JP6240536B2 - 化合物、樹脂および組成物 - Google Patents
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Description
このようななか、特許文献1には、所定の式で表される単官能性のフルオレン化合物が開示されている(請求項1)。特許文献1によれば、上記フルオレン化合物は優れた光学的特性(高屈折率など)を付与できる原料として有用である旨が記載されている([0022]段落)。
本発明者らは、特許文献1に記載の化合物について検討したところ、その溶解性や屈折率は必ずしも昨今求められているレベルに達しておらず、さらなる向上が必要であることを見出した。
(2) Ar3およびAr4の少なくとも一方が置換基を有していてもよい多環芳香族炭化水素環である、上記(1)に記載の化合物。
(3) 後述する一般式(2)で表される繰り返し単位を有する樹脂。
(4) 重量平均分子量が2,000〜100,000である、上記(3)に記載の樹脂。
(5) 上記(3)または(4)に記載の樹脂を含有する組成物。
なお、本明細書において、(メタ)アクリルとは、アクリルまたはメタクリルを表し、(メタ)アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを表す。
さらに、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本発明の化合物は、下記一般式(1)で表される。
上記一般式(L)中、L2は、単結合または2価の有機基を表す。2価の有機基は、直鎖状、分岐状若しくは環状の2価の脂肪族炭化水素基(例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基)、直鎖状、分岐状若しくは環状の2価の芳香族炭化水素基(例えば、フェニレン基)、または、これらを組み合わせた基であることが好ましい。上記組み合わせた基は、エーテル基(−O−)、エステル基(−COO−)、アミド基(−CONR222−)、ウレタン基(−NHCOO−)、ウレア基(−NH−CO−NH−)を介して組み合わせた基であってもよい。RLの定義は上述のとおりである。L2の具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、フェニレン基、および、これらの基が、メトキシ基、ヒドロキシル基、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等で置換されたもの、さらには、これらを組み合わせた基などが挙げられる。
上記一般式(L)中、L3は、単結合、−CO2−、−CO−、−O−CO−O−、−SO3−、−CONRL−、−NHCOO−、−O−、−S−、−SO2NRL−、または、−NRL−を表す。RLの定義は上述のとおりである。
また、上記一般式(L)中、*2は、一般式(1)中のAr1との結合位置を表す。
すなわち、一般式(1)中のLが一般式(L)で表される2価の連結基である場合、一般式(1)は下記一般式(1a)で表される。
上記アリーレン基は特に制限されないが、炭素数6〜30のアリーレン基が好ましく、炭素数6〜20のアリーレン基がより好ましい。アリーレン基を構成する環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、トリフェニレン環、ピレン環、ナフタセン環、ビフェニル環(2個のフェニル基は任意の連結様式で連結してもよい)、ターフェニル基(3個のフェニル基は任意の連結様式で連結してもよい)などが挙げられる。
上記ヘテロアリーレン基は特に制限されないが、5員、6員もしくは7員の環またはその縮合環からなるヘテロアリーレン基、上述のアリーレン基とヘテロアリーレンの縮合環からなるヘテロアリーレン基が好ましい。ヘテロアリーレン基に含まれるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子など挙げられる。ヘテロアリーレン基を構成する環の具体例としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、テトラジン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、インドリン環、イソインドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、ナフチリジン環、プリン環、プテリジン環などが挙げられる。
Ar1は、置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい2価の多環芳香族炭化水素基または2価の多環芳香族複素環基であることが好ましく、2価の多環芳香族炭化水素基であることがより好ましい。ここで、2価の多環芳香族炭化水素基とは多環芳香族炭化水素環の2価の基(多環芳香族炭化水素環から2つの水素原子を取り除くことで形成される2価の基)である。多環芳香族炭化水素環の定義、具体例および好適な態様は後述のとおりである。また、2価の多環芳香族複素環基とは多環芳香族複素環の2価の基(多環芳香族複素環から2つの水素原子を取り除くことで形成される2価の基)である。多環芳香族複素環の定義、具体例および好適な態様は後述のとおりである。
上記アリール基は特に制限されないが、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、炭素数6〜20のアリール基がより好ましい。アリール基を構成する環の具体例は上記Ar1がアリーレン基である場合と同じである。
上記ヘテロアリール基は特に制限されないが、5員、6員もしくは7員の環またはその縮合環からなるヘテロアリール基が好ましい。ヘテロアリール基に含まれるヘテロ原子およびヘテロアリール基を構成する環の具体例は上記Ar1がヘテロアリーレン基である場合と同じである。
Ar2は、置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい1価の多環芳香族炭化水素基または1価の多環芳香族複素環基であることが好ましく、1価の多環芳香族炭化水素基であることがより好ましい。ここで、1価の多環芳香族炭化水素基とは多環芳香族炭化水素環の1価の基(多環芳香族炭化水素環から1つの水素原子を取り除くことで形成される1価の基)である。多環芳香族炭化水素環の定義、具体例および好適な態様は後述のとおりである。また、1価の多環芳香族複素環基とは多環芳香族複素環の1価の基(多環芳香族複素環から1つの水素原子を取り除くことで形成される1価の基)である。多環芳香族複素環の定義、具体例および好適な態様は後述のとおりである。
上記アリール基の具体例および好適な態様は、上記Ar2がアリール基である場合と同じである。また、上記ヘテロアリール基の具体例および好適な態様は、上記Ar2がヘテロアリール基である場合と同じである。
ここで、多環芳香族炭化水素環とは、2個以上の環を有する芳香族炭化水素環であり、より具体的には、2個以上の単環芳香族炭化水素環(ベンゼン環)を有する縮合環である。なかでも、2個以上の単環芳香族炭化水素環同士が縮環した環であるのが好ましい。
多環芳香族炭化水素環の具体例としては、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、アセナフチレン環、クリセン環、フルオランテン環、ピレン環、トリフェニレン環、テトラセン環、ベンゾピレン環、ピセン環、ペリレン環、ペンタセン環、ヘキサセン環、ヘプタセン環、コロネン環などが挙げられる。なかでも、ナフタレン環が好ましい。
また、多環芳香族複素環とは、2個以上の環を有する芳香族複素環であり、より具体的には、2個以上の環を有し、かつ、1個以上の単環芳香族複素環を有する縮合環である。なかでも、1個以上の単環芳香族炭化水素環と1個以上の単環複素環とが縮環した環、または、2個以上の単環複素環が縮環した環であるのが好ましい。
多環芳香族複素環の具体例としては、アクリジン環、ベンゾキノリン環、カルバゾール環、フェナジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、カルボリン環、サイクラジン環、キンドリン環、テペニジン環、キニンドリン環、トリフェノジチアジン環、トリフェノジオキサジン環、フェナントラジン環、アントラジン環、ペリミジン環、ジアザカルバゾール環(カルボリン環を構成する炭素原子の任意の1つが窒素原子で置き換わったものを表す)、フェナントロリン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、ナフトフラン環、ナフトチオフェン環、ベンゾジフラン環、ベンゾジチオフェン環、ナフトジフラン環、ナフトジチオフェン環、アントラフラン環、アントラジフラン環、アントラチオフェン環、アントラジチオフェン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、チオファントレン環(ナフトチオフェン環)などが挙げられる。
多環芳香族複素環を構成する単環複素環は特に制限されないが、その具体例としては、上記Ar1がヘテロアリーレン基である場合のヘテロアリーレン基を構成する環の具体例のうち単環のものが挙げられる。例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、テトラジン環などが挙げられる。
また、Ar3およびAr4の一方が置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい多環芳香族炭化水素環または多環芳香族複素環であり、他方が置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい単環芳香族炭化水素環または単環芳香族複素環であるのが好ましい。なかでも、Ar3およびAr4の一方が置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい多環芳香族炭化水素環であり、他方が置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい単環芳香族炭化水素環であるのがより好ましい。
上記一般式(Z)中、Z2は、アリール基またはヘテロアリール基を表す。なかでも、ヘテロアリール基であることが好ましい。
上記アリーレン基およびアリール基を構成する環の具体例は上述したAr1〜Ar4と同じである。なかでも、ベンゼン環が好ましい。
上記ヘテロアリーレン基およびヘテロアリール基を構成する環の具体例としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、テトラジン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、インドリン環、イソインドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、ナフチリジン環、プリン環、プテリジン環などが挙げられる。なかでも、ベンゾチアゾール環が好ましい。
上記一般式(Z)中、*は結合位置を表す。
一般式(a)で表される部分構造の炭素数は特に制限されないが、30〜100であることが好ましく、40〜70であることがより好ましい。
上記一般式(1b)中、Rはそれぞれ独立に水素原子または置換基(例えば、後述する置換基W)を表す。なかでも、上述した一般式(Z)で表される基が好ましい。
上記一般式(1b)中、pおよびqはそれぞれ独立に0以上の整数を表す。ただし、pおよびqの少なくとも一方は1以上の整数である。pおよびqは0〜3の整数であることが好ましく、0〜2の整数であることがより好ましく、0または1であることがさらに好ましい。
なお、pおよびqは繋がっているベンゼン環の数を表す。例えば、p=0、q=1の場合の場合、一般式(1b)は下記一般式(1b−1)を表す。
本明細書における置換基Wについて記載する。
置換基Wとしては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アニリノ基を含む)、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基(−B(OH)2)、ホスファト基(−OPO(OH)2)、スルファト基(−OSO3H)、その他の公知の置換基などが挙げられる。
本発明の樹脂は、下記一般式(2)で表される繰り返し単位を有する。
本発明の樹脂中の全繰り返し単位に対する一般式(2)で表される繰り返し単位が占める割合は特に制限されないが、30mol%以上であることが好ましく、50mol%以上であることがより好ましく、70mol%以上であることがさらに好ましく、90mol%以上であることが特に好ましい。上限は特に制限されないが、100mol%(ホモポリマー)である。
なお、本明細書において重量平均分子量は、GPC(溶離液:THF)により測定されたポリスチレン換算値である。
上記一般式(2b)中、R、pおよびqの定義、具体例および好適な態様は、それぞれ、上述した一般式(1b)中のR、pおよびqと同じである。
本発明の樹脂の合成方法は特に制限されないが、好適な態様としては、例えば、上述した本発明の化合物をモノマーとして重合する方法が挙げられる。なお、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、本発明の化合物以外のモノマーを共重合成分として使用することができる。
そのようなモノマーとしては特に制限されないが、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートなどの無置換(メタ)アクリル酸エステル類、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、3,3,3−トリフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチルアクリレート、2−クロロエチル(メタ)アクリレートなどのハロゲン置換(メタ)アクリル酸エステル類、ブチル(メタ)アクリルアミド、イソプロピル(メタ)アクリルアミド、オクチル(メタ)アクリルアミド、2−エチルヘキシルアクリルアミド、ジメチル(メタ)アクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド類、スチレン、α―メチルスチレンなどのスチレン類、N−ビニルカルバゾール、酢酸ビニル、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルカプロラクタムなどのビニル化合物類や、その他にジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−エチルチオ−エチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
本発明の組成物は、上述した本発明の樹脂を含有する組成物である。
本発明の組成物は、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、他の成分を含有してもよい。そのような成分としては、溶剤、開始剤、モノマー、分散剤、可塑剤、熱安定剤、離型剤などが挙げられる。これらの成分としては、例えば、特開2012−251125号公報(対応する国際公開第2012/153826号)の段落[0013]以降の内容や特開2012−255148号公報(対応する国際公開第2012−157784号)の段落[0019]以降の内容が援用でき、これらの内容は本願明細書に取り込まれる。
本発明の組成物中の本発明の樹脂の含有量は特に制限されないが、10〜100質量%であることが好ましく、20〜90質量%であることがより好ましく、30〜90質量%であることがさらに好ましい。
本発明の化合物および本発明の樹脂ならびに上記樹脂を含有する組成物(以下、本発明の化合物等とも言う)の用途は特に制限されないが、例えば、レンズ(眼鏡レンズ、デジタルカメラ用レンズ、フレネルレンズ、プリズムレンズなど)、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、光ファイバー、光導波路、LED用封止材料、LED用平坦化材料、マイクロOLED用下地剤、太陽光電池用コーティング材として有用である。
なお、本発明の化合物は、一般式(2)で表される繰り返し単位を有する樹脂を合成するためのモノマーとして有用である。
次に、本発明の化合物等をカラーフィルタの下地剤として使用したマイクロOLED(マイクロ有機発光ダイオード)について図面を参照して説明する。
図1は、本発明の化合物等をカラーフィルタの下地剤として使用したマイクロOLEDの一態様の1画素分の断面図である。
マイクロOLED100は、基板10と有機EL素子20と保護膜30と下地層40とカラーフィルタ(赤色カラーフィルタ:50R、緑色カラーフィルタ:50G、青色カラーフィルタ:50B)とを備える。ここで、下地層40は本発明の化合物等を使用して形成される層である。
有機EL素子20のピッチ(中心間距離)pは、例えば、30μm以下であり、好ましくは、1〜5μmである。すなわち、有機EL素子20の寸法が極めて小さい。
保護膜30は、例えば、厚みが0.5〜10μmであり、例えば、窒化ケイ素により構成されている。
下地層40を形成する方法は特に制限されないが、例えば、本発明の化合物等を塗布し、硬化させる方法などが挙げられる。
マイクロOLED100は他の部材(例えば、リフレクターなど)を備えてもよい。リフレクターを備えることなどにより保護膜30の表面に凹凸が生じた場合、下地層40は平坦化層としても機能する。すなわち、本発明の化合物等は平坦化剤としても有用である。
公知の方法により下記A−1〜A−4(実施例1、3、5および7の化合物)および下記C−1(比較例1の化合物)を合成した。なお、各化合物の同定はNMRにより行った。図2にA−3の1H−NMRチャートを示す。また、図3にA−4の1H−NMRチャートを示す。
マグネシウム,削り状(和光純薬(株)製)15.8g(0.2171mol)をテトラヒドロフラン200mLで攪拌しているところに2−ブロモナフタレン(東京化成工業(株)製)134.9g(0.6514mol)のテトラヒドロフラン溶液600mLを滴下しGrignard試薬をした。その後0℃に冷却し、11H−ベンゾ[b]フルオレン−11−オン(東京化成工業製)50gのTHF溶液600mLを滴下した。滴下後、30分攪拌した後に飽和塩化アンモニウム水溶液を滴下し、反応を停止した。分液、濃縮して得られたオイルをカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=4/1)による精製を行い目的の三級アルコール65g(83.5%)を得た。
工程Aで得られた三級アルコール62g(0.1730mol)と2−ナフトール(東京化成工業(株)製)29.9g(0.2076mol)、3−メルカプトプロピオン酸(東京化成工業(株)製)2.8g(0.02595mol)のトルエン600mL溶液を60℃に加熱した。その溶液にメタンスルホン酸(東京化成工業(株)製)249.9g(2.595mol)を滴下した。滴下後、1時間攪拌した後に水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して得られたオイルをカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=3/1)による精製を行い目的のナフトール付加体77g(91.9%)を得た。
工程Bで得られたナフトール付加体74g(0.1527mol)と炭酸エチレン(東京化成工業(株)製)26.9g(0.3054mol)、炭酸カリウム(和光純薬(株)製)42.2g(0.3054mol)のジメチルホルムアルデヒド溶液740mLを110℃で3時間攪拌した。原料の消失を確認後、水酸化カリウム18.8%水溶液91gを添加した。原料の炭酸エチレンの消失を確認後、水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して得られた目的のアルコール68g(84.3%)を得た。
工程Cで得られたアルコールを68g(0.1286mol)のテトラヒドロフラン1000mL溶液にトリエチルアミン(和光純薬(株)製)52.1g(0.5145mol)を加え、0℃に冷却した。次にアクリル酸クロライド(東京化成工業(株)製)23.3g(0.2573mol)を滴下し、30分攪拌した。原料が消失していることを確認後、水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して得られたオイルに酢酸エチルを加え30%溶液にし、0℃に冷却したメタノールに滴下し、析出してきた目的の化合物(A−3)45g(60.0%)をろ過により回収した。
得られた各化合物(A−1〜A−4およびC−1)をモノマーとして用いて、公知の方法により樹脂(実施例および比較例の各樹脂)を合成した。
・実施例2の樹脂:A−1のホモポリマー(Mw:7300)
・実施例4の樹脂:A−2のホモポリマー(Mw:6500)
・実施例6の樹脂:A−3のホモポリマー(Mw:7500)
・実施例8の樹脂:A−4のホモポリマー(Mw:7900)
・比較例2の樹脂:C−1のホモポリマー(Mw:6000)
・本体:HLC−8220GPC(東ソー製)
・カラム:ガードカラム(HZ−L)、TSK gel Super(HZM−M)、TSK gel Super(HZ4000)、TSK gel Super(HZ3000)、TSK gel Super(HZ2000)を連結したもの
・溶離液:テトラヒドロフラン
・送液条件:サンプルポンプ 0.35mL/min、リファレンスポンプ 0.2mL/min
・カラム温調:40℃
・測定サンプル:0.1wt%濃度(0.5μmメンプレンフィルターろ過実施)
・注入量:10μm
・測定時間:26分
A−3(2g)(3.43mmol)とV−601(和光純薬(株)製)0.158g(0.686mmol)の40wt%シクロヘキサノン溶液4.26gを80℃のシクロヘキサン溶液0.9gに2時間かけて滴下した。滴下後、2時間攪拌した後にV−601(0.079g)(0.345mmol)を添加した。さらに90℃で2時間攪拌した後に、100℃で1時間攪拌し、2時間攪拌した。最後にシクロヘキサノン1.67gを追加してA−3のホモポリマー30%シクロヘキサノン溶液を得た。残存モノマーはNMRで観測されなかった。
C−1(2g)(3.43mmol)とV−601(和光純薬(株)製)0.213g(0.92mmol)の15wt%シクロヘキサノン溶液10.1gを80℃のシクロヘキサン溶液3.4gに2時間かけて滴下した。滴下後、2時間攪拌した後にV−601(0.101g)(0.46mmol)を添加した。さらに2時間攪拌した後に、100℃に昇温し、2時間攪拌した。C−1のホモポリマー15%シクロヘキサノン溶液を得た。残存モノマーはNMRで観測されなかった。
各化合物およびホモポリマーのシクロヘキサノンに対する溶解度(飽和溶液濃度)を調べ、以下の基準から溶解性を評価した。結果を表1に示す。AまたはBであることが好ましく、Aであることがより好ましい。
・A:溶解度が30wt%以上
・B:溶解度が20wt%超30wt%未満
・C:溶解度が20wt%以下
各化合物およびホモポリマーについてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液(5wt%)を調製し、スピン塗布して、100℃2分で乾燥させ、膜を調製した。次いで、得られた膜について屈折率(波長:500nm)を測定した(装置:大日本スクリーン製造(株)製エリプソ式膜厚測定装置 REシリーズ、RE−3320)。
そして、以下の基準から屈折率を評価した。結果を表1に示す。AまたはBであることが好ましく、Aであることがより好ましい。
・A:屈折率が1.70以上
・B:屈折率が1.65超1.70未満
・C:屈折率が1.65以下
20 有機EL素子
30 保護膜
40 下地層
50R 赤色カラーフィルタ
50G 緑色カラーフィルタ
50B 青色カラーフィルタ
100 マイクロOLED
Claims (7)
- 下記一般式(1)で表される化合物。ここで、R1は水素原子またはアルキル基、Lは2価の連結基、Ar1は置換基を有していてもよいアリーレン基またはヘテロアリーレン基、Ar2は置換基を有していてもよいアリール基またはヘテロアリール基、Ar3およびAr4はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール環またはヘテロアリール環を表す。ただし、Ar3およびAr4の少なくとも一方は置換基を有していてもよい多環芳香族炭化水素環または多環芳香族複素環である。また、Ar 2 が置換基を有するアリール基またはヘテロアリール基である場合、アリール基またはヘテロアリール基が有する置換基は、ハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アニリノ基を含む)、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基(−B(OH) 2 )、ホスファト基(−OPO(OH) 2 )、または、スルファト基(−OSO 3 H)である。
- 前記Ar3および前記Ar4の少なくとも一方が置換基を有していてもよい多環芳香族炭化水素環である、請求項1に記載の化合物。
- 前記Ar 2 が置換基を有さないアリール基またはヘテロアリール基である、請求項1又は2に記載の化合物。
- 下記(A1)〜(A11)のいずれかで表される化合物である、請求項1又は2に記載の化合物。
- 下記一般式(2)で表される繰り返し単位を有する樹脂。ここで、R1は水素原子またはアルキル基、Lは2価の連結基、Ar1は置換基を有していてもよいアリーレン基またはヘテロアリーレン基、Ar2は置換基を有していてもよいアリール基またはヘテロアリール基、Ar3およびAr4はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール環またはヘテロアリール環を表す。ただし、Ar3およびAr4のうち少なくとも一方は置換基を有していてもよい多環芳香族炭化水素環または多環芳香族複素環である。
- 重量平均分子量が2,000〜100,000である、請求項5に記載の樹脂。
- 請求項5または6に記載の樹脂を含有する組成物。
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