JPH1140829A - 太陽電池用絶縁基板及びその製造方法 - Google Patents
太陽電池用絶縁基板及びその製造方法Info
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- JPH1140829A JPH1140829A JP9190865A JP19086597A JPH1140829A JP H1140829 A JPH1140829 A JP H1140829A JP 9190865 A JP9190865 A JP 9190865A JP 19086597 A JP19086597 A JP 19086597A JP H1140829 A JPH1140829 A JP H1140829A
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- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Organic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 太陽電池用基板の絶縁層として有効な酸化物
層をゾル−ゲル法でステンレス鋼板表面に形成する。 【構成】 この太陽電池用基板は、基材としてのステン
レス鋼板1の表面に、ゾル−ゲル法による厚み1〜10
μmの絶縁層2が形成されている。絶縁層には、可視光
反射率70%以上の無機化合物を分散させても良い。ス
テンレス鋼板基板として、入射光の散乱多重反射を促進
させる微細な凹凸やうねりのある表面をもつステンレス
鋼板を使用すると、光電変換効率が向上する。アルコキ
シシラン等の金属アルコキシド,オルガノアルコキシシ
ラン,水及び増粘剤を有機溶媒に溶解させた溶液にステ
ンレス鋼板を接触させ、ステンレス鋼板の表面に付着し
た溶液を乾燥・焼成し、ステンレス鋼板の表面に絶縁層
を形成することにより製造される。
層をゾル−ゲル法でステンレス鋼板表面に形成する。 【構成】 この太陽電池用基板は、基材としてのステン
レス鋼板1の表面に、ゾル−ゲル法による厚み1〜10
μmの絶縁層2が形成されている。絶縁層には、可視光
反射率70%以上の無機化合物を分散させても良い。ス
テンレス鋼板基板として、入射光の散乱多重反射を促進
させる微細な凹凸やうねりのある表面をもつステンレス
鋼板を使用すると、光電変換効率が向上する。アルコキ
シシラン等の金属アルコキシド,オルガノアルコキシシ
ラン,水及び増粘剤を有機溶媒に溶解させた溶液にステ
ンレス鋼板を接触させ、ステンレス鋼板の表面に付着し
た溶液を乾燥・焼成し、ステンレス鋼板の表面に絶縁層
を形成することにより製造される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、可撓性,耐熱性,絶縁
性に優れた太陽電池用絶縁基板及びその製造方法に関す
る。
性に優れた太陽電池用絶縁基板及びその製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】非晶質Si等からなる太陽電池を形成す
る基板には、ガラス板やステンレス鋼板が使用されてい
る。なかでも、ステンレス鋼板は、ガラス板に比較して
優れた可撓性を活用した基板材料として着目されてい
る。ステンレス鋼板を太陽電池用基板として使用する場
合、基板表面を絶縁処理する必要があり、樹脂系絶縁皮
膜,無機系絶縁皮膜,金属酸化物皮膜,陽極酸化皮膜等
が提案されている。たとえば、特開昭59−47776
号公報では、スピナー,スプレー,浸漬法で液状樹脂を
ステンレス鋼基板の表面に塗布し、高温焼成することに
より厚み2μm程度の高分子樹脂皮膜を形成している。
また、特開昭59−47775号公報では、スパッタリ
ング,蒸着,イオンプレーティング,プラズマCVD,
熱分解CVD等でSiO2 ,Al2 O3 ,SiNX ,非
晶質Si等の絶縁皮膜を形成している。
る基板には、ガラス板やステンレス鋼板が使用されてい
る。なかでも、ステンレス鋼板は、ガラス板に比較して
優れた可撓性を活用した基板材料として着目されてい
る。ステンレス鋼板を太陽電池用基板として使用する場
合、基板表面を絶縁処理する必要があり、樹脂系絶縁皮
膜,無機系絶縁皮膜,金属酸化物皮膜,陽極酸化皮膜等
が提案されている。たとえば、特開昭59−47776
号公報では、スピナー,スプレー,浸漬法で液状樹脂を
ステンレス鋼基板の表面に塗布し、高温焼成することに
より厚み2μm程度の高分子樹脂皮膜を形成している。
また、特開昭59−47775号公報では、スパッタリ
ング,蒸着,イオンプレーティング,プラズマCVD,
熱分解CVD等でSiO2 ,Al2 O3 ,SiNX ,非
晶質Si等の絶縁皮膜を形成している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】樹脂系絶縁皮膜は、可
撓性があり、耐衝撃性にも優れている。しかし、太陽電
池として働く非晶質Siの堆積時に加熱されると、熱分
解してガスを発生し易く、非晶質Si層に欠陥を導入す
る原因となる。また、耐湿性も十分でないことから、耐
久性の点で問題がある。他方、スパッタリング,蒸着,
イオンプレーティング,プラズマCVD,熱分解CVD
等で無機系絶縁皮膜を設ける方法では、絶縁皮膜が必要
厚みに成長するまで時間がかかり、製造コストが高くな
る。本発明は、このような問題を解消すべく案出された
ものであり、厚膜化が可能なゾル−ゲル法を採用するこ
とにより、密着性が良好で厚い無機系絶縁層がステンレ
ス鋼板表面に形成された太陽電池用基板を提供すること
を目的とする。
撓性があり、耐衝撃性にも優れている。しかし、太陽電
池として働く非晶質Siの堆積時に加熱されると、熱分
解してガスを発生し易く、非晶質Si層に欠陥を導入す
る原因となる。また、耐湿性も十分でないことから、耐
久性の点で問題がある。他方、スパッタリング,蒸着,
イオンプレーティング,プラズマCVD,熱分解CVD
等で無機系絶縁皮膜を設ける方法では、絶縁皮膜が必要
厚みに成長するまで時間がかかり、製造コストが高くな
る。本発明は、このような問題を解消すべく案出された
ものであり、厚膜化が可能なゾル−ゲル法を採用するこ
とにより、密着性が良好で厚い無機系絶縁層がステンレ
ス鋼板表面に形成された太陽電池用基板を提供すること
を目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の太陽電池用絶縁
基板は、その目的を達成するため、ステンレス鋼板を基
材とし、ゾル−ゲル法による絶縁層が前記基板の表面に
形成されていることを特徴とする。1〜10μmの厚み
をもつ酸化物層をステンレス鋼板表面に形成すると、十
分な絶縁特性をもつ絶縁層が得られる。絶縁層に絶縁性
の無機粉末を分散させると、クラックの発生が防止され
絶縁層の厚膜化が容易になる。なかでも、可視光反射率
70%以上の無機化合物を絶縁性粉末として使用する
と、光閉じ込め効果が得られ、太陽電池の光電変換効率
が向上する。本発明で使用されるステンレス鋼板は、鋼
種が特定されるものではないが、たとえばオーステナイ
ト系,フェライト系,マルテンサイト系等がある。ステ
ンレス鋼板基板として、入射光の散乱多重反射を促進さ
せる微細な凹凸又はうねりのある表面をもつステンレス
鋼板を使用すると、光電変換効率が向上する。
基板は、その目的を達成するため、ステンレス鋼板を基
材とし、ゾル−ゲル法による絶縁層が前記基板の表面に
形成されていることを特徴とする。1〜10μmの厚み
をもつ酸化物層をステンレス鋼板表面に形成すると、十
分な絶縁特性をもつ絶縁層が得られる。絶縁層に絶縁性
の無機粉末を分散させると、クラックの発生が防止され
絶縁層の厚膜化が容易になる。なかでも、可視光反射率
70%以上の無機化合物を絶縁性粉末として使用する
と、光閉じ込め効果が得られ、太陽電池の光電変換効率
が向上する。本発明で使用されるステンレス鋼板は、鋼
種が特定されるものではないが、たとえばオーステナイ
ト系,フェライト系,マルテンサイト系等がある。ステ
ンレス鋼板基板として、入射光の散乱多重反射を促進さ
せる微細な凹凸又はうねりのある表面をもつステンレス
鋼板を使用すると、光電変換効率が向上する。
【0005】この太陽電池用絶縁基板は、アルコキシシ
ラン,(1)の構造式をもつオルガノアルコキシシラ
ン,水及び増粘剤を有機溶媒に溶解させたゾル−ゲル溶
液にステンレス鋼板を接触させ、ステンレス鋼板の表面
に付着した溶液を乾燥・焼成し、ステンレス鋼板の表面
に絶縁層を形成することにより製造される。使用する溶
液には、アルミニウムアルコキシド,アルカリ金属のア
ルコキシド及びアルカリ土類金属のアルコキシドの1種
又は2種以上を添加しても良い。ゾル−ゲル溶液は、浸
漬法,塗布,スプレー等によってステンレス鋼板表面に
塗布される。 X:ビニル基,エポキシ基,アミノ基,メタクリロキシ
基又はメルカプト基 R:アルキル基
ラン,(1)の構造式をもつオルガノアルコキシシラ
ン,水及び増粘剤を有機溶媒に溶解させたゾル−ゲル溶
液にステンレス鋼板を接触させ、ステンレス鋼板の表面
に付着した溶液を乾燥・焼成し、ステンレス鋼板の表面
に絶縁層を形成することにより製造される。使用する溶
液には、アルミニウムアルコキシド,アルカリ金属のア
ルコキシド及びアルカリ土類金属のアルコキシドの1種
又は2種以上を添加しても良い。ゾル−ゲル溶液は、浸
漬法,塗布,スプレー等によってステンレス鋼板表面に
塗布される。 X:ビニル基,エポキシ基,アミノ基,メタクリロキシ
基又はメルカプト基 R:アルキル基
【0006】
【作用】ゾル−ゲル法は、金属板表面に酸化物層を形成
させる方法として従来から使用されており、比較的低温
で酸化物層を形成できる長所をもっている。しかし、従
来のゾル−ゲル法では、膜厚が1μm以下の薄膜が得ら
れるに過ぎない。このような薄膜は、多数のピンホール
を含み絶縁性が十分でないことから、太陽電池用基板の
絶縁層として使用できない。ところで、本発明者等は、
オルガノアルコキシシランを膜強化剤として、ヒドロキ
シアルキルセルロースを増粘剤としてアルコキシドに添
加したコーティング溶液を使用すると、比較的厚膜の酸
化物層が形成されることを見い出し、特願平8−405
58号等で提案した。
させる方法として従来から使用されており、比較的低温
で酸化物層を形成できる長所をもっている。しかし、従
来のゾル−ゲル法では、膜厚が1μm以下の薄膜が得ら
れるに過ぎない。このような薄膜は、多数のピンホール
を含み絶縁性が十分でないことから、太陽電池用基板の
絶縁層として使用できない。ところで、本発明者等は、
オルガノアルコキシシランを膜強化剤として、ヒドロキ
シアルキルセルロースを増粘剤としてアルコキシドに添
加したコーティング溶液を使用すると、比較的厚膜の酸
化物層が形成されることを見い出し、特願平8−405
58号等で提案した。
【0007】基本となるゾル−ゲル浴は、アルミニウム
アルコキシド,アルコキシシラン,オルガノアルコキシ
シラン,アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属のア
ルコキシド,アルコールアミン,水を含み、各アルコキ
シドを溶解させるためアルコール系の溶剤を使用する。
アルコール系溶剤に溶解したアルコキシドは、水添加に
よって加水分解し、水酸化物となる。しかし、急激な加
水分解では沈澱物が生成するので、アルコールアミンの
添加によって加水分解の反応速度を調整する。このゾル
−ゲル浴をステンレス鋼板に浸漬,塗布,スプレー等で
コーティングすると、アルミニウムアルコキシド,アル
コキシシラン,アルカリ金属,アルカリ土類金属のアル
コキシド等の加水分解された水酸化物が付着する。
アルコキシド,アルコキシシラン,オルガノアルコキシ
シラン,アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属のア
ルコキシド,アルコールアミン,水を含み、各アルコキ
シドを溶解させるためアルコール系の溶剤を使用する。
アルコール系溶剤に溶解したアルコキシドは、水添加に
よって加水分解し、水酸化物となる。しかし、急激な加
水分解では沈澱物が生成するので、アルコールアミンの
添加によって加水分解の反応速度を調整する。このゾル
−ゲル浴をステンレス鋼板に浸漬,塗布,スプレー等で
コーティングすると、アルミニウムアルコキシド,アル
コキシシラン,アルカリ金属,アルカリ土類金属のアル
コキシド等の加水分解された水酸化物が付着する。
【0008】この状態でステンレス鋼板を加熱すると合
成反応が進行し、ステンレス鋼板の表面に酸化物層が形
成される。このときの加熱は、100〜600℃程度
で、従来の無機系酸化物を焼き付ける温度に比較して大
幅に低い。そのため、ステンレス鋼板に熱的な悪影響を
及ぼすことなく、しかも酸化物本来の優れた絶縁性を呈
する絶縁層となる。形成された絶縁層は、従来のゾル−
ゲル法による酸化物層と異なり、オルガノアルコキシシ
ラン添加によりシリカの網目構造の結合が強化され、ヒ
ドロキシアルキルセルロースの添加により急激な溶剤の
蒸発に伴うクラックの発生が抑制されることから厚く成
長し、ステンレス鋼板に対する密着性も良好である。ま
た、塗布−乾燥−焼成を繰り返すことにより、酸化物層
を厚膜化できる。たとえば、図1(a)に示すように、
ステンレス鋼板1の表面に膜厚1μm以上の酸化物層2
を形成すると、薄膜に生じがちなピンホール等の欠陥が
なくなり、太陽電池用の絶縁層として十分な絶縁特性が
発現される。しかし、厚すぎる酸化物層2ではステンレ
ス鋼板1に対する密着性が低下するので、酸化物層2の
厚みは10μm以下に調整することが好ましい。
成反応が進行し、ステンレス鋼板の表面に酸化物層が形
成される。このときの加熱は、100〜600℃程度
で、従来の無機系酸化物を焼き付ける温度に比較して大
幅に低い。そのため、ステンレス鋼板に熱的な悪影響を
及ぼすことなく、しかも酸化物本来の優れた絶縁性を呈
する絶縁層となる。形成された絶縁層は、従来のゾル−
ゲル法による酸化物層と異なり、オルガノアルコキシシ
ラン添加によりシリカの網目構造の結合が強化され、ヒ
ドロキシアルキルセルロースの添加により急激な溶剤の
蒸発に伴うクラックの発生が抑制されることから厚く成
長し、ステンレス鋼板に対する密着性も良好である。ま
た、塗布−乾燥−焼成を繰り返すことにより、酸化物層
を厚膜化できる。たとえば、図1(a)に示すように、
ステンレス鋼板1の表面に膜厚1μm以上の酸化物層2
を形成すると、薄膜に生じがちなピンホール等の欠陥が
なくなり、太陽電池用の絶縁層として十分な絶縁特性が
発現される。しかし、厚すぎる酸化物層2ではステンレ
ス鋼板1に対する密着性が低下するので、酸化物層2の
厚みは10μm以下に調整することが好ましい。
【0009】酸化物,窒化物,炭化物等の絶縁性粉末を
分散させたゾル−ゲル浴を使用すると、絶縁性粉末3が
分散した厚膜の酸化物層2(図1b)が得られる。絶縁
性粉末3は、酸化物層2のクラック発生を抑制し、酸化
物層2を比較的容易に厚膜化できる。なかでも、可視光
反射特性が高い粉末を絶縁性粉末3として使用すると、
太陽電池を構成したときの入射光の多重反射が促進さ
れ、光電変換効率が向上する。可視光反射特性が高い粉
末としては、反射特性を図2に示すようにAl2O3 ,
ZnO,MgOの外、SiO2 ,TiO2 ,CaCO
3 ,MgCO3 等が使用される。酸化物層は、ゾル−ゲ
ル浴とステンレス鋼基板との接触界面で形成・成長する
ため、ステンレス鋼基板の表面形態を正確に倣った均一
膜厚となる。そこで、ステンレス鋼板1を凹凸のある表
面(図1c)にすると、その表面凹凸を倣った酸化物層
2が形成される。凹凸のある酸化物層2は、入射光の乱
反射や多重反射を促進させ、光閉じ込め効果によって光
電変換効率を向上させる。
分散させたゾル−ゲル浴を使用すると、絶縁性粉末3が
分散した厚膜の酸化物層2(図1b)が得られる。絶縁
性粉末3は、酸化物層2のクラック発生を抑制し、酸化
物層2を比較的容易に厚膜化できる。なかでも、可視光
反射特性が高い粉末を絶縁性粉末3として使用すると、
太陽電池を構成したときの入射光の多重反射が促進さ
れ、光電変換効率が向上する。可視光反射特性が高い粉
末としては、反射特性を図2に示すようにAl2O3 ,
ZnO,MgOの外、SiO2 ,TiO2 ,CaCO
3 ,MgCO3 等が使用される。酸化物層は、ゾル−ゲ
ル浴とステンレス鋼基板との接触界面で形成・成長する
ため、ステンレス鋼基板の表面形態を正確に倣った均一
膜厚となる。そこで、ステンレス鋼板1を凹凸のある表
面(図1c)にすると、その表面凹凸を倣った酸化物層
2が形成される。凹凸のある酸化物層2は、入射光の乱
反射や多重反射を促進させ、光閉じ込め効果によって光
電変換効率を向上させる。
【0010】
実施例1:アルミニウムイソプロポキシド:1.0モ
ル,オルトケイ酸テトラエチル:2.5モル,ナトリウ
ムメトキシド:1.0モル,トリイソプロパノールアミ
ン:4.0モル及び水:7.0モルをブチルセルソル
ブ:15モルに溶解し、24時間撹拌してゾル−ゲル浴
を調製した。得られたゾル−ゲル浴は、透明で、100
時間撹拌放置しても安定であった。ゾル−ゲル浴を用い
て、板厚0.15mmのステンレス鋼板SUS430を
引上げ法でコーティングした後、2分間常温で乾燥さ
せ、380℃で2分間焼成した。得られた酸化物皮膜
は、厚み2.0μmで均一且つ緻密な構造をもった透明
膜であった。
ル,オルトケイ酸テトラエチル:2.5モル,ナトリウ
ムメトキシド:1.0モル,トリイソプロパノールアミ
ン:4.0モル及び水:7.0モルをブチルセルソル
ブ:15モルに溶解し、24時間撹拌してゾル−ゲル浴
を調製した。得られたゾル−ゲル浴は、透明で、100
時間撹拌放置しても安定であった。ゾル−ゲル浴を用い
て、板厚0.15mmのステンレス鋼板SUS430を
引上げ法でコーティングした後、2分間常温で乾燥さ
せ、380℃で2分間焼成した。得られた酸化物皮膜
は、厚み2.0μmで均一且つ緻密な構造をもった透明
膜であった。
【0011】実施例2:ゾル−ゲル浴に更にAl2 O
3 :20重量部を添加する以外は、実施例1と同じ条件
下でステンレス鋼板SUS430をコーティングした。
得られた酸化物皮膜は、厚み8.0μmで均一且つ緻密
な構造をもった透明膜であった。 実施例3:ゾル−ゲル浴に更にMgO:30重量部を添
加する以外は、実施例1と同じ条件下でステンレス鋼板
SUS430をコーティングした。得られた酸化物皮膜
は、厚み10μmで均一且つ緻密な構造をもった透明膜
であった。 実施例4:表面粗さをRz 1.26μm,Rmax 1.6
6μmに調整し、且つ表面粗さに一方向のうねりをつけ
たステンレス鋼板SUS430を使用する以外は、実施
例1と同じゾル−ゲル浴を用いてステンレス鋼板をコー
ティングした。得られた酸化物皮膜は、厚み2.0μm
で均一且つ緻密な構造をもった透明膜で、ステンレス鋼
板の表面形態を正確に倣って一方向のうねりが付けられ
ていた。
3 :20重量部を添加する以外は、実施例1と同じ条件
下でステンレス鋼板SUS430をコーティングした。
得られた酸化物皮膜は、厚み8.0μmで均一且つ緻密
な構造をもった透明膜であった。 実施例3:ゾル−ゲル浴に更にMgO:30重量部を添
加する以外は、実施例1と同じ条件下でステンレス鋼板
SUS430をコーティングした。得られた酸化物皮膜
は、厚み10μmで均一且つ緻密な構造をもった透明膜
であった。 実施例4:表面粗さをRz 1.26μm,Rmax 1.6
6μmに調整し、且つ表面粗さに一方向のうねりをつけ
たステンレス鋼板SUS430を使用する以外は、実施
例1と同じゾル−ゲル浴を用いてステンレス鋼板をコー
ティングした。得られた酸化物皮膜は、厚み2.0μm
で均一且つ緻密な構造をもった透明膜で、ステンレス鋼
板の表面形態を正確に倣って一方向のうねりが付けられ
ていた。
【0012】実施例1〜4で酸化物層が形成されたステ
ンレス鋼板を太陽電池用基板として使用し、常法に従っ
て次のようにして太陽電池を形成した。先ず、加熱した
基板表面に酸化インジウム及び酸化錫の混合物を蒸着さ
せ、下部電極を所定間隔で形成した。そして、下部電極
上に非晶質Si膜をプラズマCVD法で形成し、下部電
極に対応する透光性上部電極として酸化インジウム膜を
非晶質Si膜上にスパッタリング法で形成した。更に、
透光性上部電極の上に高分子樹脂を一様に塗布し、焼成
することにより、透光性パシベーション膜を形成した。
ンレス鋼板を太陽電池用基板として使用し、常法に従っ
て次のようにして太陽電池を形成した。先ず、加熱した
基板表面に酸化インジウム及び酸化錫の混合物を蒸着さ
せ、下部電極を所定間隔で形成した。そして、下部電極
上に非晶質Si膜をプラズマCVD法で形成し、下部電
極に対応する透光性上部電極として酸化インジウム膜を
非晶質Si膜上にスパッタリング法で形成した。更に、
透光性上部電極の上に高分子樹脂を一様に塗布し、焼成
することにより、透光性パシベーション膜を形成した。
【0013】得られた各太陽電池について、山下電装株
式会社製のソーラシミュレータを用いて光電変換効率を
測定した。実施例1の基板を使用した太陽電池では、8
%の光電変換効率を示した。可視光反射効率が高い粉末
を加えた絶縁層を形成した実施例2,3では、光電変換
効率がそれぞれ9%,10%と増大した。また、うねり
のあるステンレス鋼板を使用した実施例4では、10%
と高い光電変換効率が得られた。この結果から明らかな
ように、実施例1〜4で絶縁層が形成されたステンレス
鋼板は、何れの高性能の太陽電池用基板と使用できるこ
とが確認された。
式会社製のソーラシミュレータを用いて光電変換効率を
測定した。実施例1の基板を使用した太陽電池では、8
%の光電変換効率を示した。可視光反射効率が高い粉末
を加えた絶縁層を形成した実施例2,3では、光電変換
効率がそれぞれ9%,10%と増大した。また、うねり
のあるステンレス鋼板を使用した実施例4では、10%
と高い光電変換効率が得られた。この結果から明らかな
ように、実施例1〜4で絶縁層が形成されたステンレス
鋼板は、何れの高性能の太陽電池用基板と使用できるこ
とが確認された。
【0014】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の太陽電
池用基板は、絶縁層として有効な膜厚の酸化物層をゾル
−ゲル法でステンレス鋼基板の表面に形成しているた
め、従来の有機系絶縁層に比較して耐熱性,耐湿性に優
れ、非晶質Si堆積時等にガスを発生することがない。
ゾル−ゲル法で形成される酸化物層は、従来の無機系絶
縁層に比較すると非常に簡便な方法で形成され、優れた
絶縁特性を呈する絶縁層となる。しかも、可視光反射特
性に優れた粉末の分散や表面調整されたステンレス鋼板
を基板とするとき、基板の表面形態に倣った酸化物層が
形成されるため、光閉じ込め効果が大きくなり、光電変
換効率の高い太陽電池用の基板として使用される。
池用基板は、絶縁層として有効な膜厚の酸化物層をゾル
−ゲル法でステンレス鋼基板の表面に形成しているた
め、従来の有機系絶縁層に比較して耐熱性,耐湿性に優
れ、非晶質Si堆積時等にガスを発生することがない。
ゾル−ゲル法で形成される酸化物層は、従来の無機系絶
縁層に比較すると非常に簡便な方法で形成され、優れた
絶縁特性を呈する絶縁層となる。しかも、可視光反射特
性に優れた粉末の分散や表面調整されたステンレス鋼板
を基板とするとき、基板の表面形態に倣った酸化物層が
形成されるため、光閉じ込め効果が大きくなり、光電変
換効率の高い太陽電池用の基板として使用される。
【図1】 ゾル−ゲル法でステンレス鋼板表面に形成さ
れた酸化物層(a),絶縁粉末を分散させた酸化物層
(b)及び表面にうねりを付けたステンレス鋼板表面に
形成された酸化物層(c)の各断面図
れた酸化物層(a),絶縁粉末を分散させた酸化物層
(b)及び表面にうねりを付けたステンレス鋼板表面に
形成された酸化物層(c)の各断面図
【図2】 酸化物層に分散される可視光反射特性の高い
粉末の反射率を示すグラフ
粉末の反射率を示すグラフ
Claims (7)
- 【請求項1】 ステンレス鋼板を基材とし、ゾル−ゲル
法による絶縁層が前記基板の表面に形成されている太陽
電池用絶縁基板。 - 【請求項2】 微細な凹凸又はうねりのある表面をもつ
ステンレス鋼板を基材とする請求項1記載の太陽電池用
絶縁基板。 - 【請求項3】 絶縁層が1〜10μmの厚みをもつ酸化
物層である請求項1記載の太陽電池用絶縁基板。 - 【請求項4】 請求項1又は3記載の絶縁層に絶縁性の
無機粉末が分散している太陽電池用絶縁基板。 - 【請求項5】 請求項4記載の無機粉末が可視光反射率
70%以上の無機化合物である太陽電池用絶縁基板。 - 【請求項6】 アルコキシシラン,(1)の構造式をも
つオルガノアルコキシシラン,水及び増粘剤を有機溶媒
に溶解させた溶液にステンレス鋼板を接触させ、該ステ
ンレス鋼板の表面に付着した溶液を乾燥・焼成し、ステ
ンレス鋼板の表面に絶縁層を形成することを特徴とする
太陽電池用絶縁基板の製造方法。 X:ビニル基,エポキシ基,アミノ基,メタクリロキシ
基又はメルカプト基 R:アルキル基 - 【請求項7】 アルミニウムアルコキシド,アルカリ金
属のアルコキシド及びアルカリ土類金属のアルコキシド
の1種又は2種以上を含む溶液を使用する請求項6記載
の太陽電池用絶縁基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9190865A JPH1140829A (ja) | 1997-07-16 | 1997-07-16 | 太陽電池用絶縁基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9190865A JPH1140829A (ja) | 1997-07-16 | 1997-07-16 | 太陽電池用絶縁基板及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1140829A true JPH1140829A (ja) | 1999-02-12 |
Family
ID=16265058
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9190865A Withdrawn JPH1140829A (ja) | 1997-07-16 | 1997-07-16 | 太陽電池用絶縁基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1140829A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002529937A (ja) * | 1998-11-06 | 2002-09-10 | パシフィック ソーラー ピー ティ ワイ リミテッド | SiO2膜によるガラスのテクスチュアリング |
JP2005079405A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Nippon Steel Corp | シリカ系無機ポリマー膜で被覆されたステンレス箔及びその製造方法 |
US8586190B2 (en) | 2003-03-27 | 2013-11-19 | Nippon Steel & Sumikin Materials Co., Ltd. | Inorganic—organic hybrid-film-coated stainless-steel foil |
KR20160122204A (ko) | 2014-11-12 | 2016-10-21 | 신닛테츠스미킹 마테리알즈 가부시키가이샤 | 평탄화막 형성 도포액 및 평탄화막을 구비한 금속박 코일 |
-
1997
- 1997-07-16 JP JP9190865A patent/JPH1140829A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002529937A (ja) * | 1998-11-06 | 2002-09-10 | パシフィック ソーラー ピー ティ ワイ リミテッド | SiO2膜によるガラスのテクスチュアリング |
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JP4676686B2 (ja) * | 2003-09-01 | 2011-04-27 | 新日本製鐵株式会社 | シリカ系無機ポリマー膜で被覆されたステンレス箔及びその製造方法 |
KR20160122204A (ko) | 2014-11-12 | 2016-10-21 | 신닛테츠스미킹 마테리알즈 가부시키가이샤 | 평탄화막 형성 도포액 및 평탄화막을 구비한 금속박 코일 |
CN106232749A (zh) * | 2014-11-12 | 2016-12-14 | 新日铁住金高新材料株式会社 | 用于形成平坦化膜的涂敷液和带有平坦化膜的金属箔卷材 |
US10472543B2 (en) | 2014-11-12 | 2019-11-12 | Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd. | Coating liquid for forming planarization film and metal foil coil with planarization film |
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