JP6204366B2 - 変位装置及び変位装置を製造、使用、制御する方法 - Google Patents
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Description
本願は、2011年10月27日に出願された米国特許出願第61/551953号明細書及び2012年8月30日に出願された米国特許出願第61/694776号明細書の優先権の利益を主張する。これらの優先出願は両方とも、参照により本明細書に援用される。
図1Aは、本発明の特定の実施形態による変位装置100の部分概略等角図である。図1B及び図1Cは、線1B−1B及び線1C−1Cのそれぞれに沿った変位装置100の部分概略断面図である。変位装置100は、可動式ステージ110と、固定子ステージ120とを備える。可動式ステージ110は、永久磁石112A、112B、112C、112D(まとめて磁石アレイ112)の複数の(例えば、図示の実施形態では4つの)アレイを備える。固定子ステージ120は複数のコイル122を備える。より詳細に後述するように、コイル122のそれぞれは、特定の次元に沿って細長く、それにより、固定子120の作業領域124(すなわち、可動式ステージ110が上を移動することが可能な領域)において、コイル122は効率的に、線形で細長いコイルトレース126を提供する。より詳細に後述するように、コイルトレース126のそれぞれは対応する軸を備え、その軸に沿って、コイルトレース126は線形に細長い。明確にするために、固定子120の作業エリア124の一部のみが図1A〜図1Cの図に示される。図1A〜図1Cの部分図外部で、コイル122が線形に細長くないループを有することが理解されるだろう。コイル122のループは、装置100の動作に影響しないように、固定子120の外部から十分遠くに配置される。
固定子120及びそのコイルアレイの更なる詳細についてこれより提供する。上述したように、固定子120は、作業領域124において概ね線形に向けられたコイルトレース126の複数の層128を備える。各層128は、互いに概して位置合わせされた(例えば、同じ方向において概ね線形に細長い)コイルトレース126を備える。図1A〜図1Eの図示の実施形態では、垂直に隣接する層128(すなわち、Z方向において互いに隣り合う層128)は、互いに直交して向けられたコイルトレース126を備える。例えば、層128A、128C(図1C)でのコイルトレース126Yは、Y軸に平行する向きで概して線形であり、層128B、128Dのコイルトレース126Xは、X軸に平行する向きで概して線形である。固定子120のコイルトレース126の層128の数が、図示の実施形態に示される4つのトレースに限定される必要がないことが理解されるだろう。一般に、固定子120は、コイルトレース126の任意の適する数の層128を備え得る。さらに、垂直に隣接する層128でのコイルトレース126の向きが互いに異なることは要件ではない。いくつかの実施形態は、Y向きトレース126Yのある数の垂直隣接層を備え、その後、X向きコイルトレース126Xのある数の垂直隣接層128を備える。
である。隣接するコイルトレース126が、図3A〜図3Cに示される実施形態と比較して互いから相対的により広く離間されていることが図3Dから見て取れる。図3Dの実施形態では、3つごとの隣接コイルトレース126は一緒にグループ化され、グループ134を提供し、各グループ134は対応する三相増幅器(図示せず)によって駆動し得る。一般に、コイルトレース126は、3nごと(nは正の整数)の隣接するコイルトレース126が、1つの対応する三相増幅器によって駆動し得る1つのグループ134を形成することができるように、グループ化し得る。図3Eは、Wc=λ/5であり、
であるレイアウトを示す。図3Eの実施形態では、4つごとの隣接するコイルトレース126が一緒にグループ化され、グループ134を提供する。図3Eの実施形態のグループ134は、対応する二相増幅器によって駆動し得る。前と同様に、コイルトレース126を記すために使用される記号’は逆電流を示す。一般に、コイルトレース126は、2n(nは正の整数)ごとの隣接するコイルトレース126が1つのグループ134を形成することができるようにグループ化し得る。
に設計される。但し、Kは正の整数である。OLがこの特徴を有し、特定の列内の隣接するY向きトレース(例えば、a1及びa2と記されるコイルトレース126Y)が、等しい電流で駆動される場合、磁石アレイ112によって生成される五次高調波磁場と、同じ列内の2つのオフセットトレース126Y(例えば、コイルトレースa1及びa2)との間の力は、互いに相殺される傾向を有する(すなわち、互いを減衰させる)。いくつかの実施形態では、OLは
に設定される。但し、Kは正の整数である。OLがこの特徴を有し、特定の列内の隣接するY向きトレース126Y(例えば、a1及びa2と記されるコイルトレース126Y)が等しい電流で駆動される場合、磁石アレイ112によって生成される九次高調波磁場と、同じ列内の2つのオフセットトレース126Y(例えば、コイルトレースa1及びa2)との間の力は互いに相殺される(すなわち、互いに減衰する)。
に設定され、隣接するYトレース層のY向きコイルトレース(例えば、a1及びa2と記されるコイルトレース126Y)は、逆の電流で駆動される。その結果、1つの層128に流入する電流は、隣接する層128から流れ出て、巻線の巻きを形成する。
倍高く設定することによって達成し得る。但し、GLは、隣接する層128内のY向きコイルトレース126YのZ方向中心間隔である。例えば、a2と記されるコイルトレース126Y内の電流は、a1と記されるトレース126Y内の対応する電流の少なくとも約
倍高く設定することができる。Y向きコイルトレース126Yの1つ置きの層128の1つの列のトレース126Y内の電流(例えば、a1及びa3と記されるトレース126Y内の電流)は、同じに設定し得る。
倍高く設定することによって達成し得る。但し、GLは、隣接する層128内のY向きコイルトレース126YのZ方向中心間隔である。例えば、a2と記されたコイルトレース126Y内の電流は、a1と記されるトレース126Y内の対応する電流よりも少なくとも約
倍高く設定することができる。Y向きコイルトレース126Yの1つ置きの層128の1つの列のトレース126Y内の電流(例えば、a1及びa3と記されたトレース126Y内の電流)は同じに設定し得る。
図6A及び図6B(まとめて図6)は、磁石アレイ112のレイアウトの概略部分断面図であり、磁石アレイ112は、図1の変位装置100の可動式ステージ110で使用し得るとともに、いくつかの磁石アレイパラメータを示すのに有用である。図6Aでの磁石アレイ112A、112B、112C、112Dのレイアウトが、図1Bの磁石アレイ112A、112B、112C、112Dのレイアウトと同じであることを観察することができる。図6Bの磁石アレイ112A、112B、112C、112Dのレイアウトは、図6A及び図1Bの磁石アレイ112A、112B、112C、112Dのレイアウトと同様である。このセクションでの考察は、図6A及び図6Bに示される両レイアウトに当てはまる。
に等しく、式中、Ngは負ではない整数である。スペーサ136の幅gがこの属性を示す場合、スペーサ136は、磁石アレイ112の五次高調波磁場によって生まれる外乱トルク及び/又は力への減衰(相殺)の効果を有する。一般に、非磁性スペーサ136の幅gは少なくとも、約
に等しく設定し得る。式中、Ngは上述した属性を有し、kは、減衰させるべき磁場の高調波の次数である。いくつかの実施形態では、スペーサ136(図8A〜図8Lに示されるY磁石アレイ112の)には、X軸幅gを提供し得、これは少なくとも、約
に等しく、式中、Kgは負ではない整数であり、Wcは、Y方向において概して細長いコイルトレース126のX軸幅である。スペーサ136の幅gがこの属性を示す場合、スペーサ136は、磁石アレイ112の五次高調波磁場によって生まれる外乱トルク及び/又は力への減衰(相殺)の効果を有する。一般に、非磁性スペーサ136の幅gは少なくとも、約
に等しく設定し得る。式中、Kg及びWcは上述した属性を有し、kは、減衰させるべき磁場の高調波の次数である。
上述したように、図6A及び図6Bは、特定の実施形態により変位装置100の可動式ステージ110で使用し得る磁石アレイ112のレイアウトを示す。特定の実施形態によれば、磁石アレイ112を可動式ステージ110に配置する際、2つの隣接する平行アレイ(例えば、図6の実施形態の場合ではX磁石アレイ112A及びX磁石アレイ112C等の一対のX磁石アレイ112及び/又は図6の実施形態ではY磁石アレイ112B及びY磁石アレイ112D等の一対のY磁石アレイ112)の間隔Smは、少なくとも約
であるように選択し得る。式中、Nsは負ではない整数であり、Pcは上述したコイルトレースピッチである(図2参照)。複数の平行磁石アレイ112が、この間隔特徴を用いて設計される場合、この間隔特徴は、コイルトレース126の離散性(すなわち、有限寸法)によって生じることがある力及び/又はトルクリップルをなくすか、又は低減するのに役立つ。
であるように設計される。式中、Nsは正の整数である。隣接する平行磁石アレイ112(例えば、図6の実施形態の場合ではX磁石アレイ112A及びX磁石アレイ112C等の一対のX磁石アレイ112及び/又は図6の実施形態ではY磁石アレイ112B及びY磁石アレイ112D等の一対のY磁石アレイ112)の間隔Smは、この特徴を有するように設計される場合、平行磁石アレイ112が同じ磁化パターンを有し、且つNsが偶数であるか、又は平行磁石アレイ112が逆の磁化パターンを有し、且つNsが奇数であるとき、各平行磁石アレイ112の活性コイルトレース126での電流分布は空間分布と略同様(すなわち、同相)であることができる。
いくつかの実施形態では、磁石アレイ112は、いわゆる「ハルバッハアレイ」と同様の特徴を備える。通常、ハルバッハアレイの磁場は、主に正弦曲線であり、小量の五次高調波歪みを有すると仮定される。この仮定は、長い多周期ハルバッハアレイの十分に内側(すなわち、エッジから離れた)位置では比較的正確である。しかし、ハルバッハアレイのエッジでは、例えば、図7及び図8に示される磁石アレイ112のいくつかでの場合のように、特に磁石アレイが1〜2磁気周期(λ)幅である場合、磁場は正弦波曲線からほど遠い。磁石アレイ112のエッジでの磁場の歪みは、フリンジ磁場効果と呼ぶことができる。そのような非正弦曲線場に少なくとも大凡線形の力特徴を達成するように整流法則を設計することは難しいことがある。
に従ってモデル化することができる。式中、λc=λ/2πであり、(xm,zm)は、磁石アレイ112の下面下の空間の任意のポイントである。磁石アレイ112はX軸幅において有限であるが、その磁場は、まるで磁石アレイ112が、磁化セグメント114の周期的な磁化パターンが連続して繰り返される状態で、X方向において無限に延びるかのようにモデル化することができる。使用される磁場畳み込み方法に起因して、このモデル化仮定は、力の計算の正確性にあまり影響しない。図12に示されるように、コイルトレース126は(xm,zm)に配置される(すなわち、センタリングされる)。このコイルトレース126の位置(xm,zm)が、磁石アレイ112の真下にあるか、それとも磁石アレイ112のX次元エッジを超えているかに関係なく、
に従ってこの磁石アレイ112のこのコイルトレース126を励起させることができる。式中、Iは、位置(xm,zm)でのトレース126の電流であり、Fax及びFazはX方向及びZ方向それぞれで磁石アレイ112に付与される所望の力を表し、kはアクチュエータ一定係数であり、電流基準方向(正の電流方向)はYm軸に一致する(すなわち、電流が図12のページに流入する場合、Iは正である)。磁石アレイ112の全ての活性電流トレース126が、上記の整流法則に従って励起する場合(各コイルトレース126は別個の空間位置を有するため、当然、各トレース126は異なる電流振幅/方向を有することができる)、磁石アレイ112に付与されるアクチュエータ力はFax及びFazである。同じ横方向位置(例えば、図12での同じX軸位置)にあるが、異なる層128にあるコイルトレース126は、直列接続する(すなわち、同じ電流を有する)こともでき、又は個々に制御することもできる。直列接続される場合、同じ横方向位置にあるが、異なる層128にあるコイルトレース126の所望の電流振幅は、最上層128上のコイルトレース126の位置に基づいて計算することができる。
変位装置100での固定子120に対する可動式ステージ110の位置を正確に制御するために(例えば、典型的なリソグラフィプロセス等に望まれる精度まで)、可動式ステージ110及び固定子120の相対位置を知ることが望ましい。上述したように、可動式ステージ110に付与される力は、コイルトレース126(固定子120上)と磁石アレイ112(可動式ステージ110上)との相対間隔に依存する。これらの相対位置を特定する難しさを生じさせるおそれがある問題は、固定子120等上の反力による地面振動によって生成されることがある固定子120の移動である。図14Aは、計測枠202に対する可動式ステージ110及び固定子120の位置を別個に測定する検知システム200の一実施形態を概略的に示す。図示の実施形態では、固定子120は固定子枠204(地面又は別の振動分離システム(図示せず)によって支持し得る)によって支持され、可動式ステージ110は、上述したように、磁石アレイと通電コイルトレースとの相互作用によって生じる作動力の影響下で、固定子120の上方で浮動する。固定子枠204は、機械的支持及び熱的冷却を固定子120のコイル組立体に提供することができる。
図15は、図1の変位装置100の制御での使用に適する制御システム300の概略ブロック図を示す。制御システム300は、プログラムされた、適するコントローラ(明示せず)によって実施し得る。そのようなコントローラ(及びその構成要素)は、ハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、又はそれらの任意の組み合わせを含み得る。例えば、そのようなコントローラは、1つ又は複数のプロセッサ、ユーザ入力装置、ディスプレイ等を備えるプログラムされたコンピュータシステムで実施し得る。そのようなコントローラは、1つ又は複数のプロセッサ、ユーザ入力装置、ディスプレイ等を備える、適するユーザインタフェースを有する埋め込みシステムとして実施し得る。プロセッサは、マイクロプロセッサ、デジタル信号プロセッサ、グラフィックスプロセッサ、フィールドプログラマブルゲートアレイ等を含み得る。コントローラの構成要素は、結合又は細分することができ、コントローラの構成要素は、コントローラの他の構成要素と共有される下位構成要素を備え得る。コントローラの構成要素は、互いに物理的に遠隔にあってもよい。コントローラは、コイルトレース126において電流を駆動する1つ又は複数の増幅器(明示せず)を制御し、それにより、固定子120に対して可動式ステージ110を制御可能に移動させるように構成される。
を含み得る。式中、qr1、...、qr6は、剛体移動を定義する6状態に望ましい(基準)移動値を表し(例えば、3つの並進移動状態及び3つの回転状態)、qr7、qr8は2つの柔軟振動モード状態の基準値を表す。いくつかの実施形態が異なる数の剛体状態及び/又は柔軟モード状態を使用し得ることが理解されるだろう。
を含み得る。式中、qf1、...、qf6は、剛体移動を定義する6状態のフィードバック値(例えば、フィードバック位置値)を表し(例えば、3つの並進移動状態及び3つの回転状態)、qf7、qf8は2つの柔軟振動モード状態のフィードバック値を表す。
に変更し得る。式中、コイルトレース126の上方の磁石アレイ112の実際の相対高さの代わりに、公称一定垂直位置z0を各磁石アレイ112に使用し、公称一定垂直位置z0は、可動式ステージの座標枠内のコイルトレース126の公称位置である。例えば、いくつかの実施形態では、z0=−1mmである。コイルトレース126の上方の磁石アレイ112の高さが増大する場合、Z方向(浮上)力が増大することにより、一定値z0は受動的な浮上効果を生み出す。この受動的浮上効果は、可動式ステージ110のZ方向の能動的制御よりも外力の影響を比較的受けやすいことがあるが、この受動的浮上効果はそれでもなお、可動式ステージ110が機械的接触なしで固定子120の上方に浮上することを保証する。非限定的な例として、この受動的なZ方向制御戦略は、低コスト用途で、その他の様式で位置の不確かさにより寛容な用途等で、可動式ステージ110を重要性の低い作業ゾーン内で移動させることが望ましい場合に有用である。
フォトリソグラフィ、自動組み立てシステム等の特定の用途では、2つ以上の可動式ステージを同時に独立して制御することが望ましいことがある。これは、例えば、対応する複数の独立制御可能な固定子を提供し、各固定子上の1つの可動式ステージの移動を制御することによって達成し得る。いくつかの状況では、可動式ステージを置き換える(例えば、可動式ステージをある固定子から別の固定子に移す)ことが望ましい。
Z軸を中心とした回転移動と共に、いくらかのZ方向移動(例えば、mm尺度で)を有する回転式変位装置への産業上の需要がある。図19Aは、本発明の一実施形態による回転式変位装置500の水平断面図である。図19B及び図19Cはそれぞれ、変位装置500の可動式ステージ(回転子)510の下部断面図及び変位装置500の固定子520の上面図を示す。図19Bから最もよく見ることができるように、可動式ステージ510は、磁化セグメント514を有する磁石アレイ512を備え、磁化セグメント514は、半径方向において細長く、円周に向けられた磁化方向を有する。上述したXY可動式ステージを用いる場合と同様に、磁化セグメント514の磁化方向の向きは、縦方向に延びる方向に概ね直交する−すなわち、回転式変位装置500の場合では、磁化セグメント514の磁化方向の円周向きは、磁化セグメント514が物理的に細長い方向(半径方向)に概ね直交する。
に設定することができる。但し、Kは整数である。オフセット角OLがこの属性を示す場合、このオフセットは、磁石アレイ512の五次高調波磁場によって生じ得る力/トルクリップルを相殺する傾向を有することができる。図19Dの可動式ステージ510’及び図19Eの固定子520’は両方とも同時に使用可能なことに留意されたい。
図20Aは、別の実施形態による変位装置600を概略的に示す。変位装置600は、複数の磁石アレイ612を備える可動式ステージ(明示せず)を備える。図示の実施形態では、変位装置600は3つの磁石アレイ612(612A、612B、612Cと記される)を備える。各磁石アレイ612A、612B、612Cは、対応する複数の磁化セグメント614A、614B、614Cを備え、磁化セグメントは、X−Y平面において特定の向きにおいて概ね線形に細長い−例えば、磁石アレイ612Aの磁化セグメント614Aは線形に細長いある向きを有し、磁石アレイ612Bの磁化セグメント614Bは線形に細長い第2の向きを有し、磁石アレイ612Cの磁化セグメント614Cは線形に細長い第3の向きを有する。本明細書に記載される他の変位装置を用いる場合と同様に、磁化セグメント614A、614B、614Cの磁化方向は、物理的に細長い方向に概ね直交し得る。相対的な向き以外、磁石アレイ612及び磁化セグメント614の特徴は、磁石アレイ112及び磁化セグメント114について上述した特徴と同様であり得る。
に等しく設定し得る。式中、Nmは任意の整数である。この特徴を有するようにOmを設定することは、Y方向に電流を流すコイルトレース126を有する磁石アレイ112の磁場の五次高調波の相互作用の影響を減衰又は相殺し、それにより、関連付けられた力のリップルを低減するか、又は最小に抑える傾向を有する。いくつかの実施形態では、オフセットOmは少なくとも大凡Omに等しく設定し得、
に設定されて、Y方向に電流を流すコイルトレース126を有する磁石アレイ112の磁場の九次高調波の相互作用の影響を減衰させ得る。いくつかの実施形態では、オフセットOmは少なくとも大凡、
に等しく設定し得る。式中、Nmは任意の整数であり、WcはY方向に概して細長いコイルトレース126のX軸幅である。この特徴を有するようにOmを設定することは、Y方向において電流を流すコイルトレース126を有する磁石アレイ112の磁場の五次高調波の相互作用の影響を減衰又は相殺し、それにより、関連付けられた力のリップルを低減するか、又は最小に抑える傾向を有する。いくつかの実施形態では、オフセットOmは少なくとも大凡Omに設定し得、
に設定されて、Y方向に電流を流すコイルトレース126を有する磁石アレイ112の磁場の九次高調波の相互作用の影響を減衰させ得る。
(図25Dではa、b、c、f、g、hと記される)を有する6つのサブアレイと、Y次元長
を有する1つのサブアレイ(図25Dではd−eと記される)とを備える。但し、Lmは磁石アレイ112のY次元総長である。図25Dは、サブアレイ(a、b、c、d−e、f、g、h)のうちのいくつかがいかに、互いに対してシフト又はオフセットされるか(X方向において)を示す。図25C及び図25Dの実施形態では、サブアレイb及びgはX方向において位置合わせされ、サブアレイa及びhは、サブアレイb及びgに対して量Om2だけシフトされ(図示のビューでは右側に)、サブアレイd及びe(一緒にサブアレイd−e)は、サブアレイb及びgに対して量Om1だけシフトされ(図示のビューでは右側に)、サブアレイc及びfは、サブアレイb及びgに対して量2Om2+Om1だけシフトされる(図示のビューでは右側に)。図示の実施形態の各サブアレイa、b、c、d−e、f、g、hはX次元幅Wmを有する。線A−A(磁石アレイ112のY寸法Lmの中心において)での鏡面対称は、図25C、図25Dの磁石アレイ112へのモーメント及び/又は力外乱を低減するか、又は最小に抑える。図25C、図25Dの構成によって減衰される高調波は、2Om1及び2Om2に等しい空間波長を有する。例えば、Om1=λ/10及びOm2=λ/26に設定することにより、磁場の五次高調波及び十三次高調波が減衰される。一般に、Om1=λ(M−0.5)/pに設定することにより、Om1=λ(N−0.5)/qは、λ/p及びλ/qの両方の波長(空間周期)の高調波磁場から生じる外乱モーメント/力を大きく最小化する。但し、M及びNは任意の整数である。
に等しく設定し得る。式中、
は減衰すべき磁場の空間高調波の波長であり、kは正の整数である。例えば、図26Aの磁石アレイ112の五次高調波磁場の影響を減衰することが望まれる場合、Opはkλ/5−Wcに設定することができる。但し、kは正の整数である。
・図22、図23、及び図24の実施形態に示されるコイルトレースはY向きコイルトレースである。X向きコイルトレースに同様の特徴を提供可能なことが理解されるだろう。同様に、図25及び図26の実施形態に示される磁石アレイはY磁石アレイであるが、X磁石アレイに同様の特徴を提供可能なことが理解されるだろう。図25及び図26の実施形態に示される磁石アレイはまた、特定の磁化パターンを有する。一般に、これらの磁石アレイには、例えば、任意の図7及び図8に示されるような任意の適する磁化パターンを提供し得る。
・可動式ステージ110上の磁石アレイ112の移動によって誘導される渦電流を最小に抑えるか、又は低減するために、コイルトレース126の幅は比較的狭くし得る。いくつかの実施形態では、各コイルトレース126は複数のサブトレース126’を備え得る。そのような実施形態は図27A(上面図)及び図27B(断面)に概略的に示される。図27Aのコイルトレース126A、126B、126Cでは、各コイルトレース126A、126B、126Cは、複数の対応するサブトレース126A’、126B’、126C’(まとめてサブトレース126’)を備え、各サブトレース126’は、対応するコイル126の幅Wcの関数である幅Tcを有する。各サブトレース126’は、対応するトレース126を通って流れる電流の一部をのみを流す。図27Aの実施形態の各サブトレース126’は、幅Tfの絶縁体によって隣接するサブトレース126’から絶縁されるが、一般に、絶縁体の幅Tfがコイルトレース126内で必ずしも均一である必要はなく、高い表面充填率を達成するために、Tfの最小化が望まれる。一般に、トレース幅Wc、サブトレース幅Tc、及びTfを有する絶縁に応じて、任意の適する数のサブトレース126’を各トレース126に提供し得る。各対応するコイルトレース126のサブトレース126’は、端部(図示の実施形態の場合ではY次元端部)において電気的に並列接続し得る。サブトレース126’が互いに接続される領域は、装置100の作業領域外−すなわち、可動式ステージ110の移動範囲外にあってもよいが、これは必ずしも必要なことではない。他の実施形態では、サブトレース126’は互いに直列接続し得る。コイルサブトレース126’は、既知のPCB製造技術を使用して製造し得る。図27Bは、1つの特定のトレース126及びその対応するサブトレース126’の断面図を示す。
・コイルトレース126は、PCB技術以外の技法を使用して製造することもできる。概ね線形に細長い形状であることも、そのような形状であり得る任意の導体を使用して、コイルトレース126を提供することもできる。図28A及び図28Bは、丸い断面を有するコイルトレース126を備える固定子120の活性領域124にコイル122を有する一例を示す。図28Bは、トレース126がいかに、X方向及びY方向において概ね線形に細長く、トレースX向きトレース126XとY向きトレース126Yの交互になった層128を提供するかの詳細を示す。図28A及び図28Bに示される各トレース126は、様々な断面の更なるサブトレースで構成し得る。図28Cは一例を示し、この例では、円形断面を有するトレース126は、円形断面を有する複数のサブトレース126’を備える。このトレースを実施する一般的な一方法は、外側絶縁体を有する標準のマルチフィラメントワイヤを使用することである。図28Dは、円形断面のサブトレース126’を有する、矩形断面を有するコイルトレース126の一例を示す。
・図示の実施形態では、異なる層128上のコイルトレース126は、互いに同じものとして示されている。いくつかの実施形態では、異なる層128上のコイルトレース126及び/又は異なる向き(例えば、X向き及びY向き)を有するコイルトレース126は、互いとは異なる属性を有し得る。非限定的な例として、X向きコイルトレース126は、第1のコイル幅Wc1及び/又はコイルピッチPc1を有し得、Y向きコイルトレース126は、X向きコイルトレース126の幅及びピッチと同じであってもよく、又は異なってもよい第2のコイル幅Wc2及び/又はコイルピッチPc2を有し得る。追加又は代替として、コイルトレース126の他の属性は互いに異なることができる。同様に、磁石アレイ112(例えば、異なる向きの磁石アレイ112(例えば、X磁石アレイ及びY磁石アレイ112)又は同じ向きを有する偶数の磁石アレイ112)は、互いに同じものとして示されている。いくつかの実施形態では、異なる磁石アレイ112は、互いに異なる属性を有し得る。非限定的な例として、X磁石アレイは第1の幅Wm1及び/又は空間周期λ1を有することができ、Y磁石アレイは第2の幅Wm2及び/又は空間周期λ2を有し得る。追加又は代替として、磁石アレイ112の他の属性は互いに異なり得る。
・この説明及び添付の特許請求の範囲では、要素(層128、コイルトレース126、移動ステージ110、又は磁石アレイ112等)は、ある方向において、又はある方向に沿って互いに重なると言える。例えば、異なる層128からのコイルトレース126は、Z方向において、又はZ方向に沿って互いに重なり得る。2つ以上の物体がZ方向において、又はZ方向に沿って重なると説明される場合、この使用は、Z方向向きの線を描いて、2つ以上の物体に交差可能なことを意味するものと理解されるべきである。
・本明細書に提供される説明及び図面において、可動式ステージは、静的であり、ステージのX軸、Y軸、及びZ軸が、対応する固定子のX軸、Y軸、及びZ軸と同じであるものとして示される。このカスタムは、簡潔にするために本開示に利用される。当然、本開示から、可動式ステージが固定子に対して移動可能であり(且つそのように移動するように設計され)、その場合、可動式ステージのX軸、Y軸、及びZ軸はもはや固定子のX軸、Y軸、及びZ軸と同じではない(位置合わせされない)ことがあることが理解されるだろう。したがって、以下の特許請求の範囲では、固定子のX軸、Y軸、及びZ軸は固定子X軸、固定子Y軸、及び固定子Z軸と呼ばれ、可動式ステージのX軸、Y軸、及びZ軸は、ステージX軸、ステージY軸、及びステージZ軸と呼ばれる。対応する方向は、固定子X方向(固定子X軸に平行する)、固定子Y方向(固定子Y軸に平行する)、固定子Z方向(固定子Z軸に平行する)、ステージX方向(ステージX軸に平行する)、ステージY方向(ステージY軸に平行する)、ステージZ方向(ステージZ軸に平行する)と呼ばれる。固定子軸に関連して定義される方向、位置、及び平面は一般に、固定子方向、固定子位置、及び固定子平面と呼ぶことができ、ステージ軸に関連して定義される方向、位置、及び平面は一般に、ステージ方向、ステージ位置、及びステージ平面と呼ぶことができる。
・上記の説明では、固定子は電流を流すコイルトレースを備え、可動式ステージは磁石アレイを備える。当然、これを逆にし得ること−すなわち、固定子が磁石アレイを備え、可動式ステージが、電流を流すコイルトレースを備え得ることが可能である。また、構成要素(例えば、固定子又は可動式ステージ)が実際に移動しているか否か、又は構成要素が実際に静止しているか否かは、構成要素が観察される基準枠に依存する。例えば、固定子は、可動式ステージの基準枠に対して移動することができ、又は固定子及び可動式ステージは両方とも、外部基準枠に対して移動することができる。したがって、以下の特許請求の範囲では、固定子及び可動式ステージという用語並びにそれらへの参照(固定子及び/又はステージのX方向、Y方向、Z方向、固定子及び/又はステージのX軸、Y軸、Z軸等への参照を含む)は、文脈により特に文字通りの解釈が求められる場合以外、文字通りに解釈すべきではない。さらに、文脈により特に求められる場合以外、可動式ステージ(及びその方向、軸等)が固定子(及びその方向、軸等)に対して移動可能であり、又は固定子(及びその方向、軸等)が可動式ステージ(及びその方向、軸等)に対して移動可能なことを理解されたい。
Claims (54)
- 作業領域を提供する形状の複数の細長いコイルを備える固定子であって、前記コイルのトレースが概ね線形に向けられ、前記複数の細長いコイルは、
対応する第1の固定子Z位置において第1の層に分散した第1の複数のコイルトレースであって、前記第1の層で固定子X方向において概ね線形に細長い、第1の複数のコイルトレース、及び
対応する第2の固定子Z位置において第2の層に分散した第2の複数のコイルトレースであって、前記第2の層で固定子Y方向において概ね線形に細長く、前記固定子Y方向は前記固定子X方向と平行しない、第2の複数のコイルトレース
を備え、
前記第1の層及び前記第2の層は、前記作業領域で固定子Z方向において互いに重なり、前記固定子Z方向は、前記固定子X方向及び前記固定子Y方向の両方に概ね直交する、固定子と、
複数の磁石アレイを備える可動式ステージであって、前記複数の磁石アレイは、
ステージX方向において概ね線形に細長い複数の第1の磁化セグメントを備える第1の磁石アレイであって、各第1の磁化セグメントは、前記ステージX方向に概ね直交する磁化方向を有し、前記第1の磁化セグメントのうちの少なくとも2つは、互いに異なる磁化方向を有する、第1の磁石アレイ、及び
前記ステージX方向に平行しないステージY方向において概ね線形に細長い複数の第2の磁化セグメントを備える第2の磁石アレイであって、各第2の磁化セグメントは、前記ステージY方向に概ね直交する磁化方向を有し、前記第2の磁化セグメントのうちの少なくとも2つは、互いに異なる磁化方向を有する、第2の磁石アレイ、
を備える、可動式ステージと、
接続されて、前記第1の複数のコイルトレース及び前記第2の複数のコイルトレースにおいて電流を駆動し、それにより、前記固定子と前記可動式ステージとの間での相対移動を行わせる1つ又は複数の増幅器と、
を備え、
第1の複数のコイルの各々の固定子X方向寸法及び第2の複数のコイルの各々の固定子Y方向寸法は、それぞれ、前記可動式ステージの複数の磁石アレイのステージX方向範囲及び前記可動式ステージの複数の磁石アレイのステージY方向範囲より大きいことを特徴とする、変位装置。 - 請求項1に記載の変位装置において、
前記可動式ステージは、
前記ステージX方向において概ね線形に細長い複数の第3の磁化セグメントを備える第3の磁石アレイであって、各第3の磁化セグメントは前記ステージX方向に概ね直交する磁化方向を有し、前記第3の磁化セグメントのうちの少なくとも2つは、互いに異なる磁化方向を有する、第3の磁石アレイ、及び
前記ステージY方向において概ね線形に細長い複数の第4の磁化セグメントを備える第4の磁石アレイであって、各第4の磁化セグメントは前記ステージY方向に概ね直交する磁化方向を有し、前記第4の磁化セグメントのうちの少なくとも2つは、互いに異なる磁化方向を有する、第4の磁石アレイ、
を備えることを特徴とする、変位装置。 - 請求項2に記載の変位装置において、
前記第1の磁石アレイ及び前記第3の磁石アレイは、前記ステージY方向において、あるスペースだけ互いに離間され、前記第2の磁石アレイ及び前記第4の磁石アレイは、前記ステージX方向において、あるスペースだけ互いから離間されることを特徴とする、変位装置。 - 請求項3に記載の変位装置において、
前記第1の磁石アレイ及び前記第3の磁石アレイは、前記ステージX方向において互いにオフセットされ、前記第2の磁石アレイ及び前記第4の磁石アレイは、前記ステージY方向において互いにオフセットされることを特徴とする、変位装置。 - 請求項4に記載の変位装置において、
前記第1の磁石アレイ及び前記第3の磁石アレイのステージ位置は、前記ステージX方向において、第1のオフセット距離だけ互いからオフセットされ、前記第1のオフセット距離は、前記ステージX方向における前記第1の磁石アレイの長さLm1よりも短いことを特徴とする、変位装置。 - 請求項4に記載の変位装置において、
前記第1の磁石アレイ及び前記第3の磁石アレイのステージ位置は、前記ステージX方向において、第1のオフセット距離だけ互いからオフセットされ、前記第1のオフセット距離は、前記ステージX方向において前記第1の磁石アレイの長さLm1よりも短く、
前記第2の磁石アレイ及び前記第4の磁石アレイのステージ位置は、前記ステージY方向において、第2のオフセット距離だけ互いからオフセットされ、前記第2のオフセット距離は、前記ステージY方向において前記第2の磁石アレイの長さLm2よりも短いことを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至6の何れか1項に記載の変位装置において、
前記ステージX方向及び前記ステージY方向は互いに直交して向けられることを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至7の何れか1項に記載の変位装置において、
前記固定子X方向、前記固定子Y方向、及び前記固定子Z方向は互いに、相互に概ね直交し、前記複数のコイルトレースは、
対応する第3の固定子Z位置に配置される第3の層であって、前記第3の層で前記固定子X方向において概ね線形に細長い対応する第3の複数のコイルトレースを備える、第3の層と、
対応する第4の固定子Z位置に配置される第4の層であって、前記第4の層で前記固定子Y方向において概ね線形に細長い対応する第4の複数のコイルトレースを備える、第4の層と、
を備え、
前記第1の層、前記第2の層、前記第3の層、及び前記第4の層は、前記固定子の前記作業領域で前記固定子Z方向において互いに重なり、
前記第2の固定子Z位置は、前記固定子Z方向において前記第1の固定子Z位置と前記第3の固定子Z位置との間に配置され、
前記第3の固定子Z位置は、前記固定子Z方向において前記第2の固定子Z位置と前記第4の固定子Z位置との間に配置されることを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第1の磁石アレイのステージY方向幅Wm1にわたり第1の空間磁気周期λ1を示し、前記複数の第2の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第2の磁石アレイのステージX方向幅Wm2にわたり第2の空間磁気周期λ2を示し、前記第1の磁石アレイの前記ステージY方向幅Wm1は、Wm1=Nm1λ1によって与えられ、前記第2の磁石アレイの前記ステージX方向幅Wm2は、Wm2=Nm2λ2によって与えられ、式中、Nm1、Nm2は正の整数であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至8の何れか1項に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第1の磁石アレイのステージY方向幅Wm1にわたり第1の空間磁気周期λ1を示し、前記複数の第2の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第2の磁石アレイのステージX方向幅Wm2にわたり第2の空間磁気周期λ2を示し、
前記複数の第1の磁化セグメントは、前記第1の磁石アレイのエッジに一対の第1のエッジ磁化セグメントを備えるとともに、前記第1の磁石アレイの前記エッジから離れた位置に1つ又は複数の第1の内部磁化セグメントを備え、
前記複数の第2の磁化セグメントは、前記第2の磁石アレイのエッジに一対の第2のエッジ磁化セグメントを備えるとともに、前記第2の磁石アレイの前記エッジから離れた位置に1つ又は複数の第2の内部磁化セグメントを備え、前記第1のエッジ磁化セグメント及び前記第2のエッジ磁化セグメントは、ステージZ方向に向けられた磁化を有し、前記ステージZ方向は、前記ステージX方向及び前記ステージY方向の両方に直交することを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至8の何れか1項に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第1の磁石アレイのステージY方向幅Wm1にわたり第1の空間磁気周期λ1を示し、前記複数の第2の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第2の磁石アレイのステージX方向幅Wm2にわたり第2の空間磁気周期λ2を示し、
前記複数の第1の磁化セグメントは、前記第1の磁石アレイのエッジに一対の第1のエッジ磁化セグメントを備えるとともに、前記第1の磁石アレイの前記エッジから離れた位置に1つ又は複数の第1の内部磁化セグメントを備え、
前記複数の第2の磁化セグメントは、前記第2の磁石アレイのエッジに一対の第2のエッジ磁化セグメントを備えるとともに、前記第2の磁石アレイの前記エッジから離れた位置に1つ又は複数の第2の内部磁化セグメントを備え、
前記第1のエッジ磁化セグメントはステージY方向幅λ1/(2Nt1)を有し、前記第2のエッジ磁化セグメントはステージX方向幅λ2/(2Nt2)を有し、
前記第1の内部磁化セグメントはステージY方向幅λ1/Nt1を有し、前記第2の内部磁化セグメントはステージX方向幅λ2/Nt2を有し、
但し、Nt1は、完全な空間磁気周期λ1を構成する異なる磁化方向の数であり、Nt2は、完全な空間磁気周期λ2を構成する異なる磁化方向の数であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項11に記載の変位装置において、
Nt1及びNt2は4以上であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至8の何れか1項に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第1の磁石アレイのステージY方向幅Wm1にわたり第1の空間磁気周期λ1を示し、前記複数の第2の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第2の磁石アレイのステージX方向幅Wm2にわたり第2の空間磁気周期λ2を示し、
前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記ステージX方向、及び前記ステージX方向及び前記ステージY方向の両方に直交するステージZ方向に延び、前記第1の磁石アレイの前記ステージY方向幅Wm1の中心に配置される第1の平面を中心として鏡面対称であり、
前記複数の第2の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記ステージY方向及び前記ステージZ方向に延び、前記第2の磁石アレイの前記ステージX方向幅Wm2の中心に配置される第2の平面を中心として鏡面対称であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項8に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第1の磁石アレイのステージY方向幅Wm1にわたり空間磁気周期λ1を示し、前記複数の第2の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第2の磁石アレイのステージX方向幅Wm2にわたり空間磁気周期λ2を示し、前記第1の層内の前記第1の複数のコイルトレースのそれぞれは、前記固定子Y方向において、前記第3の層内の前記第3の複数のコイルトレースの対応する1つから、固定子Y方向コイルピッチPc未満のオフセット量だけオフセットされることを特徴とする、変位装置。 - 請求項14に記載の変位装置において、
前記第1の層内の前記第1の複数のコイルトレースのそれぞれは、前記固定子Z方向において、前記第3の層内の前記第3の複数のコイルトレースの対応する1つから、距離GLだけ離間され、前記変位装置は、前記第1の層内の第1のコイルトレースにおいて駆動される電流よりも高い量で、前記第3の複数のトレースの対応する1つにおいて電流を駆動するように構成されるコントローラを備え、前記高い量は、前記第1のコイルトレースで駆動される電流及び前記距離GLに基づくことを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至8の何れか1項に記載の変位装置において、
前記第1の磁石アレイは、ステージY方向幅g1を有し、前記第1の磁石アレイのステージY方向幅Wm1の中心に配置される第1の非磁性スペーサを備え、前記第2の磁石アレイは、ステージX方向幅g2を有し、前記第2の磁石アレイのステージX方向幅Wm2の中心に配置される第2の非磁性スペーサを備えることを特徴とする、変位装置。 - 請求項16に記載の変位装置において、
前記第1の非磁性スペーサは、前記第1の磁石アレイを一対の第1の側に分割し、各第1の側は、ステージY方向幅Wside1にわたり空間磁気周期λ1を示し、前記第2の非磁性スペーサは、前記第2の磁石アレイを一対の第2の側に分割し、各第2の側は、ステージX方向幅Wside2にわたり空間磁気周期λ2を示すことを特徴とする、変位装置。 - 請求項17に記載の変位装置において、
各第1の側の前記ステージY方向幅Wside1は、Wside1=Nm1λ1によって与えられ、式中、Nm1は正の整数であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項17に記載の変位装置において、
各第1の側の前記ステージY方向幅Wside1は、Wside1=(Nm1+0.5)λ1によって与えられ、各第2の側の前記ステージX方向幅Wside2は、Wside2=(Nm2+0.5)λ2によって与えられ、式中、Nm1、Nm2は正の整数であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項17乃至19の何れか1項に記載の変位装置において、
各第1の側は、対応するグループの第1の磁化セグメントを備え、各グループの第1の磁化セグメントは、前記第1の側のエッジに一対の第1のエッジ磁化セグメントを備えるとともに、前記第1の側から離れた位置に1つ又は複数の第1の内部磁化セグメントを備え、
各第2の側は、対応するグループの第2の磁化セグメントを備え、各グループの第2の磁化セグメントは、前記第2の側のエッジに一対の第2のエッジ磁化セグメントを備えるとともに、前記第2の側から離れた位置に1つ又は複数の第2の内部磁化セグメントを備え、
前記第1の側の前記第1のエッジ磁化セグメント及び前記第2の側の前記第2のエッジ磁化セグメントは、ステージZ方向に沿って向けられた磁化を有し、前記ステージZ方向は、前記ステージX方向及び前記ステージY方向の両方に直交することを特徴とする、変位装置。 - 請求項17乃至19の何れか1項に記載の変位装置において、
各第1の側は、対応するグループの第1の磁化セグメントを備え、各グループの第1の磁化セグメントは、前記第1の側のエッジに一対の第1のエッジ磁化セグメントを備えるとともに、前記第1の側から離れた位置に1つ又は複数の第1の内部磁化セグメントを備え、
各第2の側は、対応するグループの第2の磁化セグメントを備え、各グループの第2の磁化セグメントは、前記第2の側のエッジに一対の第2のエッジ磁化セグメントを備えるとともに、前記第2の側から離れた位置に1つ又は複数の第2の内部磁化セグメントを備え、
前記第1の側の前記第1のエッジ磁化セグメントは、ステージY方向幅λ1/(2Nt1)
を有し、
前記第1の側の前記第1の内部磁化セグメントは、ステージY方向幅λ1/Nt1を有し、
但し、Nt1は、完全な空間磁気周期λ1を構成する異なる磁化方向の数であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項16に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記ステージX方向及びステージZ方向に延び、前記第1の磁石アレイの前記ステージY方向幅Wm1の中心に配置される第1の平面を中心として鏡面対称であり、
前記複数の第2の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記ステージY方向及び前記ステージZ方向に延び、前記第2の磁石アレイの前記ステージX方向幅Wm2の中心に配置される第2の平面を中心として鏡面対称であり、
前記ステージZ方向は、前記ステージX方向及び前記ステージY方向の両方に直交することを特徴とする、変位装置。 - 請求項16に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記ステージX方向及びステージZ方向に延び、前記第1の磁石アレイの前記ステージY方向幅Wm1の中心に配置される第1の平面を中心として非鏡面対称であり、
前記複数の第2の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記ステージY方向及び前記ステージZ方向に延び、前記第2の磁石アレイの前記ステージX方向幅Wm2の中心に配置される第2の平面を中心として非鏡面対称であり、
前記ステージZ方向は、前記ステージX方向及び前記ステージY方向の両方に直交することを特徴とする、変位装置。 - 請求項6に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントのそれぞれのエッジが、前記ステージX方向における前記第1の磁石アレイの長さLm1にわたりスキュー量Op1だけ前記ステージY方向においてスキューし、前記複数の第2の磁化セグメントのそれぞれのエッジが、前記ステージY方向における前記第2の磁石アレイの長さLm2にわたりスキュー量Op2だけ前記ステージX方向においてスキューすることを特徴とする、変位装置。 - 請求項24に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第1の磁石アレイのステージY方向幅Wm1にわたり空間磁気周期λ1を示し、前記スキュー量OP1は少なくとも部分的に、前記空間磁気周期λ1に基づくことを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至4の何れか1項に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントのそれぞれは、前記ステージX方向において概ね線形に細長く、前記ステージX方向に概ね直交する前記ステージY方向においていくらかの空間変動を有し、前記空間変動は、前記ステージX方向における前記第1の磁化セグメントの長さLm1にわたり空間周期性を有し、空間周期τm1及びピークツーピーク空間変動Op1を有することを特徴とする、変位装置。 - 請求項26に記載の変位装置において、
前記空間周期τm1は、τm1=Lm1/n1によって与えられ、式中、n1は正の整数であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項26又は27に記載の変位装置において、
前記ステージX方向及び前記ステージY方向は互いに直交して向けられ、前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第1の磁石アレイのステージY方向幅Wmlにわたり第1の空間磁気周期λ1を示し、前記ピークツーピーク空間変動O p1 は前記空間磁気周期λ1に基づくことを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至4の何れか1項に記載の変位装置において、
前記第1の磁石アレイは、ステージX方向長Lm1にわたり複数の第1のサブアレイを備え、各第1のサブアレイは、隣接する第1のサブアレイから前記ステージY方向においてオフセットされることを特徴とする、変位装置。 - 請求項29に記載の変位装置において、
前記複数のサブアレイは、前記第1の磁石アレイの前記ステージX方向長Lm1の中心に配置された中心サブアレイを備え、前記中心サブアレイは、他のサブアレイのうちの少なくとも1つの前記ステージX方向長の2倍のステージX方向長を有することを特徴とする、変位装置。 - 請求項30に記載の変位装置において、
前記サブアレイの前記オフセットは、前記第1の磁石アレイが、前記ステージY方向、及び前記ステージX方向及び前記ステージY方向の両方に直交するステージZ方向に延び、前記中心サブアレイの前記ステージX方向中心に配置される平面を中心として対称であるようなものであることを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至11の何れか1項に記載の変位装置において、
前記複数の磁石アレイは、
複数のX磁石アレイであって、それぞれが、前記ステージX方向において概ね線形に細長い対応する複数のX細長磁化セグメントを備え、各X細長磁化セグメントは、前記ステージX方向に概ね直交する磁化方向を有し、前記X細長磁化セグメントのうちの少なくとも2つは、互いに異なる磁化方向を有する、複数のX磁石アレイと、
複数のY磁石アレイであって、それぞれが、前記ステージY方向において概ね線形に細長い対応する複数のY細長磁化セグメントを備え、各Y細長磁化セグメントは、前記ステージY方向に概ね直交する磁化方向を有し、前記Y細長磁化セグメントのうちの少なくとも2つは、互いに異なる磁化方向を有する、複数のY磁石アレイと、
を備え、
前記複数のX磁石アレイは、1つ又は複数の組の位置合わせされたX磁石アレイを備え、各組の位置合わせされたX磁石アレイは、前記ステージY方向において互いに位置合わせされたX磁石アレイのグループを備え、
前記1つ又は複数の組の位置合わせされたX磁石アレイは、前記ステージX方向において互いからオフセットされた少なくとも2組の位置合わせされたX磁石アレイを備えることを特徴とする、変位装置。 - 請求項3に記載の変位装置において、
前記ステージY方向での前記第1の磁石アレイと前記第3の磁石アレイとの間隔は、Ns1λ1/2−Wm1によって与えられ、但し、Ns1は正の整数であり、Wm1は前記第1の磁石アレイのステージY方向幅であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項33に記載の変位装置において、
Ns1は偶数の整数であり、前記第3の磁石アレイの前記第3の磁化セグメントの磁化パターンは、前記第1の磁石アレイの前記第1の磁化セグメントの前記磁化パターンと同じであることを特徴とする、変位装置。 - 請求項33に記載の変位装置において、
Ns1は奇数の整数であり、前記第3の磁石アレイの前記第3の磁化セグメントの磁化パターンは、前記第1の磁石アレイの前記第1の磁化セグメントの前記磁化パターンの逆であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至8の何れか1項に記載の変位装置において、コントローラを含み、
前記コントローラは、前記複数の増幅器を制御し、それにより、前記第1の複数のコイルトレース及び前記第2の複数のコイルトレースへ駆動される電流を制御するように構成され、前記コントローラは、前記複数の増幅器に、前記第1の複数のコイルトレースのサブセットにおいて電流を駆動させるように構成され、前記第1の複数のコイルトレースの前記サブセットは、前記第1の磁石アレイの各固定子X方向向きエッジを超えて、少なくとも量Lffだけ、前記第1の磁石アレイのステージY方向幅Wm1よりも大きい固定子Y方向幅を有し、前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記第1の磁石アレイの前記ステージY方向幅Wm1にわたり空間磁気周期λ1を示し、Lffはλ1/2以上であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至14の何れか1項に記載の変位装置において、
前記第1の磁化セグメントのうちの少なくとも4つは、互いに異なる磁化方向を有することを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至8の何れか1項に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記ステージX方向に概ね直交する前記ステージY方向において、前記第1の磁石アレイの幅Wm1にわたり空間磁気周期λ1を示し、前記複数の第2の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記ステージY方向に概ね直交する前記ステージX方向において、前記第2の磁石アレイの幅Wm2にわたり空間磁気周期λ2を示し、前記第1の複数のコイルトレースのそれぞれの固定子Y方向幅Wc1は、Wc1=λ1/5によって与えられ、前記第2の複数のコイルトレースのそれぞれの固定子X方向幅Wc2は、Wc2=λ2/5によって与えられることを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至8の何れか1項に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記ステージX方向に概ね直交する前記ステージY方向において、前記第1の磁石アレイの幅Wm1にわたり空間磁気周期λ1を示し、前記複数の第2の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記ステージY方向に概ね直交する前記ステージX方向において、前記第2の磁石アレイの幅Wm2にわたり空間磁気周期λ2を示し、前記第1の複数のコイルトレースの固定子Y方向ピッチPc1は、Pc1=λ1/N1によって与えられ、前記第2の複数のコイルトレースの固定子X方向ピッチPc2は、Pc2=λ2/N2によって与えられ、式中、N1及びN2は正の整数であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至8の何れか1項に記載の変位装置において、
前記第1の複数のコイルトレースは、いくつかの第1のグループのコイルトレースを備え、前記いくつかの第1のグループのコイルトレースは、互いに離間され、共通の増幅器によって駆動されるように直列接続された少なくとも2つのグループのコイルトレースを備えることを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至8の何れか1項に記載の変位装置において、
前記複数の第1の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記ステージX方向に概ね直交する前記ステージY方向において、前記第1の磁石アレイの幅Wm1にわたり空間磁気周期λ1を示し、前記複数の第2の磁化セグメントの前記磁化方向は、前記ステージY方向に概ね直交する前記ステージX方向において、前記第2の磁石アレイの幅Wm2にわたり空間磁気周期λ2を示し、前記第1の複数のコイルトレースのそれぞれの固定子Y方向幅Wc1は、第1の複数のサブトレースを備え、前記第1の複数のサブトレースのそれぞれは、絶縁材料によって前記固定子Y方向において互いから離間され、前記第2の複数のコイルトレースのそれぞれの固定子X方向幅Wc2は、第2の複数のサブトレースを備え、前記第2の複数のサブトレースのそれぞれは、絶縁材料によって前記固定子X方向において互いから離間されることを特徴とする、変位装置。 - 請求項3に記載の変位装置において、
前記ステージX方向及び前記ステージY方向は互いに直交する方向を向き、前記第1の磁石アレイ及び前記第3の磁石アレイは、前記ステージY方向における前記スペースで互いに離間され、前記第1の磁石アレイ及び前記第3の磁石アレイは、
前記ステージX方向に向けられた第1の近位エッジ及び第1の遠位エッジを有する前記第1の磁石アレイであって、前記第1の近位エッジは、前記第1の遠位エッジよりも前記第3の磁石アレイの相対的に近傍に配置される、前記第1の磁石アレイと、
前記ステージX方向に向けられた第3の近位エッジ及び第3の遠位エッジを有する前記第3の磁石アレイであって、前記第3の近位エッジは、前記第3の遠位エッジよりも前記第1の磁石アレイの相対的に近傍に配置される、前記第3の磁石アレイと、
前記第1の近位エッジと共線の第1の線と、前記第3の近位エッジと共線の第3の線との間に配置される前記スペースと、
を備えることを特徴とする、変位装置。 - 請求項3に記載の変位装置において、
前記ステージX方向及び前記ステージY方向は互いに直交する方向を向き、前記第1の磁石アレイ及び前記第3の磁石アレイは、前記ステージY方向における前記スペースで互いに離間され、前記第1の磁石アレイ及び前記第3の磁石アレイは、
前記ステージX方向に向けられた第1の近位エッジ及び第1の遠位エッジを有する前記第1の磁石アレイであって、前記第1の近位エッジは、前記第1の遠位エッジよりも前記第3の磁石アレイの相対的に近傍に配置される、前記第1の磁石アレイと、
前記ステージX方向に向けられた第3の近位エッジ及び第3の遠位エッジを有する前記第3の磁石アレイであって、前記第3の近位エッジは、前記第3の遠位エッジよりも前記第1の磁石アレイの相対的に近傍に配置される、前記第3の磁石アレイと、
を備え、
前記第1の近位エッジ及び前記第3の近位エッジは共線ではないことを特徴とする、変位装置。 - 請求項4、42、及び43のいずれか一項に記載の変位装置において、
前記ステージX方向において互いにオフセットされた前記第1の磁石アレイ及び前記第3の磁石アレイは、前記ステージX方向に概ね直交する前記ステージY方向において前記第3の磁石アレイに重ならない少なくとも一部分を有する前記第1の磁石アレイを備えることを特徴とする、変位装置。 - 請求項2乃至6の何れか1項に記載の変位装置において:前記複数の第1の磁化セグメントは異なる磁化方向を有する少なくとも3つの第1の磁化セグメントを備え;前記複数の第2の磁化セグメントは異なる磁化方向を有する少なくとも3つの第2の磁化セグメントを備え;前記複数の第3の磁化セグメントは異なる磁化方向を有する少なくとも3つの第3の磁化セグメントを備え;前記複数の第4の磁化セグメントは異なる磁化方向を有する少なくとも3つの第4の磁化セグメントを備えることを特徴とする、変位装置。
- 請求項2乃至6の何れか1項に記載の変位装置において:前記複数の第1の磁化セグメントの少なくとも1つは、前記第1の磁石アレイのステージY方向幅の1/4または1/8のいずれかのステージY方向幅を有し;前記複数の第2の磁化セグメントの少なくとも1つは、前記第2の磁石アレイのステージX方向幅の1/4または1/8のいずれかのステージX方向幅を有し;前記複数の第3の磁化セグメントの少なくとも1つは、前記第3の磁石アレイのステージY方向幅の1/4または1/8のいずれかのステージY方向幅を有し;前記複数の第4の磁化セグメントの少なくとも1つは、前記第4の磁石アレイのステージX方向幅の1/4または1/8のいずれかのステージX方向幅を有することを特徴とする、変位装置。
- 請求項2乃至6の何れか1項に記載の変位装置において:前記第1の磁石アレイ内の前記第1の磁化セグメントの形状及び磁化分布は、前記第3の磁石アレイ内の前記第3の磁化セグメントの形状及び磁化分布と同じであり;前記第2の磁石アレイ内の前記第2の磁化セグメントの形状及び磁化分布は、前記第4の磁石アレイ内の前記第4の磁化セグメントの形状及び磁化分布と同じであることを特徴とする、変位装置。
- 請求項2乃至6の何れか1項に記載の変位装置において:
前記複数の第1の磁化セグメントは、前記第1の磁石アレイのステージY方向先端における一対の第1の外部磁化セグメントと、前記第1の外部磁化セグメント間のステージY方向位置における1つ以上の第1の内部磁化セグメントと、を備え、前記第1の外部磁化セグメントのステージY方向幅は、前記第1の内部磁化セグメントのステージY方向幅の半分であり;
前記複数の第2の磁化セグメントは、前記第2の磁石アレイのステージX方向先端における一対の第2の外部磁化セグメントと、前記第2の外部磁化セグメント間のステージX方向位置における1つ以上の第2の内部磁化セグメントと、を備え、前記第2の外部磁化セグメントのステージX方向幅は、前記第2の内部磁化セグメントのステージX方向幅の半分であり;
前記複数の第3の磁化セグメントは、前記第3の磁石アレイのステージY方向先端における一対の第3の外部磁化セグメントと、前記第3の外部磁化セグメント間のステージY方向位置における1つ以上の第3の内部磁化セグメントと、を備え、前記第3の外部磁化セグメントのステージY方向幅は、前記第3の内部磁化セグメントのステージY方向幅の半分であり;
前記複数の第4の磁化セグメントは、前記第4の磁石アレイのステージX方向先端における一対の第4の外部磁化セグメントと、前記第4の外部磁化セグメント間のステージX方向位置における1つ以上の第4の内部磁化セグメントと、を備え、前記第4の外部磁化セグメントのステージX方向幅は、前記第4の内部磁化セグメントのステージX方向幅の半分であることを特徴とする、変位装置。 - 請求項1乃至6の何れか1項に記載の変位装置において:
前記固定子X方向は前記ステージX方向と概ね平行であり、前記固定子Y方向は前記ステージY方向と概ね平行であることを特徴とする、変位装置。 - 固定子と可動式ステージとの間の変位を行う方法であって、
コイルのトレースが概ね線形に向けられる、作業領域を提供する形状の複数の細長いコイルを備える固定子を提供することであって、前記複数の細長いコイルは、
対応する第1の固定子Z位置において第1の層に分散した第1の複数のコイルトレースであって、前記第1の層で固定子X方向において概ね線形に細長い、第1の複数のコイルトレース、及び
対応する第2の固定子Z位置において第2の層に分散した第2の複数のコイルトレースであって、前記第2の層で固定子Y方向において概ね線形に細長く、前記固定子Y方向は前記固定子X方向と平行しない、第2の複数のコイルトレース
を備え、
前記第1の層及び前記第2の層は、前記作業領域で固定子Z方向において互いに重なり、前記固定子Z方向は、前記固定子X方向及び前記固定子Y方向の両方に概ね直交する、固定子を提供することと、
複数の磁石アレイを備える可動式ステージを提供することであって、前記複数の磁石アレイは、
ステージX方向において概ね線形に細長い複数の第1の磁化セグメントを備える第1の磁石アレイであって、各第1の磁化セグメントは、前記ステージX方向に概ね直交する磁化方向を有し、前記第1の磁化セグメントのうちの少なくとも2つは、互いに異なる磁化方向を有する、第1の磁石アレイ、及び
前記ステージX方向に平行しないステージY方向において概ね線形に細長い複数の第2の磁化セグメントを備える第2の磁石アレイであって、各第2の磁化セグメントは、前記ステージY方向に概ね直交する磁化方向を有し、前記第2の磁化セグメントのうちの少なくとも2つは、互いに異なる磁化方向を有する、第2の磁石アレイ、を備え、
第1の複数のコイルの各々の固定子X方向寸法及び第2の複数のコイルの各々の固定子Y方向寸法は、それぞれ、前記可動式ステージの複数の磁石アレイのステージX方向範囲及び前記可動式ステージの複数の磁石アレイのステージY方向範囲より大きい、可動式ステージを提供することと、
前記第1の複数のコイルトレース及び前記第2の複数のコイルトレースにおいて電流を選択的に駆動することであって、それにより、前記固定子と前記可動式ステージとの間に相対移動を行わせる、駆動することと、
を含むことを特徴とする、方法。 - 請求項50に記載の方法において、
前記複数の磁石アレイは:
前記ステージX方向において概ね線形に細長い複数の第3の磁化セグメントを備える第3の磁石アレイであって、各第3の磁化セグメントは、前記ステージX方向に概ね直交する磁化方向を有し、前記第3の磁化セグメントのうちの少なくとも2つは、互いに異なる磁化方向を有する、第3の磁石アレイ、及び
前記ステージY方向において概ね線形に細長い複数の第4の磁化セグメントを備える第4の磁石アレイであって、各第4の磁化セグメントは、前記ステージY方向に概ね直交する磁化方向を有し、前記第4の磁化セグメントのうちの少なくとも2つは、互いに異なる磁化方向を有する、第4の磁石アレイ
を備えることを特徴とする、方法。 - 請求項51に記載の方法において、
前記第1の磁石アレイ及び第3の磁石アレイは、前記ステージY方向において、あるスペースだけ互いから離間され、前記第2の磁石アレイ及び前記第4の磁石アレイは、前記ステージX方向において、あるスペースだけ互いから離間されることを特徴とする、方法。 - 請求項51または52に記載の方法において、
前記第1の磁石アレイ及び前記第3の磁石アレイは、前記ステージX方向において互いにオフセットされ、前記第2の磁石アレイ及び前記第4の磁石アレイは、前記ステージY方向に置いて互いにオフセットされることを特徴とする、方法。 - 請求項50乃至53の何れか1項に記載の方法において、
前記ステージX方向及び前記ステージY方向は互いに直交して向けられることを特徴とする、方法。
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DE102016218777A1 (de) | 2015-11-19 | 2017-05-24 | Robert Bosch Gmbh | Transportvorrichtung und Verfahren zur Herstellung |
JP6749346B2 (ja) * | 2016-01-22 | 2020-09-02 | Tdk株式会社 | アクチュエータ |
US11303175B2 (en) | 2016-02-12 | 2022-04-12 | Asml Netherlands B.V. | Multiphase linear motor, multiphase planar motor, stage, lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP6697564B2 (ja) * | 2016-02-12 | 2020-05-20 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 電磁モータ及びステージ装置 |
DE102016202934A1 (de) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung einer Position und/oder Orientierung wenigstens eines levitierten Transportkörpers relativ zu einer Levitationsbeförderungseinheit |
US10003246B2 (en) * | 2016-03-10 | 2018-06-19 | Laitram, L.L.C. | Linear-motor stator with integral line reactor |
DE102016205513A1 (de) | 2016-04-04 | 2017-10-05 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zum Transportieren eines Gutes, mehrdimensionaler Antrieb und Verarbeitungsvorrichtung |
DE102016217573A1 (de) | 2016-04-04 | 2017-10-05 | Robert Bosch Gmbh | Werkstückträgersystem |
DE102016206087A1 (de) | 2016-04-12 | 2017-10-12 | Robert Bosch Gmbh | Werkstückträgersystem |
DE102016208155A1 (de) | 2016-05-12 | 2017-11-16 | Robert Bosch Gmbh | Positionsbestimmungsvorrichtung zur Bestimmung einer Position und/oder Orientierung eines von einem Stator zu befördernden Transportkörpers relativ zu dem Stator |
JP6722048B2 (ja) * | 2016-06-09 | 2020-07-15 | キヤノン株式会社 | ステージ装置およびリニアアクチュエータ |
JP6929024B2 (ja) * | 2016-07-06 | 2021-09-01 | キヤノン株式会社 | 光学装置、露光装置及び物品の製造方法 |
DE102016213137A1 (de) * | 2016-07-19 | 2018-01-25 | Robert Bosch Gmbh | Stator für einen elektrischen Motor und Verfahren zum Herstellen eines solchen Stators |
DE102016215212A1 (de) | 2016-08-16 | 2018-02-22 | Robert Bosch Gmbh | Bewegungsvorrichtung mit magnetischer Positionsbestimmung und Datenübertragungsvorrichtung |
US10031559B1 (en) * | 2016-09-19 | 2018-07-24 | Apple Inc. | Switchable magnetic array |
CN109789977B (zh) | 2016-10-05 | 2021-07-23 | 莱特拉姆有限责任公司 | 线性电机输送机系统 |
DE102016220573A1 (de) * | 2016-10-20 | 2018-04-26 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen einer Position und/oder Orientierung eines frei schwebenden Elements |
DE102016223901A1 (de) | 2016-12-01 | 2018-06-07 | Robert Bosch Gmbh | Beförderungsvorrichtung mit einem Stator und einem Transportkörper zur kontrollierten Beförderung des Transportkörpers relativ zum Stator |
US9841298B1 (en) * | 2016-12-30 | 2017-12-12 | Metal Industries Research And Development Centre | Measurement device for linear stage |
CN108336884B (zh) * | 2017-01-19 | 2020-07-21 | 广东极迅精密仪器有限公司 | 位移装置 |
KR102380348B1 (ko) * | 2017-03-24 | 2022-03-31 | 삼성전자주식회사 | 무선 전력 송신 장치 및 거치 형태에 따른 무선 전력 송신 방법 |
CN115085508A (zh) * | 2017-03-27 | 2022-09-20 | 平面电机公司 | 机器人装置和用于制造、使用和控制其的方法 |
WO2018213825A1 (en) | 2017-05-19 | 2018-11-22 | Massachusetts Institute Of Technology | Transport system having a magnetically levitated transportation stage |
US11223303B2 (en) * | 2017-06-19 | 2022-01-11 | Nikon Research Corporation Of America | Motor with force constant modeling and identification for flexible mode control |
EP3642142A4 (en) | 2017-06-19 | 2021-03-17 | Laitram, L.L.C. | MONORAIL CONVEYOR WITH PLATFORMS |
DE102017212808A1 (de) | 2017-07-26 | 2019-01-31 | Robert Bosch Gmbh | Mehrschichtspule, Antriebselement und Planarantriebssystem, sowie Verfahren zur Herstellung einer Mehrschichtspule |
MX2020002736A (es) | 2017-09-13 | 2020-07-21 | Laitram Llc | Transportador de bandeja de monorriel con rieles de guia pasivos. |
CN107612232B (zh) * | 2017-09-27 | 2019-05-17 | 西安工程大学 | 一种电磁数字致动器阵列的微型平面马达装置及其驱动方法 |
WO2019076525A1 (en) * | 2017-10-17 | 2019-04-25 | Asml Netherlands B.V. | ENGINE, TWO-STAGE STAGE AND LITHOGRAPHIC APPARATUS |
EP3486612B1 (en) | 2017-11-20 | 2020-07-01 | Robert Bosch GmbH | Method for generating a trajectory |
DE102017222425A1 (de) | 2017-12-12 | 2019-06-13 | Robert Bosch Gmbh | Transportsystem, Verfahren zur Steuerung des Transportsystems und Transportsystemanordnung |
DE102017130724A1 (de) | 2017-12-20 | 2019-06-27 | Physik Instrumente (Pi) Gmbh & Co. Kg | Elektromotor |
DE102017131321B4 (de) * | 2017-12-27 | 2020-03-12 | Beckhoff Automation Gmbh | Statoreinheit und Statormodul |
DE102017131326A1 (de) | 2017-12-27 | 2019-06-27 | Beckhoff Automation Gmbh | Statormodul |
DE102017131324A1 (de) | 2017-12-27 | 2019-06-27 | Beckhoff Automation Gmbh | Statormodul und Planarantriebssystem |
DE102017131304A1 (de) * | 2017-12-27 | 2019-06-27 | Beckhoff Automation Gmbh | Statormodul |
DE102017131314A1 (de) | 2017-12-27 | 2019-06-27 | Beckhoff Automation Gmbh | Statormodul |
DE102017131320A1 (de) | 2017-12-27 | 2019-06-27 | Beckhoff Automation Gmbh | Planarantriebssystem, Statormodul und Sensormodul |
US10654660B2 (en) | 2018-01-31 | 2020-05-19 | Laitram, L.L.C. | Hygienic magnetic tray and conveyor |
US10807803B2 (en) | 2018-01-31 | 2020-10-20 | Laitram, L.L.C. | Hygienic low-friction magnetic tray and conveyor |
DE102018203667A1 (de) | 2018-03-12 | 2019-09-12 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur automatisierten Bewegungsplanung bei einem Planarantrieb |
US11393706B2 (en) | 2018-04-20 | 2022-07-19 | Massachusetts Institute Of Technology | Magnetically-levitated transporter |
DE102018209401A1 (de) * | 2018-06-13 | 2019-12-19 | Robert Bosch Gmbh | Beförderungsvorrichtung mit Sicherheitsfunktion |
DE102018006259A1 (de) * | 2018-06-14 | 2019-12-19 | Robert Bosch Gmbh | Beförderungsvorrichtung zum Befördern mindestens eines Wafers |
DE102018117981A1 (de) | 2018-07-25 | 2020-01-30 | Beckhoff Automation Gmbh | Statoreinheit und Statormodul |
DE102018117953B3 (de) | 2018-07-25 | 2019-11-07 | Beckhoff Automation Gmbh | Statoreinheit |
DE102018118004B3 (de) * | 2018-07-25 | 2019-11-07 | Beckhoff Automation Gmbh | Statoreinheit |
US11575337B2 (en) | 2018-10-13 | 2023-02-07 | Planar Motor Incorporated. | Systems and methods for identifying a magnetic mover |
EP3653428A1 (de) | 2018-11-19 | 2020-05-20 | B&R Industrial Automation GmbH | Verfahren zum sicheren überwachen der funktion eines langstatorlinearmotors |
DE102018129727A1 (de) | 2018-11-26 | 2020-05-28 | Beckhoff Automation Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Vermeiden einer Kollision beim Antreiben von wenigstens zwei Movern auf einer Antriebsfläche |
DE102018129732A1 (de) | 2018-11-26 | 2020-05-28 | Beckhoff Automation Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Vermeiden einer Kollision beim Antreiben von wenigstens zwei Movern auf einer Antriebsfläche |
DE102018129738A1 (de) | 2018-11-26 | 2020-05-28 | Beckhoff Automation Gmbh | Vorrichtung und Verfahren für eine Pfadplanung für einen Mover einer Antriebsvorrichtung |
DE102018129739A1 (de) | 2018-11-26 | 2020-05-28 | Beckhoff Automation Gmbh | Vorrichtung zum Antreiben von wenigstens einem Mover auf einer Antriebsfläche |
DE102018129731A1 (de) | 2018-11-26 | 2020-05-28 | Beckhoff Automation Gmbh | Verfahren zum Antreiben eines Läufers eines Planarantriebssystems |
US10948315B2 (en) | 2018-12-21 | 2021-03-16 | Industrial Technology Research Institute | Magnetic position detecting device and method |
CN111490642B (zh) * | 2019-01-29 | 2022-05-20 | 苏州隐冠半导体技术有限公司 | 一种基于霍尔效应传感器和平面电机的位移装置 |
CN113891845B (zh) | 2019-05-28 | 2023-10-20 | B和R工业自动化有限公司 | 运输装置 |
CA3141948A1 (en) | 2019-05-28 | 2020-12-03 | B&R Industrial Automation GmbH | Transport device |
CA3143896C (en) * | 2019-06-27 | 2024-01-30 | Beckhoff Automation Gmbh | Assembly of stator modules for a planar drive system |
DE102019117430A1 (de) | 2019-06-27 | 2020-12-31 | Beckhoff Automation Gmbh | Verfahren zum Bewegen eines Läufers in einem Planarantriebssystem |
US11193812B2 (en) | 2019-07-01 | 2021-12-07 | B&R Industrial Automation GmbH | Electromagnetic conveyor with weighing station |
AT523101A1 (de) | 2019-10-31 | 2021-05-15 | B & R Ind Automation Gmbh | Transporteinrichtung in Form eines Langstatorlinearmotors |
AT523102A1 (de) | 2019-10-31 | 2021-05-15 | B & R Ind Automation Gmbh | Transporteinrichtung in Form eines Langstatorlinearmotors |
AT523217A1 (de) | 2019-11-27 | 2021-06-15 | B & R Ind Automation Gmbh | Transporteinrichtung |
CN114731105A (zh) | 2019-11-27 | 2022-07-08 | B和R工业自动化有限公司 | 运输装置 |
JP2021090343A (ja) | 2019-12-03 | 2021-06-10 | ベーウントエル・インダストリアル・オートメイション・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 安全機能 |
JP7467093B2 (ja) * | 2019-12-06 | 2024-04-15 | キヤノン株式会社 | 搬送システムおよび物品の製造方法 |
TW202137866A (zh) | 2020-02-20 | 2021-10-01 | 美商布魯克斯自動機械公司 | 基板處理裝置 |
AT523565A1 (de) | 2020-03-05 | 2021-09-15 | B & R Ind Automation Gmbh | Transporteinrichtung |
AT523564A1 (de) | 2020-03-05 | 2021-09-15 | B & R Ind Automation Gmbh | Transporteinrichtung |
EP3883124A1 (de) | 2020-03-19 | 2021-09-22 | Beckhoff Automation GmbH | Verfahren zum steuern eines planarantriebssystems und planarantriebssystem |
EP3890171A1 (de) | 2020-04-02 | 2021-10-06 | Beckhoff Automation GmbH | Verfahren zum steuern eines planarantriebssystems und planarantriebssystem |
AT523810A1 (de) * | 2020-04-27 | 2021-11-15 | B & R Ind Automation Gmbh | Führungsvorrichtung für Shuttles eines Planarmotors |
AT523640B1 (de) | 2020-04-27 | 2021-10-15 | B & R Ind Automation Gmbh | Stützstruktur für einen Planarmotor |
EP4208941A1 (de) | 2020-09-03 | 2023-07-12 | B&R Industrial Automation GmbH | Verfahren zum betreiben eines linearmotors |
AT524046B1 (de) | 2020-12-01 | 2022-02-15 | B & R Ind Automation Gmbh | Transporteinrichtung in Form eines Langstatorlinearmotors |
AT524925A1 (de) | 2021-03-25 | 2022-10-15 | B & R Ind Automation Gmbh | Verfahren zum Betreiben einer Transportanlage in Form eines Langstatorlinearmotors |
IT202100009569A1 (it) | 2021-04-15 | 2022-10-15 | G Mondini S P A | Apparecchiatura e metodo per il posizionamento di prodotti su supporti |
WO2022253883A1 (de) | 2021-06-02 | 2022-12-08 | B&R Industrial Automation GmbH | Transporteinrichtung und verfahren zum betreiben einer transporteinrichtung |
IT202100015857A1 (it) | 2021-06-17 | 2022-12-17 | G Mondini S P A | Apparecchiatura per la termosaldatura di un film di copertura a un elemento di supporto |
DE102021129155A1 (de) | 2021-11-09 | 2023-05-11 | Syntegon Technology Gmbh | Planares Transportsystem |
WO2023096694A1 (en) * | 2021-11-23 | 2023-06-01 | Laitram, L.L.C. | Magnetic conveyor system |
DE102021132185A1 (de) | 2021-12-07 | 2023-06-07 | Sener Cicek | Anlage und Verfahren zum Bearbeiten eines Bauteils |
JP2023086105A (ja) | 2021-12-09 | 2023-06-21 | ベーウントエル・インダストリアル・オートメイション・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 平面モータを稼働させるための方法 |
WO2023122258A2 (en) * | 2021-12-24 | 2023-06-29 | Hyperloop Technologies, Inc. | Topologies to reduce force ripple for propulsion motors |
WO2023126356A1 (de) | 2021-12-27 | 2023-07-06 | B&R Industrial Automation GmbH | Stromsymmetrieregelung |
DE102022105597B3 (de) | 2022-03-10 | 2023-03-30 | Baumann Maschinenbau Solms Gmbh & Co.Kg | Verfahren und Anordnung zum Anordnen von Nutzen |
DE102022105619A1 (de) | 2022-03-10 | 2023-09-14 | Baumann Maschinenbau Solms Gmbh & Co.Kg | Anordnung sowie Verfahren zum Bearbeiten blattförmigen Guts |
DE102022105622A1 (de) | 2022-03-10 | 2023-09-14 | Baumann Maschinenbau Solms Gmbh & Co.Kg | Verfahren zum Sortieren von Nutzen und Anordnung zum Bearbeiten von bedruckten Bogen |
US11958694B2 (en) | 2022-03-11 | 2024-04-16 | Laitram, L.L.C. | Magnetic XY sorting conveyor |
WO2023186856A1 (de) | 2022-03-28 | 2023-10-05 | B&R Industrial Automation GmbH | Transporteinheit und zugehöriges montageverfahren |
WO2023200954A1 (en) | 2022-04-13 | 2023-10-19 | Aprecia Pharmaceuticals LLC | System and method for additive manufacturing using an omnidirectional magnetic movement apparatus |
WO2023208945A1 (de) | 2022-04-28 | 2023-11-02 | B&R Industrial Automation GmbH | Verfahren zur identifikation und kompensation eines positions-messfehlers |
WO2023213701A1 (de) | 2022-05-02 | 2023-11-09 | B&R Industrial Automation GmbH | Verfahren und vorrichtung zum überwachen des betriebs einer transporteinrichtung |
JP2024051304A (ja) | 2022-09-30 | 2024-04-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送モジュール及び基板搬送方法 |
CN117277723B (zh) * | 2023-11-20 | 2024-03-08 | 季华实验室 | 二维弧形阵列六自由度磁浮微动台及器件转移装置 |
Family Cites Families (124)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3376578A (en) | 1966-05-31 | 1968-04-02 | Bruce A. Sawyer | Magnetic positioning device |
NL7302941A (ja) | 1973-03-02 | 1974-09-04 | ||
JPS58175020A (ja) | 1982-04-05 | 1983-10-14 | Telmec Co Ltd | 二次元精密位置決め装置 |
US4654571A (en) * | 1985-09-16 | 1987-03-31 | Hinds Walter E | Single plane orthogonally movable drive system |
US4835424A (en) | 1987-03-23 | 1989-05-30 | Megamation Incorporated | Platen laminated in mutually perpendicular direction for use with linear motors and the like |
US5125347A (en) | 1989-10-30 | 1992-06-30 | Hitachi, Ltd. | Power supply system for a linear motor type transportation system |
US5196745A (en) | 1991-08-16 | 1993-03-23 | Massachusetts Institute Of Technology | Magnetic positioning device |
JP2714502B2 (ja) | 1991-09-18 | 1998-02-16 | キヤノン株式会社 | 移動ステージ装置 |
JPH07123345B2 (ja) * | 1992-11-17 | 1995-12-25 | 株式会社精工舎 | 可動マグネット形リニア直流モータ |
US5334892A (en) | 1992-12-22 | 1994-08-02 | Anorad Corporation | Positioning device for planar positioning |
JPH086642A (ja) * | 1994-06-20 | 1996-01-12 | Brother Ind Ltd | 平面モータの位置決め装置 |
US5925956A (en) * | 1995-06-30 | 1999-07-20 | Nikon Corporation | Stage construction incorporating magnetically levitated movable stage |
AUPN422295A0 (en) | 1995-07-18 | 1995-08-10 | Bytecraft Research Pty. Ltd. | Control system |
JPH09121522A (ja) * | 1995-10-23 | 1997-05-06 | Sawafuji Electric Co Ltd | フラット回転機 |
US5777402A (en) | 1996-06-24 | 1998-07-07 | Anorad Corporation | Two-axis motor with high density magnetic platen |
US5886432A (en) | 1997-04-28 | 1999-03-23 | Ultratech Stepper, Inc. | Magnetically-positioned X-Y stage having six-degrees of freedom |
US6441514B1 (en) * | 1997-04-28 | 2002-08-27 | Ultratech Stepper, Inc. | Magnetically positioned X-Y stage having six degrees of freedom |
JP4164905B2 (ja) | 1997-09-25 | 2008-10-15 | 株式会社ニコン | 電磁力モータ、ステージ装置および露光装置 |
US6003230A (en) | 1997-10-03 | 1999-12-21 | Massachusetts Institute Of Technology | Magnetic positioner having a single moving part |
US6876105B1 (en) | 1998-02-26 | 2005-04-05 | Anorad Corporation | Wireless encoder |
US7170241B1 (en) | 1998-02-26 | 2007-01-30 | Anorad Corporation | Path module for a linear motor, modular linear motor system and method to control same |
JP4399984B2 (ja) | 1998-03-13 | 2010-01-20 | 株式会社ニコン | リニアモータ製造方法、リニアモータ、該リニアモータを備えたステージ装置、および露光装置 |
AU2852899A (en) | 1998-03-19 | 1999-10-11 | Nikon Corporation | Flat motor, stage, exposure apparatus and method of producing the same, and device and method for manufacturing the same |
US6252234B1 (en) | 1998-08-14 | 2001-06-26 | Nikon Corporation | Reaction force isolation system for a planar motor |
US6097114A (en) | 1998-08-17 | 2000-08-01 | Nikon Corporation | Compact planar motor having multiple degrees of freedom |
US6144118A (en) | 1998-09-18 | 2000-11-07 | General Scanning, Inc. | High-speed precision positioning apparatus |
US6208045B1 (en) | 1998-11-16 | 2001-03-27 | Nikon Corporation | Electric motors and positioning devices having moving magnet arrays and six degrees of freedom |
US6835941B1 (en) | 1998-11-30 | 2004-12-28 | Nikon Corporation | Stage unit and its making method, and exposure apparatus and its making method |
US6720680B1 (en) | 1999-02-04 | 2004-04-13 | Nikon Corporation | Flat motor device and its driving method, stage device and its driving method, exposure apparatus and exposure method, and device and its manufacturing method |
TW466542B (en) | 1999-02-26 | 2001-12-01 | Nippon Kogaku Kk | A stage device and a method of manufacturing same, a position controlling method, an exposure device and a method of manufacturing same, and a device and a method of manufacturing same |
US6590355B1 (en) | 1999-06-07 | 2003-07-08 | Nikon Corporation | Linear motor device, stage device, and exposure apparatus |
US6144119A (en) | 1999-06-18 | 2000-11-07 | Nikon Corporation | Planar electric motor with dual coil and magnet arrays |
TWI248718B (en) | 1999-09-02 | 2006-02-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Displacement device |
US6398812B1 (en) * | 2000-02-10 | 2002-06-04 | Medidea, Llc | Shoulder prosthesis with anatomic reattachment features |
US6437463B1 (en) | 2000-04-24 | 2002-08-20 | Nikon Corporation | Wafer positioner with planar motor and mag-lev fine stage |
JP2002112526A (ja) | 2000-06-26 | 2002-04-12 | Nikon Corp | 平面モータ、ステージ位置決めシステム、露光装置 |
US6452292B1 (en) * | 2000-06-26 | 2002-09-17 | Nikon Corporation | Planar motor with linear coil arrays |
US6445093B1 (en) * | 2000-06-26 | 2002-09-03 | Nikon Corporation | Planar motor with linear coil arrays |
US6885430B2 (en) | 2000-11-16 | 2005-04-26 | Nikon Corporation | System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly |
TWI258914B (en) | 2000-12-27 | 2006-07-21 | Koninkl Philips Electronics Nv | Displacement device |
US6670730B2 (en) * | 2001-04-12 | 2003-12-30 | Ballado Investments Inc. | Multi-phase linear motor with induction coils arranged on an axis perpendicular to the direction of motion |
US20020149270A1 (en) | 2001-04-12 | 2002-10-17 | Hazelton Andrew J. | Planar electric motor with two sided magnet array |
US6650079B2 (en) | 2001-06-01 | 2003-11-18 | Nikon Corporation | System and method to control planar motors |
WO2003026838A1 (en) | 2001-09-24 | 2003-04-03 | Agency For Science, Technology And Research | Decoupled planar positioning system |
US6710495B2 (en) * | 2001-10-01 | 2004-03-23 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Multi-phase electric motor with third harmonic current injection |
JP2003164137A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-06 | Fuji Electric Co Ltd | 電磁アクチュエータ |
JP2003189589A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-04 | Canon Inc | 可動磁石型リニアモータ、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP3916048B2 (ja) * | 2002-01-10 | 2007-05-16 | 株式会社安川電機 | リニアモータ |
EP1333468B1 (en) | 2002-01-22 | 2010-05-26 | Ebara Corporation | Stage device |
EP1357434A1 (en) | 2002-04-23 | 2003-10-29 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1357429A1 (en) | 2002-04-23 | 2003-10-29 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2004023960A (ja) * | 2002-06-19 | 2004-01-22 | Nikon Corp | リニアモータ装置、ステージ装置及び露光装置 |
US6777896B2 (en) * | 2002-07-09 | 2004-08-17 | Nikon Corporation | Methods and apparatus for initializing a planar motor |
JP4227452B2 (ja) | 2002-12-27 | 2009-02-18 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、及びその位置決め装置を利用した露光装置 |
US7224252B2 (en) | 2003-06-06 | 2007-05-29 | Magno Corporation | Adaptive magnetic levitation apparatus and method |
US7057370B2 (en) * | 2003-06-21 | 2006-06-06 | Igor Victorovich Touzov | Ultra-fast precision motor with X, Y and Theta motion and ultra-fast optical decoding and absolute position detector |
JP4478470B2 (ja) * | 2004-01-26 | 2010-06-09 | キヤノン株式会社 | 位置決めステージ装置 |
JP3981669B2 (ja) | 2004-03-02 | 2007-09-26 | セイコーエプソン株式会社 | モータ及びモータの駆動システム |
JP2005253179A (ja) | 2004-03-03 | 2005-09-15 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
WO2005090202A1 (en) | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Dickinson Kent H | Shipping container |
JP2005268608A (ja) | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置 |
US7536161B2 (en) | 2004-03-31 | 2009-05-19 | Silicon Laboratories Inc. | Magnetically differential input |
JP2006042547A (ja) * | 2004-07-29 | 2006-02-09 | Sharp Corp | 平面リニアモータならびに平面リニアモータ用プラテンおよびその製造方法 |
JP4552573B2 (ja) * | 2004-09-16 | 2010-09-29 | 株式会社安川電機 | リニアモータ装置 |
JP5422126B2 (ja) | 2005-01-17 | 2014-02-19 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 移動装置 |
US7882701B2 (en) | 2005-01-18 | 2011-02-08 | Massachusetts Institute Of Technology | Microfabricated mechanical frequency multiplier |
JP2006211812A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP4738829B2 (ja) | 2005-02-09 | 2011-08-03 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置 |
US7550890B2 (en) * | 2005-08-23 | 2009-06-23 | Seagate Technology Llc | Motor assembly with an integrated flexible printed circuit |
JP2007068256A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Canon Inc | ステージ装置の制御方法 |
US7459808B2 (en) | 2005-11-15 | 2008-12-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and motor |
US7541699B2 (en) | 2005-12-27 | 2009-06-02 | Asml Netherlands B.V. | Magnet assembly, linear actuator, planar motor and lithographic apparatus |
TWI454859B (zh) | 2006-03-30 | 2014-10-01 | 尼康股份有限公司 | 移動體裝置、曝光裝置與曝光方法以及元件製造方法 |
JP2008006642A (ja) | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Brother Ind Ltd | 記録装置 |
KR101770082B1 (ko) | 2006-09-01 | 2017-08-21 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 디바이스 제조 방법, 그리고 캘리브레이션 방법 |
US7504794B2 (en) | 2006-11-29 | 2009-03-17 | Chiba Precision Co., Ltd. | Planar motor |
US7633070B2 (en) | 2006-12-18 | 2009-12-15 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Substrate processing apparatus and method |
WO2008130560A1 (en) * | 2007-04-19 | 2008-10-30 | Nikon Corporation | Three degree of movement mover and method for controlling the same |
US20080285005A1 (en) * | 2007-05-15 | 2008-11-20 | Jean-Marc Gery | System and method for measuring and mapping a sideforce for a mover |
DE102007024602A1 (de) | 2007-05-25 | 2008-11-27 | Etel S.A. | Planarmotor |
US8129984B2 (en) | 2007-06-27 | 2012-03-06 | Brooks Automation, Inc. | Multiple dimension position sensor |
DE102007038845A1 (de) * | 2007-08-16 | 2009-03-19 | Dorma Gmbh + Co. Kg | Anordnung von Statormodulen in einem Linearmotor |
JP2009060773A (ja) | 2007-09-04 | 2009-03-19 | Canon Inc | 駆動装置およびそれを用いた平面モータおよびそれを用いた露光装置 |
US20090195195A1 (en) * | 2008-02-03 | 2009-08-06 | Lieh-Feng Huang | Position Feedback Device for a Linear Motor |
JP2009253090A (ja) | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Canon Inc | 位置決めステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
WO2009128321A1 (ja) * | 2008-04-18 | 2009-10-22 | 株式会社安川電機 | 多自由度アクチュエータおよびステージ装置 |
JP2010004684A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Canon Inc | モータ装置、製造方法、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP4811798B2 (ja) * | 2008-08-19 | 2011-11-09 | 株式会社安川電機 | リニアモータ装置 |
US7965010B2 (en) | 2008-09-03 | 2011-06-21 | Bose Corporation | Linear motor with patterned magnet arrays |
US20100090545A1 (en) * | 2008-10-09 | 2010-04-15 | Binnard Michael B | Planar motor with wedge shaped magnets and diagonal magnetization directions |
US8492934B2 (en) * | 2009-03-23 | 2013-07-23 | Nikon Corporation | Coil variations for an oval coil planar motor |
JP5430204B2 (ja) | 2009-04-01 | 2014-02-26 | キヤノン株式会社 | リニアモータおよびそれを用いたステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
US7808133B1 (en) | 2009-04-21 | 2010-10-05 | Asm Assembly Automation Ltd. | Dual-axis planar motor providing force constant and thermal stability |
JP4941790B2 (ja) | 2009-08-28 | 2012-05-30 | 村田機械株式会社 | 移動体システム |
JP5486874B2 (ja) | 2009-08-28 | 2014-05-07 | Thk株式会社 | 分散配置リニアモータおよび分散配置リニアモータの制御方法 |
GB2482091B (en) | 2009-09-21 | 2013-07-17 | Rod F Soderberg | A composite material including magnetic particles which provides structural and magnetic capabilities |
CN101707404B (zh) | 2009-11-30 | 2012-03-28 | 哈尔滨工业大学 | 复合结构永磁电机的Halbach阵列盘式转子 |
US9465305B2 (en) * | 2010-05-18 | 2016-10-11 | Nikon Corporation | Method for determining a commutation offset and for determining a compensation map for a stage |
US8593016B2 (en) | 2010-12-03 | 2013-11-26 | Sri International | Levitated micro-manipulator system |
CN201956875U (zh) * | 2011-01-27 | 2011-08-31 | 东南大学 | 梯形线圈型永磁无铁直线电机 |
CN201956872U (zh) | 2011-01-30 | 2011-08-31 | 深圳市万至达电机制造有限公司 | 一种步进电机 |
JP5649058B2 (ja) | 2011-02-02 | 2015-01-07 | 独立行政法人理化学研究所 | アンジュレータ磁石列およびアンジュレータ |
NL2008696A (en) | 2011-05-25 | 2012-11-27 | Asml Netherlands Bv | A multi-stage system, a control method therefor, and a lithographic apparatus. |
US9030057B2 (en) * | 2011-06-24 | 2015-05-12 | Nikon Corporation | Method and apparatus to allow a plurality of stages to operate in close proximity |
US20130164687A1 (en) | 2011-06-30 | 2013-06-27 | Michael B. Binnard | Hybrid cooling and thermal shield for electromagnetic actuators |
US20130140372A1 (en) | 2011-06-30 | 2013-06-06 | Nikon Corporation | Temperature control of a mover with active bypass, predictive feedforward control, and phase change housing |
EP2568582B1 (de) * | 2011-09-12 | 2014-06-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Elektrische Maschine |
WO2013059934A1 (en) | 2011-10-27 | 2013-05-02 | The University Of British Columbia | Displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
CN202405989U (zh) | 2012-01-17 | 2012-08-29 | 东南大学 | 低速大转矩永磁游标直线波浪发电机 |
US9755493B2 (en) | 2012-07-31 | 2017-09-05 | Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | Linear motor and stage apparatus |
WO2014033716A1 (en) | 2012-08-27 | 2014-03-06 | Albus Technologies Ltd. | Planar stator with efficient use of space |
US8736133B1 (en) * | 2013-03-14 | 2014-05-27 | Boulder Wind Power, Inc. | Methods and apparatus for overlapping windings |
JP6373992B2 (ja) | 2013-08-06 | 2018-08-15 | ザ・ユニバーシティ・オブ・ブリティッシュ・コロンビア | 変位デバイスおよび方法とそれに関連付けられた運動を検出し推定するための装置 |
US10084364B2 (en) | 2013-10-05 | 2018-09-25 | Nikon Research Corporation Of America | Power minimizing controller for a stage assembly |
US10261419B2 (en) | 2014-05-22 | 2019-04-16 | Nikon Corporation | Magnet array for moving magnet planar motor |
WO2015179962A1 (en) | 2014-05-30 | 2015-12-03 | The University Of British Columbia | Displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
WO2015184553A1 (en) | 2014-06-07 | 2015-12-10 | The University Of British Columbia | Methods and systems for controllably moving multiple moveable stages in a displacement device |
EP3155712A4 (en) | 2014-06-14 | 2018-02-21 | The University Of British Columbia | Displacement devices, moveable stages for displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
DE102014214697A1 (de) | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zum Befüllen eines Behältnisses |
JP6514316B2 (ja) | 2014-07-25 | 2019-05-15 | ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツングRobert Bosch Gmbh | 搬送装置 |
DE102014214696A1 (de) | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zum Transport eines Behältnisses relativ zu einer Füllstation |
DE102014214694A1 (de) | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zum Verschließen eines Behältnisses |
DE102014214693A1 (de) | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zum Wiegen eines Behältnisses |
DE102014225171A1 (de) | 2014-12-08 | 2016-06-09 | Robert Bosch Gmbh | Sicherungssystem für eine Anordnung zum Bewegen von Transportkörpern |
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