに好ましくはアルコール（Ｈ１）及びケトン（Ｈ２）、特に好ましくはアルコール（Ｈ１）である。

これらの溶剤は単独で用いてもよいし、また２種類以上を併用してもよい。併用する場合はアルコール（Ｈ１）とケトン（Ｈ２）との併用が好ましい。

溶剤（Ｈ）を含有する場合、この含有量（重量％）は放射線硬化型コーティング組成物の粘度等によって適宜決定されるが、本発明の放射線硬化型コーティング組成物｛溶剤（Ｈ）を含む。｝の重量に基づいて、２０〜９５が好ましく、さらに好ましくは４０〜９０、特に好ましくは５０〜８５である。

本発明の放射線硬化型コーティング組成物には、さらに添加剤（Ｓ）｛消泡剤、保存安定化剤、着色剤、抗菌剤、増粘剤及び／又は粘弾性調整剤等｝を添加し、これらの機能を付与することができる。消泡剤を添加する場合、この含有量（重量％）は、本発明の放射線硬化型コーティング組成物（消泡剤を含む。）の重量に基づいて、０．０５〜５が好ましく、さらに好ましくは０．１〜２、特に好ましくは０．５〜１である。保存安定化剤を添加する場合、この含有量（重量％）は、放射線硬化型樹脂（Ａ）の重量に基づいて、０．００５〜１が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜０．５、特に好ましくは０．０３〜０．１である。着色剤を添加する場合、この含有量（重量％）は、本発明の放射線硬化型コーティング組成物（着色剤を含む。）の重量に基づいて、０．０１〜５が好ましく、さらに好ましくは０．０３〜２、特に好ましくは０．０５〜１である。抗菌剤を添加する場合、この含有量（重量％）は、本発明の放射線硬化型コーティング組成物（抗菌剤を含む。）の重量に基づいて、０．１〜１５が好ましく、さらに好ましくは０．５〜１０、特に好ましくは１〜５である。増粘剤及び／又は粘弾性調整剤を添加する場合、これらの含有量は放射線硬化型コーティング組成物の粘度等によって適宜決定される。

本発明の放射線硬化型コーティング組成物は、放射線硬化型樹脂（Ａ）及びポリオキシアルキレン化合物（Ｂ）、並びに必要によりフィラー（Ｃ）、ポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、光増感剤（Ｆ）、紫外線吸収剤（Ｇ）、溶剤（Ｈ）及び／又は添加剤（Ｓ）を均一混合して得ることができる。均一混合は、均一に混合できれば制限なく通常の方法が適用できる。

撹拌混合温度（℃）としては均一撹拌混合できれば特に制限はないが、２５〜６０が好ましく、さらに好ましくは３０〜５０、特に好ましくは３５〜４５である。撹拌混合時間（時間）としては均一撹拌混合できれば特に制限はないが、０．５〜４が好ましく、さらに好ましくは０．７５〜３、特に好ましくは１〜２である。

本発明の放射線硬化型コーティング組成物は、公知の塗工方法によりコーティングでき、ディップ塗工、スプレー塗工、バーコーター塗工、ロールコーター塗工、メイヤーバー塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、リバースグラビア塗工及びスピンコーター塗工等によりコーティングされる。

本発明の放射線硬化型コーティング組成物をコーテイングする場合、コーティング層の厚さは、２〜１００μｍ程度が好ましい。なお、溶剤（Ｈ）を用いた場合は、乾燥後にこの厚さになることが好ましい。

以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれに限定されない。なお、特記しない限り、部は重量部、％は重量％を意味する。
＜脂肪酸エステル化合物の製造例１＞
加熱、攪拌、冷却、乾留装置つきの減圧可能なガラス製反応容器に、蔗糖｛商品名；スクロース、和光純薬工業（株）製、試薬１級｝３４２部（１モル部）、カプロン酸メチルエステル｛東京化成工業（株）製、試薬特級｝２３．４部（０．１８モル部）及びジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）｛東京化成工業（株）製、試薬特級｝１０００部を入れて２．６７ＫＰａの圧力としてから９０℃まで加熱し、ＤＭＳＯを沸騰させた。２０分間乾留させた後、ＤＭＳＯ蒸気の一部を留出させ、ＤＭＳＯの流出量が約１００部となったところで留出を中止した。この時点で反応容器に残った液の含水量は０．０５％であった。次いで反応容器に無水炭酸カリウム｛東京化成工業(株)、試薬特級｝１部を加え、２．６７ＫＰａの圧力としてから９０℃まで加熱してＤＭＳＯを環流させた。環流を３時間続けた後、反応容器内を常圧に戻した後、反応容器に乳酸の５０％水溶液｛商品名：ムサシ乳酸５０、(株)武蔵野化学研究所製｝２．２部を滴下して反応を停止させた。その後常圧を保ったまま７０℃まで冷却し、７０℃を維持したままゆるやかに撹拌しながらイソブタノール｛東京化成工業製、試薬１級｝１０００部をゆっくり加えた。その後、ゆるやかな撹拌を続けながら反応容器内を０℃まで冷却し、その撹拌と温度を３０分間を維持した。その後直ぐにろ過を行い、析出した未反応の蔗糖結晶を除去し、得られたろ液をエパポレーターと減圧乾燥機を用いて濃縮、乾燥し、脂肪酸エステル化合物（ｂ１１）を得た。

＜脂肪酸エステル化合物の製造例２＞
「カプロン酸メチルエステル｛東京化成工業（株）製、試薬特級｝２３．４部（０．１８モル部）」を「カプロン酸メチルエステル｛東京化成工業（株）製、試薬特級｝３２．５部（０．２５モル部）」に変更したこと以外、製造例１と同様にして、脂肪酸エステル化合物（ｂ１２）を得た。

製造例１及び２で得た脂肪酸エステル化合物について、以下の方法でモノエステル化合物の含有量を算出した。脂肪酸エステル化合物の含有量とその含有量から算出したＨＬＢを表１に記載した。
＜モノエステル化合物の含有量（重量％）＞
合成例で得た脂肪酸エステル化合物をテトラヒドロフランに１重量％の濃度で溶解してろ過によって不溶解分を除去した得た濾液を、分子量既知のポリエチレングリコールを標準物質として以下の条件でゲルパ−ミエ−ションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて分析した。分析によって得られたＧＰＣチャートのピーク面積を用いて一般式（３）から算出した値をモノエステル化合物の含有量として算出した。

モノエステル化合物の含有量＝（ｓ）÷（ｔ）×１００ （３）

ｓはモノエステル化合物のピーク面積、ｔはモノ、ジ及びトリエステル化合物の各ピーク面積の合計である。

装置：東ソ−（株）製（型式ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ）
カラム：東ソ−製型式ＳｕｐｅｒＨ−４０００×２本及び同型式ＳｕｐｅｒＨ−３０００×１本をそれぞれ直列に接続したカラム
検出器：示差屈折検出器
データ処理機：東ソー（株）製データ処理機（形式ＳＣ−８０２０）
カラム温度：４０℃
溶離液：ＴＨＦ（試薬１級、片山化学工業製）
流速：０．５ｍｌ／ｍｉｎ．
試料濃度：１重量％
試料溶液注入量＝１０μｌ

＜実施例１＞
攪拌羽及びモーター付ステンレス製配合槽に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ａ１）｛共栄社化学(株)製、ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ｝２０部、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（ａ２）｛共栄社化学（株）製、ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ｝５部及びウレタンアクリレートオリゴマー（ａ３）｛根上工業（株）製、ＵＮ−３３２０ＨＡ｝１３部を仕込み、４０℃で１時間攪拌混合して、放射線硬化型樹脂（ａａ１）を得た。

引き続き、同じ装置で、放射線硬化型樹脂（ａａ１）３８部、製造例１で調製した思慕酸エステル化合物（ｂ１１）０．０１部、光重合開始剤（ｅ２）｛チバスペシャルティケミカルズ（株）製イルガキュア１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）｝２部及び溶剤（Ｈ１）｛プロピレングリコールモノメチルエーテル｝６０部を、４０℃で１時間攪拌混合して、本発明の放射線硬化型コーティング組成物（１）を得た。

＜実施例２〜１５＞
「ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ａ１）２０部」、「トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（ａ２）５部」及び「ウレタンアクリレートオリゴマー（ａ３）１３部」を、表２に示した放射線硬化型樹脂の組成及び配合量に変更したこと以外、実施例１と同様にして、放射線硬化型樹脂（ａａ２）〜（ａａ１５）を得た。

引き続き、「放射線硬化型樹脂（ａａ１）３８部」、「脂肪酸エステル化合物（ｂ１１）０．０１部」、「光重合開始剤（ｅ２）２部」及び「溶剤（Ｈ１）６０部」を、表２に示した組成及び量に変更したこと以外、実施例１と同様にして、本発明の放射線硬化型コーティング組成物（２）〜（１５）を得た。

ａ１：共栄社化学(株)製ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ（ジペンタエリストールヘキサアクリレート）
ａ２：共栄社化学（株）製ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）
ａ３：根上工業（株）製ＵＮ−３３２０ＨＡ（ウレタンアクリレートオリゴマー）
ａ４：ダイセル化学工業（株）製セロキサイドＥＨＰＥＬ３１５０ＣＥ（脂環式エポキシ樹脂）、「セロキサイド」は同社の登録商標である。

ｂ１１：製造例１で調整した脂肪酸エステル化合物［ＨＬＢ＝１９、モノエステル化合物の含有量＝９０％］
ｂ１２：製造例２で調整した脂肪酸エステル化合物［ＨＬＢ＝１８、モノエステル化合物の含有量＝８０％］
ｂ１３：三菱化学フーズ(株)製リュートーシュガーエステルＬ−５９５（蔗糖ラウリン酸エステル化合物［ＨＬＢ＝５、モノエステル化合物の含有量＝８０％］）
ｂ１４：三菱化学フーズ(株)製リュートーシュガーエステルＳ−７７０（蔗糖ステアリン酸エステル化合物［ＨＬＢ＝７、モノエステル化合物の含有量＝４０％］）
ｂ１５：三菱化学フーズ(株)製リュートーシュガーエステルＳ−９７０（蔗糖ステアリン酸エステル化合物［ＨＬＢ＝９、モノエステル化合物の含有量＝５０％］）
ｂ１６：三菱化学フーズ(株)製リュートーシュガーエステルＳ−１１７０（蔗糖ステアリン酸エステル化合物［ＨＬＢ＝１１、モノエステル化合物の含有量＝５５％］）
ｂ１７：三菱化学フーズ(株)製リュートーシュガーエステルＰ−１５７０（蔗糖パルミチン酸エステル化合物［ＨＬＢ＝１５、モノエステル化合物の含有量＝７０％］）
ｂ１８：三菱化学フーズ(株)製リュートーシュガーエステルＥＲ−２９０（蔗糖エルカ酸エステル化合物［ＨＬＢ＝２、モノエステル化合物の含有量＝２％］）

ｃ１：アドマファイン社製ＳＯ−Ｃ３（体積平均粒子径１．０μｍのシリカ）
ｃ２：綜研化学（株）製ＭＲ−１０ＨＧ（体積平均粒子径１０μｍのアクリルフィラー）

ｄ１：東レダウコーニングシリコーン（株）製ＦＺ−２１１０（分岐型ポリエーテル変性シリコーン［ＨＬＢ＝１］）
ｄ２：東レダウコーニングシリコーン（株）製Ｌ−７２０（末端変性型ポリエーテル変性シリコーン［ＨＬＢ＝７］）

ｅ１：チバスペシャルティケミカルズ（株）製イルガキュア９０７（２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン）
ｅ２：チバスペシャルティケミカルズ（株）製イルガキュア１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）
ｅ３：サンアプロ（株）製ＣＰＩ−２００Ｋ（トリアリールスルフォニウム塩）

ｈ１：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ｈ２：メチルエチルケトン

＜比較例１〜１５＞
脂肪酸エステル化合物（Ｂ）を用いないこと以外、実施例１〜１６と同様にして、比較用の放射線硬化型コーティング組成物（Ｘ１）〜（Ｘ１５）を得た。

＜比較例１６＞
攪拌羽及びモーター付ステンレス製配合槽に、ペンタエリスリトールトリアクリレート｛共栄社化学(株)製、ライトアクリレートＰＥ−３Ａ｝４０部、シリカ｛日産化学（株）オルガノシリカゾルＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、体積平均粒子径５０ｎｍ、３０重量％のメチルエチルケトン分散液｝８８．７部、光重合開始剤（ｅ２）｛チバスペシャルティケミカルズ（株）製イルガキュア１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）｝３．３部、フッ素系界面活性剤｛パーフルオロオクチルエチルアクリレートとヘキサプロピレングリコールモノメタクリレートの共重合ポリマー（ポリスチレン換算重量平均分子量４００００）｝０．３３部を仕込み、４０℃で１時間攪拌混合して、比較用の放射線硬化型コーティング組成物（Ｘ１６）を得た。

実施例及び比較例で得た放射線硬化型コーティング組成物について、以下のようにして、指紋拭き取り性及びリコート性について評価し、これらの評価結果を表３に示した。
＜評価用試料の調整＞
易接着処理ポリエステルフィルム｛東洋紡（株）製、品番Ａ４１００、厚み１８８μｍ｝を３０ｃｍ（縦）×１５ｃｍ（横）角に切り出し、表面の保護フィルムを剥がし、塗工面をイソプロピルアルコールで拭き取り乾燥して被塗工フィルムを用意した。次いで、ＪＩＳ Ｋ５１０１−４（２００４）「顔料試験方法−第４部：隠蔽力−隠蔽率試験紙法−４（ｄ）バーコーター」と同等のバーコーター（Ｎｏ．６：ステンレス綱径０．１５ｍｍ）を用いて、放射線硬化型コーティング組成物を被塗工フィルムに、縦方向にバーコーターを移動させて塗工して塗装フィルムを得た。引き続き、塗工面が縦方向に垂直になるようにして塗工フィルムを吊るして、２２℃で１分間で放置し、さらに８０℃の乾燥機内で３分間放置した後、塗工面に紫外線（高圧水銀灯，５００ｍＪ／ｃｍ^２）を、塗工面に対して垂直に照射することによって放射線硬化型コーティング組成物を硬化して、評価用試料を調製した。

＜指紋拭き取り性＞
各評価用試料（各５枚）の塗工面に、無作為に５人の試験者の親指を押しつけて塗工面に指紋を付着させた後（１人／１枚）、付着した指紋を日本薬局タイプＩの脱脂綿を用い、（株）井元製作所製ラビングテスターで５００ｇ／ｃｍ^２の荷重をかけて拭き取り、指紋の跡が見えなくなるまでの拭き取り回数を測定し、合計値を拭き取り性として表３に示した（拭き取り回数の合計値が１５０以上の場合は×を表示した。）。

＜リコート性＞
ゼブラ（株）製ハイマッキー（油性マーカー、６ｍｍ巾、４色；黒、赤、青及び黄色）を用いて、評価用試料の塗工面に直線を５ｃｍの長さ、約１．５ｃｍ間隔で各色４本づつ引き、各４色の直線それぞれについて、次の基準に従い評価し、これらの合計点数をリコート性として表３に示した。リコート性の最大値は１６点であり、合計点数が少ないほどリコート性に優れる。リコート性が３点以下であると実用性において問題のないが、４点以上であると、実用性に乏しいと判断できる。

はじきがない場合、０点
１〜２ヶ所にはじきを確認できた場合、１点
３ヶ所以上にはじき又は線の端の一部欠けていた場合、２点
線の端が全て欠けていた場合、３点
線として残っていない場合、４点

本発明の放射線硬化型コーティング組成物（実施例１〜１５）は、比較例の放射線硬化型コーティング組成物に比較して、指紋拭き取り性に優れており、リコート性についても実用的に問題がなかった。

本発明の放射線硬化型コーティング組成物は、木材、石、ガラス、コンクリート、金属、プラスチック及び金属蒸着プラスチック等のコーティング剤又は接着剤等として使用することができる。さらに、３次元造形用放射線硬化型コーティング組成物として成型体にすることもできる。これらのうち、プラスチック及び金属蒸着プラスチック等のコーティング剤又は接着剤等として好適であり、特にプラスチックのコーティング剤として好適である。プラスチックのコーティング剤のうち、指紋の拭き取り性に優れたプラスチック成型体用コーティング剤として最適である。

プラスチックとしては、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、スチレン−メタクリル樹脂、トリアセチルセルロース、、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリサルホン及びポリアクリロニトリル等が挙げられる。これらのうち、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート及びスチレン−メタクリル樹脂等の透明性の高いプラスチックに好適である。

プラスッチック成型体としては、家電製品用成型体、車両用成型体及び建築材料用成型体等が含まれる。家電製品用成型体としては、テレビ、オーディオ又は携帯電話の外装材及び液晶等の保護板等が挙げられる。車両用成型体としては、ヘッドランプレンズ、ウインカーレンズ、サンルーフ、メーターカバー、バイクの風防及びヘルメットシールド等が挙げられる。建築材料用成型体としては、高速道路防音壁、間仕切り板及び採光窓等が挙げられる。これらの他に、額縁用プラスチック板、展示用パネル、光学レンズ、プラスチック容器及び装飾品等にも適用できる。

Claims (7)

1. 放射線硬化型樹脂（Ａ）と、一般式（１）で表される脂肪酸エステル化合物（Ｂ）とを含み、放射線硬化型樹脂（Ａ）が（メタ）アクリレート（Ａ１）及び／又は（メタ）アクリロイル基含有オリゴマー（Ａ２）を含み、脂肪酸エステル化合物（Ｂ）の親水親油バランス（ＨＬＢ）が９〜１１であることを特徴とする指紋付着防汚性コーティング層形成用放射線硬化型コーティング組成物。
   ｛Ｒ−｝ｍＱ （１）
   
   Ｑは二糖類の１級水酸基からｍ個の水素原子を除いた残基、Ｒは炭素原子数４〜３０の脂肪酸のカルボキシル基からＯＨを除いた残基を表し、ｍ個のＲは同じでも異なっていてもよく、ｍは１〜３の整数である。
2. 脂肪酸エステル化合物（Ｂ）の含有量が、放射線硬化型樹脂（Ａ）の重量に基づいて０．０５〜１０重量％である請求項１記載の放射線硬化型コーティング組成物。
3. （メタ）アクリレート（Ａ１）が、（メタ）アクリロイル基を分子中に１〜８個含有する（メタ）アクリレートを含む請求項１又は２に記載の放射線硬化型コーティング組成物。
4. さらにフィラー（Ｃ）を含み、フィラー（Ｃ）の含有量が放射線硬化型樹脂（Ａ）の重量に基づいて１〜１００重量％である請求項１〜３のいずれかに記載の放射線硬化型コーティング組成物。
5. さらにポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ）を含み、ポリオキシアルキレン変性シリコーン（Ｄ）の含有量が放射線硬化型樹脂（Ａ）の重量に基づいて０．０１〜２重量％である請求項１〜４のいずれかに記載の放射線硬化型コーティング組成物。
6. さらに光重合開始剤（Ｅ）を含み、光重合開始剤（Ｅ）の含有量が放射線硬化型樹脂（Ａ）の重量に基づいて１〜１５重量％である請求項１〜５のいずれかに記載の放射線硬化型コーティング組成物。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の放射線硬化型コーティング組成物をコーティングしてなるプラスチック成型体。