JP5007168B2 - ダイコーター調整方法及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
塗布された塗工液、即ち、塗工膜の厚みは、ダイコーターと基材との間隔やダイコーターのスリット幅等によって変動するため、均一な厚みの塗工膜を形成するにはこれらの構成要素を精度良く作成することが必要となる。
図1は、本発明に係るダイコーター調整方法によって調整されたダイコーターの一実施形態を示した斜視図であり、図2は、該図1の分解斜視図である。
図1に示すように、本実施形態のダイコーター1は、その先端部に塗工液の吐出口たるスリット10を形成するように対向して配置される第一ブロック2a及び第二ブロック2bと、該第一ブロック2a及び第二ブロック2bの間に挟持されるシム3とを備えて構成されており、さらに、該第一及び第二ブロック2a、2bによりシム3が挟持された状態で該ダイコーター1を固定するための固定具として、複数のボルト4、4・・・を備えて構成されている。
本実施形態のダイコーター調整方法は、前記第一ブロック2a及び第二ブロック2bの間にシム3を挟持させ、これらをボルト4で固定することによりダイコーター1を組み立てる仮組工程と、組み立てられたダイコーター1のスリット幅を、その長手方向に沿って測定するスリット幅測定工程と、シム3の表面を露出させるべくダイコーター1を分解する分解工程と、前記スリット幅測定工程にて測定されたスリット幅の測定結果に基づいてシム3の表面を研磨する研磨工程と、研磨されたシム3を用いてダイコーター1を再び組み立てる組立工程とを有するものである。
また、前記樹脂を溶解させる溶剤としては、前記樹脂材料を溶解でき、且つ前記フィルムを浸食しにくいものであればよく、使用する樹脂材料及びフィルムに応じ適宜選択することができる。具体的には、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、1,2-ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、酢酸エチル、t-ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、2-メチル-2,4-ペンタンジオール、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ブチロニトリル、メチルイソブチルケトン、メチルエーテルケトン、シクロペンタノン、二硫化炭素等を用いることができる。これら溶剤は、1種又は2種以上を適宜に組み合わせて使用することができる。
該光学フィルムは、上述の如きスリット幅の極めて均一なダイコーターを用いて製造されたものであるため、形成された塗工膜、即ち光学機能層が極めて均一な厚みを有するものとなる。
2a,2b ブロック
3 シム
4 固定具
10 スリット
Claims (2)
- 先端部に塗工液の吐出口たるスリットが形成されるように対向して配置される第一ブロック及び第二ブロックの間にシムを挟持させ固定することによりダイコーターを組み立てる仮組工程と、組み立てられたダイコーターのスリット幅を該スリットの長手方向に沿って測定するスリット幅測定工程と、前記シムの表面を露出させるべくダイコーターを分解する分解工程と、前記スリット幅測定工程にて測定されたスリット幅の測定結果に基づいてシムの表面を研磨して部分的な窪みを形成する研磨工程と、研磨されたシムを用いてダイコーターを再び組み立てる組立工程とを有することを特徴とするダイコーター調整方法。
- 請求項1記載のダイコーター調製方法によってダイコーターを調整し、調整されたダイコーターを用いて基材フィルム上に樹脂塗工膜を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
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