JP6248927B2

JP6248927B2 - 重合性基を４つ有する化合物、液晶組成物および液晶表示素子

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Publication number: JP6248927B2
Application number: JP2014512460A
Authority: JP
Inventors: 泰行後藤; 真依子松隈; 山下　淳一; 淳一山下
Original assignee: JNC Corp; JNC Petrochemical Corp
Current assignee: JNC Corp; JNC Petrochemical Corp
Priority date: 2012-04-24
Filing date: 2013-04-11
Publication date: 2017-12-20
Anticipated expiration: 2033-04-11
Also published as: EP2842974A4; US9617477B2; KR20150013473A; WO2013161576A1; TW201734185A; KR102079992B1; TW201348412A; EP2842974A1; JPWO2013161576A1; EP2842974B1; JP2018008994A; TWI619801B; EP3199558B1; US9157027B2; US20150344784A1; TWI646177B; CN104245757B; CN104245757A; EP3199558A1; US20130277609A1

Description

本発明は、光または熱により重合可能な基を４つ有する重合性化合物、および重合性化合物を含有する液晶組成物に関する。本発明はまた、この液晶組成物を基板間に封入し、基板に印加する電圧を調整しながら重合性化合物を重合して、液晶分子の配向を固定化する液晶表示素子に関する。

液晶表示素子は、液晶組成物中の液晶分子が有する光学異方性、誘電率異方性などを利用したものである。液晶分子の動作モードに基づいた分類は、ＰＣ（phase change）モード、ＴＮ（twisted nematic）モード、ＳＴＮ（super twisted nematic）モード、ＢＴＮ（bistable twisted nematic）モード、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）モード、ＯＣＢ（optically compensated bend）モード、ＩＰＳ（in-plane switching）モード、ＦＦＳ（fringe field switching）モード、ＶＡ（vertical alignment）モードなどである。

液晶組成物に重合体を組み合わせたモードの液晶表示素子が知られている。これが、例えばＰＳＡ（polymer sustained alignment）モードまたはＰＳ（polymer stabilized）モードである。このモードの液晶表示素子では、重合性化合物を添加した液晶組成物を表示素子に注入する。電極間に電圧を印加した状態で紫外線を照射して、重合性化合物を重合させることによって、液晶組成物の中に重合体を生成させる。この方法によって、応答時間が短縮され、画像の焼き付きが改善された液晶表示素子が得られる。

この方法は様々な動作モードの液晶表示素子に適用することができ、ＰＳ−ＴＮ、ＰＳ−ＩＰＳ、ＰＳ−ＦＦＳ、ＰＳＡ−ＶＡ、ＰＳＡ−ＯＣＢなどのモードが知られている。このようなモードの素子で使用される重合性化合物は、液晶分子を配向させる能力が高いと考えられるが、液晶組成物への溶解度が高いとはいえない。これまでに液晶組成物への溶解度を改善する試みがなされたが、溶解度が向上すると重合反応性が低下する傾向にある。従って、溶解度と重合反応性との間で適切なバランスとを有する重合性化合物の開発が望まれている。

特開２００１−２３３８３７号公報特開２００３−３２１４３０号公報特開２０１０−１８９２８２号公報特開２００３−３０７７２０号公報特開２００４−１３１７０４号公報特開２０１０−５３６８９４号公報特開２０１０−５３７２５６号公報

本発明の第一の課題は、適切な重合反応性、高い転化率および液晶組成物への良好な溶解度を有する重合性化合物を提供することである。第二の課題は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、大きな比抵抗、および適切なプレチルトのような物性を有する液晶組成物を提供することである。この課題は、少なくとも２つの物性に関して適切なバランスを有する液晶組成物を提供することである。第三の課題は、この組成物を含み、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、適切なプレチルトおよび長い寿命を有する液晶表示素子を提供することである。

本発明は、式（１）で表される化合物、この化合物を含有する液晶組成物、およびこの組成物を含む液晶表示素子に関する。

［式中、環Ａ^１、環Ａ^２、環Ａ^３、および環Ａ^４は独立して、フェニレンまたはシクロへキシレンであり、これらにおいて、少なくとも１つの水素は、炭素数１から１０のアルキル、フッ素、−ＣＦ_２Ｈ、または−ＣＦ_３で置き換えられてもよく；
Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４は独立して、単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−、または−ＣＯ−であり、Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３のいずれか１つが−ＣＯＯ−のとき、残りのＬ^１、Ｌ^２またはＬ^３は、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−、または−ＣＯ−であり；
ｓおよびｔは独立して０または１であり、ｓおよびｔの和は、０、１または２であり；
Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３、およびＰ^４は重合可能な基であり；
Ｌ^１が単結合であり、かつｓおよびｔが０であるときに、環Ａ^１の２位および環Ａ^４の２位において置き換えられたアルキル同士が結合して、環を形成してもよい。]

本発明の第一の長所は、適切な重合反応性、高い転化率および液晶組成物への良好な溶解度を有する重合性化合物を提供することである。第二の長所は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、大きな比抵抗、および適切なプレチルトのような物性を有する液晶組成物を提供することである。この長所は、少なくとも２つの物性に関して適切なバランスを有する液晶組成物を提供することである。第三の長所は、この組成物を含み、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、および長い寿命を有する液晶表示素子を提供することである。

この明細書における用語の使い方は次のとおりである。液晶性化合物は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物、および液晶相を有しないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。重合性化合物は、重合によって重合体を与える化合物である。液晶性化合物、重合性化合物、液晶組成物、液晶表示素子をそれぞれ化合物、化合物、組成物、素子と略すことがある。液晶表示素子は、液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。透明点は、液晶性化合物における液晶相−等方相の転移温度である。液晶相の下限温度は、液晶性化合物における固体−液晶相（スメクチック相、ネマチック相など）の転移温度である。ネマチック相の上限温度は、液晶組成物におけるネマチック相−等方相の転移温度であり、上限温度と略すことがある。ネマチック相の下限温度を下限温度と略すことがある。

式（１）で表わされる化合物を化合物（１）と略すことがある。この略記は式（２）などで表される化合物にも適用することがある。化合物（１）は、式（１）で表わされる１つの化合物または２つ以上の化合物を意味する。式（Ｐ−１）で表わされる基を基（Ｐ−１）と略すことがある。この略記は式（Ｍ−１）などで表される基にも適用することがある。式（１）から（１４）において、六角形で囲んだＡ^１、Ｂ^１、Ｃ^１などの記号はそれぞれ環Ａ^１、環Ｂ^１、環Ｃ^１などに対応する。Ｒ^３の記号を式（２）、式（３）などの複数の式に使用する。これらの化合物において、任意の２つのＲ^３が表わす２つの末端基は、同一であってもよいし、または異なってもよい。式（５）において、ｑが２のとき、２つの記号Ｃ^２が１つの式に存在する。この化合物において、２つの記号Ｃ^２が表わす２つの環は、同一であってもよいし、または異なってもよい。このルールは、Ｒ^５、Ｙ^４などの記号にも適用される。液晶組成物中の液晶性化合物の含有量は、液晶性化合物の全重量（重合性化合物と添加物とを含まない液晶組成物の重量）に基づいた重量百分率（重量％）で示す。

「少なくとも１つの“Ａ”は、“Ｂ”で置き換えられてもよい」の表現は、“Ａ”が１つのとき、“Ａ”の位置は任意であり、“Ａ”の数が２つ以上のときも、それらの位置は制限なく自由に選択できることを意味する。「少なくとも１つのＡが、Ｂ、ＣまたはＤで置き換えられてもよい」という表現は、任意のＡがＢで置き換えられる場合、任意のＡがＣで置き換えられる場合、および任意のＡがＤで置き換えられる場合、さらに複数のＡがＢ、Ｃ、Ｄの少なくとも２つで置き換えられる場合を含むことを意味する。例えば、少なくとも１つの−ＣＨ_２−が−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよいアルキルには、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルケニル、アルケニルオキシアルキルが含まれる。なお、連続する２つの−ＣＨ_２−が−Ｏ−で置き換えられて、−Ｏ−Ｏ−のようになることは好ましくない。アルキルなどにおいて、メチル部分（−ＣＨ_２−Ｈ）の−ＣＨ_２−が−Ｏ−で置き換えられて−Ｏ−Ｈになることも好ましくない。

２−フルオロ−１，４−フェニレンは、下記の２つの二価基を意味する。構造式において、フッ素は左向きであってもよいし、右向きであってもよい。このルールは、テトラヒドロピラン−２，５−ジイルのような、非対称の二価基にも適用される。

このルールは、下記の三価の六員環にも適用される。

化合物（１）において、環Ａ^１および環Ａ^４は、以下のような三価の六員環で表わされる。ＬはＬ^１またはＬ^３を意味する。

環Ａ^１および環Ａ^４において、六角形を横切る２本の斜線は、六員環上の結合位置を任意に選択できることを意味する。六員環がベンゼン環であるとき、環Ａ^１および環Ａ^４の代表例は、基（Ｎ−１）、基（Ｎ−２）および基（Ｎ−３）である。

化合物（１）において、結合基Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｚ^４、Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３のうち、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−は、記述された定義の向きに限定されることはなく、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−、−ＯＣＨ_２−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−であってもよい。

本発明は、下記の項１〜項１８に記載された内容を包含する。
項１．式（１）で表わされる化合物。

［式中、環Ａ^１、環Ａ^２、環Ａ^３、および環Ａ^４は独立して、フェニレンまたはシクロへキシレンであり、これらにおいて、少なくとも１つの水素は、炭素数１から１０のアルキル、フッ素、−ＣＦ_２Ｈ、または−ＣＦ_３で置き換えられてもよく；
Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４は独立して、単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−、または−ＣＯ−であり、Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３のいずれか１つが−ＣＯＯ−のとき、残りのＬ^１、Ｌ^２またはＬ^３は、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−、または−ＣＯ−であり；
ｓおよびｔは独立して０または１であり、ｓおよびｔの和は、０、１または２であり；
Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３、およびＰ^４は独立して、重合可能な基であり；
Ｌ^１が単結合であり、かつｓおよびｔが０であるときに、環Ａ^１の２位および環Ａ^４の２位において置き換えられたアルキル同士が結合して、環を形成してもよい。]

項２．項１に記載の式（１）において、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３、およびＰ^４が、基（Ｐ−１）である、項１に記載の化合物。

［基（Ｐ−１）中、Ｍは、水素、フッ素、−ＣＨ_３、または−ＣＦ_３である。］

項３．式（１−１）から（１−６）のいずれかで表される、項２に記載の化合物。

［式中、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４は独立して、単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｌ^１およびＬ^２は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−、または−ＣＯ−であり、Ｌ^１およびＬ^２のいずれか一方が−ＣＯＯ−のとき、残りのＬ^１またはＬ^２は、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−、または−ＣＯ−であり；
ｓは０または１であり；
Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３およびＰ^４は、基（Ｐ−１）である。］

項４．項３に記載の式（１−１）から（１−６）において、ｓが０である、項３に記載の化合物。

項５．式（１−ａ）から（１−ｆ）のいずれかで表される、項２に記載の化合物。

［式中、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４は独立して、単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｌ^１およびＬ^２は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−、または−ＣＯ−であり、Ｌ^１およびＬ^２のいずれか一方が−ＣＯＯ−のとき、残りのＬ^１またはＬ^２は、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−、または−ＣＯ−であり；
ｓは０または１であり；
式（１−ａ）から（１−ｆ）のそれぞれの式において、Ｘ^１１、Ｘ^１２、Ｘ^１３、Ｘ^１４、Ｘ^１５、Ｘ^１６、Ｘ^１７、Ｘ^１８、Ｘ^１９、Ｘ^２０、Ｘ^２１、Ｘ^２２、Ｘ^２３、およびＸ^２４のうち少なくとも１つは、メチル、フッ素、−ＣＦ_２Ｈ、または−ＣＦ_３であり、残りは、水素であり；
Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３およびＰ^４は、基（Ｐ−１）である。］

項６．項５に記載の式（１−ａ）から（１−ｆ）において、ｓが０である、項５に記載の化合物。

項７．項３に記載の式（１−１）から（１−６）、および項５に記載の式（１−ａ）〜（１−ｆ）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４が独立して、単結合であり、ｓが０または１であり、Ｌ^１が単結合であり、Ｌ^２が、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−、または−ＣＯ−であり、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３およびＰ^４がＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−またはＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である、項３または５に記載の化合物。

項８．項３に記載の式（１−１）から（１−６）、および項５に記載の式（１−ａ）〜（１−ｆ）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４が独立して、−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、または−ＣＨ＝ＣＨＯ−であり、ｓが０または１であり、Ｌ^１が単結合であり、Ｌ^２が、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−、または−ＣＯ−であり、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３およびＰ^４がＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−またはＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である、項３または５に記載の化合物。

項９．項３に記載の式（１−１）から（１−３）、および項５に記載の式（１−ａ）〜（１−ｃ）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４が、単結合であり、ｓが０または１であり、Ｌ^１が単結合であり、Ｌ^２が、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−であり、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３およびＰ^４がＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−またはＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である、項３または５に記載の化合物。

項１０．項３に記載の式（１−１）から（１−３）、および項５に記載の式（１−ａ）〜（１−ｃ）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４が独立して、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨＯ−であり、ｓが０または１であり、Ｌ^１が単結合であり、Ｌ^２が、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−であり、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３およびＰ^４がＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−またはＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である、項３または５に記載の化合物。

項１１．項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物から得られる重合体。

項１２．項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物および項１１に記載の重合体の群から選択される少なくとも１つを含有する液晶組成物。

項１３．式（２）、（３）および（４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項１２に記載の液晶組成物。

［式中、Ｒ^３は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、これらにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ^１は独立して、フッ素、塩素、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₂ＣＨＦ₂、または−ＯＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃であり；
環Ｂ^１、環Ｂ^２および環Ｂ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；
Ｙ^１およびＹ^２は独立して、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ_２Ｏ−、または単結合であり；
Ｑ^１およびＱ^２は独立して水素またはフッ素である。］

項１４．式（５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項１２または１３に記載の液晶組成物。

［式中、Ｒ^４は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、これらにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ^２は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；
環Ｃ^１、環Ｃ^２および環Ｃ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｙ^３は、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ_２Ｏ−、または単結合であり；
Ｑ^３およびＱ^４は独立して水素またはフッ素であり；
ｑは、０、１または２であり、ｒは０または１である。］

項１５．式（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）および（１１）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項１２に記載の液晶組成物。

［式中、Ｒ^５およびＲ^６は独立して炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、これらにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
環Ｄ^１、環Ｄ^２、環Ｄ^３および環Ｄ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロ−２，６−ナフタレンであり；
Ｙ^４、Ｙ^５、Ｙ^６およびＹ^７は独立して、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２（ＣＨ₂）₂−、または単結合であり；
Ｑ^５およびＱ^６は独立してフッ素または塩素であり；
ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎ、およびｐは独立して０または１であり、ｋ、ｌ、ｍ、およびｎの和は、１または２である。］

項１６．式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項１２に記載の液晶組成物。

［式中、Ｒ^７およびＲ^８は独立して炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、これらにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
環Ｅ^１、環Ｅ^２および環Ｅ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；
Ｙ^８およびＹ^９は独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合である。］

項１７．項１６に記載の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項１３に記載の液晶組成物。

項１８．項１６に記載の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項１４に記載の液晶組成物。

項１９．項１６に記載の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項１５に記載の液晶組成物。

項２０．項１２〜１９のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。

本発明は、次の項（１）〜（７）も含む。（１）光学活性な化合物をさらに含有する上記の組成物。（２）酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、消泡剤などの添加物をさらに含有する上記の組成物。（３）上記の組成物を含有するＡＭ素子。（４）上記の組成物を含有し、そしてＰＳ−ＴＮ、ＰＳ−ＩＰＳ、ＰＳ−ＦＦＳ、ＰＳＡ−ＶＡ、またはＰＳＡ−ＯＣＢのモードを有する素子。（５）上記の組成物を含有する透過型の素子。（６）上記の組成物を、ネマチック相を有する組成物としての使用。（７）上記の組成物に光学活性な化合物を添加することによって光学活性な組成物としての使用。

本発明は、次の項（８）〜（１１）も含む。（８）ＰＳＡモードを有する液晶表示素子において、式（１）で表わされる化合物と、式（２）、（３）および（４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有する組成物の使用。（９）ＰＳＡモードを有する液晶表示素子において、式（１）で表わされる化合物と、式（５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有する組成物の使用。（１０）ＰＳＡモードを有する液晶表示素子において、式（１）で表わされる化合物と、式（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、および（１１）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有する組成物の使用。（１１）ＰＳＡモードを有する液晶表示素子において、式（１）で表わされる化合物と、式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有する組成物の使用。

本発明における、化合物、合成法、液晶組成物、重合、液晶表示素子について、順に説明する。

１．化合物（１）
本発明の化合物（１）の好ましい例について説明をする。化合物（１）における末端基、環構造、結合基、および置換基の好ましい例は、化合物（１）の下位式にも適用される。化合物（１）において、環Ａ^１〜環Ａ^４、Ｚ^１〜Ｚ^４、Ｌ^１〜Ｌ^３、およびＰ^１〜Ｐ^４の種類を適切に組み合わせることによって、透明点、液晶相の下限温度、光学異方性、誘電率異方性などの物性を任意に調整することが可能である。化合物の物性に大きな差異がないので、化合物（１）は、^２Ｈ（重水素）、^１３Ｃなどの同位体を天然存在比の量より多く含んでもよい。Ｚ^１などの種類が化合物（１）の物性に及ぼす主要な効果を以下に説明する。

式（１）において、環Ａ^１、環Ａ^２、環Ａ^３、および環Ａ^４は独立して、フェニレンまたはシクロへキシレンであり、これらにおいて、少なくとも１つの水素は、フッ素、炭素数１から１０のアルキル、−ＣＦ_２Ｈ、または−ＣＦ_３で置き換えられてもよい。

環Ａ^１または環Ａ^４の好ましい例は、基（Ｎ−１）、基（Ｎ−２）および基（Ｎ−３）である。少なくとも１つの水素が、フッ素、−ＣＦ_２Ｈ、−ＣＦ_３で置き換えられた、基（Ｎ−１）、基（Ｎ−２）または基（Ｎ−３）も好ましい。環Ａ^１または環Ａ^４のさらに好ましい例は、基（Ｎ−２）である。

少なくとも１つの水素が、フッ素、−ＣＦ_２Ｈまたは−ＣＦ_３で置き換えられた、基（Ｎ−１）、基（Ｎ−２）および基（Ｎ−３）の好ましい例は、基（Ｒ−１）〜（Ｒ−１２）である。ＬはＬ^１またはＬ^３を意味する。

環Ａ^１および環Ａ^４の好ましい組み合わせは、基（Ｎ−１）および基（Ｎ−１）、基（Ｎ−２）および基（Ｎ−２）、基（Ｎ−３）および基（Ｎ−３）である。さらに好ましい組み合わせは、基（Ｎ−２）および基（Ｎ−２）である。

環Ａ^２または環Ａ^３の好ましい例は、１，４−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−シクロヘキシレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２−メチル−１，４−フェニレン、２−ジフルオロメチル−１，４−フェニレン、または２−トリフルオロメチル−１，４−フェニレンである。さらに好ましい例は、１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキシレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンである。最も好ましい例は、１，４−フェニレンである。

式（１）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４は独立して、単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。

Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、またはＺ^４の好ましい例は、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡ＣＯ−、−（ＣＨ_２）_３−、−（ＣＨ_２）_３−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_４−、および−（ＣＨ_２）_４−Ｏ−である。さらに好ましい例は、単結合、−ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、および−ＣＨ＝ＣＨＯ−である。最も好ましい例は、単結合である。

Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４が、単結合、−ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−（ＣＨ_２）_３−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_４−、または−（ＣＨ_２）_４−Ｏ−であるときは、粘度が小さい。Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、またはＺ^４が、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＨ＝ＣＨＯ−であるときは、粘度がより小さい。結合基が−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＨ＝ＣＨＯ−であるときは、液晶相の温度範囲が広く、そして弾性定数が大きい。結合基が−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＯ−または−Ｃ≡Ｃ−であるときは、光学異方性が大きい。Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、またはＺ^４が、単結合、−ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_４−、または−（ＣＨ_２）_３−Ｏ−であるときは、化学的安定性が高い。また、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、またはＺ^４が、−ＣＨ＝ＣＨ−などの二重結合を有する基であるとき、その立体配置はシス型であっても、トランス型であってもよい。

式（１）において、Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−、または−ＣＯ−であり、Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３のいずれか１つが−ＣＯＯ−のとき、残りのＬ^１、Ｌ^２またはＬ^３は、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＨ_２−、または−ＣＯ−である。

Ｌ^１、Ｌ^２またはＬ^３の好ましい例は、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、および−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−である。さらに好ましい例は、単結合および−ＣＨ＝ＣＨ−である。最も好ましい例は単結合である。

Ｌ^１、Ｌ^２またはＬ^３が単結合であるときは、粘度が小さい。Ｌ^１、Ｌ^２またはＬ^３が、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−であるときは、液晶相の温度範囲が広く、そして弾性定数が大きい。Ｌ^１、Ｌ^２またはＬ^３が、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−であるときは、光学異方性が大きい。Ｌ^１、Ｌ^２またはＬ^３が、単結合であるときは、化学的安定性が高い。Ｌ^１、Ｌ^２またはＬ^３が、−ＣＨ＝ＣＨ−などの二重結合を有する基であるとき、その立体配置はシス型であっても、トランス型であってもよい。

式（１）において、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３、およびＰ^４は、重合可能な基である。重合性基の好ましい例は、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、ビニルオキシ基、ビニルカルボニル基、エポキシ基、オキセタニル基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、およびマレイミド基である。これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３、またはＰ^４の好ましい例は基（Ｐ−１）である。

基（Ｐ−１）において、Ｍは、水素、フッ素、−ＣＨ_３、または−ＣＦ_３である。好ましいＭは、水素または−ＣＨ_３である（すなわち、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−またはＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である）。

式（１）において、ｓおよびｔは独立して０または１であり、ｓおよびｔの和は０、１または２である。ｓおよびｔの和が０であるときは粘度が小さい。ｓおよびｔの和が１または２であるときは上限温度が高い。

式（１）において、Ｌ^１が単結合であり、かつｓおよびｔが０であるときに、環Ａ^１の２位および環Ａ^４の２位において置き換えられたアルキル同士が結合して、環を形成してもよい。

化合物（１）の好ましい例は、化合物（１−Ａ）または（１−Ｂ）である。

化合物（１−Ａ）および（１−Ｂ）において、Ｒ^１およびＲ^２は独立して、水素またはアルキルである。Ｒ^１の炭素数、Ｒ^２の炭素数、および環Ａ^１と環Ａ^４とを接続する炭素数の合計は、２から２０である。

以上のように、環構造、末端基、結合基などの種類を適切に選択することによって目的の物性を有する化合物を得ることができる。したがって、化合物（１）は、ＰＳ−ＴＮ、ＰＳ−ＩＰＳ、ＰＳ−ＦＦＳ、ＰＳＡ−ＶＡ、ＰＳＡ−ＯＣＢのようなモードを有する液晶表示素子に用いられる液晶組成物の成分として有用である。

化合物（１）の好ましい例は、化合物（１−１）〜（１−６）、および化合物（１−ａ）〜（１−ｆ）である。さらに好ましい例は、化合物（１−１）、（１−２）、（１−３）、（１−ａ）、（１−ｂ）、または（１−ｃ）である。最も好ましい例は、化合物（１−１）または（１−ａ）である。

これらの化合物において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｚ^４、Ｌ^１、Ｌ^２、ｓ、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３、Ｐ^４、Ｘ^１１、Ｘ^１２、Ｘ^１３、Ｘ^１４、Ｘ^１５、Ｘ^１６、Ｘ^１７、Ｘ^１８、Ｘ^１９、Ｘ^２０、Ｘ^２１、Ｘ^２２、Ｘ^２３、およびＸ^２４の定義は、前記と同一である。

化合物（１−１）の好ましい例は、化合物（１−１−ａ）である。

化合物（１−１−ａ）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４は独立して、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨＯ−であり、ｓは０または１であり、Ｌ^２は、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３、およびＰ^４は独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−またはＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である。

化合物（１−１）のさらに好ましい例は、化合物（１−１−ｂ）である。

化合物（１−１−ｂ）において、Ｌ^２は単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、であり、ｓは０または１であり、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３、およびＰ^４は独立してＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−またはＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である。

化合物（１−ａ）の好ましい例は、化合物（１−ａ−１）である。

化合物（１−ａ−１）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４は独立して、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨＯ−であり、ｓは０または１であり、Ｌ^２は単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり、Ｘ^１２、Ｘ^１３、Ｘ^１４、Ｘ^１５、Ｘ^１６、Ｘ^１９、Ｘ^２０、Ｘ^２１、Ｘ^２２、およびＸ^２３は水素またはフッ素であり、少なくとも１つはフッ素で置き換えられていて、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３、およびＰ^４は独立してＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−またはＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である。

化合物（１−ａ）のさらに好ましい例は、化合物（１−ａ−２）である。

化合物（１−ａ−２）において、Ｌ^２は単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、であり、ｓは０または１であり、Ｘ^１２、Ｘ^１３、Ｘ^１４、Ｘ^１５、Ｘ^１６、Ｘ^１９、Ｘ^２０、Ｘ^２１、Ｘ^２２、およびＸ^２３は水素またはフッ素であり、少なくとも１つはフッ素で置き換えられていて、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３、およびＰ^４は独立してＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−またはＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である。

２．合成法
化合物（１）の合成法を説明する。化合物（１）は、有機合成化学の手法を適切に組み合わせることにより合成できる。出発物質に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、フーベン−ヴァイル（Houben-Wyle, Methoden der Organische Chemie, Georg-Thieme Verlag, Stuttgart）、オーガニック・シンセシス（Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）などの成書に記載されている。

２−１．結合基Ｌの生成
化合物（１）における結合基Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３を生成する方法の例は、下記のスキームのとおりである。このスキームにおいて、ＭＳＧ^１（またはＭＳＧ^２）は、少なくとも１つの環を有する一価の有機基である。複数のＭＳＧ^１（またはＭＳＧ^２）が表わす一価の有機基は、同一であってもよいし、または異なってもよい。化合物（１Ａ）〜（１Ｒ）は、化合物（１）に相当する。

（I）単結合の生成
アリールホウ酸（２１）と公知の方法で合成される化合物（２２）とを、炭酸塩水溶液中、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で反応させて化合物（１Ａ）を合成する。この化合物（１Ａ）は、公知の方法で合成される化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させ、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で化合物（２２）を反応させることによっても合成される。

（II）−ＣＯＯ−の生成
化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、続いて二酸化炭素を反応させてカルボン酸（２４）を得る。この化合物（２４）と、公知の方法で合成されるフェノール（２５）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）とＤＭＡＰ（Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン）の存在下で脱水縮合させて化合物（１Ｂ）を合成する。

（III）−ＣＨ＝ＣＨ−の生成
化合物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのホルムアミドと反応させてアルデヒド（２８）を得る。公知の方法で合成されるホスホニウム塩（２７）をカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのような塩基で処理して発生させたリンイリドを、アルデヒド（２８）に反応させて化合物（１Ｄ）を合成する。反応条件によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。

（IV）−（ＣＨ_２）_２−の生成
化合物（１Ｄ）をパラジウム炭素のような触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｅ）を合成する。

（V）−（ＣＨ_２）_４−の生成
ホスホニウム塩（２７）の代わりにホスホニウム塩（２９）を用い、項（III）の方法に従って反応を行い、−（ＣＨ_２）_２−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物を得る。これを接触水素化して化合物（１Ｆ）を合成する。

（VI）−Ｃ≡Ｃ−の生成
ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下で、化合物（２３）に２−メチル−３−ブチン−２−オールを反応させたのち、塩基性条件下で脱保護して化合物（３０）を得る。ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下、化合物（３０）を化合物（２２）と反応させて、化合物（１Ｇ）を合成する。

（VII）−ＣＨ_２Ｏ−の生成
化合物（２８）を水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤で還元して化合物（３２）を得る。これを臭化水素酸などでハロゲン化して化合物（３３）を得る。炭酸カリウムなどの存在下で、化合物（３３）を化合物（３１）と反応させて化合物（１Ｊ）を合成する。

（VIII）−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−の生成
化合物（２８）の代わりに化合物（３４）を用いて、項（VII）の方法に従って化合物（１Ｋ）を合成する。

（IX）−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−の生成
水酸化バリウム存在下、化合物（３７）と化合物（２８）を反応させることにより、化合物（１Ｌ）を合成する。

（X）−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−の生成
亜鉛と四塩化チタンの存在下、化合物（３７）と化合物（３８）を反応させることにより、化合物（１Ｍ）を合成する。

（XI）−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−の生成
水素化ナトリウムなどの塩基をジエチルホスホノ酢酸エチルに作用させてリンイリドを調製し、このリンイリドをアルデヒド（３９）と反応させてエステル（４０）を得る。このエステル（４０）を水酸化ナトリウムなどの塩基の存在下で加水分解してカルボン酸（４１）を得る。この化合物とアルコール（２５）とを脱水縮合させて化合物（１Ｎ）を合成する。

（XII）−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＯＯ−の生成
水素化ナトリウムなどの塩基をジエチルホスホノ酢酸エチルに作用させてリンイリドを調製し、このリンイリドをメチルケトン（３７）と反応させてエステル（４２）を得る。このエステル（４２）を水酸化ナトリウムなどの塩基の存在下で加水分解してカルボン酸（４３）を得る。この化合物とアルコール（２５）とを脱水縮合させて化合物（１Ｐ）を得る。

（XIII）−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−の生成
エステル（４７）を水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）によって還元することによってアルコール（４４）を得る。トリフェニルホスフィンの存在下、アルコール（４４）とＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）の反応によって臭化物（４５）を得る。この化合物と化合物（２５）とを脱水縮合させて化合物（１Ｑ）を得る。

（XＸ）−ＣＯ−の生成
化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、続いてアルデヒド（３８）を反応させてアルコール（４６）を得る。アルコール（４６）とＪｏｎｅｓ試薬などの酸化剤を反応させることによって化合物（１Ｒ）を合成する。

２−２．重合可能な基の生成
下記の重合可能な基を生成する方法の例は、下記のスキームのとおりである。このスキームにおいて、ＭＳＧ^１は、少なくとも１つの環を有する一価の有機基である。化合物（１Ｓ）〜（１Ｘ）は、化合物（１）に相当する。

（Ｉ）Ｍ^２ＣＨ＝ＣＭ^１−ＣＯＯ−の生成
Ｍ^１およびＭ^２がともに−ＣＦ_３ではない場合、Ｍ^１がフッ素であり、Ｍ^２が−ＣＦ_３ではない場合、またはＭ^１が−ＣＦ_３であり、Ｍ^２がフッ素ではない場合は、上のスキームに示したカルボン酸（５１）が市販されている。このカルボン酸（５１）と化合物（３１）をＤＣＣとＤＭＡＰの存在下で脱水縮合させて化合物（１Ｓ）を合成する。

Ｍ^１およびＭ^２がともに−ＣＦ_３である場合は、カルボン酸（５２）と化合物（３１）とをＤＣＣとＤＭＡＰの存在下で脱水縮合させて化合物（５３）を得る。触媒量のヨウ化銅存在下、化合物（５３）と２，２−ジフルオロ−２−（フルオロスルホニル）酢酸メチルとを反応させて化合物（１Ｔ）を合成する。

Ｍ^１がフッ素であり、Ｍ^２が−ＣＦ_３である場合は、カルボン酸（５４）と化合物（３１）をＤＣＣとＤＭＡＰの存在下で脱水縮合させて化合物（５５）を得る。化合物（５５）をＤＡＳＴなどのフッ素化剤でフッ素化し、化合物（５６）を得る。触媒量のヨウ化銅存在下、化合物（５６）と２，２−ジフルオロ−２−（フルオロスルホニル）酢酸メチルとを反応させて化合物（１Ｕ）を合成する。

Ｍ^１が−ＣＦ_３であり、Ｍ^２がフッ素である場合は、カルボン酸（５７）を出発物質に用い、前記の方法に従って化合物（１Ｖ）を合成する。

（II）ビニルオキシ基の生成
炭酸カリウムなどの存在下で、化合物（３１）と臭化ビニルとを反応させて化合物（１Ｗ）を合成する。

（III）エポキシ基の生成
公知の方法で合成されるビニル化合物（５８）をメタクロロ過安息香酸（ｍＣＰＢＡ）などで酸化して、化合物（１Ｘ）を合成する。

２−３．結合基Ｚの生成
化合物（１）における結合基Ｚ^１〜Ｚ^４を生成する方法の例は、下記のスキームのとおりである。このスキームにおいて、ＭＳＧ^１は、少なくとも１つの環を有する一価の有機基である。化合物（１Ｙ）は、化合物（１）に相当する。

(I）−ＣＨ_２Ｏ−の生成
炭酸カリウムなどの存在下で、公知の方法で合成される化合物（５９）と化合物（３１）とを反応させて化合物（６０）を得る。化合物（６０）を水素化リチウムアルミニウムなどの還元剤で還元し、化合物（６１）を得る。化合物（６１）をデスマーチン試薬などの酸化剤で酸化し、アルデヒド（６２）を得る。メチルトリフェニルホスホニウムブロミドをカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのような塩基で処理して発生させたリンイリドを、アルデヒド（６２）に反応させて化合物（６３）を得る。

化合物（６１）にＭ^２ＣＨ＝ＣＭ^１−ＣＯＯ−を導入する場合は、前記の方法に従って、化合物（６１）と化合物（５１）の脱水縮合を行う。化合物（６１）にビニルオキシ基を導入する場合は、前記の方法に従って、化合物（６１）と臭化ビニルとの反応を行う。化合物（６３）にエポキシ基を導入する場合は、前記の方法に従って化合物（６３）のエポキシ化反応を行う。

(II）−ＣＨ＝ＣＨ−の生成
公知の方法で合成されるホスホニウム塩（６４）をカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのような塩基で処理して発生させたリンイリドを、アルデヒド（３８）に反応させて化合物（６５）を得る。化合物（６５）にＭ^２ＣＨ＝ＣＭ^１−ＣＯＯ−を導入する場合は、前記の方法に従って、化合物（６５）と化合物（５１）の脱水縮合を行う。化合物（６５）にビニルオキシ基を導入する場合は、前記の方法に従って、化合物（６５）と臭化ビニルとの反応を行う。化合物（６５）にエポキシ基を導入する場合は、前記の方法に従って−ＣＨ_２ＯＨを−ＣＨ＝ＣＨ_２に変換したあと、エポキシ化反応を行う。

Ｍ^２ＣＨ＝ＣＭ^１−ＣＯＯ−の導入は、次の方法でもよい。炭酸カリウムなどの存在下で、公知の方法で合成されるアルデヒド（６６）と酸無水物（６７）とカルボン酸ナトリウム（６８）とを反応させて化合物（１Ｙ）を合成する。

(III）−ＣＨ_２ＣＨ_２−の生成
化合物（６５）をパラジウム炭素のような触媒の存在下で水素化することにより、化合物（６９）を合成する。このアルコールにＭ^２ＣＨ＝ＣＭ^１−ＣＯＯ−、ビニルオキシ基またはエポキシ基を導入する方法は、前記のとおりである。

２−４．環Ａ^１および環Ａ^４の生成
三価のベンゼン環に関しては出発物質が市販されているか、または合成法がよく知られている。例えば、４-ブロモカテコール（Ｔ−１）、５-ブロモレゾルシノール（Ｔ−５）、４-ブロモレゾルシノール（Ｔ−８）などを出発物として利用できる。

化合物（１）は、類似の化合物に比べ、適切な重合反応性、高い転化率および液晶組成物への高い溶解度を有する。化合物（１）は、これらの少なくとも２つの物性に関して、適切なバランスを有する。したがって、化合物（１）は、ＰＳＡモード用の液晶組成物に添加することができる。

３．液晶組成物
本発明の液晶組成物は、少なくとも１つの化合物（１）を成分として含む。この組成物は、化合物（１）とは異なる、その他の重合性化合物をさらに含んでもよい。その他の重合性化合物の好ましい例は、アクリレート、メタクリレート、ビニル化合物、ビニルオキシ化合物、プロペニルエーテル、エポキシ化合物（オキシラン、オキセタン）、およびビニルケトンである。さらに好ましい例は、少なくとも１つのアクリロイルオキシを有する化合物および少なくとも１つのメタクリロイルオキシを有する化合物である。さらに好ましい例には、アクリロイルオキシとメタクリロイルオキシの両方を有する化合物も含まれる。

その他の重合性化合物の追加例は、化合物（Ｍ−１）〜（Ｍ−１２）である。化合物（Ｍ−１）〜（Ｍ−１２）において、Ｒ^２０は水素またはメチルであり；ｓは０または１であり；ｔおよびｕは独立して、１〜１０の整数である。かっこに入れた記号Ｆは、水素またはフッ素を意味する。

液晶組成物は、少なくとも１つの化合物（１）を含み、液晶性化合物をさらに含んでもよい。ＰＳ−ＴＮ、ＰＳ−ＩＰＳ、ＰＳ−ＦＦＳ、ＰＳＡ−ＶＡ、ＰＳＡ−ＯＣＢなどのモード用の液晶表示素子を目的とする場合、この組成物は、化合物（１）を成分Ａとして含み、下に示す成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥから選択された化合物をさらに含むことが好ましい。成分Ｂは、化合物（２）〜（４）である。成分Ｃは化合物（５）である。成分Ｄは、化合物（６）〜（１１）である。成分Ｅは、化合物（１２）〜（１４）である。このような組成物を調製するときには、正または負の誘電率異方性、誘電率異方性の大きさなどを考慮して成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥを選択することが好ましい。成分を適切に選択した組成物は、高い上限温度、低い下限温度、小さな粘度、適切な（大きな、または小さな）光学異方性、正または負に大きな誘電率異方性、および適切な（大きな、または小さな）弾性定数を有する。

このような組成物において、化合物（１）、すなわち成分Ａの添加量は、液晶性化合物の全重量に基づいて０．０５重量％〜２０重量％の範囲である。さらに好ましい添加量は、０．１重量％〜１０重量％の範囲である。最も好ましい添加量は、０．２重量％〜１重量％の範囲である。化合物（１）とは異なる、その他の重合性化合物の少なくとも１つをさらに添加してもよい。この場合、化合物（１）とその他の重合性化合物の合計の添加量は、上記の範囲内であることが好ましい。その他の重合性化合物を適切に選択することによって、生成する重合体の物性を調整することができる。その他の重合性化合物の例は、先に説明したとおり、アクリレート、メタクリレートなどである。この例には、化合物（Ｍ−１）〜（Ｍ−１２）も含まれる。

成分Ｂは、右末端にハロゲンまたはフッ素含有基を有する化合物である。成分Ｂの好ましい例として、化合物（２−１）〜（２−１６）、化合物（３−１）〜（３−１１８）、化合物（４−１）〜（４−５６）を挙げることができる。

これらの化合物（成分Ｂ）において、Ｒ^３およびＸ¹の定義は、前記と同一である。

成分Ｂは、誘電率異方性が正であり、熱、光などに対する安定性が非常に優れているので、ＰＳ−ＩＰＳ、ＰＳ−ＦＦＳ、ＰＳＡ−ＯＣＢなどのモード用の組成物を調製する場合に用いられる。成分Ｂの含有量は、液晶性化合物の全重量に基づいて１重量％〜９９重量％の範囲が適しており、好ましくは１０重量％〜９７重量％の範囲、さらに好ましくは４０重量％〜９５重量％の範囲である。この組成物は、化合物（１２）〜（１４）（成分Ｅ）をさらに添加することにより粘度を調整することができる。成分Ｂを誘電率異方性が負である組成物に添加する場合、成分Ｂの含有量は液晶性化合物の全重量に基づいて３０重量％以下が好ましい。成分Ｂを添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。

成分Ｃは、右末端基が−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎである化合物（５）である。成分Ｃの好ましい例として、化合物（５−１）〜（５−６４）を挙げることができる。

これらの化合物（成分Ｃ）において、Ｒ^４およびＸ²の定義は、前記と同一である。

成分Ｃは、誘電率異方性が正であり、その値が大きいのでＰＳ−ＴＮなどのモード用の組成物を調製する場合に主として用いられる。この成分Ｃを添加することにより、組成物の誘電率異方性を大きくすることができる。成分Ｃは、液晶相の温度範囲を広げる、粘度を調整する、または光学異方性を調整する、という効果がある。成分Ｃは、素子の電圧−透過率曲線の調整にも有用である。

ＰＳ−ＴＮなどのモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｃの含有量は、液晶性化合物の全重量に基づいて１重量％〜９９重量％の範囲が適しており、好ましくは１０重量％〜９７重量％の範囲、さらに好ましくは４０重量％〜９５重量％の範囲である。この組成物は、成分Ｅを添加することにより液晶相の温度範囲、粘度、光学異方性、誘電率異方性などを調整できる。成分Ｃを誘電率異方性が負である組成物に添加する場合、成分Ｃの含有量は液晶性化合物の全重量に基づいて３０重量％以下が好ましい。成分Ｃを添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。

成分Ｄは、化合物（６）〜（１１）である。これらの化合物は、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンのように、ラテラル位が２つのハロゲンで置換されたベンゼン環を有する。成分Ｄの好ましい例として、化合物（６−１）〜（６−６）、化合物（７−１）〜（７−１５）、化合物（８−１）、化合物（９−１）〜（９−３）、化合物（１０−１）〜（１０−１１）、および化合物（１１−１）〜（１１−１０）を挙げることができる。

これらの化合物（成分Ｄ）において、Ｒ^５およびＲ^６の定義は、前記と同一である。

成分Ｄは、誘電率異方性が負の化合物である。成分Ｄは、ＰＳ−ＩＰＳ、ＰＳ−ＦＦＳ、ＰＳＡ−ＶＡなどのモード用の組成物を調製する場合に用いられる。成分Ｄの含有量を増加させると組成物の誘電率異方性が負に大きくなるが、粘度が大きくなる。そこで、素子のしきい値電圧の要求値を満たす限り、含有量は少ないほうが好ましい。したがって、誘電率異方性の絶対値が５程度であることを考慮すると、充分な電圧駆動をさせるには、含有量が４０重量％以上であることが好ましい。

成分Ｄのうち、化合物（６）は２環化合物であるので、主として、粘度の調整、光学異方性の調整、または誘電率異方性の調整の効果がある。化合物（７）および（８）は３環化合物であるので、上限温度を高くする、光学異方性を大きくする、または誘電率異方性を大きくするという効果がある。化合物（９）〜（１１）は、誘電率異方性を大きくするという効果がある。

ＰＳ−ＩＰＳ、ＰＳ−ＦＦＳ、ＰＳＡ−ＶＡなどのモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｄの含有量は、液晶性化合物の全重量に基づいて、好ましくは４０重量％以上であり、さらに好ましくは５０重量％〜９５重量％の範囲である。成分Ｄを添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。成分Ｄを誘電率異方性が正である組成物に添加する場合は、成分Ｄの含有量が液晶化合物の全重量に基づいて３０重量％以下が好ましい。成分Ｄを添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。

成分Ｅは、２つの末端基がアルキルなどである化合物である。成分Ｅの好ましい例として、化合物（１２−１）〜（１２−１１）、化合物（１３−１）〜（１３−１９）、および化合物（１４−１）〜（１４−６）を挙げることができる。

これらの化合物（成分Ｅ）において、Ｒ^７およびＲ^８の定義は前記と同一である。

成分Ｅは、誘電率異方性の絶対値が小さいので、中性に近い化合物である。化合物（１２）は、主として粘度の調整または光学異方性の調整の効果がある。化合物（１３）および（１４）は、上限温度を高くすることによってネマチック相の温度範囲を広げる効果、または光学異方性の調整の効果がある。

成分Ｅの含有量を増加させると組成物の粘度が小さくなるが、誘電率異方性が小さくなる。そこで、素子のしきい値電圧の要求値を満たす限り、含有量は多いほうが好ましい。したがって、ＰＳ−ＩＰＳ、ＰＳＡ−ＶＡなどのモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｅの含有量は、液晶性化合物の全重量に基づいて、好ましくは３０重量％以上、さらに好ましくは４０重量％以上である。

液晶組成物の調製は、必要な成分を室温よりも高い温度で溶解させるなどの方法により行われる。用途に応じて、この組成物に添加物を添加してよい。添加物の例は、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、消泡剤などである。このような添加物は当業者によく知られており、文献に記載されている。

光学活性化合物は、液晶分子にらせん構造を誘起して必要なねじれ角を与えることによって逆ねじれを防ぐ、という効果を有する。光学活性化合物を添加することによって、らせんピッチを調整することができる。らせんピッチの温度依存性を調整する目的で２つ以上の光学活性化合物を添加してもよい。光学活性化合物の好ましい例として、下記の化合物（Ｏｐ−１）〜（Ｏｐ−１８）を挙げることができる。化合物（Ｏｐ−１８）において、環Ｊは１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、Ｒ^２４は炭素数１〜１０のアルキルである。

酸化防止剤は、大きな電圧保持率を維持するために有効である。酸化防止剤の好ましい例として、下記の化合物（ＡＯ−１）および（ＡＯ−２）；ＩＲＧＡＮＯＸ４１５、ＩＲＧＡＮＯＸ５６５、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５、ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４、およびＩＲＧＡＮＯＸ１０９８（商品名：ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。紫外線吸収剤は、上限温度の低下を防ぐために有効である。紫外線吸収剤の好ましい例は、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾエート誘導体、トリアゾール誘導体などである。具体例として下記の化合物（ＡＯ−３）および（ＡＯ−４）；ＴＩＮＵＶＩＮ３２９、ＴＩＮＵＶＩＮＰ、ＴＩＮＵＶＩＮ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ４００、ＴＩＮＵＶＩＮ３２８、およびＴＩＮＵＶＩＮ９９−２（商品名：ＢＡＳＦ社）；および１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）を挙げることができる。

立体障害のあるアミンのような光安定剤は、大きな電圧保持率を維持するために好ましい。光安定剤の好ましい例として、下記の化合物（ＡＯ−５）および（ＡＯ−６）；ＴＩＮＵＶＩＮ１４４、ＴＩＮＵＶＩＮ７６５、およびＴＩＮＵＶＩＮ７７０ＤＦ（商品名：ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。熱安定剤も大きな電圧保持率を維持するために有効であり、好ましい例としてＩＲＧＡＦＯＳ１６８（商品名：ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。消泡剤は、泡立ちを防ぐために有効である。消泡剤の好ましい例は、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどである。

化合物（ＡＯ−１）において、Ｒ^２５は炭素数１〜２０のアルキル、炭素数１〜２０のアルコキシ、−ＣＯＯＲ^２６、または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯＲ^２６であり；Ｒ^２６は炭素数１〜２０のアルキルである。化合物（ＡＯ−２）および（ＡＯ−５）において、Ｒ^２７は炭素数１〜２０のアルキルである。化合物（ＡＯ−５）において、環Ｋおよび環Ｌは１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、ｖは０、１、または２であり、Ｒ^２８は水素、メチルまたはＯ^・である。

４．重合
化合物（１）は、適切な重合反応性、高い転化率および液晶組成物への高い溶解度を有する。化合物（１）と液晶性化合物とを含有する液晶組成物を重合させることによって重合体を含有する液晶組成物が生成する。化合物（１）は、重合によって液晶組成物の中に重合体を生成するからである。この重合体は、液晶分子にプレチルトを生じさせる効果がある。重合は、液晶組成物が液晶相を示す温度で行うのが好ましい。重合は、熱、光などによって進行する。好ましい反応は光重合である。光重合は、熱重合が併起するのを防ぐために、１００℃以下で行うのが好ましい。電場または磁場を印加した状態で重合させてもよい。

化合物（１）の重合反応性および転化率は調整することができる。化合物（１）はラジカル重合に適している。化合物（１）は、重合開始剤を添加することによって、速やかに重合させることができる。反応温度を最適化することによって、残存する化合物（１）の量を減少させることができる。光ラジカル重合開始剤の例は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）のダロキュアシリーズからＴＰＯ、１１７３および４２６５であり、イルガキュアシリーズから１８４、３６９、５００、６５１、７８４、８１９、９０７、１３００、１７００、１８００、１８５０、および２９５９である。

光ラジカル重合開始剤の追加例は、４−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）トリアジン、２−（４−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン混合物、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール混合物、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルキサントン／ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル混合物、ベンゾフェノン／メチルトリエタノールアミン混合物である。

液晶組成物に光ラジカル重合開始剤を添加したあと、電場を印加した状態で紫外線を照射することによって重合を行うことができる。しかし、未反応の重合開始剤または重合開始剤の分解生成物は、素子に焼き付きなどの表示不良を引き起こすかもしれない。これを防ぐために重合開始剤を添加しないまま光重合を行ってもよい。照射する光の好ましい波長は１５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲である。さらに好ましい波長は２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲であり、最も好ましい波長は３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲である。

５．液晶表示素子
液晶表示素子における重合体の効果は、次のように解釈される。液晶組成物は、液晶性化合物、重合性化合物などの混合物である。この液晶組成物に電場を印加することによって、液晶分子が電場の方向に配向する。この配向に従って、重合性化合物も同じように配向する。この状態で液晶組成物に紫外線を照射して、重合性化合物を重合させる。この結果、液晶組成物中に重合体のネットワークが生成する。このネットワークの効果によって、液晶分子は電場の方向に配向した状態で安定化される。電場を除去した場合でもこの効果は維持される。したがって、素子の応答時間が短縮されることになる。

液晶組成物の重合は、表示素子の中で行うのが好ましい。一例は次のとおりである。透明電極と配向膜とを備えた二枚のガラス基板を有する表示素子を用意する。化合物（１）、液晶性化合物、添加物などを成分とする液晶組成物を調製する。この組成物を表示素子に注入する。この表示素子に電場を印加しながら紫外線を照射して化合物（１）を重合させる。この重合によって重合体を含有する液晶組成物が生成する。この方法によってＰＳＡモードを有する液晶表示素子を容易に作製することができる。この方法では、配向膜のラビング処理を省略してもよい。なお、電場がない状態で液晶分子を安定化させる方法を採用してもよい。

重合性化合物の添加量が液晶性化合物の全重量に基づいて０.１重量％から２重量％の範囲であるとき、ＰＳＡモードの液晶表示素子が作製される。ＰＳＡモードの素子は、ＡＭ（active matrix）、ＰＭ（passive matrix）のような駆動方式で駆動させることができる。このような素子は、反射型、透過型、半透過型のいずれのタイプにも適用ができる。重合性化合物の添加量を増やすことによって、高分子分散（polymer dispersed）モードの素子も作製することができる。

実施例により本発明をさらに詳しく説明する。本発明はこれらの実施例によっては制限されない。

１．化合物（１）の実施例
化合物（１）は、実施例１などに示した手順により合成した。合成した化合物は、ＮＭＲ分析などの方法により同定した。化合物の物性は、下記に記載した方法により測定した。

ＮＭＲ分析
測定装置は、ＤＲＸ−５００（ブルカーバイオスピン（株）社製）を用いた。^１Ｈ−ＮＭＲの測定では、試料をＣＤＣｌ_３などの重水素化溶媒に溶解させ、測定は、室温で、５００ＭＨｚ、積算回数１６回の条件で行った。テトラメチルシランを内部標準として用いた。^１９Ｆ−ＮＭＲの測定では、ＣＦＣｌ_３を内部標準として用い、積算回数２４回で行った。核磁気共鳴スペクトルの説明において、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｑはカルテット、ｑｕｉｎはクインテット、ｓｅｘはセクステット、ｍはマルチプレット、ｂｒはブロードであることを意味する。

ＨＰＬＣ分析
測定装置は、島津製作所製のＰｒｏｍｉｎｅｎｃｅ（ＬＣ−２０ＡＤ；ＳＰＤ−２０Ａ）を用いた。カラムはワイエムシー製のＹＭＣ−ＰａｃｋＯＤＳ−Ａ（長さ１５０ｍｍ、内径４．６ｍｍ、粒子径５μｍ）を用いた。溶出液はアセトニトリルと水を適宜混合して用いた。検出器としてはＵＶ検出器、ＲＩ検出器、ＣＯＲＯＮＡ検出器などを適宜用いた。ＵＶ検出器を用いた場合、検出波長は２５４ｎｍとした。試料はアセトニトリルに溶解して、０．１重量％の溶液となるように調製し、この溶液１μＬを試料室に導入した。記録計としては島津製作所製のＣ−Ｒ７Ａｐｌｕｓを用いた。

紫外可視分光分析
測定装置は、島津製作所製のＰｈａｒｍａＳｐｅｃＵＶ−１７００用いた。検出波長は１９０ｎｍから７００ｎｍとした。試料はアセトニトリルに溶解して、０．０１ｍｍｏｌ／Ｌの溶液となるように調製し、石英セル（光路長１ｃｍ）に入れて測定した。

測定試料
相構造および転移温度（透明点、融点、重合開始温度など）を測定するときには、化合物そのものを試料として用いた。ネマチック相の上限温度、粘度、光学異方性、誘電率異方性などの物性を測定するときには、化合物と母液晶との混合物を試料として用いた。

測定方法
物性の測定は下記の方法で行った。これらの多くは、社団法人電子情報技術産業協会（Japan Electronics and Information Technology Industries Association；以下、ＪＥＩＴＡと略す）で審議制定されるＪＥＩＴＡ規格（ＪＥＩＴＡ・ＥＤ−２５２１Ｂ）に記載された方法、またはこれを修飾した方法であった。測定に用いたＴＮ素子には、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を取り付けなかった。

（１）相構造
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート（メトラー社ＦＰ−５２型ホットステージ）に試料を置き、３℃／分の速度で加熱しながら相状態とその変化を偏光顕微鏡で観察し、相の種類を特定した。

（２）転移温度（℃）
パーキンエルマー社製の走査熱量計、ＤｉａｍｏｎｄＤＳＣシステムまたはエスエスアイ・ナノテクノロジー社製の高感度示差走査熱量計、Ｘ−ＤＳＣ７０００を用いて測定した。試料は、３℃／分の速度で昇降温し、試料の相変化に伴う吸熱ピークまたは発熱ピークの開始点を外挿により求め、転移温度を決定した。化合物が固体からスメクチック相、ネマチック相などの液晶相に転移する温度を「液晶相の下限温度」と略すことがある。化合物が液晶相から液体に転移する温度を「透明点」と略すことがある。化合物の融点、重合開始温度もこの装置を使って測定した。

結晶はＣと表した。結晶の種類の区別がつく場合は、それぞれをＣ_１、Ｃ_２のように表した。スメクチック相はＳ、ネマチック相はＮと表した。スメクチック相の中で、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＣ相、またはスメクチックＦ相の区別がつく場合は、それぞれＳ_Ａ、Ｓ_Ｂ、Ｓ_Ｃ、またはＳ_Ｆと表した。液体（アイソトロピック）はＩと表した。転移温度は、例えば、「Ｃ５０．０Ｎ１００．０Ｉ」のように表記した。これは、結晶からネマチック相への転移温度が５０．０℃であり、ネマチック相から液体への転移温度が１００．０℃であることを示す。

（３）ネマチック相の上限温度（Ｔ_ＮＩまたはＮＩ；℃）
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。試料が化合物と母液晶との混合物であるときは、Ｔ_ＮＩの記号で示した。試料が化合物と成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、またはＥとの混合物であるときは、ＮＩの記号で示した。

（４）ネマチック相の下限温度（Ｔ_Ｃ；℃）
ネマチック相を有する試料を０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、Ｔ_Ｃを≦−２０℃と記載した。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。

（５）粘度（バルク粘度；η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
Ｅ型回転粘度計を用いて測定した。

（６）光学異方性（屈折率異方性；２５℃で測定；Δｎ）
測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率（ｎ‖）は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率（ｎ⊥）は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性（Δｎ）の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。

（７）比抵抗（ρ；２５℃で測定；Ωｃｍ）
電極を備えた容器に試料１．０ｍＬを注入した。この容器に直流電圧（１０Ｖ）を印加し、１０秒後の直流電流を測定した。比抵抗は次の式から算出した。（比抵抗）＝｛（電圧）×（容器の電気容量）｝／｛（直流電流）×（真空の誘電率）｝。

（８）電圧保持率（ＶＨＲ−１；２５℃で測定；％）
測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。

（９）電圧保持率（ＶＨＲ−２；８０℃で測定；％）
２５℃の代わりに、８０℃で同様に測定して得られた結果をＶＨＲ−２の記号で示す。

誘電率異方性が正の試料と負の試料とでは、物性の測定法が異なることがある。そこで、（１０）〜（１４）では、誘電率異方性が正であるときの測定法を示す。誘電率異方性が負の場合は、（１５）〜（１９）に示す。

（１０）粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
測定はM. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。ツイスト角が０度であり、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５μｍであるＴＮ素子に試料を入れた。この素子に１６Ｖから１９．５Ｖの範囲で０．５Ｖ毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とM. Imaiらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算で必要な誘電率異方性の値は、この回転粘度を測定した素子を用い、下に記載した方法で求めた。

（１１）誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）
２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、そしてツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（１０Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。

（１２）弾性定数（Ｋ；２５℃で測定；ｐＮ）
測定には横河・ヒューレットパッカード株式会社製のＨＰ４２８４Ａ型ＬＣＲメータを用いた。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍである水平配向素子に試料を入れた。この素子に０ボルトから２０ボルト電荷を印加し、静電容量および印加電圧を測定した。測定した静電容量（Ｃ）と印加電圧（Ｖ）の値を「液晶デバイスハンドブックク」（日刊工業新聞社）、７５頁にある式（２．９８）、式（２．１０１）を用いてフィッティングし、式（２．９９）からＫ_１１およびＫ_３３の値を得た。次に１７１頁にある式（３．１８）に、先ほど求めたＫ_１１およびＫ_３３の値を用いてＫ_２２を算出した。弾性定数Ｋは、このようにして求めたＫ_１１、Ｋ_２２およびＫ_３３の平均値である。

（１３）しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）
測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が０．４５/Δｎ(μｍ)であり、ツイスト角が８０度であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）のＴＮ素子に試料を入れた。この素子に印加する電圧（３２Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから１０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が９０％になったときの電圧である。

（１４）応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）
測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。ローパス・フィルター（Low-pass filter）は５ｋＨｚに設定した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５．０μｍであり、ツイスト角が８０度であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）のＴＮ素子に試料を入れた。この素子に矩形波（６０Ｈｚ、５Ｖ、０．５秒）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である。立ち上がり時間（τｒ：rise time；ミリ秒）は、透過率が９０％から１０％に変化するのに要した時間である。立ち下がり時間（τｆ：fall time；ミリ秒）は透過率１０％から９０％に変化するのに要した時間である。応答時間は、このようにして求めた立ち上がり時間と立ち下がり時間との和である。

（１５）粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
測定は、M. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍのＶＡ素子に試料を入れた。この素子に３０ボルト〜５０ボルトの範囲で１ボルト毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とＭ．Ｉｍａｉらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算に必要な誘電率異方性は、下記の誘電率異方性の項で測定した値を用いた。

（１６）誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）
誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。誘電率（ε‖およびε⊥）は次のように測定した。
１）誘電率（ε‖）の測定：よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン（０．１６ｍＬ）のエタノール（２０ｍＬ）溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、１５０℃で１時間加熱した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであるＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。
２）誘電率（ε⊥）の測定：よく洗浄したガラス基板にポリイミド溶液を塗布した。このガラス基板を焼成した後、得られた配向膜にラビング処理をした。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、ツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。

（１７）弾性定数（Ｋ_１１およびＫ_３３；２５℃で測定；ｐＮ）
測定には株式会社東陽テクニカ製のＥＣ−１型弾性定数測定器を用いた。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍである垂直配向素子に試料を入れた。この素子に２０ボルトから０ボルト電荷を印加し、静電容量および印加電圧を測定した。静電容量（Ｃ）と印加電圧（Ｖ）の値を、「液晶デバイスハンドブック」（日刊工業新聞社）、７５頁にある式（２．９８）、式（２．１０１）を用いてフィッティングし、式（２．１００）から弾性定数の値を得た。

（１８）しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）
測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に印加する電圧（６０Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから２０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が１０％になったときの電圧である。

（１９）応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）
測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。ローパス・フィルター（Low-pass filter）は５ｋＨｚに設定した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が３．２μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＰＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子にしきい値電圧を若干超える程度の電圧を１分間印加し、次に５．６Ｖの電圧を印加しながら２３．５ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を８分間照射した。この素子に矩形波（６０Ｈｚ、１０Ｖ、０．５秒）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である。応答時間は透過率９０％から１０％に変化するのに要した時間（立ち下がり時間；fall time；ミリ秒）である。

［実施例１］
［１，１’−ビフェニル］−３，３’，４，４’−テトライルテトラキス（２−メチルアクリレート）（化合物１−１−１）を下記のスキームに従って合成した。

第１工程３，４−ジヒドロキシフェニルボロン酸（Ｔ−２）の合成
４−ブロモカテコール（Ｔ−１）（１８．８ｇ；東京化成工業株式会社製）を乾燥したＴＨＦ（２００ｍｌ）に溶解させ、−７０℃まで冷却した。窒素雰囲気下、ｎ−ＢｕＬｉ（７２ｍｌ）を滴下し、−７０℃で２時間撹拌した。次に、ホウ酸トリメチル（１５．６ｇ）のＴＨＦ溶液を−７０℃でゆっくりと滴下し、室温まで昇温して１６時間撹拌した。反応終了後、２Ｎ−ＨＣｌ（１００ｍｌ）を加え、トルエンにて抽出した。抽出液を、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮して淡茶色固体を得た。このものを再結晶（容積比で、ヘプタン：トルエン＝４：１）することにより、３，４−ジヒドロキシフェニルボロン酸（Ｔ−２；９．７ｇ、収率６３％）を無色結晶として得た。

第２工程［１，１’−ビフェニル］−３，３’，４，４’−テトラオール（Ｔ−３）の合成
上記の工程で得た化合物（Ｔ−２）（９．７ｇ）と化合物（Ｔ−１）（１２．５ｇ）をイソプロパノール（ＩＰＡ）に溶解させ、パラジウム炭素（０．３８ｇ）および炭酸カリウム（１８．４ｇ）を加えて６時間加熱還流した。反応終了後、パラジウム炭素を濾過し、酢酸エチルにて抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した。この抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮して淡茶色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比で、トルエン：酢酸エチル＝２０：１）、及び再結晶（容積比で、トルエン：ヘプタン＝１：４）することにより、［１，１’−ビフェニル］−３，３’，４，４’−テトラオール（Ｔ−３）（１２．５ｇ、収率８６％）を無色結晶として得た。

第３工程化合物（１−１−１）の合成
上記の工程で得た化合物（Ｔ−３）（１２．５ｇ）、メタクリル酸（Ｔ−４）（２１．７ｇ）およびジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（３０．８ｇ）をジクロロメタンに溶解した。この溶液中に氷冷下、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（３０．７ｇ）を固体のまま投入し、室温で１２時間撹拌した。反応終了後、生じた不溶物をろ過し、ろ液をジクロロメタンにて抽出した。抽出液を、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮して無色液体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比で、トルエン：酢酸エチル＝２０：１）、及び再結晶（容積比で、ヘプタン：エタノール＝１：１）することにより、化合物（１−１−１）（１５．２ｇ、収率５４％）を無色結晶として得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ；ＣＤＣｌ_３）：７．６３（ｓ，２Ｈ）、７．５７（ｄ，２Ｈ）、７．３２（ｄ，２Ｈ）、６．４３（ｄ，４Ｈ）、６．１８（ｄ，４Ｈ）、２．０１（ｓ，１２Ｈ）．

化合物（１−１−１）の物性は、次の通りであった。
融点：７５℃、重合開始温度：１４０℃．

［実施例２］
［１，１’−ビフェニル］−２，２’，４，４’−テトライルテトラキス（２−メチルアクリレート）（化合物１−２−１）を下記のスキームに従って合成した。

実施例１に記載の方法と同様にして、５-ブロモレゾルシノール（Ｔ−５）（１８．８ｇ；東京化成工業株式会社製）およびメタクリル酸（Ｔ−４）（９．２９ｇ）から［１，１’−ビフェニル］−２，２’，４，４’−テトライルテトラキス（２−メチルアクリレート）（化合物１−２−１）（６．３７ｇ、収率１３％）を無色結晶として得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ；ＣＤＣｌ_３）：７．７３（ｄ，２Ｈ）、７．２４（ｓ，２Ｈ）、６．９６（ｄ，２Ｈ）、６．４２（ｄ，４Ｈ）、６．１６（ｄ，４Ｈ）、２．００（ｓ，１２Ｈ）．

化合物（１−２−１）の物性は、次の通りであった。
融点：８５℃、重合開始温度：１３３℃．

［実施例３］
［１，１’−ビフェニル］−３，３’，５，５’−テトライルテトラキス（２−メチルアクリレート）（化合物１−３−１）を下記のスキームに従って合成した。

実施例１に記載の方法と同様にして、４-ブロモレゾルシノール（Ｔ−８）（１８．８ｇ；東京化成工業株式会社製）およびメタクリル酸（Ｔ−４）（９．８ｇ）から化合物（１−３−１）（１７．６ｇ、収率３６％）を無色結晶として得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ；ＣＤＣｌ_３）：７．４７（ｓ，４Ｈ）、７．２６（ｓ，２Ｈ）、６．４３（ｄ，４Ｈ）、６．１９（ｄ，４Ｈ）、２．０１（ｓ，１２Ｈ）．

［実施例４］
化合物（１−１−３１）を下記のスキームに従って合成した。

化合物（Ｔ−１）の水酸基をメチル基で保護した化合物（Ｔ−１１）を出発原料として用い、化合物（１−１−３１）を得た。

融点：１５９．３℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３；δ ｐｐｍ）：７．４０（ｄ，２Ｈ），７．３７（ｄｄ，２Ｈ），７．２５（ｄ，２Ｈ），７．０６（ｓ，２Ｈ），６．３０（ｄ，４Ｈ），５．７４（ｄ，４Ｈ），２．０１（ｄ，１２Ｈ）．

［実施例５］
化合物（１−１−５５）を下記のスキームに従って合成した。

化合物（Ｔ−１）をメチル基で保護した化合物（Ｔ−１１）を用いて、実施例１の第１工程と同様の操作によって化合物（Ｔ−１７）を得た。続いて、１−ブロモ−３−フルオロ−４−ヨードベンゼン（Ｔ−１８）（東京化成工業株式会社製）と化合物（Ｔ−１７）との反応によって化合物（Ｔ−１９）を得たのち、２段階にて化合物（１−１−５５）を得た。

融点：１２９．０℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３；δ ｐｐｍ）：７．５３−７．５０（ｍ，４Ｈ），７．４３（ｄｄ，１Ｈ），７．３９−７．３４（ｍ，４Ｈ），６．３２（ｓ，４Ｈ），５．７６（ｓ，４Ｈ），２．０３（ｄ，１２Ｈ）．

［実施例６］
化合物（１−１−６５）を下記のスキームに従って合成した。

化合物（Ｔ−１７）および３−ブロモフルオロベンゼン（Ｔ−２１）（東京化成工業株式会社製）を出発原料として用い、化合物（１−１−６５）を得た。

融点：１４４．３℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３；δ ｐｐｍ）：７．６３（ｔ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ），７．４８（ｄｄ，１Ｈ），７．４４（ｄｄ，１Ｈ），７．４２（ｄ，１Ｈ），７．３７（ｄｄ，１Ｈ），７．３４（ｄ，１Ｈ），７．３０（ｄｄ，１Ｈ），７．２６（ｄ，１Ｈ），７．２１（ｄ，２Ｈ），６．３２−６．３０（ｍ，４Ｈ），５．７６−５．７４（ｍ，４Ｈ），２．０３（ｓ，９Ｈ），２．０２（ｓ，３Ｈ）．

［実施例７］
化合物（１−１−７４）を下記のスキームに従って合成した。

化合物（Ｔ−１７）および化合物（Ｔ−２７）を出発原料として用い、化合物（１−１−７４）を得た。化合物（Ｔ−２７）については、１−ブロモ−４−ヨードベンゼン（東京化成工業株式会社製）および３−フルオロフェニルボロン酸（東京化成工業株式会社製）とのクロスカップリング反応によって得た。

融点：１８６．８℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３；δ ｐｐｍ）：７．７４−７．７０（ｍ，４Ｈ），７．５９−７．４６（ｍ，７Ｈ），７．３８（ｄｄ，２Ｈ），６．３５（ｍ，４Ｈ），５．７８（ｍ，４Ｈ），２．０６（ｓ，１２Ｈ）．

［実施例８］
化合物（１−１−９５）を下記のスキームに従って合成した。

化合物（Ｔ−１）を出発原料として用い、化合物（１−１−９５）を得た。化合物（Ｔ−３５）については、化合物（Ｔ−１）の水酸基をベンジル基で保護したのち、実施例１の第１工程と同様の操作によって得ることができる。

融点：９７．６℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３；δ ｐｐｍ）：７．５４−７．５０（ｍ，５Ｈ），７．４４−７．３４（ｍ，４Ｈ），６．６０（ｄ，２Ｈ），６．３２−６．２７（ｍ，４Ｈ），６．０３（ｄ，２Ｈ），５．７６−５．７５（ｍ，２Ｈ），２．０４（ｓ，６Ｈ）．

［実施例９］
化合物（１−１−１１５）を下記のスキームに従って合成した。

化合物（Ｔ−１７）および３−ヨードブロモベンゼン（Ｔ−３９）（東京化成工業株式会社製）を出発原料として用い、化合物（１−１−１１５）を得た。

融点：６６．６℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３；δ ｐｐｍ）：８．０２（ｍ，１Ｈ），７．８７（ｄ，２Ｈ），７．８０（ｄｄ，２Ｈ），７．７５（ｄｄ，２Ｈ），７．６０（ｔ，１Ｈ），７．４８（ｄ，２Ｈ），６．２２（ｄ，４Ｈ），５．９２（ｍ，４Ｈ），１．９７（ｓ，１２Ｈ）．

実施例１〜９に記載された合成方法と同様の方法により、以下に示す化合物（１−１−１）〜（１−１−１１６）、化合物（１−２−１）〜（１−２−９０）、化合物（１−３−１）〜（１−３−７９）、化合物（１−４−１）〜（１−４−４６）、化合物（１−５−１）〜（１−５−４６）、化合物（１−６−１）〜（１−６−４６）、（１−Ａ−１）〜（１−Ａ−１６）、および（１−Ｂ−１）〜（１−Ｂ−１６）を合成することができる。

比較化合物の合成
［比較例１］
［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジイルビス（２−メタクリレート）（Ｒ−１）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−１）を４−ブロモフェノールに変更した以外は、実施例１と同様に反応を行い、比較化合物（Ｒ−１）の無色結晶を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ；δ ｐｐｍ）：７．２４（ｄ，４Ｈ），６．９６（ｄ，４Ｈ），６．４１（ｄ，２Ｈ），６．２６（ｄ，２Ｈ），１．９８（ｓ，６Ｈ）．

比較化合物（Ｒ−１）の物性は、次の通りであった。
融点：１５０℃、重合開始温度：１５２℃．

［比較例２］
（［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジイルビス（オキシ））ビス（エタン−２，１−ジイル）ビス（２−メタクリレート）（Ｒ−２）の合成

化合物（Ｓ−１７）の合成
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−１５）（１００ｇ，０．７６８ｍｏｌ）、トルエン（３００ｍＬ）、ピリジン（１００ｍＬ）の混合物中に、氷冷下、化合物（Ｓ−１６）（１６１ｇ，０．８４５ｍｏｌ）を滴下し、室温で１８時間撹拌した。水を加え、４０℃で４時間撹拌した後、反応溶液をトルエンで抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機溶媒を減圧下で留去し、化合物（Ｓ−１７）を無色液体（２０７ｇ）として得た。

化合物（Ｒ−２）の合成
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−１）（３０．０ｇ，０．１６１ｍｏｌ）、ＤＭＦ（２００ｍＬ）の混合物に、水素化ナトリウム（５５％）（１６．８ｇ，０．３８６ｍｏｌ）を加え、８０℃で１時間撹拌した。反応溶液にＢＨＴ（５．０００ｍｇ、０．０２２０ｍｍｏｌ）とＤＭＦ（６００ｍＬ）を加えた後、化合物（Ｓ−１７）（１１０ｇ，０．３８７ｍｏｌ）を加え、６０℃で４時間撹拌した。反応溶液に水を注ぎ、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、有機溶媒を減圧下で留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比で、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製後、エタノールより再結晶し、比較化合物（Ｒ−２）（２２．３ｇ）を無色結晶として得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ；δ ｐｐｍ）：７．４７（ｄ，４Ｈ），６．９８（ｄ，４Ｈ），６．１５（ｓ，２Ｈ），５．６０（ｔ，２Ｈ），４．５２（ｔ，４Ｈ），４．２６（ｔ，４Ｈ），１．９６（ｓ，６Ｈ）．

比較化合物（Ｒ−２）の物性は、次の通りであった。
融点：８９℃、重合開始温度：１８４℃．

［比較実験１]
液晶組成物への溶解度の比較
下記の液晶組成物Ａに、本発明の重合性化合物（１−１−１）、（１−２−１）、または（１−３−１）を０．３重量％の割合で添加した。この混合物を５０℃で３０分加熱し、均一な溶液を得た。この溶液を、溶解度−１（室温で２日間）、および溶解度−２（−２０℃で１０日間）の条件で放置したあと、結晶が析出したか否かを目視により観察した。比較化合物（Ｒ−１）または（Ｒ−２）についても同様な方法で観察した。表１に結果を示す。表１の記号において、“○”は結晶が析出しなかったことを、“×”は結晶が析出したことを示す。表１から、本発明の重合性化合物は、液晶組成物Ａへの溶解度が良好であることが分かる。

なお、液晶組成物Ａの成分は以下の通りであった。
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−４）１８％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−４）１７％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（１０−６）６％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−７）１０％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−７）６％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−７）６％
２−ＨＨ−３（１２−１）１４％
３−ＨＨ−４（１２−１）８％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）５％
３−ＨＨＢ−３（１３−１）６％
３−ＨＨＢ−Ｏ１（１３−１）４％

表１．液晶組成物への溶解度の比較

［比較実験２］
未反応の重合性化合物
上記の液晶組成物Ａに、重合性化合物（１−１−１）または（１−３−１）を０．３重量％の割合で添加し、溶解させた。この溶液に、１１ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を２７３秒間照射した。紫外線の照射には、ＨＯＹＡＣＡＮＤＥＯＯＰＴＲＯＮＩＣＳ株式会社製の水銀キセノンランプ、ＥＸＥＣＵＲＥ４０００−Ｄを用いた。得られた溶液に残存する重合性化合物の量をＨＰＬＣにより測定した。一方、比較化合物（Ｒ−２）についても液晶組成物Ａに残存する未反応の重合性化合物の量を同様に測定した。表２に結果を示す。

表２．未反応の重合性化合物

表２から、本発明の重合性化合物は、未反応物の量が比較化合物に比べて少ないことが分かる。したがって、化合物（１）は、重合反応において、高い転化率を有するといえる。表１と表２の結果から、重合性化合物（１−１−１）は、比較化合物より高い転化率を有し、他の液晶性化合物との相溶性に優れている、と結論できる。

２．液晶組成物の実施例
実施例における化合物は、下記の表３の定義に基づいて記号により表した。表３において、１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。実施例において記号の後にあるかっこ内の番号は化合物の番号に対応する。（−）の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の含有量（百分率）は、液晶性化合物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。最後に、液晶組成物の物性値をまとめた。物性は、先に記載した方法にしたがって測定し、測定値を（外挿することなく）そのまま記載した。

［実施例１０］
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−３８）１０％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）８％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）３％
３−ＨＨ−Ｏ１（１２−１）３％
３−ＨＨ−Ｖ（１２−１）３９％
３−ＨＨ−Ｖ１（１２−１）６％
Ｖ−ＨＨＢ−１（１３−１）５％
１−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ（１３−６）５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２（１４−５）４％
３−ＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（２−１３）４％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３（３−１００）６％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−９７）７％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−２−１）を０．３重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７５．６℃；Δｎ＝０．１０５；Δε＝６．７；η＝１３．６ｍＰａ・ｓ．

［実施例１１］
５−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４１）５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）４％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）７％
３−ＧＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−５６）３％
３−ＨＨ−Ｖ（１２−１）３６％
３−ＨＨ−Ｖ１（１２−１）７％
３−ＨＨＥＨ−５（１３−１３）３％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）４％
Ｖ−ＨＨＢ−１（１３−１）９％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１（１３−６）５％
１Ｖ２−ＢＢ―Ｆ（１２−８）３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−９７）６％
３−ＧＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１１８）５％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−６）３％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−１）を０．４重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝８５．９℃；Δｎ＝０．１０６；Δε＝７．２；η＝１５．３ｍＰａ・ｓ．

［実施例１２］
５−ＨＢ−Ｆ（２−２）１２％
６−ＨＢ−Ｆ（２−２）９％
７−ＨＢ−Ｆ（２−２）７％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３（３−１）７％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３（３−１）７％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３（３−１）７％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３（３−１）５％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３（３−４）４％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３（３−４）４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ２Ｈ（３−３）４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３（３−３）５％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ（３−５）３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ（３−２３）１０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ（３−２３）１０％
５−ＨＢＢＨ−３（１４−１）３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３（１４−２）３％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−３−１）を０．３重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝８５．４℃；Δｎ＝０．０９２；Δε＝４．５；η＝１５．６ｍＰａ・ｓ．

［実施例１３］
５−ＨＢ−ＣＬ（２−２）１１％
３−ＨＨ−４（１２−１）８％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３）８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−２４）２０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−２４）１５％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１２）１０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１２）３％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１２）３％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３９）３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３９）５％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３９）３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−６）６％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝８０．４℃；Δｎ＝０．１０３；Δε＝８．７；η＝２３．２ｍＰａ・ｓ．

［実施例１４］
２−ＨＨ−３（１２−１）７％
３−ＨＨ−４（１２−１）１６％
３−ＨＢ−Ｏ２（１２−５）１２％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−４）１４％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−４）１４％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２（７−１２）４％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−７）４％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−７）９％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−７）９％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）４％
３−ＨＨＢ−３（１３−１）４％
３−ＨＨＢ−Ｏ１（１３−１）３％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−２−１）を０．４重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７５．２℃；Δｎ＝０．０９２；Δε＝−３．９；η＝１９．０ｍＰａ・ｓ．

［実施例１５］
３−ＨＨ−Ｖ（１２−１）２５％
１−ＢＢ−３（１２−８）８％
３−ＨＢ−Ｏ２（１２−５）５％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−３）８％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−３）６％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−５）１３％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−５）２１％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１（１３−１）３％
２−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ−３（８−１）６％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７７．３℃；Δｎ＝０．１０５；Δε＝−３．２；η＝１５．６ｍＰａ・ｓ．

［実施例１６］
２−ＨＨ−３（１２−１）１９％
７−ＨＢ−１（１２−５）７％
５−ＨＢ−Ｏ２（１２−５）８％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−１）１５％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−１）１５％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−７）３％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−３）５％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（１０−６）５％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）４％
３−ＨＨＢ−３（１３−１）４％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２（１３−６）７％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３（１３−６）８％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−３−１）を０．３重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７６．２℃；Δｎ＝０．１００；Δε＝−２．５；η＝１９．８ｍＰａ・ｓ．

［実施例１７］
１−ＢＢ−３（１２−８）１０％
３−ＨＨ−Ｖ（１２−１）２９％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−３）８％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−３）６％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−５）２０％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−５）１３％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）８％
５−Ｂ（Ｆ）ＢＢ−２（１３−６）６％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−１）を０．４重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７３．４℃；Δｎ＝０．１０６；Δε＝−３．０；η＝１４．８ｍＰａ・ｓ．

［実施例１８］
３−ＨＨ−Ｖ（１２−１）２６％
５−ＨＨ−Ｖ（１２−１）８％
Ｖ−ＨＨＢ−１（１３−１）１２％
Ｖ２−ＨＨＢ−１（１３−１）４％
１−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ（１３−６）５％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１００）１０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−９７）７％
３−ＧＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１１８）７％
３−ＨＢＢＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−３２）７％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−３８）５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）４％
４−ＧＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−５６）５％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝８６．４℃；Δｎ＝０．１０５；Δε＝８．５；η＝１６．２ｍＰａ・ｓ．

［実施例１９］
１−ＢＢ−３（１２−８）１０％
３−ＨＨ−Ｖ（１２−１）２７％
３−ＨＢ−Ｏ２（１２−５）２％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−３）８％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−３）６％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−５）２０％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−５）１３％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）８％
２−ＢＢＢ（２Ｆ）−５（１３−８）６％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−５５）を０．３重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７３．３℃；Δｎ＝０．１０７；Δε＝−３．０；η＝１５．３ｍＰａ・ｓ．

［実施例２０］
１−ＢＢ−３（１２−８）１０％
３−ＨＨ−Ｖ（１２−１）２９％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−３）８％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−３）６％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−５）２０％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−５）１３％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）６％
３−ＨＨＢ−Ｏ１（１３−１）２％
２−ＢＢＢ（２Ｆ）−５（１３−８）６％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−５３）を０．２重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７４．０℃；Δｎ＝０．１０６；Δε＝−３．０；η＝１５．０ｍＰａ・ｓ．

［実施例２１］
５−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４１）５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）５％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）５％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）３％
３−ＨＨ−Ｖ（１２−１）４１％
３−ＨＨ−Ｖ１（１２−１）７％
３−ＨＨＥＨ−５（１３−１３）３％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）４％
Ｖ−ＨＨＢ−１（１３−１）５％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１（１３−６）５％
１Ｖ２−ＢＢ―Ｆ（１２−８）３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−９７）１１％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−６）３％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−７２）を０．１５重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝８２．０℃；Δｎ＝０．１０５；Δε＝６．３；η＝１１．９ｍＰａ・ｓ．

［実施例２２］
５−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４１）５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）７％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）３％
３−ＨＨ−Ｖ（１２−１）４１％
３−ＨＨ−Ｖ１（１２−１）７％
３−ＨＨＥＨ−５（１３−１３）３％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）２％
Ｖ−ＨＨＢ−１（１３−１）５％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１（１３−６）５％
１Ｖ２−ＢＢ―Ｆ（１２−８）３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−９７）１１％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−６）５％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−１０２）を０．２重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝８２．５℃；Δｎ＝０．１０６；Δε＝６．５；η＝１３．０ｍＰａ・ｓ．

［実施例２３］
５−ＨＢ−ＣＬ（２−２）１３％
３−ＨＨ−４（１２−１）８％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３）８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−２４）２０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−２４）１５％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１２）１０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１２）３％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１２）３％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３９）３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３９）３％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３９）３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−６）６％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−７４）を０．２重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７８．６℃；Δｎ＝０．１０２；Δε＝８．３；η＝２１．１ｍＰａ・ｓ．

［実施例２４］
５−ＨＢ−ＣＬ（２−２）１１％
３−ＨＨ−４（１２−１）１０％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３）８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−２４）１８％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−２４）１５％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１２）１０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１２）３％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１２）３％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３９）３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３９）５％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３９）３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−６）６％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−１０６）を０．２重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝８０．５℃；Δｎ＝０．１０１；Δε＝８．５；η＝２１．４ｍＰａ・ｓ．

［実施例２５］
２−ＨＨ−３（１２−１）１９％
７−ＨＢ−１（１２−５）７％
５−ＨＢ−Ｏ２（１２−５）８％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−１）１５％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−１）１５％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−７）１％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２（７−１３）２％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（１０−６）５％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）４％
３−ＨＨＢ−３（１３−１）４％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２（１４−５）７％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３（１４−５）８％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−３）５％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−１０３）を０．２重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７５．３℃；Δｎ＝０．０９８；Δε＝−２．５；η＝１９．８ｍＰａ・ｓ．

［実施例２６］
２−ＨＨ−３（１２−１）１９％
７−ＨＢ−１（１２−５）７％
５−ＨＢ−Ｏ２（１２−５）８％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−１）１５％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−１）１５％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−７）３％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（１０−６）５％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）４％
３−ＨＨＢ−３（１３−１）４％
３−ＨＨＢ−Ｏ１（１３−１）２％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２（１４−５）５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３（１４−５）８％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−３）５％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−１０８）を０．１５重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７４．５℃；Δｎ＝０．０９５；Δε＝−２．５；η＝１８．３ｍＰａ・ｓ．

［実施例２７］
５−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４１）５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）５％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）５％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−４７）３％
３−ＨＨ−Ｖ（１２−１）４１％
３−ＨＨ−Ｖ１（１２−１）７％
３−ＨＨＥＨ−５（１３−１３）３％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）４％
Ｖ−ＨＨＢ−１（１３−１）５％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１（１３−６）５％
１Ｖ２−ＢＢ―Ｆ（１２−８）３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−９７）１１％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−６）３％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−５５）を０．１５重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝８２．１℃；Δｎ＝０．１０５；Δε＝６．４；η＝１２．２ｍＰａ・ｓ．

［実施例２８］
５−ＨＢ−ＣＬ（２−２）１３％
３−ＨＨ−４（１２−１）８％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３）８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−２４）２０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−２４）１５％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１２）１０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１２）３％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−１２）３％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３９）３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３９）３％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（３−３９）３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（４−６）６％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−５５）を０．２重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７８．７℃；Δｎ＝０．１０１；Δε＝８．３；η＝２１．０ｍＰａ・ｓ．

［実施例２９］
２−ＨＨ−３（１２−１）１９％
７−ＨＢ−１（１２−５）７％
５−ＨＢ−Ｏ２（１２−５）８％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−１）１５％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−１）１５％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−７）１％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２（７−１３）２％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（１０−６）５％
３−ＨＨＢ−１（１３−１）４％
３−ＨＨＢ−３（１３−１）４％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２（１４−５）７％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３（１４−５）８％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（７−３）５％
上記の組成物に基づいて、下記の化合物（１−１−５５）を０．２重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７５．２℃；Δｎ＝０．０９６；Δε＝−２．６；η＝１９．６ｍＰａ・ｓ．

本発明の重合性化合物は、適切な重合反応性、高い転化率および液晶組成物への良好な溶解度を有する。本発明の液晶組成物は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、大きな誘電率異方性、高い比抵抗、適切なプレチルトおよび適切な弾性定数のような物性を有する。この組成物は、少なくとも２つの物性に関して適切なバランスを有する。重合性化合物は重合によって組成物中に重合体を与える。この組成物は、ＰＳＡモードを有する液晶表示素子に好適である。この組成物を含む液晶表示素子は、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、および長い寿命を有する。したがって、この素子はパソコン、テレビなどに用いることができる。

Claims

式（１）で表わされる化合物。

［式中、環Ａ^１、環Ａ^２、環Ａ^３、および環Ａ^４は独立して、フェニレンまたはシクロへキシレンであり、これらにおいて、少なくとも１つの水素は、炭素数１から１０のアルキル、フッ素、−ＣＦ_２Ｈ、または−ＣＦ_３で置き換えられてもよく；
Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４は独立して、単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３は、単結合であり；
ｓおよびｔは独立して０または１であり、ｓおよびｔの和は、１または２であり；
Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３、およびＰ^４は何れも同じ基（Ｐ−１）であり；

基（Ｐ−１）中、Ｍは、水素、フッ素、−ＣＨ_３、または−ＣＦ_３である。］
式（１−１）から（１−６）のいずれかで表される、請求項１に記載の化合物。

［式中、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４は独立して、単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｌ^１およびＬ^２は、単結合であり；
ｓは１であり；
Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３およびＰ^４は、何れも同じ基（Ｐ−１）である。］

［基（Ｐ−１）中、Ｍは、水素、フッ素、−ＣＨ_３、または−ＣＦ_３である。］
式（１−ａ）から（１−ｆ）のいずれかで表される、請求項１に記載の化合物。

［式中、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４は独立して、単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｌ^１およびＬ^２は、単結合であり；
ｓは１であり；
式（１−ａ）から（１−ｆ）のそれぞれの式において、Ｘ^１１、Ｘ^１２、Ｘ^１３、Ｘ^１４、Ｘ^１５、Ｘ^１６、Ｘ^１７、Ｘ^１８、Ｘ^１９、Ｘ^２０、Ｘ^２１、Ｘ^２２、Ｘ^２３、およびＸ^２４のうち少なくとも１つは、メチル、フッ素、−ＣＦ_２Ｈ、または−ＣＦ_３であり、残りは、水素であり；
Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３およびＰ^４は、何れも同じ基（Ｐ−１）である。］

［基（Ｐ−１）中、Ｍは、水素、フッ素、−ＣＨ_３、または−ＣＦ_３である。］
請求項２に記載の式（１−１）から（１−６）、および請求項３に記載の式（１−ａ）〜（１−ｆ）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４が独立して、単結合であり、ｓが１であり、Ｌ^１が単結合であり、Ｌ^２が、単結合であり、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３およびＰ^４が何れもＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−または何れもＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である、請求項２または３に記載の化合物。
請求項２に記載の式（１−１）から（１−６）、および請求項３に記載の式（１−ａ）〜（１−ｆ）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４が独立して、−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、または−ＣＨ＝ＣＨＯ−であり、ｓが１であり、Ｌ^１が単結合であり、Ｌ^２が、単結合であり、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３およびＰ^４が何れもＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−または何れもＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である、請求項２または３に記載の化合物。
請求項２に記載の式（１−１）から（１−３）、および請求項３に記載の式（１−ａ）〜（１−ｃ）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４が、単結合であり、ｓが１であり、Ｌ^１が単結合であり、Ｌ^２が、単結合であり、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３およびＰ^４が何れもＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−または何れもＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である、請求項２または３に記載の化合物。
請求項２に記載の式（１−１）から（１−３）、および請求項３に記載の式（１−ａ）〜（１−ｃ）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、およびＺ^４が独立して、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨＯ−であり、ｓが１であり、Ｌ^１が単結合であり、Ｌ^２が、単結合であり、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｐ^３およびＰ^４が何れもＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−または何れもＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−である、請求項２または３に記載の化合物。
請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物から得られる重合体。
請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物および請求項８に記載の重合体の群から選択される少なくとも１つを含有する液晶組成物。
式（２）、（３）および（４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項９に記載の液晶組成物。

［式中、Ｒ^３は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、これらにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ^１は独立して、フッ素、塩素、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₂ＣＨＦ₂、または−ＯＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃であり；
環Ｂ^１、環Ｂ^２および環Ｂ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；
Ｙ^１およびＹ^２は独立して、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ_２Ｏ−、または単結合であり；
Ｑ^１およびＱ^２は独立して水素またはフッ素である。］
式（５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項９または１０に記載の液晶組成物。

［式中、Ｒ^４は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、これらにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ^２は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｃ^１、環Ｃ^２および環Ｃ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｙ^３は、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ_２Ｏ−、または単結合であり；
Ｑ^３およびＱ^４は独立して水素またはフッ素であり；
ｑは、０、１または２であり、ｒは０または１である。］
式（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）および（１１）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項９に記載の液晶組成物。

［式中、Ｒ^５およびＲ^６は独立して炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、これらにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
環Ｄ^１、環Ｄ^２、環Ｄ^３および環Ｄ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロ−２，６−ナフタレンであり；
Ｙ^４、Ｙ^５、Ｙ^６およびＹ^７は独立して、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２（ＣＨ₂）₂−、または単結合であり；
Ｑ^５およびＱ^６は独立してフッ素または塩素であり；
ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎ、およびｐは独立して０または１であり、ｋ、ｌ、ｍ、およびｎの和は、１または２である。］
式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項９に記載の液晶組成物。

［式中、Ｒ^７およびＲ^８は独立して炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、これらにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
環Ｅ^１、環Ｅ^２および環Ｅ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；
Ｙ^８およびＹ^９は独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合である。］
請求項１３に記載の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１０に記載の液晶組成物。
請求項１３に記載の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１１に記載の液晶組成物。
請求項１３に記載の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１２に記載の液晶組成物。
請求項９〜１６のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。