JP6091705B2 - 平坦化膜形成塗布液および平坦化膜付き金属箔コイル - Google Patents
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Description
(1)有機溶媒中フェニルトリアルコキシシラン1モルに対して、酢酸0.1モル以上1モル以下、有機スズ0.005モル以上0.05モル以下を触媒として加え、2モル以上4モル以下の水で加水分解後、160℃以上210℃以下の温度で有機溶剤を減圧留去して得られたレジンを芳香族炭化水素系溶剤に溶解した平坦化膜形成塗布液。
(2)有機溶媒中フェニルトリアルコキシシラン1モルに対して、酢酸0.1モル以上1モル以下、有機スズ0.005モル以上0.05モル以下を触媒として加え、2モル以上4モル以下の水で加水分解後、160℃以上210℃以下の温度で有機溶剤を減圧留去して得られたレジンを芳香族炭化水素系溶剤に溶解した平坦化膜形成塗布液の製造方法。
(3)(1)記載の塗布液を金属箔コイルに塗布後、熱処理プロセスでリフローおよび膜硬化させることにより金属箔コイルの表面を膜厚2.0μm以上5.0μm以下、圧延に垂直な方向のRaが30nm以下であるフェニル基修飾シリカ膜で被覆した平坦化膜付き金属箔コイル。
(4)(1)記載の塗布液を金属箔コイルに膜厚2.0μm以上5.0μm以下となるように連続塗布し、不活性ガス雰囲気中300℃以上450℃以下の熱処理炉を通過させることによりリフローおよび膜硬化させた後、巻き取った平坦化膜付き金属箔コイルの製造方法。
(5)前記金属箔がステンレス箔であることを特徴とする(3)に記載の金属箔コイル。
(6)前記金属箔がステンレス箔コイルであることを特徴とする(4)に記載の金属箔コイルの製造方法。
(7)
金属箔コイルの表面の少なくとも一方に絶縁膜を被覆した絶縁被覆金属箔コイルの絶縁被覆面に、(1)記載の塗布液を塗布後、熱処理プロセスでリフローおよび膜硬化させることにより、絶縁被覆金属箔コイルの表面を膜厚2.0μm以上5.0μm以下、圧延に垂直な方向のRaが30nm以下であるフェニル基修飾シリカ膜で被覆した平坦化膜付き絶縁被覆金属箔コイル。
(8)
金属箔コイルの表面の少なくとも一方に絶縁膜を被覆した絶縁被覆金属箔コイルの絶縁被覆面に、(1)記載の塗布液を膜厚2.0μm以上5.0μm以下となるように連続塗布し、不活性ガス雰囲気中300℃以上450℃以下の熱処理炉を通過させることによりリフローおよび膜硬化させた後、巻き取った平坦化膜付き絶縁被覆金属箔コイルの製造方法。
(9)
金属箔コイルの表面の少なくとも一方に反射膜を形成した反射膜形成ステンレス箔コイルの反射膜形成面に、(1)記載の塗布液を塗布後、熱処理プロセスでリフローおよび膜硬化させることにより、反射膜形成ステンレス箔コイルの表面を膜厚2.0μm以上5.0μm以下、圧延に垂直な方向のRaが30nm以下であるフェニル基修飾シリカ膜で被覆した平坦化膜付き反射膜形成ステンレス箔コイル。
(10)
金属箔コイルの表面の少なくとも一方に反射膜を形成した反射膜形成ステンレス箔コイルの反射膜形成面に、(1)記載の塗布液を膜厚2.0μm以上5.0μm以下となるように連続塗布し、不活性ガス雰囲気中300℃以上450℃以下の熱処理炉を通過させることによりリフローおよび膜硬化させた後、巻き取った平坦化膜付き反射膜形成ステンレス箔コイルの製造方法。
絶縁膜の膜厚は0.1μm以上10μm以下であることが望ましい。0.1μm以上の膜厚があれば、十分ではないものの絶縁性が付与されるので、平坦化膜をその上に重ね塗りしたときの絶縁性が向上する。絶縁膜の膜厚が10μmを超える場合は、膜応力により絶縁膜に大きなクラックが発生したり剥離したりするので好ましくない。高い絶縁性の向上が見込まれ、健全な絶縁膜が得られるより好ましい膜厚の範囲は0.5μm以上5μm以下である。 絶縁被覆金属箔の表面粗さは絶縁膜の膜厚が1μm以下の薄い場合は、金属箔そのものより少し平滑になる傾向がある。その理由は金属箔の凹凸を膜によって多少埋めることができるからである。膜厚が1μmを超えるようになると、絶縁膜材料そのものの粗さの影響が出てくる。無機系皮膜の場合は結晶粒径による凹凸が生じる。耐熱性樹脂の場合にはフィラーによる凹凸や、高粘度樹脂を塗ることに伴う塗りむらなどが生じる。しかしながら、絶縁被覆金属箔においても、Raが60nm以下であれば平坦化膜のRaを30nm以下にできるのは無垢金属箔の場合と同様である。
反射膜形成ステンレス箔の表面粗さは反射膜の膜厚が薄いので、ステンレス箔そのものの表面粗さとほぼ同等になる。反射膜形成ステンレス箔において、Raが60nm以下であれば平坦化膜のRaを30nm以下にできるのは無垢金属箔の場合と同様である。
42 透明電極(下電極)
43 正孔輸送層
44 発光層
45 電子輸送層
46 半透明電極(上電極)
47 反射膜
Claims (10)
- 有機溶媒中フェニルトリアルコキシシラン1モルに対して、酢酸0.1モル以上1モル以下、有機スズ0.005モル以上0.05モル以下を触媒として加え、2モル以上4モル以下の水で加水分解後、160℃以上210℃以下の温度で有機溶剤を減圧留去して得られたレジンを芳香族炭化水素系溶剤に溶解した平坦化膜形成塗布液。
- 有機溶媒中フェニルトリアルコキシシラン1モルに対して、酢酸0.1モル以上1モル以下、有機スズ0.005モル以上0.05モル以下を触媒として加え、2モル以上4モル以下の水で加水分解後、160℃以上210℃以下の温度で有機溶剤を減圧留去して得られたレジンを芳香族炭化水素系溶剤に溶解した平坦化膜形成塗布液の製造方法。
- 請求項1記載の塗布液を金属箔コイルに塗布後、熱処理プロセスでリフローおよび膜硬化させることにより金属箔コイルの表面を膜厚2.0μm以上5.0μm以下、圧延に垂直な方向のRaが30nm以下であるフェニル基修飾シリカ膜で被覆した平坦化膜付き金属箔コイル。
- 請求項1記載の塗布液を金属箔コイルに膜厚2.0μm以上5.0μm以下となるように連続塗布し、不活性ガス雰囲気中300℃以上450℃以下の熱処理炉を通過させることによりリフローおよび膜硬化させた後、巻き取った平坦化膜付き金属箔コイルの製造方法。
- 前記金属箔がステンレス箔であることを特徴とする請求項3に記載の金属箔コイル。
- 前記金属箔がステンレス箔コイルであることを特徴とする請求項4に記載の金属箔コイルの製造方法。
- 金属箔コイルの表面の少なくとも一方に絶縁膜を被覆した絶縁被覆金属箔コイルの絶縁被覆面に、請求項1記載の塗布液を塗布後、熱処理プロセスでリフローおよび膜硬化させることにより、絶縁被覆金属箔コイルの表面を膜厚2.0μm以上5.0μm以下、圧延に垂直な方向のRaが30nm以下であるフェニル基修飾シリカ膜で被覆した平坦化膜付き絶縁被覆金属箔コイル。
- 金属箔コイルの表面の少なくとも一方に絶縁膜を被覆した絶縁被覆金属箔コイルの絶縁被覆面に、請求項1記載の塗布液を膜厚2.0μm以上5.0μm以下となるように連続塗布し、不活性ガス雰囲気中300℃以上450℃以下の熱処理炉を通過させることによりリフローおよび膜硬化させた後、巻き取った平坦化膜付き絶縁被覆金属箔コイルの製造方法。
- 金属箔コイルの表面の少なくとも一方に反射膜を形成した反射膜形成ステンレス箔コイルの反射膜形成面に、請求項1記載の塗布液を塗布後、熱処理プロセスでリフローおよび膜硬化させることにより、反射膜形成ステンレス箔コイルの表面を膜厚2.0μm以上5.0μm以下、圧延に垂直な方向のRaが30nm以下であるフェニル基修飾シリカ膜で被覆した平坦化膜付き反射膜形成ステンレス箔コイル。
- 金属箔コイルの表面の少なくとも一方に反射膜を形成した反射膜形成ステンレス箔コイルの反射膜形成面に、請求項1記載の塗布液を膜厚2.0μm以上5.0μm以下となるように連続塗布し、不活性ガス雰囲気中300℃以上450℃以下の熱処理炉を通過させることによりリフローおよび膜硬化させた後、巻き取った平坦化膜付き反射膜形成ステンレス箔コイルの製造方法。
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