JP6007251B2 - ゲート間結合比の改善された浮動ゲートと結合ゲートを有する不揮発性メモリセル - Google Patents
ゲート間結合比の改善された浮動ゲートと結合ゲートを有する不揮発性メモリセル Download PDFInfo
- Publication number
- JP6007251B2 JP6007251B2 JP2014528393A JP2014528393A JP6007251B2 JP 6007251 B2 JP6007251 B2 JP 6007251B2 JP 2014528393 A JP2014528393 A JP 2014528393A JP 2014528393 A JP2014528393 A JP 2014528393A JP 6007251 B2 JP6007251 B2 JP 6007251B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate
- region
- floating gate
- sidewall
- word line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000008878 coupling Effects 0.000 title claims description 62
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 title claims description 62
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 title claims description 62
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 8
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 16
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 230000005689 Fowler Nordheim tunneling Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000002784 hot electron Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/788—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with floating gate
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/04—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/401—Multistep manufacturing processes
- H01L29/4011—Multistep manufacturing processes for data storage electrodes
- H01L29/40114—Multistep manufacturing processes for data storage electrodes the electrodes comprising a conductor-insulator-conductor-insulator-semiconductor structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/42312—Gate electrodes for field effect devices
- H01L29/42316—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
- H01L29/4232—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate
- H01L29/42324—Gate electrodes for transistors with a floating gate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/42312—Gate electrodes for field effect devices
- H01L29/42316—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
- H01L29/4232—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate
- H01L29/42324—Gate electrodes for transistors with a floating gate
- H01L29/42328—Gate electrodes for transistors with a floating gate with at least one additional gate other than the floating gate and the control gate, e.g. program gate, erase gate or select gate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
- H01L29/66477—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET
- H01L29/66825—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET with a floating gate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/788—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with floating gate
- H01L29/7881—Programmable transistors with only two possible levels of programmation
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B41/00—Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates
- H10B41/30—Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the memory core region
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Description
14 第1領域
16 第2領域
18 チャネル領域
20 ワードライン
22 (二)酸化シリコン層
28 消去ゲート
30 (二)酸化シリコン層、絶縁層
32 絶縁層
50、100 不揮発性メモリセル
60 浮動ゲート
62 浮動ゲートの上側表面
70 結合ゲート
72 結合ゲートの下側表面
150 メモリセルのアレイ
Claims (7)
- 不揮発性メモリセルにおいて、
上面を有する第1の導電性型式の半導体基板と、
前記基板中の、前記上面に沿った第2の導電性型式の第1領域と、
前記基板中の、前記上面に沿った、前記第1領域から間隔をあけて配置されている前記第2の導電性型式の第2領域と、
前記第1領域と前記第2領域の間のチャネル領域と、
前記チャネル領域の、前記第1領域に間近に隣接している第1部分の上方に配置されているワードラインゲートであって、第1の絶縁層によって前記チャネル領域から離隔されているワードラインゲートと、
前記チャネル領域の別の部分の上方に配置されている浮動ゲートであって、第2の絶縁層によって前記チャネル領域から分離されている下側表面及び前記下側表面とは反対側の上側表面を有し、且つ、前記ワードラインゲートに隣接してはいるが当該ワードラインゲートから分離されている第1側壁及び前記第1側壁とは反対側の第2側壁を有しており、前記上側表面は前記第1側壁から前記第2側壁にかけて非平面状の輪郭を有している、浮動ゲートと、
前記浮動ゲートの前記上側表面の上方に配置されていて第3の絶縁層によってそれから絶縁されている結合ゲートであって、前記浮動ゲートの前記上側表面の前記輪郭に沿う輪郭を持つ下側表面を有している結合ゲートと、
前記浮動ゲートの前記第2側壁に隣接して配置されている消去ゲートであって、前記第2領域の上方に配置されていてそれから絶縁されている消去ゲートと、を備えており、前記浮動ゲートの前記上側表面は、ひとつの段を有するような非平面状の輪郭を有しており、前記第2側壁は前記第1側壁より背高である、不揮発性メモリセル。 - 前記消去ゲートは、前記浮動ゲートの一部分に張り出している、請求項1に記載のメモリセル。
- 不揮発性メモリセルのアレイにおいて、
上面を有する第1の導電性型式の半導体基板と、
複数の行と複数の列を有するアレイに配列された複数のメモリセルであって、前記メモリセルのそれぞれは、前記基板中の、前記上面に沿った第2の導電性型式の第1領域と、前記基板中の、前記上面に沿った、列方向に前記第1領域から間隔をあけて配置されている前記第2の導電性型式の第2領域と、を備え、前記第1領域と前記第2領域の間にはチャネル領域が在り、前記チャネル領域のそれぞれが第1部分と第2部分を有しており、前記第1部分は前記第1領域に間近に隣接している、複数のメモリセルと、
チャネル領域の複数の前記第1部分の上方に配置されている、列方向に直交して行方向に延びるワードラインゲートであって、第1の絶縁層によってそれぞれのチャネル領域から離隔されているワードラインゲートと、
それぞれのチャネル領域の前記第2部分の上方に配置されている浮動ゲートであって、第2の絶縁層によって前記チャネル領域から分離されている下側表面及び前記下側表面とは反対側の上側表面を有し、且つ、前記ワードラインゲートに隣接してはいるが当該ワードラインゲートから分離されている第1側壁及び前記第1側壁とは反対側の第2側壁を有しており、前記上側表面は前記第1側壁から前記第2側壁にかけて非平面状の輪郭を有している、浮動ゲートと、
行方向に延びていて、複数の浮動ゲートの前記上側表面の上方に配置されていて、第3の絶縁層によってそれから絶縁されている結合ゲートであって、前記浮動ゲートの前記上側表面の前記輪郭に沿う輪郭を持つ下側表面を有している結合ゲートと、
複数の列を跨いで前記行方向に延びていて、複数の浮動ゲートの前記第2側壁に隣接して配置されている消去ゲートであって、前記第2領域の上方に配置されていてそれから絶縁されている消去ゲートと、を備えており、
前記浮動ゲートのそれぞれの前記上側表面は、ひとつの段を有するような非平面状の輪郭を有しており、それぞれの浮動ゲートの前記第2側壁は、それぞれの浮動ゲートの前記第1側壁より背高である、不揮発性メモリセルのアレイ。 - 前記第2領域は複数の列を跨いで前記行方向に延びている、請求項3に記載のアレイ。
- 前記消去ゲートは、前記複数の浮動ゲートのそれぞれの一部分に張り出している、請求項4に記載のアレイ。
- 不揮発性メモリセルにおいて、
上面を有する第1の導電性型式の半導体基板と、
前記基板中の、前記上面に沿った第2の導電性型式の第1領域と、
前記基板中の、前記上面に沿った、前記第1領域から間隔をあけて配置されている前記第2の導電性型式の第2領域と、
前記第1領域と前記第2領域の間のチャネル領域と、
前記チャネル領域の、前記第1領域に間近に隣接している第1部分の上方に配置されているワードラインゲートであって、第1の絶縁層によって前記チャネル領域から離隔されているワードラインゲートと、
前記チャネル領域の別の部分の上方に配置されている浮動ゲートであって、第2の絶縁層によって前記チャネル領域から分離されている下側表面及び前記下側表面とは反対側の上側表面を有し、且つ、前記ワードラインゲートに隣接してはいるが当該ワードラインゲートから分離されている第1側壁及び前記第1側壁とは反対側の第2側壁を有しており、前記上側表面は前記第1側壁から前記第2側壁にかけて非平面状の輪郭を有している、浮動ゲートと、
前記浮動ゲートの前記上側表面上の第3の絶縁層であって、前記第1側壁から前記第2側壁にかけて延びる均一厚さを有している第3の絶縁層と、
前記第3の絶縁層の上方に配置されている結合ゲートと、
前記浮動ゲートの前記第2側壁に隣接して配置されている消去ゲートであって、前記第2領域の上方に配置されていてそれから絶縁されている消去ゲートと、を備えており、前記浮動ゲートの前記上側表面は、ひとつの段を有するような非平面状の輪郭を有しており、前記第2側壁は前記第1側壁より背高である、不揮発性メモリセル。 - 前記消去ゲートは、前記浮動ゲートの一部分に張り出している、請求項6に記載のメモリセル。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201110289174.0A CN102969346B (zh) | 2011-08-31 | 2011-08-31 | 具有带改进耦合比的浮栅和耦合栅的非易失性存储器单元 |
CN201110289174.0 | 2011-08-31 | ||
PCT/US2012/046947 WO2013032585A1 (en) | 2011-08-31 | 2012-07-16 | A non-volatile memory cell having a floating gate and a coupling gate with improved coupling ratio therebetween |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014529907A JP2014529907A (ja) | 2014-11-13 |
JP6007251B2 true JP6007251B2 (ja) | 2016-10-12 |
Family
ID=47756718
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014528393A Active JP6007251B2 (ja) | 2011-08-31 | 2012-07-16 | ゲート間結合比の改善された浮動ゲートと結合ゲートを有する不揮発性メモリセル |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9379255B2 (ja) |
EP (1) | EP2751840A4 (ja) |
JP (1) | JP6007251B2 (ja) |
KR (1) | KR101632124B1 (ja) |
CN (1) | CN102969346B (ja) |
TW (1) | TWI508230B (ja) |
WO (1) | WO2013032585A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101716998B1 (ko) | 2013-03-14 | 2017-03-15 | 실리콘 스토리지 테크놀로지 인크 | 비휘발성 메모리 프로그램 알고리즘 디바이스 및 방법 |
CN104425499A (zh) * | 2013-08-29 | 2015-03-18 | 林崇荣 | 记忆体元件、记忆体阵列与其操作方法 |
US10312248B2 (en) * | 2014-11-12 | 2019-06-04 | Silicon Storage Technology, Inc. | Virtual ground non-volatile memory array |
CN107210203B (zh) | 2015-01-22 | 2020-10-16 | 硅存储技术公司 | 高密度分裂栅存储器单元 |
US9917165B2 (en) * | 2015-05-15 | 2018-03-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Memory cell structure for improving erase speed |
CN107342288B (zh) | 2016-04-29 | 2020-08-04 | 硅存储技术公司 | 分裂栅型双位非易失性存储器单元 |
CN107425003B (zh) | 2016-05-18 | 2020-07-14 | 硅存储技术公司 | 制造分裂栅非易失性闪存单元的方法 |
WO2017200709A1 (en) * | 2016-05-18 | 2017-11-23 | Silicon Storage Technology, Inc. | Method of making split gate non-volatile flash memory cell |
CN109728099A (zh) * | 2019-02-26 | 2019-05-07 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 一种闪存器件及其制造方法 |
CN114335185A (zh) | 2020-09-30 | 2022-04-12 | 硅存储技术股份有限公司 | 具有设置在字线栅上方的擦除栅的分裂栅双位非易失性存储器单元及其制备方法 |
US11462622B1 (en) | 2021-06-23 | 2022-10-04 | Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. | Memory cells and methods of forming a memory cell |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5677867A (en) | 1991-06-12 | 1997-10-14 | Hazani; Emanuel | Memory with isolatable expandable bit lines |
KR100215883B1 (ko) * | 1996-09-02 | 1999-08-16 | 구본준 | 플래쉬 메모리 소자 및 그 제조방법 |
JPH10173074A (ja) * | 1996-12-05 | 1998-06-26 | Sony Corp | 不揮発性半導体装置 |
US6225162B1 (en) * | 1999-07-06 | 2001-05-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Step-shaped floating poly-si gate to improve gate coupling ratio for flash memory application |
KR100454132B1 (ko) * | 2002-09-09 | 2004-10-26 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 기억소자 및 그 형성방법 |
US6747310B2 (en) | 2002-10-07 | 2004-06-08 | Actrans System Inc. | Flash memory cells with separated self-aligned select and erase gates, and process of fabrication |
KR100511598B1 (ko) * | 2003-09-24 | 2005-08-31 | 동부아남반도체 주식회사 | 플래시 메모리 제조방법 |
KR100645063B1 (ko) * | 2005-03-14 | 2006-11-10 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 기억장치 및 그 제조방법 |
JP2006261668A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-09-28 | Samsung Electronics Co Ltd | スプリットゲート型不揮発性メモリ装置及びその製造方法 |
US7755132B2 (en) * | 2006-08-16 | 2010-07-13 | Sandisk Corporation | Nonvolatile memories with shaped floating gates |
JP5178721B2 (ja) * | 2006-08-16 | 2013-04-10 | サンディスク テクノロジーズ インコーポレイテッド | 成形されたフローティングゲートを持つ不揮発性メモリ |
US20090039410A1 (en) * | 2007-08-06 | 2009-02-12 | Xian Liu | Split Gate Non-Volatile Flash Memory Cell Having A Floating Gate, Control Gate, Select Gate And An Erase Gate With An Overhang Over The Floating Gate, Array And Method Of Manufacturing |
-
2011
- 2011-08-31 CN CN201110289174.0A patent/CN102969346B/zh active Active
-
2012
- 2012-07-16 KR KR1020147005783A patent/KR101632124B1/ko active IP Right Grant
- 2012-07-16 JP JP2014528393A patent/JP6007251B2/ja active Active
- 2012-07-16 WO PCT/US2012/046947 patent/WO2013032585A1/en active Application Filing
- 2012-07-16 US US14/125,029 patent/US9379255B2/en active Active
- 2012-07-16 EP EP12828535.0A patent/EP2751840A4/en not_active Ceased
- 2012-07-24 TW TW101126610A patent/TWI508230B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI508230B (zh) | 2015-11-11 |
EP2751840A4 (en) | 2015-04-29 |
US9379255B2 (en) | 2016-06-28 |
EP2751840A1 (en) | 2014-07-09 |
WO2013032585A1 (en) | 2013-03-07 |
JP2014529907A (ja) | 2014-11-13 |
US20140203343A1 (en) | 2014-07-24 |
KR101632124B1 (ko) | 2016-06-20 |
CN102969346B (zh) | 2016-08-10 |
TW201320249A (zh) | 2013-05-16 |
CN102969346A (zh) | 2013-03-13 |
KR20140057582A (ko) | 2014-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6007251B2 (ja) | ゲート間結合比の改善された浮動ゲートと結合ゲートを有する不揮発性メモリセル | |
JP5793246B2 (ja) | 高k誘電体と金属ゲートとを有する不揮発性メモリセル | |
US7407857B2 (en) | Method of making a scalable flash EEPROM memory cell with notched floating gate and graded source region | |
JP5035775B2 (ja) | ソース側消去を伴うフローティングゲートメモリセルの半導体メモリアレイを形成する自己整合法及びこれによって形成されるメモリアレイ | |
JP5781733B2 (ja) | 不揮発性メモリセル及びその製造方法 | |
TWI600144B (zh) | 使用增強橫向控制閘至浮閘耦合之改良尺度之分離閘快閃記憶體單元 | |
JP6503077B2 (ja) | 高密度スプリットゲート型メモリセル | |
JP7322199B2 (ja) | スプリットゲート型メモリセルを形成する方法 | |
US8513728B2 (en) | Array of split gate non-volatile floating gate memory cells having improved strapping of the coupling gates | |
JP7376595B2 (ja) | 浮遊ゲート、結合ゲート、及び消去ゲートを有するメモリセル、並びにその製造方法 | |
CN103594474A (zh) | 半导体存储器器件及其制造方法 | |
CN104969358B (zh) | 在沟槽中具有俘获电荷层的非易失性存储器单元和阵列以及其制造方法 | |
TW201622072A (zh) | 快閃記憶體及其製造方法 | |
KR20110000151A (ko) | 플래시 메모리 소자 및 그 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150319 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150323 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150623 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151019 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160119 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160219 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160706 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160727 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20160804 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160822 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160912 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6007251 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |