JP6144514B2 - スリットノズル、基板処理装置およびスリットノズルの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶用ガラス基板、半導体基板、フィルム液晶用フレキシブル基板、フォトマスク用基板、カラーフィルター用基板、太陽電池用基板、有機ＥＬ用基板等（以下、単に「基板」という。）の表面に処理液を塗布するスリットノズル、当該スリットノズルを備えた基板処理装置、および、当該スリットノズルの製造方法に関する。

従来より、基板の製造工程には、フォトレジストなどの処理液を基板の表面に塗布する塗布工程が含まれている。塗布工程においては、スリット状の吐出部を有するスリットノズルから基板の表面に処理液を吐出する塗布装置（いわゆるスリットコータ）が使用されることがある。

スリットノズルは、その下部にスリット状の吐出口を有しており、当該吐出口から処理液を吐出する。塗布装置においては、このスリットノズルが、基板に向けて吐出口から処理液を吐出しつつ、スリット状吐出口の長手方向と直交する方向に沿って基板に対して相対的に移動される。これによって、基板の表面内の矩形領域に、処理液が塗布されるようになっている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００６−２６１３２６号公報

特許文献１に開示のスリットノズルは、処理液の塗布幅の変動を抑制するために、ノズル両端部にサイドプレートを備えている。このようなサイドプレート方式のスリットノズルにおいては、サイドプレートとノズル本体部との間の僅かな隙間から処理液がリークするおそれがある。特に、ノズル本体部とノズル蓋部との間に吐出口の幅を調整するためのシムを挟持した構造のスリットノズルでは、シムとサイドプレートとの間に加工の都合上不可避的に隙間が生じることとなり、その隙間から処理液がリークするという問題があった。

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、処理液の漏出を防止することができる技術を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、請求項１の発明は、スリット状の吐出口をその下部に有して当該吐出口から処理液を吐出するスリットノズルにおいて、処理液を前記吐出口に導く送液路を有するノズル本体部と、前記ノズル本体部に貼り合わされて前記ノズル本体部とともに前記吐出口の長手方向に沿った開口縁を規定するノズル蓋部と、前記ノズル本体部と前記ノズル蓋部との間に挟持されて前記吐出口の幅を規定するシムと、前記ノズル本体部および前記ノズル蓋部の両端に取り付けられ、前記吐出口の幅方向に沿った開口縁を規定する一対のサイドプレートと、前記シムと前記サイドプレートとの間に生じる処理液の漏出流路を閉塞する閉塞部と、を備え、前記ノズル蓋部の上側両端に、前記ノズル本体部に対向する面からその反対側の面に貫通する切り欠き部が形成され、前記閉塞部は、前記切り欠き部に装填される弾性部材と、前記弾性部材を前記ノズル蓋部および前記ノズル本体部に対して押圧する押圧機構と、を備えることを特徴とする。

また、請求項２の発明は、請求項１の発明に係るスリットノズルにおいて、前記シムの上側両端に、前記切り欠き部の断面よりも小さな面積の切り欠きを形成し、前記弾性部材の端面の一部は前記ノズル本体部を直接に押圧するとともに、前記端面の残部は前記シムを挟み込んで前記ノズル本体部を押圧することを特徴とする。

また、請求項３の発明は、請求項１または請求項２の発明に係るスリットノズルにおいて、前記弾性部材はシリコンゴムにて形成されることを特徴とする。

また、請求項４の発明は、基板処理装置に、請求項１から請求項３のいずれかの発明に係るスリットノズルと、前記スリットノズルの下方において基板を水平に保持する保持部と、前記スリットノズルを、前記保持部に保持された基板に対して、前記吐出口の長手方向と直交する方向に相対的に移動させる駆動部と、前記スリットノズルに処理液を供給する供給部と、を備えることを特徴とする。

また、請求項５の発明は、スリット状の吐出口をその下部に有して当該吐出口から処理液を吐出するスリットノズルの製造方法において、処理液を前記吐出口に導く送液路を有するノズル本体部に、前記吐出口の幅を規定するシムを挟み込んでノズル蓋部を貼り合わせる貼設工程と、前記ノズル本体部および前記ノズル蓋部の両端に一対のサイドプレートを取り付ける取付工程と、前記ノズル蓋部の上側両端に、前記ノズル本体部に対向する面からその反対側の面に貫通する切り欠き部を形成する加工工程と、前記切り欠き部に弾性部材を装填し、前記弾性部材を前記ノズル蓋部および前記ノズル本体部に対して押圧することによって、前記シムと前記サイドプレートとの間に生じる処理液の漏出流路を閉塞する閉塞工程と、を備えることを特徴とする。

また、請求項６の発明は、請求項５の発明に係るスリットノズルの製造方法において、前記シムの上側両端に、前記切り欠き部の断面よりも小さな面積の切り欠きを形成する工程をさらに備え、前記閉塞工程では、前記弾性部材の端面の一部は前記ノズル本体部を直接に押圧するとともに、前記端面の残部は前記シムを挟み込んで前記ノズル本体部を押圧することを特徴とする。

また、請求項７の発明は、請求項５または請求項６の発明に係るスリットノズルの製造方法において、前記弾性部材はシリコンゴムにて形成されることを特徴とする。

請求項１から請求項３の発明によれば、シムとサイドプレートとの間に生じる処理液の漏出流路を閉塞する閉塞部を備えるため、シムとサイドプレートとの間からの処理液の漏出を防止することができる。

特に、請求項２の発明によれば、弾性部材の端面の一部はノズル本体部を直接に押圧するとともに、端面の残部はシムを挟み込んでノズル本体部を押圧するため、シムとノズル本体部との隙間を消滅させて処理液の漏出をより確実に防止することができる。

請求項４の発明によれば、スリットノズルからの処理液の漏出を防止して基板に均一に処理液を吐出することができる。

請求項５から請求項７の発明によれば、ノズル蓋部の切り欠き部に弾性部材を装填し、弾性部材をノズル蓋部およびノズル本体部に対して押圧することによって、シムとサイドプレートとの間に生じる処理液の漏出流路を閉塞するため、シムとサイドプレートとの間からの処理液の漏出を防止することができる。

特に、請求項６の発明によれば、弾性部材の端面の一部はノズル本体部を直接に押圧するとともに、端面の残部はシムを挟み込んでノズル本体部を押圧するため、シムとノズル本体部との隙間を消滅させて処理液の漏出をより確実に防止することができる。

本発明に係る基板処理装置の概略を示した斜視図である。 スリットノズルの外観斜視図である。 スリットノズルの断面図である。 スリットノズルの端部を上方から見た図である。 スリットノズルの組み立ての一工程を示す図である。 スリットノズルの上側端部の分解斜視図である。 ゴムを装填したスリットノズルの上側端部を示す平面図である。

以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。

＜１．基板処理装置の全体構成＞
図１は、本発明に係る基板処理装置１の概略を示した斜視図である。この基板処理装置１は、液晶表示装置用のガラス基板などの基板２に対してスリットノズル４２からレジスト液などの処理液を吐出して塗布処理を行う塗布装置（スリットコータ）である。なお、図１および以降の各図には、それらの方向関係を明確にするためＺ軸方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系を適宜付している。Ｘ方向は、スリットノズル４２の移動方向であり、Ｙ方向は、スリットノズル４２の長手方向である。また、図１および以降の各図においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して描いている。

基板処理装置１は、本体部１０と、制御部２０とを有する。本体部１０は、ステージ３０と、架橋部４０と、駆動部５０とを備えている。

ステージ３０は、基板２を載置する保持台である。ステージ３０は、直方体形状の石材などにより構成され、その上面および側面は平坦に加工されている。ステージ３０の上面は水平面であり、基板２の保持面３１となっている。保持面３１には、図示しない多数の真空吸着口が形成されている。基板処理装置１において基板２を処理するときには、真空吸着口が基板２を吸着することによって、基板２はスリットノズル４２の下方において水平姿勢（法線が鉛直方向に沿う姿勢）に保持される。

保持面３１には、複数のリフトピン３２が設けられている。リフトピン３２は、上下に昇降自在に構成されている。基板２をステージ３０上に載置する際、または基板２をステージ３０から取り除く際には、リフトピン３２が上昇して基板２を保持する。また、保持面３１のうち、基板２が保持される領域を挟んだ両端部には、一対の走行レール３３が固設されている。走行レール３３は、架橋部４０を支持するとともに、架橋部４０のＸ方向の移動を案内するリニアガイドを構成する。

保持面３１の（＋Ｘ）方向側には、開口３４が設けられている。開口３４下方の本体部１０の内部には、スリットノズル４２の状態を正常化するための予備塗布機構や、スリットノズル４２の乾燥を防止するための待機ポッドなどが設けられている。

架橋部４０は、ステージ３０の上方に水平に掛け渡されている。架橋部４０は、カーボンファイバ補強樹脂等を骨材とするノズル支持部４１と、ノズル支持部４１に取り付けられたスリットノズル４２と、ノズル支持部４１の両端を支持する昇降機構４３とを有している。

スリットノズル４２は、スリット状の吐出口７１１をその下部に有し、この吐出口７１１からレジスト液を吐出しつつ、基板２の表面を走査して、基板２表面の所定の領域にレジスト液を塗布する。スリットノズル４２は、長尺のノズル本体部７１と、ノズル本体部７１に貼り合わされるノズル蓋部７３（図１ではノズル本体部７１の裏側にあるため不図示）と、ノズル本体部７１およびノズル蓋部７３の長手方向（Ｙ方向）の両端に取り付けられたサイドプレート７２と、を備える。スリットノズル４２の詳細な構成についてはさらに後述する。

昇降機構４３は、ノズル支持部４１を介してスリットノズル４２を支持している。昇降機構４３は、ＡＣサーボモータ４３ａと図示しないボールネジとを備えており、制御部２０からの制御信号に基づいてスリットノズル４２を並進的に昇降させる。また、昇降機構４３は、スリットノズル４２のＹＺ平面内での姿勢を調整する。

駆動部５０は、スリットノズル４２を、ステージ３０に保持された基板２に対して、吐出口７１１の長手方向（Ｙ方向）と直交する方向（Ｘ方向）に、相対的に移動させる。駆動部５０は、ステージ３０の両側部に沿った一対の固定子５１と、架橋部４０の両端部に取り付けられた一対の移動子５２とを備えている。駆動部５０は、固定子５１と移動子５２とにより一対のＡＣコアレスリニアモータを構成しており、架橋部４０をＸ方向に移動させる。また、駆動部５０には、スケール部と検出子とを有するリニアエンコーダ５３が取り付けられている。リニアエンコーダ５３は、移動子５２の位置を検出し、検出結果を制御部２０へ送信する。

制御部２０は、プログラムに従って各種データを処理する演算部２１と、プログラムや各種データを記憶する記憶部２２とを備える。また、制御部２０の前面には、オペレータからの指示入力を受け付ける操作部２３と、各種データを表示する表示部２４とが設けられている。

制御部２０は、図示しないケーブルによって本体部１０と電気的に接続されている。制御部２０は、操作部２３からの入力信号やリニアエンコーダ５３からの検出結果に基づいて、固定子５１および移動子５２の動作を制御する。これにより、ステージ３０上の架橋部４０の動作が制御される。また、制御部２０は、操作部２３からの入力信号や図示しない各種センサからの信号に基づいて、昇降機構４３の動作やスリットノズル４２からのレジスト液の吐出動作を制御する。

＜２．スリットノズルの構成＞
次に、スリットノズル４２の構成についてさらに説明する。図２は、スリットノズル４２の外観斜視図である。また、図３は、スリットノズル４２の長手方向中央部近傍をＸＺ平面で切断した断面図である。

スリットノズル４２は、ノズル本体部７１、ノズル蓋部７３、サイドプレート７２およびシム７４を備える。ノズル本体部７１は、Ｙ方向に沿って延びる長尺の部材であり、例えばステンレスにて形成されている。ノズル本体部７１には、スリットノズル４２の内部流路となる送液路７１３およびマニホールド７１２が形成されている。送液路７１３は、ノズル本体部７１がノズル蓋部７３と貼り合わされることによって流路として機能する。マニホールド７１２は、（−Ｘ）方向に向けて削られた溝として形成されている。

ノズル蓋部７３もＹ方向に沿って延びる長尺の部材であり、ノズル本体部７１と同じ材質にて形成されている。シム７４は、Ｙ方向に沿って延びる板状の長尺部材である。シム７４もノズル本体部７１と同じ材質にて形成されているが、ノズル本体部７１およびノズル蓋部７３とは異なる鋼種であっても良い。マニホールド７１２よりも上側にてシム７４を挟み込んでノズル本体部７１にノズル蓋部７３を貼り合わせることにより、送液路７１３がスリットノズル４２の流路となる。そして、送液路７１３の下端が処理液を吐出する吐出口７１１となる。すなわち、吐出口７１１の長手方向（Ｙ方向）に沿った開口縁はノズル本体部７１およびノズル蓋部７３によって規定される。

また、一対のサイドプレート７２は、シム７４を挟み込んでノズル本体部７１とノズル蓋部７３とが貼り合わされた構造体の長手方向（Ｙ方向）両端に取り付けられる。吐出口７１１の幅方向（Ｘ方向）に沿った開口縁は一対のサイドプレート７２によって規定される。

ノズル蓋部７３がノズル本体部７１に接合された状態において、送液路７１３はマニホールド７１２に連通している。マニホールド７１２は、レジスト液供給源６０と接続されている。レジスト液供給源６０から送給されたレジスト液は、マニホールド７１２内にてスリットノズル４２の長手方向（Ｙ方向）に拡散された後に、送液路７１３を流れて吐出口７１１まで導かれ、吐出口７１１から基板２に向けて吐出される。レジスト液供給源６０から供給されたレジスト液が一旦マニホールド７１２内にて拡散されるため、吐出口７１１から吐出されるレジスト液の流量をＹ方向に沿って均一なものとすることができる。

図３に示すように、ノズル本体部７１とノズル蓋部７３との間に挟持されるシム７４は、吐出口７１１の幅（Ｘ方向長さ）を規定する。すなわち、シム７４の厚さを厚くすると吐出口７１１の幅が拡がり、シム７４の厚さを薄くすると吐出口７１１の幅が狭くなる。このように、ノズル本体部７１とノズル蓋部７３との間にシム７４を挟み込む構造のスリットノズル４２においては、挟み込むシム７４の厚さを異ならせることによって容易に吐出口７１１の幅を調整することができる。また、このような構造のスリットノズル４２においては、ノズル本体部７１とノズル蓋部７３とを容易に分解して清掃等を行うことができるため、メンテナンスの作業性を高めることができる。

ところで、上記のようなシム７４を挟持したサイドプレート方式のスリットノズル４２においては、シム７４とサイドプレート７２との間の隙間から処理液が漏出するおそれがある。図４は、スリットノズル４２の端部を上方から見た図である。ノズル本体部７１とサイドプレート７２およびノズル蓋部７３とサイドプレート７２とは高い精度にて貼り合わされているため、それらの間には処理液が漏出するような隙間は存在しないものとみなすことができる。

しかしながら、シム７４のＹ方向長さはノズル本体部７１およびノズル蓋部７３のＹ方向長さよりも若干短くなるように加工されている。これは厚さの薄い（図４ではシム７４の厚さを誇張して厚く描いている）シム７４のＹ方向端部がサイドプレート７２に接触すると、シム７４またはサイドプレート７２に傷が付くおそれがあるためである。また、シム７４、ノズル本体部７１およびノズル蓋部７３の角部には面取り加工が施されている。これらの加工の結果、シム７４とサイドプレート７２との間には不可避的に隙間７５が生じることとなる。この隙間７５は、シム７４とサイドプレート７２との間にＺ方向に沿って延在しており、マニホールド７１２に繋がる。このため、マニホールド７１２に供給された処理液の液圧が上昇したときには、隙間７５を伝わって処理液が上側（（＋Ｚ）方向）に漏出する。さらに、隙間７５の上端にまで到達した処理液はノズル本体部７１、ノズル蓋部７３とサイドプレート７２との接合界面の上端、および、ノズル本体部７１、ノズル蓋部７３とシム７４との接合界面の上端に沿って流れることとなる。すなわち、シム７４とサイドプレート７２との間に形成された隙間７５が処理液の漏出流路の基端となる。なお、このような隙間７５はシム７４の両側に形成されることとなる。

そこで、本発明に係るスリットノズル４２においては、処理液の漏出流路である隙間７５を閉塞するようにしている。以下、隙間７５の閉塞についてさらに説明を続ける。

＜３．スリットノズルの製造＞
図５は、スリットノズル４２の組み立ての一工程を示す図である。スリットノズル４２の製造に際して、最も重要となるのは、吐出口７１１の仕上げ精度である。すなわち、吐出口７１１の幅をスリットノズル４２の長手方向の全体にわたって高精度に均一にするとともに、幅方向（Ｘ方向）の高さも揃えなければならない。吐出口７１１の仕上げ精度が低いと、スリットノズル４２からの処理液の均一な吐出が阻害されることとなり、塗布処理に不都合が生じる。

このため、スリットノズル４２を構成する各部品（ノズル本体部７１、ノズル蓋部７３、サイドプレート７２およびシム７４）は高い精度にて加工されている。また、極めて高い平面度を有する石定盤９５を基準としてスリットノズル４２を組み立てる。具体的には、まず石定盤９５の上面にノズル本体部７１を載置する。ノズル本体部７１は、上面（吐出口７１１とは反対側の面）が石定盤９５の上面に当接するように載置される。

次に、所定厚さのシム７４を挟み込んでノズル蓋部７３がノズル本体部７１に貼り合わされる。このときには、シム７４およびノズル蓋部７３の上面を石定盤９５の上面に押し当ててノズル本体部７１とノズル蓋部７３との相対位置関係を厳密に調整した上で、双方を例えばボルトによって締結する。これにより、ノズル本体部７１の下端とノズル蓋部７３の下端（図５では上側端）とがスリットノズル４２の長手方向の全体にわたって完全に同じ高さとなり、吐出口７１１の仕上げ精度を高いものとすることができる。そして、シム７４を挟み込んでノズル本体部７１とノズル蓋部７３とが貼り合わされた構造体の長手方向両端に一対のサイドプレート７２を取り付けてスリットノズル４２が完成される。但し、上述したように、シム７４の加工の都合上、シム７４とサイドプレート７２との間には処理液の漏出流路となる隙間７５が不可避的に形成される。

そこで本実施形態においては、ノズル蓋部７３に切り欠き部を形成し、その切り欠き部にゴムを装填することによって隙間７５を閉塞するようにしている。図６は、スリットノズル４２の上側端部の分解斜視図である。図６では、スリットノズル４２の（＋Ｙ）側の上側端部を示しているが、（−Ｙ）側についても同様である。

スリットノズル４２の組み立てに先立って、ノズル蓋部７３の上側（（＋Ｚ）側）の両端には四角柱形状の切り欠き部７９が形成される。切り欠き部７９は、ノズル蓋部７３のノズル本体部７１に対向する面からその反対側の面に貫通するように形成される。このような切り欠き部７９は、例えば切削加工によって形成することができる。

また、シム７４の上側（（＋Ｚ）側）の両端にも矩形の切り欠き７８が形成される。シム７４に形成される切り欠き７８の面積はノズル蓋部７３の切り欠き部７９の断面（ＹＺ断面）よりも小さい。切り欠き部７８もシム７４のノズル本体部７１に対向する面からその反対側の面に貫通するように形成される。

上側両端に四角柱形状の切り欠き部７９が形成されたノズル蓋部７３が石定盤９５を用いてノズル本体部７１との相対位置関係を調整され（図５）、シム７４を挟み込んでノズル本体部７１に貼り合わされる。シム７４にも切り欠き７８が形成されている。この切り欠き７８は、ノズル蓋部７３の切り欠き部７９の断面よりも小さい。従って、図６に示すように、相互の位置関係が調整されてノズル本体部７１にシム７４を挟み込んでノズル蓋部７３が貼り合わされた構造体においては、シム７４の上側両端がノズル蓋部７３の切り欠き部７９からはみ出る。そして、シム７４の切り欠き７８においては、ノズル本体部７１の接合面が直接に露出することとなる。このようなシム７４の切り欠き７８から露出するノズル本体部７１の接合面を露出面７７とする。

切り欠き部７９が形成されたノズル蓋部７３とノズル本体部７１との間に切り欠き７８を有するシム７４を挟持した構造体の長手方向両端に一対のサイドプレート７２が取り付けられる。サイドプレート７２が取り付けられることによって、ノズル蓋部７３の切り欠き部７９は凹部となる。その切り欠き部７９にゴム８１が装填される。ゴム８１の素材としては、耐薬品性能に優れる（薬液に腐食されにくい）とともに硬度が低くて高い弾性変形能を有する材質が求められ、本実施形態では一例としてシリコンゴムが採用される。シリコンゴムは、ゴムの硬さ試験方法に関する規格であるＪＩＳ（日本工業規格）のＫ６２５３規格で硬度２０を有する。また、ゴム８１の形状は、切り欠き部７９の形状に対応するものであり、本実施形態では切り欠き部７９が四角柱形状であるためゴム８１の形状も四角柱形状である。ゴム８１の大きさは、切り欠き部７９よりも若干大きいことが好ましい。

切り欠き部７９にゴム８１を装填した後、押さえ部材をノズル蓋部７３に締結することによってゴム８１を押圧する。図７は、ゴム８１を装填したスリットノズル４２の上側端部を示す平面図である。切り欠き部７９の容積よりも大きなゴム８１を切り欠き部７９に装填し、切り欠き部７９を塞ぐようにボルト８６によって押さえ板８５をノズル蓋部７３に締結する。これにより、ゴム８１には（＋Ｘ）側から（−Ｘ）側へと向かう力が作用し、押さえ板８５によってゴム８１がノズル本体部７１に対して押圧されることとなる。

このときに、図７に示すように、ゴム８１の（−Ｘ）側端面の一部がノズル本体部７１の露出面７７を直接に押圧するとともに、その端面の残部がシム７４を挟み込んでノズル本体部７１を押圧する。すなわち、図６に示したように、シム７４にも切り欠き部７９よりも小さな切り欠き７８が形成されている。このため、ノズル本体部７１にシム７４を挟み込んでノズル蓋部７３が貼り合わされた構造体においては、シム７４の上側両端がノズル蓋部７３の切り欠き部７９からはみ出る。そして、シム７４の切り欠き７８からはノズル本体部７１の露出面７７が露出する。このような構造に硬度が低くて高い弾性変形能を有するゴム８１が押し当てられることにより、図７に示すように、ゴム８１の（−Ｘ）側端面が変形して露出面７７およびシム７４の双方を押圧するのである。

また、スリットノズル４２の上側からも押さえ板８５と同様の押さえ板（図示省略）がノズル蓋部７３に締結される。これにより、ゴム８１には（＋Ｚ）側から（−Ｚ）側へと向かう力が作用し、ゴム８１がノズル蓋部７３に対して押圧されることとなる。

切り欠き部７９にゴム８１を装填し、そのゴム８１を上側（（＋Ｚ）側）と横側（（＋Ｘ）側）との２方向から押さえつけることによって、ゴム８１がノズル蓋部７３およびノズル本体部７１に対して押圧される。これにより、ゴム８１が変形して切り欠き部７９内に充填され、図７に示すように、シム７４とサイドプレート７２との間に形成された隙間７５がゴム８１によって閉塞される。

＜４．本発明に係る技術の効果＞
上述のようにして、切り欠き部７９に装填されたゴム８１によって処理液の漏出流路である隙間７５が閉塞されることにより、マニホールド７１２から隙間７５を伝わっての処理液の漏出を防止することができる。処理液はスリットノズル４２の上端にまでは到達しないため、ノズル本体部７１、ノズル蓋部７３、サイドプレート７２およびシム７４の接合界面の上端に沿って処理液が流れ出ることも防止される。

特に、本実施形態においては、ゴム８１の端面の一部がノズル本体部７１の露出面７７を直接に押圧するとともに、その端面の残部がシム７４を挟み込んでノズル本体部７１を押圧する（図７）。ゴム８１がノズル本体部７１の露出面７７を押圧することによって隙間７５を直接的に閉塞することができる。また、ゴム８１がシム７４を挟み込んでノズル本体部７１を押圧することにより、シム７４の端部をノズル本体部７１に押圧することができ、シム７４とノズル本体部７１との隙間を消滅させて処理液の漏出をより確実に防止することができる。

本発明に係るスリットノズル４２を搭載した基板処理装置１においては、処理液の漏出が生じないためにスリットノズル４２から安定して処理液が吐出されることとなり、基板２上の必要な領域に均一に処理液を塗布することができる。

また、本実施形態のように、ノズル本体部７１とノズル蓋部７３との間にシム７４を挟み込む構造のスリットノズル４２においては、各構成部品を分解することによって清掃等のメンテナンスを容易に行うことができ、そのときにゴム８１についても容易に清掃を行うことができる。なお、清掃後のゴム８１については繰り返して再利用することができる。

ところで、単に処理液の漏出流路である隙間７５を閉塞する目的だけであれば、ノズル蓋部７３に切り欠き部７９を形成することなく、例えばスリットノズル４２の上面に隙間７５を塞ぐようなパッキンを装着することも考えられる。このようにすれば、切り欠き部７９を形成する本実施形態よりも安価に処理液の漏出を防止することができる。しかしながら、そのような構造にすると、石定盤９５を用いて厳密に調整したノズル本体部７１とノズル蓋部７３との相対位置関係がパッキンで押さえたときに崩れるおそれがある。そうすると、吐出口７１１の仕上げ精度が顕著に劣化することとなり、処理液を均一に吐出するというスリットノズル４２としての本質的な性能が損なわれることとなる。本実施形態のようにノズル蓋部７３に切り欠き部７９を設け、その切り欠き部７９のみにゴム８１を装填すれば、吐出口７１１の仕上げ精度には影響を与えないため、スリットノズル４２としての本質的な性能を維持しつつも処理液の漏出を防止することができ、その点に本発明に係る技術の意義が存在する。

＜５．変形例＞
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態においては、ゴム８１としてシリコンゴムを用いていたが、ゴム８１の材質はこれに限定されるものではなく、他の種類のゴムを採用することもできる。或いは、ゴム８１に代えて他の弾性部材を用いるようにしても良い。但し、上述したように、直接に処理液に接触する可能性のあるゴム８１の材質としては、耐薬品性能に優れるとともに硬度が低くて高い弾性変形能を有することが必要となる。ゴム８１の材質としてシリコンゴム以外のゴムを用いる場合には、ＪＩＳのＫ６２５３規格で硬度１０以上硬度４０以下のものが好ましい。ゴムの硬度が４０を超えると、弾性変形しにくくなるため、隙間７５を確実に防ぐことが困難となり、処理液の漏出を完全には防止できなくなる。また、ゴムの硬度が１０未満であると、コストの増加が著しくなる。

また、上記実施形態においては、切り欠き部７９の容積よりも大きなゴム８１を切り欠き部７９に装填して押さえ板によってゴム８１を押圧するようにしていたが、これに代えて切り欠き部７９の容積よりも小さなゴム８１を切り欠き部７９に装填し、凸状の押さえ部材によってゴム８１を押圧するようにしても良い。

また、上記実施形態においては、ノズル蓋部７３に切り欠き部７９を形成するようにしていたが、これに代えて、ノズル本体部７１に同様の切り欠き部を形成するようにしても良い。すなわち、ノズル本体部７１に、ノズル蓋部７３と対向する面からその反対側の面に貫通するような切り欠き部を形成し、その切り欠き部にゴム８１を装填して押圧するようにしても良い。

また、上記実施形態の基板処理装置１は、ステージ３０によって真空吸着した基板２にスリットノズル４２から処理液を吐出する構成であったが、ステージ３０からエアを噴出して基板２を浮上させ、その浮上した基板２にスリットノズル４２から処理液を吐出する構成であっても良い。

また、上記実施形態の基板処理装置１は、ステージ３０に静止状態で保持した基板２に対してスリットノズル４２を走査させる構成であったが、固定したスリットノズル４２に対して基板２を移動させる構成であっても良い。或いは、スリットノズル４２および基板２の双方を移動させる構成であっても良い。すなわち、基板２に対してスリットノズル４２を相対的に移動させる構成であれば良い。

また、基板処理装置１によって処理対象となる基板は、液晶表示装置用のガラス基板に限定されるものではなく、半導体基板やフォトマスク用基板であっても良い。

また、スリットノズル４２から吐出する処理液は、レジスト液に限定されるものではなく、現像液等の他の種類の処理液であっても良い。

１ 基板処理装置
２ 基板
１０ 本体部
２０ 制御部
３０ ステージ
４０ 架橋部
４２ スリットノズル
５０ 駆動部
６０ レジスト液供給源
７１ ノズル本体部
７２ サイドプレート
７３ ノズル蓋部
７４ シム
７５ 隙間
７８ 切り欠き
７９ 切り欠き部
８１ ゴム
８５ 押さえ板
７１１ 吐出口
７１２ マニホールド
７１３ 送液路

Claims (7)

1. スリット状の吐出口をその下部に有して当該吐出口から処理液を吐出するスリットノズルにおいて、
   処理液を前記吐出口に導く送液路を有するノズル本体部と、
   前記ノズル本体部に貼り合わされて前記ノズル本体部とともに前記吐出口の長手方向に沿った開口縁を規定するノズル蓋部と、
   前記ノズル本体部と前記ノズル蓋部との間に挟持されて前記吐出口の幅を規定するシムと、
   前記ノズル本体部および前記ノズル蓋部の両端に取り付けられ、前記吐出口の幅方向に沿った開口縁を規定する一対のサイドプレートと、
   前記シムと前記サイドプレートとの間に生じる処理液の漏出流路を閉塞する閉塞部と、
   を備え、
   前記ノズル蓋部の上側両端に、前記ノズル本体部に対向する面からその反対側の面に貫通する切り欠き部が形成され、
   前記閉塞部は、
   前記切り欠き部に装填される弾性部材と、
   前記弾性部材を前記ノズル蓋部および前記ノズル本体部に対して押圧する押圧機構と、
   を備えることを特徴とするスリットノズル。
2. 請求項１記載のスリットノズルにおいて、
   前記シムの上側両端に、前記切り欠き部の断面よりも小さな面積の切り欠きを形成し、
   前記弾性部材の端面の一部は前記ノズル本体部を直接に押圧するとともに、前記端面の残部は前記シムを挟み込んで前記ノズル本体部を押圧することを特徴とするスリットノズル。
3. 請求項１または請求項２に記載のスリットノズルにおいて、
   前記弾性部材はシリコンゴムにて形成されることを特徴とするスリットノズル。
4. 請求項１から請求項３のいずれかに記載のスリットノズルと、
   前記スリットノズルの下方において基板を水平に保持する保持部と、
   前記スリットノズルを、前記保持部に保持された基板に対して、前記吐出口の長手方向と直交する方向に相対的に移動させる駆動部と、
   前記スリットノズルに処理液を供給する供給部と、
   を備えることを特徴とする基板処理装置。
5. スリット状の吐出口をその下部に有して当該吐出口から処理液を吐出するスリットノズルの製造方法において、
   処理液を前記吐出口に導く送液路を有するノズル本体部に、前記吐出口の幅を規定するシムを挟み込んでノズル蓋部を貼り合わせる貼設工程と、
   前記ノズル本体部および前記ノズル蓋部の両端に一対のサイドプレートを取り付ける取付工程と、
   前記ノズル蓋部の上側両端に、前記ノズル本体部に対向する面からその反対側の面に貫通する切り欠き部を形成する加工工程と、
   前記切り欠き部に弾性部材を装填し、前記弾性部材を前記ノズル蓋部および前記ノズル本体部に対して押圧することによって、前記シムと前記サイドプレートとの間に生じる処理液の漏出流路を閉塞する閉塞工程と、
   を備えることを特徴とするスリットノズルの製造方法。
6. 請求項５記載のスリットノズルの製造方法において、
   前記シムの上側両端に、前記切り欠き部の断面よりも小さな面積の切り欠きを形成する工程をさらに備え、
   前記閉塞工程では、前記弾性部材の端面の一部は前記ノズル本体部を直接に押圧するとともに、前記端面の残部は前記シムを挟み込んで前記ノズル本体部を押圧することを特徴とするスリットノズルの製造方法。
7. 請求項５または請求項６に記載のスリットノズルの製造方法において、
   前記弾性部材はシリコンゴムにて形成されることを特徴とするスリットノズルの製造方法。

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