JP6090639B2 - ポリアリーレンスルフィド分散体及び粉体粒子、並びにそれらの製造方法 - Google Patents
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Description
『(1)ポリアリーレンスルフィド粒子、アニオン性基含有有機高分子化合物、塩基、水性媒体からなるポリアリーレンスルフィド分散体において、ポリアリーレンスルフィド粒子がアニオン性基含有有機高分子化合物により被覆されているポリアリーレンスルフィド分散体。
水にアニオン性基含有有機高分子化合物を添加し溶解させた樹脂水溶液に、工程(A)で得られたポリアリーレンスルフィド溶解液を加えてポリアリーレンスルフィド微粒子を形成させる工程(B)[晶析工程]と、
工程(B)で得られたポリアリーレンスルフィド微粒子と酸とを反応させてポリアリーレンスルフィド微粒子表面にアニオン性基含有有機高分子化合物を析出させてアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子を沈殿させる工程(C)[酸析工程]と、
工程(C)で得られたアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子をろ別、洗浄し、含水アニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子ウェットケーキを得る工程(D)[ウェットケーキ作製工程]と、工程(D)で得られた含水アニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子ウェットケーキと塩基とを反応させてアニオン性基含有有機高分子化合物により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子からなる分散体を得る工程(E)[分散体作製工程]と、を含むポリアリーレンスルフィド分散体の製造方法。
(9)前記工程(A)に用いる有機溶媒がN−メチル−2−ピロリドン、1−クロロナフタレン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンの中から選択される少なくとも一種の有機溶媒であることを特徴とする前記(8)に記載のポリアリーレンスルフィド分散体の製造方法。
水にアニオン性基含有有機高分子化合物を添加し溶解させた樹脂水溶液に、工程(A)で得られたポリアリーレンスルフィド溶解液を加えてポリアリーレンスルフィド微粒子を形成させる工程(B)[晶析工程]と、
工程(B)で得られたポリアリーレンスルフィド微粒子と酸とを反応させてポリアリーレンスルフィド微粒子表面にアニオン性基含有有機高分子化合物を析出させてアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子を沈殿させる工程(C)[酸析工程]と、
工程(C)で得られたアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子をろ別、洗浄し、含水アニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子ウェットケーキを得る工程(D)[ウェットケーキ作製工程]と、
工程(D)で得られた含水アニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子ウェットケーキを乾燥してアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粉体粒子を得る工程(F)[粉体作製工程]と、を含むポリアリーレンスルフィド粉体粒子の製造方法。
(11)ポリアリーレンスルフィドを有機溶媒中で加熱して、溶解液とする工程(A)[加熱溶解工程]と、
水にアニオン性基含有有機高分子化合物を添加し溶解させた樹脂水溶液に、工程(A)で得られたポリアリーレンスルフィド溶解液を加えてポリアリーレンスルフィド微粒子を形成させる工程(B)[晶析工程]と、
工程(B)で得られたポリアリーレンスルフィド微粒子と酸とを反応させてポリアリーレンスルフィド微粒子表面にアニオン性基含有有機高分子化合物を析出させてアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子を沈殿させる工程(C)[酸析工程]と、
工程(C)で得られたアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子をろ別、洗浄し、含水アニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子ウェットケーキを得る工程(D)[ウェットケーキ作製工程]と、
工程(D)で得られた含水アニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子ウェットケーキと塩基とを反応させてアニオン性基含有有機高分子化合物により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子からなる分散体を得る工程(E)[分散体作製工程]と、
工程(E)で得られたアニオン性基含有有機高分子化合物により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子からなる分散体を乾燥してアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粉体粒子を得る工程(F2)[粉体作製工程]と、を含むポリアリーレンスルフィド粉体粒子の製造方法。
(12)前記工程(A)に用いる有機溶媒がN−メチル−2−ピロリドン、1−クロロナフタレン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンの中から選ばれる少なくとも一種の有機溶媒であることを特徴とする前記(10)又は(11)に記載のポリアリーレンスルフィド粉体粒子の製造方法。
(13)前記工程(B)[晶析工程]の後に、工程(B)で得られたポリアリーレンスルフィド分散液(本明細書中、晶析液とも表現される)に対し、機械的粉砕を行うこと[分散工程]を特徴とする前記(8)に記載のポリアリーレンスルフィド分散体の製造方法。
(14)前記工程(B)[晶析工程]の後に、工程(B)で得られたポリアリーレンスルフィド分散液に対し、機械的粉砕を行うこと[分散工程]を特徴とする前記(10)又は(11)に記載のポリアリーレンスルフィド粉体粒子の製造方法。
(15)前記(8)又は(13)に記載の製造方法により得られたポリアリーレンスルフィド分散体。
(16)前記(10)、(11)又は(14)に記載の製造方法により得られたポリアリーレンスルフィド粉体粒子。』に関する。
本発明に使用するポリアリーレンスルフィド樹脂は、芳香族環と硫黄原子とが結合した構造を繰り返し単位とする樹脂構造を有するものであり、具体的には、下記式(1)
本発明に用いるポリアリーレンスルフィド樹脂は、300℃で測定した溶融粘度(V6)が0.1〜1000〔Pa・s〕の範囲であることが好ましく、さらに流動性および機械的強度のバランスが良好となることから0.1〜100〔Pa・s〕の範囲がより好ましく、特に0.1〜50〔Pa・s〕の範囲であることが特に好ましい。
本発明に用いるポリアリーレンスルフィド樹脂の非ニュートン指数は、本発明の効果を損ねない限り特に限定されないが、0.90〜2.00の範囲であることが好ましい。リニア型ポリアリーレンスルフィド樹脂を用いる場合には、非ニュートン指数が0.90〜1.50の範囲であることが好ましく、さらに0.95〜1.20の範囲であることがより好ましい。このようなポリアリーレンスルフィド樹脂は機械的物性、流動性、耐磨耗性に優れる。ただし、非ニュートン指数(N値)は、キャピログラフを用いて300℃、オリフィス長(L)とオリフィス径(D)の比、L/D=40の条件下で、剪断速度及び剪断応力を測定し、下記式を用いて算出した値である。
次に、PAS分散体について詳細に説明する。本発明におけるPAS分散体とは、上記PAS樹脂を溶媒と共に加熱溶解する工程(A)(加熱溶解工程)と、予め調整したアニオン性基含有有機高分子化合物水溶液とPAS樹脂溶解液を添加してPAS微粒子を形成させる工程(B)(晶析工程)と、酸によりアニオン性基含有有機高分子化合物をPAS微粒子表面に析出させ被覆させる工程(C)(酸析工程)と、アニオン性基含有有機高分子化合物被覆PAS粒子をろ別し、水洗して含水アニオン性基含有有機高分子化合物被覆PAS粒子ウェットケーキを得る工程(ウェットケーキ作製工程)と、得られたウェットケーキを塩基により中和して再分散、調整して得られるPAS分散体(分散体作製工程)のことである。
PAS分散体を得るためには、まず、PAS樹脂を溶媒で溶解させる。本工程に無機塩を加える場合もあるが、特に加えなくても良い。本発明に用いることのできるPAS樹脂の形態は特に問わないが、具体的に例示するならば粉体、顆粒、ペレット、繊維、フィルム、成形品等があげられるが、操作性及び溶解に要する時間を短縮させる観点から、粉末、顆粒、ペレットが望ましい。これらの中でも特に粉体のPAS樹脂が好ましく用いられる。通常、PAS樹脂、溶媒を容器中に投入した後、溶解を行うが、容器へ投入する順序は問わない。
無機塩を加える場合のPAS樹脂に対する無機塩の重量比率は、PAS 1質量部に対して0.1〜10質量部の範囲、好ましくは、0.5〜5質量部の範囲である。
まず、予めアニオン性基含有有機高分子化合物水溶液を調整する。ここで使用されるアニオン性基含有有機高分子化合物中のアニオン性基としては、例えば、カルボキシル基、カルボキシレート基、スルホン酸基、スルホネート基、リン酸基などを使用することができ、なかでも、前記カルボキシル基やスルホン酸基の一部または全部が塩基性化合物等によって中和されたカルボキシレート基やスルホネート基を使用することが、良好な水分散安定性を付与するうえで好ましい。
また、アニオン性基含有有機高分子化合物の酸価が10〜300mgKOH/gのものを使用することが好ましい。この範囲よりも低い酸価を有するアニオン性基含有有機高分子化合物を使用すると分散安定性が不十分となってしまうために好ましくない。中でも50〜240mgKOH/gとなるアニオン性基含有有機高分子化合物を使用することが、最も分散安定性が高くなるためにより好ましい。
また、PAS溶解液を注ぎ終えた後に得られたPAS分散液(晶析液)に対して機械的粉砕を行うことにより分散させる工程[分散工程]を経ることもできる。これにより、より良好な分散安定性を保持することができる。ここで、機械的粉砕としては、後述する機械的粉砕装置の項目で述べた装置を用いる方法などが挙げられる。
上記工程で得られた水溶性樹脂が表層に存在するPAS樹脂粒子を、酸によって酸析出させ、アニオン性基含有有機高分子化合物により被覆されたPAS樹脂粒子を沈殿させたスラリーを作製する工程である。
上記酸析工程で得られたアニオン性基含有高分子化合物により被覆されたPAS樹脂粒子を沈殿させたスラリーから、アニオン性基含有高分子化合物により被覆されたPAS樹脂粒子をろ別し、ウェットケーキにする工程である。ろ別する方法としては、ろ過や遠心分離等、粒子と液体が分離可能であれば如何なる方法でも構わない。ろ別されたウェットケーキ中の水分量は、15〜55%の範囲が好ましく、水分量が低すぎると後工程での再分散でほぐれにくくなり、再分散性が悪くなるため、好ましい水分量は、20〜45%である。ウェットケーキは、残存する有機溶媒や、未析出の樹脂を洗浄するため、イオン交換水、蒸留水、純水、水道水等で洗浄を行う。洗浄方法は、ウェットケーキ上から、洗浄溶媒をかけてろ過洗浄してもよいし、ウェットケーキを洗浄溶媒に再解膠して洗浄してもよい。
上記ウェットケーキ作製工程で得られたウェットケーキを水にビーズミルや超音波分散機等で、再解膠し、前述した、無機塩基、有機塩基でpHを6〜10に調整して、PAS分散体を得た。ここで得られた分散体中の不揮発分は、15〜40%であり、従来のPAS分散体が5〜10%程度であることから、顕著に高濃度のPAS分散体が本発明で得られることがわかる。
さらに、本発明におけるPAS粉体粒子とは、上記工程Dで得られたウェットケーキあるいは、工程Eで得られたPAS分散体から水分を除去し、その後乾燥して得られるアニオン性基含有有機高分子化合物被覆PAS粉体粒子のことである。乾燥した後、各種粉砕装置で粉砕して、所望の粒子サイズに調整して使用することが可能である。
[機械的粉砕装置]
機械的粉砕装置として、市販の機械的粉砕装置を挙げることができる。特にPAS粗粒子を効率よく分散、粉砕し、粒径の小さなPAS微粒子の分散液を作製するために好適な機械的粉砕装置として、ボールミル装置、ビーズミル装置、サンドミル装置、コロイドミル装置、ディスパー分散攪拌装置、湿式微粒化装置(例えば、スギノマシン製のアルティマイザー、Hielscher社製の超音波分散機等)が挙げられるが、なかでもボールミル装置、ビーズミル装置、サンドミル装置、湿式微粒化装置、から選択される装置が好ましい。機械的粉砕の際の粉砕の力は一般に大きくなるほど、また粉砕時間が長くなるほど得られる微粒子の体積平均粒径は、小さくなる方向にあるが、これらが過度になると凝集が生じやすくなるので、適切な範囲に制御される。例えばビーズミルではビーズ径やビーズ量の選択、周速の調整で、その制御が可能である。
本明細書で用いたPAS樹脂の製造方法を製造例として下記に記載する。
圧力計、温度計、コンデンサを連結した撹拌翼および底弁付き150リットルオートクレーブに、45%水硫化ソーダ(47.55重量%NaSH)14.148kg、48%苛性ソーダ(48.8重量%NaOH)9.541kgと、N−メチル−2−ピロリドン(以下、NMPと略すことがある)38.0kgを仕込んだ。窒素気流下攪拌しながら209℃まで昇温して、水12.150kgを留出させた(残存する水分量はNaSH1モル当り1.13モル)。その後、オートクレーブを密閉して180℃まで冷却し、p−ジクロロベンゼン(以下、「p−DCB」と略記する。) 17.874kg及びNMP 16.0kgを仕込んだ。液温150℃で窒素ガスを用いてゲージ圧で0.1MPaに加圧して昇温を開始した。昇温して260℃になった時点でオートクレーブ上部を散水することで冷却しながら、260℃で2時間反応した。オートクレーブ上部を冷却中、液温が下がらないように一定に保持した。次に降温させると共にオートクレーブ上部の冷却を止めた。反応中の最高圧力は、0.87MPaであった。反応後、冷却し、100℃で底弁を開き、反応スラリーを150リットル平板ろ過機に移送し120℃で加圧ろ過した。得られたケーキに70℃温水50kgを加え撹拌したのち、濾過し、さらに温水25kgを加え濾過した。次に温水25kgを加え1時間撹拌し、濾過したのち、温水25kgを加えろ過する操作を2回繰り返した。得られたケーキを、熱風循環乾燥機を用いて120℃で15時間乾燥し、PAS−1を得た。得られたPAS−1の溶融粘度は10Pa・sであった。
圧力計、温度計、コンデンサを連結した撹拌翼および底弁付き150リットルオートクレーブに、45%水硫化ソーダ(47.55重量%NaSH)14.148kg、48%苛性ソーダ(48.8重量%NaOH)9.541kgと、NMP 38.0kgを仕込んだ。窒素気流下攪拌しながら209℃まで昇温して、水12.150kgを留出させた(残存する水分量はNaSH1モル当り1.13モル)。その後、オートクレーブを密閉して180℃まで冷却し、p−DCB 18.366kg及びNMP 16.0kgを仕込んだ。液温150℃で窒素ガスを用いてゲージ圧で0.1MPaに加圧して昇温を開始した。昇温して260℃になった時点でオートクレーブ上部を散水することで冷却しながら、260℃で2時間反応した。オートクレーブ上部を冷却中、液温が下がらないように一定に保持した。次に降温させると共にオートクレーブ上部の冷却を止めた。反応中の最高圧力は、0.87MPaであった。反応後、冷却し、100℃で底弁を開き、反応スラリーを150リットル平板ろ過機に移送し120℃で加圧ろ過した。得られたケーキに70℃温水50kgを加え撹拌したのち、濾過し、さらに温水25kgを加え濾過した。次に温水25kgを加え1時間撹拌し、濾過したのち、温水25kgを加えろ過する操作を2回繰り返した。得られたケーキを、熱風循環乾燥機を用いて120℃で15時間乾燥し、PAS−2を得た。得られたPAS−2の溶融粘度は2.5Pa・sであった。
圧力計、温度計、コンデンサを連結した撹拌翼および底弁付き150リットルオートクレーブに、45%水硫化ソーダ(47.55重量%NaSH)14.148kg、48%苛性ソーダ(48.8重量%NaOH)9.541kgと、NMP 38.0kgを仕込んだ。窒素気流下攪拌しながら209℃まで昇温して、水12.150kgを留出させた(残存する水分量はNaSH1モル当り1.13モル)。その後、オートクレーブを密閉して180℃まで冷却し、p−DCB 17.464kg及びNMP 16.0kgを仕込んだ。液温150℃で窒素ガスを用いてゲージ圧で0.1MPaに加圧して昇温を開始した。昇温して260℃になった時点でオートクレーブ上部を散水することで冷却しながら、260℃で2時間反応した。オートクレーブ上部を冷却中、液温が下がらないように一定に保持した。次に降温させると共にオートクレーブ上部の冷却を止めた。反応中の最高圧力は、0.87MPaであった。反応後、冷却し、100℃で底弁を開き、反応スラリーを150リットル平板ろ過機に移送し120℃で加圧ろ過した。得られたケーキに70℃温水50kgを加え撹拌したのち、濾過し、さらに温水25kgを加え濾過した。次に温水25kgを加え1時間撹拌し、濾過したのち、温水25kgを加えろ過する操作を2回繰り返した。得られたケーキを、熱風循環乾燥機を用いて120℃で15時間乾燥し、PAS−3を得た。得られたPAS−3の溶融粘度は52Pa・sであった。
圧力計、温度計、コンデンサを連結した撹拌翼および底弁付き150リットルオートクレーブに、フレーク状Na2S(60.9質量%)19.222kgと、NMP 45.0kgを仕込んだ。窒素気流下攪拌しながら204℃まで昇温して、水4.438kgを留出させた(残存する水分量はNa2S 1モル当り1.14モル)。その後、オートクレーブを密閉して180℃まで冷却し、p−DCB 20.442kg、m−ジクロロベンゼン(以下、「m−DCB」と略記する。) 5.111kg(m−DCBとp−DCBの合計に対して15モル%)及びNMP 18.0kgを仕込んだ。液温150℃で窒素ガスを用いて1kg/cm2 Gに加圧して昇温を開始した。液温220℃で3時間攪拌しつつ、オートクレーブ上部の外側に巻き付けたコイルに80℃の冷媒を流し冷却した。その後昇温して、液温260℃で3時間攪拌し、次に降温させると共にオートクレーブ上部の冷却を止めた。オートクレーブ上部を冷却中、液温が下がらないように一定に保持した。反応中の最高圧力は、8.91kg/cm2 Gであった。
得られたスラリーを常法により濾過温水洗を二回繰り返し、水を約50質量%含む濾過ケークを得た。次に、この濾過ケークに水 60kg及び酢酸 100gを加えて再スラリー化し、50℃で30分間攪拌後、再度濾過した。この際、上記スラリーのpHは4.6であった。ここで得られた濾過ケークに、水 60kgを加え30分間攪拌後、再度濾過する操作を5回繰り返した。その後に得られた濾過ケークを120℃で、4.5時間熱風循環乾燥機中で乾燥し、白色粉末状のパラ−メタポリアリーレンスルフィド共重合樹脂(以下、PAS−4と表記する)を得た。得られたPAS−4は融点230℃、リニア型、V6溶融粘度2.1〔Pa・s〕であった。
150リットルオートクレーブに、フレーク状のNa2S(60.9質量%) 19.222kgと、NMP 45.0kgを仕込んだ。窒素気流下攪拌しながら204℃まで昇温して、水 4.438kgを留出させた(残存する水分量はNa2S 1モル当り 1.14モル)。その後、オートクレーブを密閉して180℃まで冷却し、p−DCB 22.999kg、m−DCB 2.555kg(m−DCBとp−DCBの合計に対して15モル%)及びNMP 18.0kgを仕込んだ。液温150℃で窒素ガスを用いて1kg/cm2 Gに加圧して昇温を開始した。液温220℃で3時間攪拌しつつ、オートクレーブ上部の外側に巻き付けたコイルに80℃の冷媒を流し冷却した。その後昇温して、液温260℃で3時間攪拌し、次に降温させると共にオートクレーブ上部の冷却を止めた。オートクレーブ上部を冷却中、液温が下がらないように一定に保持した。反応中の最高圧力は、8.91kg/cm2 Gであった。
得られたスラリーを常法により濾過温水洗を二回繰り返し、水を約50質量%含む濾過ケークを得た。次に、この濾過ケークに水 60kg及び酢酸 100gを加えて再スラリー化し、50℃で30分間攪拌後、再度濾過した。この際、上記スラリーのpHは4.6であった。ここで得られた濾過ケークに、水 60kgを加え30分間攪拌後、再度濾過する操作を5回繰り返した。その後に得られた濾過ケークを120℃で、4.5時間熱風循環乾燥機中で乾燥し、白色粉末状のパラ−メタポリアリーレンスルフィド共重合樹脂(以下、PAS−5と表記する)を得た。得られたPAS−5は融点230℃、リニア型、V6溶融粘度8.5〔Pa・s〕であった。
本明細書で用いられるアニオン性基含有有機高分子化合物の製造方法の一例を以下に記載する。
攪拌装置、滴下装置、温度センサー、および上部に窒素導入装置を有する還流装置を取り付けた反応容器を有する自動重合反応装置(重合試験機DSL−2AS型、轟産業(株)製)の反応容器に重合溶剤として2−プロパノール(以下、IPAと表記する)720部を仕込み、攪拌しながら反応容器内を窒素置換した。反応容器内を窒素雰囲気に保ちながら80℃に昇温させた後、滴下装置よりメタクリル酸ベンジル 120部、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル 49.8部、メタクリル酸 153.72部、スチレン 180部、メタクリル酸グリシジル 0.6部、メタクリル酸n−ブチル 34.62部、アクリル酸ブチル 60.66部、メタクリル酸メチル 0.6部および「パーブチル(登録商標)O」(有効成分ペルオキシ2−エチルヘキサン酸t−ブチル、日本油脂(株)製)48部、チオグリセロール 24部の混合液を4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに同温度で15時間反応を継続させた後、樹脂分濃度を45%に調整し、実測酸価 157mgKOH/gのアニオン性基含有高分子化合物である、スチレン(メタ)アクリル系共重合体(R−1)のIPA溶液を得た。
製造例6で得られたアニオン性基含有高分子化合物(R−1)の重合溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)720部、メタクリル酸ベンジル 118.2部、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル 96部、メタクリル酸 6.6部、スチレン 30部、メタクリル酸グリシジル 0.6部、メタクリル酸n−ブチル 180部、アクリル酸ブチル 168部、メタクリル酸メチル 0.6部に変えた以外は製造例6と同様の処方にて、樹脂分濃度45%で実測酸価 5.3mgKOH/gのアニオン性基含有有機高分子化合物である、スチレン(メタ)アクリル系共重合体(R−2)のMEK溶液を得た。
撹拌装置、温度計、コンデンサを付けたフラスコにPGMAc(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)1086g、IPDI3N(イソホロンジイソシアネートから合成されたイソシアヌレート型トリイソシアネート:NCO%=17.2)587.3g(0.80mol)及びシクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物 499.1g(2.52mol)を加え、140℃まで昇温した。反応は、発泡とともに進行した。この温度で8時間反応させた。系内は淡黄色の液体となり、赤外スペクトルにて特性吸収を測定した結果、イソシアネート基の特性吸収である2270cm−1が完全に消滅し、1780cm−1、1720cm−1にイミド基の吸収が確認された。酸価は、固形分換算で212mgKOH/gで、分子量はポリスチレン換算で数平均分子量4700であった。酸無水物基の濃度は、固形分換算で1.14mmol/gであった。また、樹脂分の濃度は47.4質量%であった。この樹脂の溶液をイミド樹脂の溶液と略記する。続いて、得られたイミド樹脂の溶液にn−ブタノール 96.3g(1.3mol)を加え、120℃にて2時間反応させた。赤外スペクトルにて特性吸収を測定した結果、酸無水物基の特性吸収である1860cm−1の質量吸収が完全に消失した。酸価は、固形分換算で、148mgKOH/gで、分子量はポリスチレン換算で数平均分子量4800であった。また、樹脂分の濃度は49.2質量%であった。この樹脂の溶液がアニオン性基含有有機高分子化合物(アルコール変性ポリアミドイミド樹脂(R−3と略す))である。
得られたポリアリーレンスルフィド分散液の体積平均粒子径を、「UPA−150」(日揮装社製のレーザードップラー式粒度分布計)を用いて測定した。
得られたポリアリーレンスルフィド分散液を24時間静置させた際の上澄みを確認した。上澄みが透明である場合は「沈降あり」、上澄みが確認されない場合は「沈降なし」と判断した。
・工程(A)[溶解工程]
下部に開閉可能なバルブを有するオートクレーブ[1]に上記製造例1で製造したPAS−1 10gとNMP 490gを入れた。系内に窒素を通気させ、攪拌しながら加圧下で内温250℃まで上昇させた後、30分間攪拌した。
前記工程(A)に用いたオートクレーブの開閉可能なバルブとパイプで連結させたオートクレーブ[2]に、予め、上記製造例6で製造したR−1 2.22gと25%KOH水溶液 0.66 gと水 2400 gを混合させたアニオン性基含有有機高分子化合物水溶液を入れた。このオートクレーブ[2]に、前記工程(A)で溶解させたPASのNMP溶液をオートクレーブ[1]のバルブを開くことで流し込み、オートクレーブ[2]内に晶析液を得た。PASのNMP溶解液をアニオン性基含有有機高分子化合物水溶液に流し込む操作を12回繰り返して得られた晶析液34.8 kgから、目開き45μmの金属メッシュを用いて溶け残りを除去した(得られた晶析液のpHは8.0であった)。
前記工程(B)で得られた晶析液に2%塩酸を230.9 g滴下することで表面にアニオン性基含有有機高分子化合物が被覆したPAS微粒子を凝集させた酸析スラリーを得た(得られた液のpHは2.7であった)。
前記工程(C)で得られた酸析スラリーより水性媒体を吸引ろ過し、ろ集した残渣の洗液の電気伝導度が0.5 mS/cm以下になるまでイオン交換水で洗浄して、不揮発分29.8%の含水アニオン性基含有有機高分子化合物被覆PAS粒子ウェットケーキを391.5 g得た。
前記工程(D)で得られた含水アニオン性基含有有機高分子化合物被覆PAS粒子ウェットケーキ150 gと50%ジメチルアミノエタノール水溶液 1.88 gを300 ccのステンレスカップに入れて、Hielscher社製超音波分散機 UP200ST(出力200 W、 周波数24 kHz)にて30分間超音波を照射し、イオン交換水にて不揮発分25%になるように調整してPAS微粒子分散体(D−1)を得た。得られた分散体の体積平均粒径は100.2 nmだった。また、24時間静置による沈降の目視確認では「沈降なし」であった。
前記実施例1の工程(A)に用いたポリアリーレンスルフィドを、PAS−1に代えてPAS−2を使用する以外は、実施例1の工程(A)〜工程(E)と同様にして不揮発分25%のPAS微粒子分散体(D−2)を得た。得られた分散体の体積平均粒径は114.1 nmであった。また、24時間静置による沈降の目視確認では「沈降なし」であった。
前記実施例1の工程(A)に用いたポリアリーレンスルフィドを、PAS−1に代えてPAS−3を使用する以外は、実施例1の工程(A)〜工程(E)と同様にして不揮発分25%のPAS微粒子分散体(D−3)を得た。得られた分散体の体積平均粒径は140.2 nmであった。また、24時間静置による沈降の目視確認では「沈降なし」であった。
前記実施例1の工程(A)に用いたポリアリーレンスルフィドを、PAS−1に代えてPAS−4を使用する以外は、実施例1の工程(A)〜工程(E)と同様にして不揮発分25%のPAS微粒子分散体(D−4)を得た。得られた分散体の体積平均粒径は138.0 nmであった。また、24時間静置による沈降の目視確認では「沈降なし」であった。
前記実施例1の工程(A)に用いたポリアリーレンスルフィドを、PAS−1に代えてPAS−5を使用する以外は、実施例1の工程(A)〜工程(E)と同様にして不揮発分25%のPAS微粒子分散体(D−5)を得た。得られた分散体の体積平均粒径は125.7 nmであった。また、24時間静置による沈降の目視確認では「沈降なし」であった。
前記実施例1の工程(A)に用いたNMPを1−クロロナフタレンに代えて使用し、温度を230℃にて加熱溶解する操作以外は、実施例1の工程(A)〜工程(E)と同様にして不揮発分25%のPAS微粒子分散体(D−6)を得た。得られた分散体の体積平均粒径は120.5 nmであった。また、24時間静置による沈降の目視確認では「沈降なし」であった。
前記実施例1の工程(B)に用いたアニオン性基含有有機高分子化合物を、R−1に代えてR−3(2.03g)に代え、また25%KOHの量を0.59gに代えてアニオン性基含有有機高分子化合物水溶液を作製した以外は実施例1の工程(A)〜工程(E)と同様にして不揮発分25%のPAS微粒子分散体(D−7)を得た。得られた分散体の体積平均粒径は90.3 nmであった。また、24時間静置による沈降の目視確認では「沈降なし」であった。
前記実施例1の工程(B)に用いたアニオン性基含有有機高分子化合物を、R−1に代えてBASF社製アニオン性基含有有機高分子化合物ジョンクリル683(酸価160mgKOH/g) 1.0gに代え、また25%KOHの量を0.64gに代えてアニオン性基含有有機高分子化合物水溶液を作製した以外は実施例1の工程(A)〜工程(E)と同様にして不揮発分25%のPAS微粒子分散体(D−8)を得た。得られた分散体の体積平均粒径は118.3 nmであった。また、24時間静置による沈降の目視確認では「沈降なし」であった。
工程(B)で得られた晶析液に、Hielscher社製超音波分散機 UP200ST(出力200 W, 周波数24 kHz)にて30分間超音波を照射する工程を追加した以外は前記実施例1の工程(A)〜工程(E)と同様にして不揮発分25%のPAS微粒子分散体(D−9)を得た。得られた分散体の体積平均粒径は125.6 nmであった。また、24時間静置による沈降の目視確認では「沈降なし」であった。
前記実施例1の工程(D)で得られた不揮発分29.8%の含水アニオン性基含有有機高分子化合物被覆PAS粒子ウェットケーキ100 gを真空乾燥器にて減圧下 40℃で12時間乾燥させた後、ジューサーミキサーで粉砕することでアニオン性基含有有機高分子化合物被覆PAS粉体粒子25.3gを得た。
前記実施例1の工程(A)における溶解温度280℃を、30℃に代えて操作する以外は、実施例1の工程(A)〜工程(E)と同様にして不揮発分25%のPASスラリー(D−10)を得た。得られたスラリーの体積平均粒径は3319.3 nmであった。また、24時間静置による沈降の目視確認では「沈降あり」であり、固液分離が確認された。
前記実施例1の工程(B)に用いたアニオン性基含有有機高分子化合物を、R−1に代えてR−2(2.22g)に代え、また25%KOHの量を0.02gに代えてアニオン性基含有有機高分子化合物水溶液を作製した以外は実施例1の工程(A)〜工程(C)と同様の操作を実施したが、酸析出せず、アニオン性基含有有機高分子化合物被覆PASウェットケーキを作製することができなかった。(PAS微粒子分散体作製不可能)
前記実施例1の工程(B)に用いたアニオン性基含有有機高分子化合物を使用せずに、イオン交換水のみにPAS微粒子を晶析させた以外は実施例1の工程(A)〜工程(C)と同様の操作を実施したが、酸析出せず、アニオン性基含有有機高分子化合物被覆PASウェットケーキを作製することができなかった。(PAS微粒子分散体作製不可能)
(実施例11)
実施例1で得られた分散液1gとDIC(株)製水性エポキシエステル樹脂 EFD−5570 4gを混ぜてアプリケーターを用いて基材としてのガラス板に塗布した。その後、200℃のオーブンに1時間焼き付けた後に得られたフィルム(厚さ152μm)が付着したガラス板を5cm× 5cmの正方形に切り抜き、濁度計(日本電色工業株式会社製ND−1001DP)にてヘーズ測定を行った。ヘーズ値は22であった。
比較例1で得られた分散液1gとDIC(株)製水性エポキシエステル樹脂 EFD−5570 4gを混ぜてアプリケーターを用いて、実施例11と同様に塗膜フィルム(厚さ149μm)が付着したガラス板を得、ヘーズ測定を行った。ヘーズ値は86であった。
(実施例12)
実施例11で得られたガラス板上の塗膜について、JIS K−5600 碁盤目試験法に基づいて測定した。前記塗膜の上にカッターで1mm幅の切込みを入れ碁盤目の数を100個とし、全ての碁盤目を覆うようにセロハンテープを貼り付け、すばやく引き剥がして付着して残っている碁盤目の数を数えることにより密着性を評価したところ、100個中100個付着して残っていた。
基材として用いたガラス板をステンレス板(SUS304)に代える以外は前記実施例11と同様にして、フィルム(厚さ148μm)が付着したステンレス板上の塗膜を得た。該塗膜について、前記実施例12同様に塗膜密着性試験を実施したところ、100個中100個付着して残っていた。
前記比較例4で得られたガラス板上の塗膜について、前記実施例12同様に塗膜密着性試験を実施したところ、100個中46個付着して残っていた。
Claims (14)
- ポリアリーレンスルフィド粒子、アニオン性基含有有機高分子化合物、塩基、水性媒体からなるポリアリーレンスルフィド分散体において、ポリアリーレンスルフィド粒子がアニオン性基含有有機高分子化合物により被覆されていることを特徴とするポリアリーレンスルフィド分散体。
- 前記アニオン性基含有有機高分子化合物のアニオン性基が、カルボキシル基、カルボキシレート基、スルホン酸基、スルホネート基及びリン酸基からなる群より選ばれる少なくとも一種のアニオン性基であることを特徴とする請求項1記載のポリアリーレンスルフィド分散体。
- 前記アニオン性基含有有機高分子化合物の主骨格が、(メタ)アクリル酸エステル樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−スチレン樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−エポキシ樹脂、ビニル樹脂、ウレタン樹脂及びポリアミドイミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種の有機高分子化合物であることを特徴とする請求項1または2いずれか一項記載のポリアリーレンスルフィド分散体。
- 前記アニオン性基含有有機高分子化合物の酸価が10〜300mgKOH/gであることを特徴とする請求項1〜3いずれか一項記載のポリアリーレンスルフィド分散体。
- 前記アニオン性基含有有機高分子化合物において、アニオン性基の中和に用いられる塩基が金属水酸化物及び有機アミンからなる群より選ばれる少なくとも一種の塩基であることを特徴とする請求項1〜4いずれか一項記載のポリアリーレンスルフィド分散体。
- 前記ポリアリーレンスルフィド分散体中のポリアリーレンスルフィド粒子の体積平均粒径が1μm以下であることを特徴とする請求項1〜5いずれか一項記載のポリアリーレンスルフィド分散体。
- 請求項1〜6いずれか一項記載のポリアリーレンスルフィド分散体を、乾燥させて得られるポリアリーレンスルフィド粉体粒子。
- ポリアリーレンスルフィドを有機溶媒中で加熱して、溶解液とする工程(A)と、
水にアニオン性基含有有機高分子化合物を添加し溶解させた樹脂水溶液に、工程(A)で得られたポリアリーレンスルフィド溶解液を加えて、ポリアリーレンスルフィド微粒子を形成させる工程(B)と、
工程(B)で得られたポリアリーレンスルフィド微粒子と酸とを反応させてポリアリーレンスルフィド微粒子表面にアニオン性基含有有機高分子化合物を析出させてアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子を沈殿させる工程(C)と、
工程(C)で得られたアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子をろ別、洗浄し、含水アニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子ウェットケーキを得る工程(D)と、
工程(D)で得られた含水アニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子ウェットケーキと塩基とを反応させてアニオン性基含有有機高分子化合物により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子からなる分散体を得る工程(E)と、を含むポリアリーレンスルフィド分散体の製造方法。 - 前記工程(A)に用いる有機溶媒がN−メチル−2−ピロリドン、1−クロロナフタレン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンの中から選択される少なくとも一種の有機溶媒であることを特徴とする請求項8記載のポリアリーレンスルフィド分散体の製造方法。
- ポリアリーレンスルフィドを有機溶媒中で加熱して、溶解液とする工程(A)と、
水にアニオン性基含有有機高分子化合物を添加し溶解させた樹脂水溶液に、工程(A)で得られたポリアリーレンスルフィド溶解液を加えてポリアリーレンスルフィド微粒子を形成させる工程(B)と、
工程(B)で得られたポリアリーレンスルフィド微粒子と酸とを反応させてポリアリーレンスルフィド微粒子表面にアニオン性基含有有機高分子化合物を析出させてアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子を沈殿させる工程(C)と、
工程(C)で得られたアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子をろ別、洗浄し、含水アニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子ウェットケーキを得る工程(D)と、
工程(D)で得られた含水アニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子ウェットケーキを乾燥してアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粉体粒子を得る工程(F1)と、を含むポリアリーレンスルフィド粉体粒子の製造方法。 - ポリアリーレンスルフィドを有機溶媒中で加熱して、溶解液とする工程(A)と、
水にアニオン性基含有有機高分子化合物を添加し溶解させた樹脂水溶液に、工程(A)で得られたポリアリーレンスルフィド溶解液を加えてポリアリーレンスルフィド微粒子を形成させる工程(B)と、
工程(B)で得られたポリアリーレンスルフィド微粒子と酸とを反応させてポリアリーレンスルフィド微粒子表面にアニオン性基含有有機高分子化合物を析出させてアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子を沈殿させる工程(C)と、
工程(C)で得られたアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子をろ別、洗浄し、含水アニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子ウェットケーキを得る工程(D)と、
工程(D)で得られた含水アニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子ウェットケーキと塩基とを反応させてアニオン性基含有有機高分子化合物により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子からなる分散体を得る工程(E)と、
工程(E)で得られたアニオン性基含有有機高分子化合物により被覆されたポリアリーレンスルフィド粒子からなる分散体を乾燥してアニオン性基含有有機高分子により被覆されたポリアリーレンスルフィド粉体粒子を得る工程(F2)と、を含むポリアリーレンスルフィド粉体粒子の製造方法。 - 前記工程(A)に用いる有機溶媒がN−メチル−2−ピロリドン、1−クロロナフタレン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンの中から選ばれる少なくとも一種の有機溶媒であることを特徴とする請求項10又は11記載のポリアリーレンスルフィド粉体粒子の製造方法。
- 前記工程(B)の後に、工程(B)で得られたポリアリーレンスルフィド分散液に対し、機械的粉砕を行うことを特徴とする請求項8記載のポリアリーレンスルフィド分散体の製造方法。
- 前記工程(B)の後に、工程(B)で得られたポリアリーレンスルフィド分散液に対し、機械的粉砕を行うことを特徴とする請求項10又は11記載のポリアリーレンスルフィド粉体粒子の製造方法。
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