JP6003904B2 - Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板及びそれを用いた太陽電池 - Google Patents

Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板及びそれを用いた太陽電池 Download PDF

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Description

本発明は、ガラス板の間に光電変換層が形成されている太陽電池用のガラス基板、及びそれを用いた太陽電池に関する。より詳しくは、ガラス板として典型的にはガラス基板とカバーガラスとを有し、ガラス基板とカバーガラスとの間に、11族、13族、16族元素を主成分とした光電変換層の少なくとも一部がセレン化法により形成されているCu−In−Ga−Se太陽電池用のガラス基板、及びそれを用いた太陽電池に関するものである。
カルコパイライト結晶構造を持つ11−13族、11−16族化合物半導体や立方晶系あるいは六方晶系の12−16族化合物半導体は、可視から近赤外の波長範囲の光に対して大きな吸収係数を有している。そのために、高効率薄膜太陽電池の材料として期待されている。代表的な例としてCu(In,Ga)Se(以下、「CIGS」または「Cu−In−Ga−Se」とも記述する。)やCdTeがあげられる。
CIGS薄膜太陽電池では、安価であることと熱膨張係数がCIGS化合物半導体のそれに近いこととから、ソーダライムガラスが基板として用いられ、太陽電池が得られている。
また、効率の良い太陽電池を得るため、高温の熱処理温度に耐えうるガラス材料の提案もされている(特許文献1参照)。
日本国特開平11−135819号公報
ガラス基板には、CIGS光電変換層(以下、「CIGS層」ともいう)が形成される。特許文献1に開示されているように、発電効率の良い太陽電池を作製するには、より高温での熱処理が好ましく、ガラス基板には高温の熱処理に耐えうることが要求される。特許文献1では比較的徐冷点の高いガラス組成物が提案されているが、特許文献1に記載された発明が高い発電効率を有するとは必ずしもいえない。
本発明者等はガラス基板のアルカリを所定範囲で増やすことによって発電効率を高くすることができることを発見したが、アルカリの増量はガラス転移点温度(Tg)の低下を招くという問題があった。
このようにCIGS太陽電池に使用されるガラス基板において、高い発電効率と高いガラス転移点温度とを両立させることは困難であるという問題があった。
本発明は、特に高い発電効率と高いガラス転移点温度とを両立させるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板を提供することを目的とする。
本発明は以下の構成を要旨とするものである。
(1)ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)と、の比が0.7以下であって、
ガラス基板表面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)と、ガラス基板表面から5000nmのガラスを取り去った面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)と、の比が0.4〜1.1であり、
ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)の、N雰囲気下600℃1時間の熱処理前後比が1.1以上であり、
ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiO2を50〜72%、Al23を1〜15%、MgOを0〜10%、CaOを0.1〜11%、SrOを0〜13%、BaOを0〜11%、Na2Oを1〜11%、K2Oを2〜21%、ZrO2を0〜10.5%、MgO+CaO+SrO+BaOを4〜25%、CaO+SrO+BaOを2〜23%、Na2O+K2Oを8〜22%、Na2O/(CaO+SrO+BaO)≦1.2、含有し、
ガラス転移点温度が580℃以上、平均熱膨張係数が70×10−7〜100×10−7℃以下である、
セレン化法により作製されるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
(2)上記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)と、の比が0.5以下であって、
上記ガラス基板表面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)と、ガラス基板表面から5000nmのガラスを取り去った面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)と、の比が0.5〜0.87であり、
上記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)の、N雰囲気下600℃1時間の熱処理前後比が1.5以上であり、
ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、ZrOを0.5〜9%、CaO+SrO+BaOを2.5〜19%、SrO+BaOを0〜16%、含有する、
上記(1)に記載のセレン化法により作製されるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
(3)上記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)と、の比が0.35以下であって、
上記ガラス基板表面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)と、ガラス基板表面から5000nmのガラスを取り去った面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)と、の比が0.6〜0.84であり、
上記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)の、N雰囲気下600℃1時間の熱処理前後比が2.0以上であり、
ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、CaO+SrO+BaOを3〜15%、SrO+BaOを0〜8%、含有する、
上記(1)又は(2)に記載のセレン化法により作製されるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
(4)ガラス基板と、カバーガラスと、上記ガラス基板と上記カバーガラスとの間に配置される、セレン化法により作製されたCu−In−Ga−Seの光電変換層と、を有し、
上記ガラス基板と上記カバーガラスのうち少なくとも上記ガラス基板が、上記(1)〜(3)のいずれか一つに記載のセレン化法により作製されるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板である太陽電池。
本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、高い発電効率と高いガラス転移点温度とを両立させることができる。本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いることで、低コストで高効率な太陽電池を提供できる。
図1は本発明の太陽電池の実施形態の一例を模式的に表す断面図である。 図2Aは、実施例において評価用ガラス基板上に作製した太陽電池セルを示す。 図2Bは、図2Aに示した太陽電池セルのA−A’線に沿った断面図を示す。 図3は、図2Aに示す太陽電池セルを8個並べた、評価用ガラス基板上の評価用CIGS太陽電池を示す。
以下、本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板について説明する。
本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)(以下、「ガラス基板表層のCa+Sr+Baの量」ともいう)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)(以下、「ガラス基板内部のCa+Sr+Baの量」ともいう)と、の比(以下、「ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比」ともいう)が0.7以下であって、ガラス基板表面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)(以下、「ガラス基板表面のNaO含有量(質量%)」ともいう)と、ガラス基板表面から5000nmのガラスを取り去った面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)(以下、「ガラス基板内部のNaO含有量(質量%)」ともいう)と、の比(以下、「ガラス基板表面と内部とのNaO含有量比」ともいう)が0.4〜1.1であり、ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)の、N雰囲気下600℃1時間の熱処理前後比(以下、「ガラス基板表層のNaの熱処理前後比」ともいう)が1.1以上であり、ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiOを50〜72%、Alを1〜15%、MgOを0〜10%、CaOを0.1〜11%、SrOを0〜13%、BaOを0〜11%、NaOを1〜11%、KOを2〜21%、ZrOを0〜10.5%、MgO+CaO+SrO+BaOを4〜25%、CaO+SrO+BaOを2〜23%、NaO+KOを8〜22%、NaO/(CaO+SrO+BaO)≦1.2、含有し、ガラス転移点温度が580℃以上、平均熱膨張係数が70×10−7〜100×10−7/℃である、セレン化法により作製されるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板である。
Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、セレン化法により作製されるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板であることが好ましい。
セレン化法により作製されるCu−In−Ga−Seとは、太陽電池の光電変換層であるCIGS層の少なくとも一部がセレン化法により成膜されたものをいう。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、上記ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比が0.7以下、好ましくは0.5以下、より好ましくは0.35以下、さらに好ましくは0.3以下、特に好ましくは、0.25以下である。
なお、上記ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比は、ガラス基板表層のCa+Sr+Baの量とガラス基板内部のCa+Sr+Baの量とを相対比として比較できる。つまり、上記ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比が0.7以下の場合、ガラス基板表層のCa+Sr+Baの量が、ガラス基板内部のCa+Sr+Baの量よりも少ない状態、具体的には、Ca、Sr及びBaの原子がガラス基板表面付近から抜けている状態であることを意味する。
本発明の太陽電池用ガラス基板は、ガラス基板表面と内部とのNaO含有量比が0.4〜1.1である。上記NaO含有量比が0.4より小さいと、後述のガラス基板表層のNaの熱処理前後比が小さくなりすぎて好ましくない。好ましくは0.5以上、より好ましくは0.6以上である。また、上記NaO含有量比が1.1より大きいと、Ca、Sr及びBaの原子のガラス基板表面付近からの脱離量が少ないために、後述のガラス基板表層のNaの熱処理前後比が小さくなるため好ましくない。上記NaO含有量比は、好ましくは0.9以下、より好ましくは0.87以下、さらに好ましくは0.84以下である。
NaO含有量比が1.1より小さいと、Naの原子がガラス基板表面付近から抜けている状態(離脱状態)であることを意味する。
本発明において、ガラス基板表面のNaO含有量とは、ガラス基板表面から、蛍光X線(管球電圧50kV50mA)にて測定した定量用標準試料を用いて蛍光X線法の検量線法にて定量したNaO含有量(質量%)であり、ガラス基板表面から約3000nmまでの範囲の平均含有量を測定した値である。また、ガラス基板内部のNaO含有量とは、ガラス基板表面から5000nmまでのガラスを取り去った面から、蛍光X線(管球電圧50kV50mA)により測定したNaO含有量(質量%)であり、ガラスを取り去った面から約3000nmまでの範囲の平均含有量を測定した値である。
本発明において、ガラス基板表面のNaO含有量と、ガラス基板内部のNaO含有量と、の比をとることで、ガラス基板表面から深さ約3000nmまでのNaの抜けの程度を定義する。
Na並びにCa、Sr及びBaの原子、またはCa、Sr及びBaの原子がガラス基板表面付近から抜けている状態(離脱状態)で、且つ後述の上記ガラス基板表層のNaの熱処理前後比が大きいことにより、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をCIGS太陽電池に用いた際に、太陽電池製造工程における熱処理工程(一般的には、セレン、硫黄を含み無酸素雰囲気下で約100〜600℃10分以上の熱処理条件)において、太陽電池の光電変換層であるCIGSの少なくとも一部がセレン化法により成膜されるときに、太陽電池の発電効率が向上することを本発明者等は見出した。
Na並びにCa、Sr及びBaの原子、またはCa、Sr及びBaの原子がガラス基板表面付近から抜けている状態は、セレン化法により作製される太陽電池製造工程における熱処理の前半、具体的にはIn−CuGa合金のプリカーサ膜を加熱しながらセレン化水素、硫化水素によりセレン化・硫化していく工程において、セレン化・硫化反応の初期の段階でNaの拡散が少なくなることを意味している。このような状態で、且つ上記ガラス基板表層のNaの熱処理前後比が大きい基板を用いると、太陽電池製造工程における熱処理工程の後半(一般的には、約500〜600℃10分以上)において、ガラス基板表面付近から光電変換層へのNa拡散量が多くなり、発電効率が向上することを本発明者等は見出した。
本発明者等は、上記Na拡散の効果を鋭意研究した結果、セレン化・硫化反応の初期の段階において、Na拡散量が少なく、かつ熱処理工程の後半でNa拡散量が確保されると、CIGSの結晶品位が上がることを見出した。結晶品位の向上は、CIGS中のフリーキャリア密度の増加によって確認できる。
フリーキャリアが増加したサンプルは、太陽電池のセル特性としては、後述の開放電圧(Voc)と、曲線因子(FF)の増加として確認され、結果として、発電効率が向上する。FFが増加するのは、主にフリーキャリア密度が増加することで、CIGS膜の電気伝導性が上がり、直列抵抗(Rser)が下がるためである。直列抵抗(Rser)は素子を電流が流れる時の抵抗成分であり、低いほどよい。
本発明において、ガラス基板表層のCa+Sr+Baの量またはNaの量(原子%)を「ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)」または「ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)」で規定したのは、この領域においてのCa、Sr及びBaの原子が離脱しており、且つ上記ガラス基板表面付近のNaの熱処理前後比が大きい状態であると、上記熱処理後のガラス基板表層へのNaの拡散が顕著となるからである。なお、0〜10nm未満は外気による組成変動の影響を考慮して測定対象外とした。
NaO含有量は、基板の初期状態としてガラス基板表面から約3000nmまでの範囲でNaがどれだけ少ないかを示すものであり、熱処理工程の初期段階に強く影響を及ぼすものである。一方で、光電変換層へのNa拡散しやすさを示す指標としては、上記ガラス基板表層のNaの熱処理前後比が適当であるので、ガラス基板表面付近のNa量については2つの指標を導入している。
また、ガラス基板内部のCa+Sr+Baの量を「ガラス基板表面からの深さ5000nmの合量」で規定したのは、Ca、Sr及びBaの原子の離脱がほとんど起きていない部分であるからである。
「ガラス基板内部のNaO含有量」を、ガラス基板表面から5000nmまでのガラスを取り去った面から蛍光X線により測定したNaO含有量で規定したのは、深さ5000nmよりも深い部分ではNaの原子の離脱がほとんど起きていない部分であるからである。
上記ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比が0.7以下であり、上記ガラス基板表面と内部とのNaO含有量比が0.4〜1.1であるガラス基板とするには、ガラス基板の組成が本発明で特定する範囲となるように各原料成分を用い、従来の太陽電池用ガラス基板を製造する際と同様に、溶解・清澄工程及び成形工程を実施し、その後の徐冷工程で本発明に係るSO処理を行う。本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の組成(各原料成分)及び本発明に係るSO処理について、詳しくは後述する。
また、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、上記ガラス基板表層のNaの熱処理前後比が1.1以上であることが必要であり、1.2以上であることが好ましく、1.5以上であることがより好ましい。これにより、CIGS太陽電池製造工程における熱処理中に、ガラス基板からCIGSの光電変換層へのNa拡散量が増え、CIGS太陽電池に用いた場合、太陽電池の発電効率が高くなることを本発明者等は見出した。上記ガラス基板表層のNaの熱処理前後比は、より好ましくは1.8以上、さらに好ましくは2.0以上、特に好ましくは2.4以上である。
但し、熱処理後のガラス基板表層のNa量は0.3原子%以上が好ましい。0.3原子%より小さいと光電変換層へ十分に拡散しないため発電効率が十分に得られないおそれがあるためである。より好ましくは0.5原子%以上、さらに好ましくは1.0原子%以上、特に好ましくは2.5原子%以上である。
上記ガラス基板表層のNaの熱処理前後比の上限値は5である。上記ガラス基板表層のNaの熱処理前後比が5より大きいと、上記熱処理前のガラス基板表層のNaが少なくなり、その結果ガラス基板からCIGSの光電変換層へのNa拡散量が減少するため発電効率が低下するおそれがある。上記ガラス基板表層のNaの熱処理前後比は、好ましくは4.5以下、より好ましくは4以下である。
なお、ガラス基板表層のNaの熱処理前後比を、N雰囲気下600℃1時間の熱処理の条件で規定しているが、これは下記の理由による。N雰囲気下600℃1時間の熱処理の条件でのガラス基板表層へのNaの拡散が十分であると、太陽電池製造工程における熱処理工程の条件が多少変わっても、発電効率によい影響を与えることが本発明者等によって確認できている。
ガラス基板の組成を本発明で特定したものとし、且つ上記ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比が0.7以下、好ましくは0.5以下、より好ましくは0.35以下、さらに好ましくは0.3以下、特に好ましくは0.25以下であり、並びに、上記ガラス基板表面と内部とのNaO含有量比が0.4〜1.1、好ましくは0.5〜0.87、より好ましくは0.6〜0.84であると、容易にガラス基板表層のNaの熱処理前後比を1.1以上、好ましくは1.5以上、より好ましくは1.8以上、さらに好ましくは2.0以上、特に好ましくは2.4以上とすることができる。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板のガラス転移点温度(Tg)は580℃以上である。本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板のガラス転移点温度はソーダライムガラスのガラス転移点温度より高い。本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板のガラス転移点温度(Tg)は、高温における光電変換層の形成を担保するため600℃以上であるのが好ましく、610℃以上であるのがより好ましく、620℃以上であるのがさらに好ましく、630℃以上であるのが特に好ましい。ガラス転移点温度の上限値は750℃である。ガラス転移点温度が750℃以下であれば、溶融時の粘性を適度に低く抑えられるため製造しやすいことから好ましい。ガラス転移点温度は、より好ましくは700℃以下、さらに好ましくは680℃以下である。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の50〜350℃における平均熱膨張係数は70×10−7〜100×10−7/℃である。当該平均熱膨張係数が70×10−7/℃未満または100×10−7/℃超ではCIGS層等との熱膨張差が大きくなりすぎ、剥がれ等の欠点が生じやすくなる。さらに、太陽電池を組立てる際(具体的にはCIGSの光電変換層を有するガラス基板とカバーガラスとを加熱して貼りあわせる際)ガラス基板が変形し易くなる恐れがある。当該平均熱膨張係数は、好ましくは95×10−7/℃以下、より好ましくは90×10−7/℃以下である。
また、当該平均熱膨張係数は、好ましくは73×10−7/℃以上、より好ましくは75×10−7/℃以上、さらに好ましくは80×10−7/℃以上である。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板において、各原料成分を上記組成に限定する理由は以下のとおりである。
なお、以下における百分率(%)は、特に断りがない限り、質量%を意味するものとする。
SiO:SiOはガラスの骨格を形成する成分で、その含有量が50%未満であると、ガラスの耐熱性及び化学的耐久性が低下し、平均熱膨張係数が増大するおそれがある。その含有量は、好ましくは52%以上であり、より好ましくは54%以上であり、さらに好ましくは56%以上、特に好ましくは58%以上である。
しかし、その含有量が72%超であるとガラスの高温粘度が上昇し、溶解性が悪化する問題が生じるおそれがある。その含有量は、好ましくは70%以下であり、より好ましくは68%以下であり、さらに好ましくは67%以下、特に好ましくは66%以下である。
Al:Alはガラス転移点温度を上げ、耐候性(ソラリゼーション)、耐熱性及び化学的耐久性を向上し、ヤング率を上げる。その含有量が1%未満だとガラス転移点温度が低下するおそれがある。また平均熱膨張係数が増大するおそれがある。その含有量は、好ましくは2%以上であり、より好ましくは3%以上であり、さらに好ましくは4%以上、特に好ましくは5%以上である。
しかし、その含有量が15%超であると、ガラスの高温粘度が上昇し、溶解性が悪くなるおそれがある。また、失透温度が上昇し、成形性が悪くなるおそれがある。また発電効率が低下、すなわち後述するNa拡散量が低下するおそれがある。その含有量は、好ましくは14%以下であり、より好ましくは13%以下であり、さらに好ましくは12%以下、特に好ましくは11.5%以下である。
:Bは、溶解性を向上させる等のために2%まで含有してもよい。その含有量が2%を超えるとガラス転移点温度が下がる、または平均熱膨張係数が小さくなり、CIGS層を形成するプロセスにとって好ましくない。その含有量はより好ましくは1%以下である。その含有量が0.5%以下であると特に好ましい。さらには、Bを実質的に含有しないことが好ましい。
なお、「実質的に含有しない」とは、原料等から混入する不可避的不純物以外には含有しないこと、すなわち、意図的に含有させないことを意味する。また、他の成分についても、同様のことを意味するものとする。
MgO:MgOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有させてもよい。その含有量は、好ましくは0.5%以上であり、より好ましくは1%以上であり、さらに好ましくは2%以上、特に好ましくは3%以上である。
しかし、その含有量が10%超であると、平均熱膨張係数が増大するおそれがある。また失透温度が上昇するおそれがある。その含有量は、好ましくは9.5%以下であり、より好ましくは9.0%以下であり、さらに好ましくは8.5%以下、特に好ましくは8.0%以下である。
CaO:CaOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので0.1%以上で含有させることができる。その含有量は、好ましくは0.5%以上であり、より好ましくは1%以上であり、さらに好ましくは2%以上、特に好ましくは3%以上である。しかし、その含有量が11%超であると、ガラスの平均熱膨張係数が増大するおそれがある。また発電効率が低下、すなわち後述するNa拡散量が低下するおそれがある。その含有量は、好ましくは10%以下であり、より好ましくは9%以下であり、さらに好ましくは8%以下、特に好ましくは7%以下である。
SrO:SrOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有させることができる。しかし、SrOを13%超含有すると発電効率が低下、すなわち後述するNa拡散量が低下し、またガラス基板の平均熱膨張係数が増大するおそれがある。その含有量は、11%以下が好ましく、9%以下がより好ましく、7%以下であることがさらに好ましく、5%以下であることが特に好ましい。また、その含有量は、好ましくは0.5%以上、より好ましくは1%以上である。
BaO:BaOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有させることができる。しかし、BaOを11%超含有すると発電効率が低下、すなわち後述するNa拡散量が低下し、またガラス基板の平均熱膨張係数が大きくなるおそれがある。また比重も大きくなる。その含有量は、7%以下が好ましく、3%以下であることがより好ましく、さらに好ましくは0.5%以下である。特に好ましくは、BaOを実質的に含有しない。
ZrO:ZrOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進し、Tgを上げる効果があるので含有させてもよい。好ましくはZrOを0.5%以上含有させる。その含有量は、より好ましくは1%以上であり、さらに好ましくは1.5%以上であり、特に好ましくは2%以上である。しかし、ZrOを10.5%超含有すると発電効率が低下、すなわち後述するNa拡散量が低下し、失透温度が上昇し、またガラス基板の平均熱膨張係数が増大するおそれがある。その含有量は、9%以下が好ましく、7%以下であることがより好ましく、5%以下であることがさらに好ましく、4%以下であることが特に好ましい。
MgO、CaO、SrO及びBaO:MgO、CaO、SrO及びBaOは、ガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進させる点から合量(MgO+CaO+SrO+BaO)で4〜25%含有する。しかし、その合量が25%超であると、平均熱膨張係数が大きくなり、失透温度が上昇するおそれがある。その合量は、6%以上が好ましく、9%以上がより好ましい。また、その合量は、21%以下が好ましく、20%以下がより好ましく、18%以下がさらに好ましく、15%以下が特に好ましい。
CaO、SrO及びBaOは、SO処理後のガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比を0.7以下にする点から、合量で2%以上含有させる。CaO、SrO及びBaOは、合量で、好ましくは2.5%以上、より好ましくは3%以上、さらに好ましくは3.5%以上、特に好ましくは4%以上含有させる。CaO、SrO及びBaOの合量が2%より小さいと、ガラス溶解時の粘性を下げ、かつガラス転移温度を高くするためにはMgOを多く添加しなければならなくなり、失透温度が上昇するおそれがある。
しかしその合量が23%超であると、熱処理後のNa拡散量が低下するおそれがある。すなわちCaはNaとイオン半径が近いため、ガラス中でのNaの移動と競合しやすく、Naの拡散量を低下させやすいと考えられる。またBaはイオン半径が大きいためNaの移動を阻害しやすく、Naの拡散量を低下させやすいと考えられる。Srは、上記CaとBaの両方の性質も持つものと考えられる。従って、その合量は、19%以下が好ましく、15%以下がより好ましく、12%以下がさらに好ましく、10%以下が特に好ましい。
SrO及びBaOは、SO処理の際に、硫酸塩膜(SrSO、BaSO)を生成するが、これらは他の硫酸塩膜(MgSO、CaSO、NaSO、KSO)と比較し水に溶けにくいため、硫酸塩膜を洗浄する際に硫酸塩膜が除去されにくい。したがって、SrO及びBaOの合量は16%以下が好ましく、8%以下がより好ましく、6%以下がさらに好ましく、4%以下であることが特に好ましい。
NaO:NaOはCIGSの太陽電池の発電効率向上に寄与するための成分であり、必須成分である。また、ガラス溶解温度での粘性を下げ、溶解しやすくする効果があるので1〜11%含有させる。Naはガラス上に構成されたCIGSの光電変換層中に拡散し、発電効率を高めるが、その含有量が1%未満ではガラス基板上のCIGSの光電変換層へのNa拡散量が不十分となり、発電効率も不十分となるおそれがある。その含有量が2%以上であると好ましく、2.5%以上であるとより好ましく、3%以上であるとさらに好ましく、3.5%以上であると特に好ましい。
NaO含有量が11%を超えるとガラス転移点温度が低下し、平均熱膨張係数が大きくなり、または化学的耐久性が劣化する。その含有量が10%以下であると好ましく、9%以下であるとより好ましく、8%以下であるとさらに好ましい。その含有量が7%未満であると特に好ましい。
O:KOはNaOと同様の効果があるため、2〜21%含有させる。しかし、その含有量が21%超であると、発電効率が低下、すなわちNaの拡散が阻害され、後述するNa拡散量が低下し、また、ガラス転移点温度が低下し、平均熱膨張係数が大きくなるおそれがある。3%以上であるのが好ましく、4%以上であるのがより好ましく、5%以上であるのがさらに好ましく、6%以上であるのが特に好ましい。その含有量は、16%以下が好ましく、12%以下であることがより好ましく、10%以下であることが更に好ましく、8%以下であることが特に好ましい。
NaO及びKO:ガラス溶解温度での粘性を十分に下げるために、またCIGS太陽電池の発電効率向上のために、NaO及びKOの合計の含有量(NaO+KO)は、8〜22%とする。その合量は、好ましくは9%以上であり、より好ましくは10%以上、さらに好ましくは11%以上、特に好ましくは12%以上である。
しかし、その合量が22%超であるとTgが下がりすぎ、平均熱膨張係数が上がりすぎるおそれがある。その合量は、好ましくは20%以下であり、より好ましくは17%以下、さらに好ましくは16%以下、特に好ましくは15%以下である。
NaO/(CaO+SrO+BaO):NaO/(CaO+SrO+BaO)が1.2超であると、SO処理の際に、NaSOの析出反応が進む一方、CaSO、SrSO、BaSOの析出反応が進み難くなり、その結果、ガラス基板表層のCa、Sr、Baの離脱が起こり難くなる。NaO/(CaO+SrO+BaO)は、好ましくは1.0以下、より好ましくは0.9以下、さらに好ましくは0.8以下である。
NaO/(CaO+SrO+BaO)の下限値は、好ましくは0.1である。NaO/(CaO+SrO+BaO)が0.1より小さいと、NaO量が少なくなりすぎて電池効率が低下するおそれがある。NaO/(CaO+SrO+BaO)は、より好ましくは0.2以上、さらに好ましくは0.3以上、よりさらに好ましくは0.5以上である。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、本質的に母組成が、下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiOを50〜72%、Alを1〜15%、MgOを0〜10%、CaOを0.1〜11%、SrOを0〜13%、BaOを0〜11%、NaOを1〜11%、KOを2〜21%、ZrOを0〜10.5%、MgO+CaO+SrO+BaOを4〜25%、CaO+SrO+BaOを2〜23%、NaO+KOを8〜22%、NaO/(CaO+SrO+BaO)≦1.2、である。なかでも、下記酸化物基準の質量百分率表示で、ZrOを0.5〜9%、CaO+SrO+BaOを2.5〜19%、SrO+BaOを0〜16%、の組み合わせ、またはCaO+SrO+BaOを3〜15%、SrO+BaOを0〜8%、の組み合わせが好ましい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は本質的に上記母組成からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を、典型的には合計で5%以下含有してもよい。たとえば、耐候性、溶解性、失透性、紫外線遮蔽等の改善を目的に、B、ZnO、Li2O、WO3、Nb25、V25、Bi23、MoO3、P25等を含有してもよい。
また、ガラスの溶解性、清澄性を改善するため、ガラス中にSO3、F、Cl及び/又はSnO2を合量で2%以下含有するように、これらの原料を母組成原料に添加してもよい。
また、ガラスの化学的耐久性向上のため、ガラス中にZrO2、Y23、La23、TiO2及び/又はSnO2を合量で5%以下含有させてもよい。これらのうちY23、La23及びTiO2は、ガラスのヤング率向上にも寄与する。
また、ガラスの色調を調整するため、ガラス中にFe23等の着色剤を含有してもよい。このような着色剤の含有量は、合量で1%以下が好ましい。
また、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、環境負荷を考慮すると、As23及びSb23を実質的に含有しないことが好ましい。また、安定してフロート成形することを考慮すると、ZnOを実質的に含有しないことが好ましい。しかし、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、フロート法による成形に限らず、フュージョン法による成形により製造してもよい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の製造方法について説明する。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、ガラス基板の各原料成分が上記組成となるように用いて、従来の太陽電池用ガラス基板を製造する際と同様に、溶解・清澄工程、成形工程を実施して、その後の徐冷工程において下記に示すSO処理することで、得られる。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の製造方法において、徐冷工程で、本発明に係るSO処理を行うことが重要である。ガラス基板の組成が本発明で特定する範囲となるものとし、下記SO処理を行うことにより、上記ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比が0.7以下であって、上記ガラス基板表面と内部とのNaO含有量比が0.4〜1.1であって、上記ガラス基板表層のNaの熱処理前後比が1.1以上であるCIGS太陽電池用ガラス基板が得られる。
以下、本発明に係るSO処理について説明する。
従来のガラス基板製造方法において、徐冷工程でのガラス搬送中のガラス表面キズを防ぐために、SOガスを吹き付けて硫酸塩による保護膜を形成することが知られている。しかし、従来のSOガスの吹き付け条件は、ディスプレイ基板用銀電極を設ける際の黄色発色防止、硫酸塩膜の洗浄の容易性、設備の腐食防止等を考慮して、必要最小限の硫酸塩膜を設けること、すなわち、できるだけ軽度なSO処理を行うことが好ましかった。
しかし、本発明では、ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比が0.7以下であり、ガラス基板表面と内部とのNaO含有量比が0.4〜1.1であり、ガラス基板表層のNaの熱処理前後比が1.1以上となるように、ガラス組成を本願指定の組成範囲にて、ガラス表面温度500〜700℃、SO濃度0.01〜5(体積)%、処理時間1〜10分の条件でSO処理を行うことが好ましい。
SO処理は、ガラス表面温度が高いほど、SOガス濃度が高いほど、SO処理時間が長いほど、また、徐冷炉の密閉性が高いほど、ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比、及び、ガラス基板表面と内部とのNaO含有量比を容易に小さくすることができる。なお、徐冷炉内でSO処理しなくても、徐冷後のガラスを再加熱してSO処理してもよい。
また、ガラス表面温度が低い場合は、ガラス基板表面と内部とのNaO含有量比よりもガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比のほうが小さく成り難いため、所望の表面状態にできないおそれがある。
なお、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、アルカリ金属酸化物(NaO及びKO)を含有するアルカリガラス基板であるため、清澄剤としてSOを効果的に用いることができ、成形方法としてフロート法及びフュージョン法(ダウンドロー法)に適している。
太陽電池用のガラス基板の製造工程において、ガラスを板状に成形する方法としては、太陽電池の大型化に伴い、大面積のガラス基板を容易に、安定して成形できるフロート法を用いることが好ましい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の製造方法の好ましい態様について説明する。
初めに、原料を溶解して得た溶融ガラスを板状に成形する。例えば、得られるガラス基板が上記組成となるように原料を調製し、上記原料を溶解炉に連続的に投入し、1450〜1700℃程度に加熱して溶融ガラスを得る。そしてこの溶融ガラスを例えばフロート法を適用してリボン状のガラス板に成形する。
次に、リボン状のガラス板をフロート成形炉から引出した後に、徐冷炉において室温状態まで冷却する際にSO処理を行い、その後硫酸塩等の膜を洗浄除去し、切断後、CIGS太陽電池用ガラス基板を得る。
太陽電池の製造工程において、ガラス基板表面にMo等の電極膜やその下地層(例えばSiO等)等を成膜する際、ガラス基板表面が汚れていると正常に成膜できないおそれがある。そのため、ガラス基板を洗浄することが好ましい。
洗浄の方法は特には限定されないが、水による洗浄や洗浄剤による洗浄や酸化セリウムを含有したスラリーを散布しながらブラシ等でこする洗浄等が例示される。酸化セリウム含有のスラリーで洗浄した場合は、その後に塩酸や硫酸等の酸性洗浄剤等を用いて洗浄することが好ましい。
洗浄後のガラス基板表面には、汚れや上記酸化セリウム等の付着物によるガラス基板表面の凹凸等がないことが好ましい。凹凸があると、上記電極膜やその下地層等の成膜の際に、膜表面の凹凸や膜厚偏差や膜のピンホール等が生じ、発電効率が低下するおそれがあるためである。凹凸は高低差で20nm以下が好ましい。
ガラス基板表層のNaの量(原子%)及び/またはNaO含有量比は、CIGS太陽電池用ガラス基板の全域において均一であることが好ましい。ガラス基板表層のNaの量、及び/またはNaO含有量比が均一でないと、発電効率が低い部分が生じてしまうことになり、その部分に影響されて、太陽電池の発電効率が低下してしまうおそれがあるためである。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、CIGS太陽電池用のガラス基板、またカバーガラスとしても好適である。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をガラス基板に適用する場合、ガラス基板の厚さは3mm以下とするのが好ましく、より好ましくは2mm以下、さらに好ましくは1.5mm以下である。またガラス基板にCIGSの光電変換層を付与する方法は、光電変換層であるCIGS層の少なくとも一部がセレン化法で作製されるものが好ましい。本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いることで、光電変換層を形成する際の加熱温度を500〜650℃とすることができる。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をガラス基板のみに使用する場合、カバーガラス等は特に制限されない。カバーガラスの組成の他の例は、ソーダライムガラス等が挙げられる。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をカバーガラスとして使用する場合、カバーガラスの厚さは3mm以下とするのが好ましく、より好ましくは2mm以下、さらに好ましくは1.5mm以下である。また光電変換層を有するガラス基板にカバーガラスを組立てる方法は特に制限されない。本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いることで、加熱して組立てる場合その加熱温度を500〜650℃とすることができる。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をCIGSの太陽電池用のガラス基板及びカバーガラスに併用すると、平均熱膨張係数が同等であるため太陽電池組立時の熱変形等が発生せず好ましい。
次に、本発明に係る太陽電池について説明する。
本発明に係る太陽電池は、ガラス基板と、カバーガラスと、上記ガラス基板と上記カバーガラスとの間に配置される光電変換層を有する。そして、光電変換層の少なくとも一部がセレン化法により成膜されたCu−In−Ga−Seの光電変換層であり、上記ガラス基板と上記カバーガラスのうち少なくとも上記ガラス基板が、本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板である。
以下添付の図面を使用して本発明に係る太陽電池を詳細に説明する。なお本発明は添付の図面に限定されない。
図1は本発明に係る太陽電池の実施形態の一例を模式的に表す断面図である。
図1において、本発明に係る太陽電池(CIGS太陽電池)1は、ガラス基板5、カバーガラス19、及びガラス基板5とカバーガラス19との間にCIGS層9を有する。ガラス基板5は、上記で説明した本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板からなるのが好ましい。太陽電池1は、ガラス基板5上にプラス電極7であるMo膜の裏面電極層を有し、その上にCIGS層9である光電変換層を有する。CIGS層の組成はCu(In1-XGax)Se2が例示できる。xはInとGaの組成比を示すもので0<x<1である。
CIGS層9上には、バッファ層11としてのCdS(硫化カドミウム)またはZnS(亜鉛硫化物)層を介して、ZnOまたはITOの透明導電膜13を有し、さらにその上にマイナス電極15であるAl電極(アルミニウム電極)等の取出し電極を有する。これらの層の間の必要な場所には反射防止膜を設けてもよい。図1においては、透明導電膜13とマイナス電極15との間に反射防止膜17が設けられている。
またマイナス電極15上にカバーガラス19を設けてもよく、必要な場合はマイナス電極とカバーガラスとの間は、樹脂封止したり接着用の透明樹脂で接着される。カバーガラスは、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いてもよい。
本発明において、光電変換層の端部または太陽電池の端部は封止されていてもよい。封止するための材料としては、例えば本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板と同じ材料、そのほかのガラス、樹脂等が挙げられる。
なお添付の図面に示す太陽電池の各層の厚さは図面に限定されない。
以下、実施例及び製造例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例及び製造例に限定されない。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の実施例(例1〜5、7〜29、46〜48)及び比較例(例6、30〜45、49〜50)を示す。
表1〜6で表示した例1〜50の組成になるように各成分の原料を調合し、該ガラス100質量部に対し、硫酸塩をSO換算で0.4質量部原料に添加し、白金坩堝を用いて1600℃の温度で3時間加熱し溶解した。溶解にあたっては、白金スターラーを挿入し1時間攪拌し、ガラスの均質化を行った。次いで溶融ガラスを流し出し、板状に成形後冷却した。その後、30×30×1.1mmに研削加工し、30×30の両面を鏡面加工し、洗浄した。
その後、例1〜5、7〜34、46〜48のガラス基板について、上記フロート成形炉からの引出し及び徐冷炉での徐冷を模擬して、電気炉内で、下記に示すSO処理条件のいずれかでSO処理後、電気炉から取出して室温まで冷却した。なお、例6、35〜45、49、50のガラス基板は、SO処理を行っていない。
(SO処理条件A)
温度:600℃
SO濃度:2.5体積%
処理時間:5分
(SO処理条件B)
温度:580℃
SO濃度:2.5体積%
処理時間:5分
(SO処理条件C)
温度:600℃
SO濃度:0.2体積%
処理時間:10分
(SO処理条件D)
温度:650℃
SO濃度:0.5体積%
処理時間:5分
(SO処理条件E)
温度:550℃
SO濃度:2.5体積%
処理時間:5分
(SO処理条件F)
温度:600℃
SO濃度:0.5体積%
処理時間:5分
(SO処理条件G)
温度:600℃
SO濃度:0.2体積%
処理時間:5分
(SO処理条件H)
温度:600℃
SO濃度:2.5体積%
処理時間:10分
(SO処理条件I)
温度:600℃
SO濃度:2.5体積%
処理時間:5分
こうして得られたガラス基板の平均熱膨張係数(単位:×10-7/℃)、ガラス転移点温度(Tg)(単位:℃)、ガラス基板表面と内部とのNaO含有量比、ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比、ガラス基板表層のNaの熱処理前後比を測定し、下記表1〜表5に示した。
また、得られたガラス基板の発電効率(単位:%)、直列抵抗(Rser、単位:Ω)、フリーキャリア密度(単位:1015/cm)を評価し、下記表1〜表5に示した。以下に各物性の測定方法及び評価方法を示す。
(1)Tg:Tgは示差熱膨張計(TMA)を用いて測定した値であり、JIS R3103−3(2001年度)により求めた。
(2)50〜350℃の平均熱膨張係数:示差熱膨張計(TMA)を用いて測定し、JIS R3102(1995年度)より求めた。
(3)ガラス基板表面と内部とのNaO含有量比:蛍光X線測定装置((株)リガク製、RIX3000)を用いて、管球電圧50kV、電流50mAにて測定した。ガラス基板表面から5000nmまでの研削は、酸化セリウムの水スラリーで研削した。
(4)ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比:
ガラス基板表面からの深さ10、20、30、40、5000nmにおけるCa、Sr、Baの量(原子%)をX線光電子分光装置(アルバック・ファイ社製、ESCA5500)により測定した。ガラス基板表面から10〜40nmまでの研削は、C60イオンビームによりスパッタエッチングし、ガラス基板表面から5000nmまでの研削は、4000nmまで酸化セリウムの水スラリーで研削した後、C60イオンビームによりスパッタエッチングした。
ガラス基板表面からの深さ10、20、30、40nmにおけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)とガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)との比を求めた。
(5)ガラス基板表層のNaの熱処理前後比:
ガラス基板表面からの深さ10、20、30、40nmにおけるNaの量(原子%)をX線光電子分光装置(アルバック・ファイ社製、ESCA5500)により測定した。ガラス基板表面から10〜40nmまでの研削は、C60イオンビームによりスパッタエッチングした。
その後、ガラス基板を電気炉でN雰囲気中(無酸素状態を模擬)で毎分10℃で600℃まで昇温し、600℃で60分間保持後、毎分2℃で降温して室温まで徐冷した。
その後、当該ガラス基板表面からの深さ10、20、30、40nmにおけるNaの量(原子%)を上述の方法で測定した。
ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)のN雰囲気下600℃1時間の熱処理前後比を求めた。
(6)発電効率:上記で得られた例1〜50の太陽電池用ガラス基板を用いて、後述する手順で作製したCIGS太陽電池サンプルを、下記の手順にて測定した。
得られたガラス板を太陽電池のガラス基板に用い、以下に示すように評価用太陽電池を作製し、これを用いて発電効率について評価を行った。結果を表1に示す。
評価用太陽電池の作製について、図2A、図2B及び3、及びその符号を用いて以下に説明する。なお、評価用太陽電池の層構成は、図1の太陽電池のカバーガラス19及び反射防止膜17を有さない以外は、図1に示す太陽電池の層構成とほぼ同様である。
得られたガラス板を大きさ3cm×3cm、厚さ1.1mmに加工しガラス基板を得た。ガラス基板5aの上に、スパッタ装置にて、プラス電極7aとしてMo膜を成膜した。成膜は室温にて実施し、厚み500nmのMo膜を得た。
プラス電極7a(モリブデン膜)上にスパッタ装置にて、CuGa合金ターゲットでCuGa合金層を成膜し、続いてInターゲットを使用してIn層を成膜することで、In−CuGaのプリカーサ膜を成膜した。成膜は室温にて実施した。蛍光X線によって測定したプリカーサ膜の組成が、Cu/(Ga+In)比(原子比)が0.8、Ga/(Ga+In)比(原子比)が0.25となるように各層の厚みを調整し、厚み650nmのプリカーサ膜を得た。
プリカーサ膜を、RTA(Rapid Thermal Annealing)装置を用いてアルゴン及びセレン化水素混合雰囲気(セレン化水素はアルゴンに対し5体積%、以下、「セレン化水素雰囲気」という)及び硫化化水素混合雰囲気(硫化水素はアルゴンに対し5体積%、以下、「硫化水素雰囲気」という)にて加熱処理した。まず、第1段階としてセレン化水素雰囲気において500℃で10分保持を行い、CuとInとGaとを、Seと反応させた。その後、硫化水素雰囲気に置換した後、第2段階としてさらに580℃で30分保持してCIGS結晶を成長させることでCIGS層9aを得た。得られたCIGS層9aの厚みは2μmであった。
CIGS層9a上に、CBD(Chemical Bath Deposition)法にて、バッファ層11aとしてCdS層を成膜した。具体的には、まず、ビーカー内で、濃度0.01Mの硫酸カドミウム、濃度1.0Mのチオウレア、濃度15Mのアンモニア及び純水を混合させた。次に、CIGS層を上記混合液に浸し、ビーカーごと予め水温を70℃にしておいた恒温バス槽に入れ、CdS層を50〜80nm成膜した。
さらにCdS層上にスパッタ装置にて、透明導電膜13aを以下の方法で成膜した。まず、ZnOターゲットを使用してZnO層を成膜し、次に、AZOターゲット(Alを1.5wt%含有するZnOターゲット)を使用してAZO層を成膜した。各層の成膜は室温にて実施し、厚み480nmの2層構成の透明導電膜13aを得た。
透明導電膜13aのAZO層上にEB蒸着法により、U字型のマイナス電極15aとして膜厚1μmのアルミ膜を成膜した(U字の電極長(縦8mm、横4mm)、電極幅0.5mm)。
最後に、メカニカルスクライブによって透明導電膜13a側からCIGS層9aまでを削り、図2A及び図2Bに示すようなセル化を行った。図2Aは1つの太陽電池セルを上面から見た図であり、図2Bは図2A中のA−A’の断面図である。一つのセルは幅0.6cm、長さ1cmで、マイナス電極15aを除いた面積が0.51cmであり、図3に示すように、合計8個のセルが1枚のガラス基板5a上に得られた。
ソーラーシミュレータ(山下電装株式会社製、YSS−T80A)に、評価用CIGS太陽電池(上記8個のセルを作製した評価用ガラス基板5a)を設置し、あらかじめInGa溶剤を塗布したプラス電極7aにプラス端子を(不図示)、マイナス電極15aのU字の下端にマイナス端子16aをそれぞれ電圧発生器に接続した。ソーラーシミュレータ内の温度は25℃一定に温度調節機にて制御した。疑似太陽光を照射し、10秒後に、電圧を−1Vから+1Vまで0.015V間隔で変化させ、8個のセルのそれぞれの電流値を測定した。
この照射時の電流と電圧特性から発電効率を式(1)により算出した。8個のセルのうち最も効率の良いセルの値を、各ガラス基板の発電効率の値として表1に示す。試験に用いた光源の照度は0.1W/cmであった。
発電効率[%]=Voc[V]×Jsc[A/cm2]×FF[無次元]×100/試験に用いる光源の照度[W/cm2] 式(1)
発電効率は、開放電圧(Voc)と短絡電流密度(Jsc)と曲線因子(FF)の掛け算で求められる。
なお、開放電圧(Voc)は端子を開放した時の出力であり、短絡電流(Isc)は短絡した時の電流である。短絡電流密度(Jsc)はIscをマイナス電極を除いたセルの面積で割ったものである。
また最大の出力を与える点が最大出力点と呼ばれ、その点の電圧が最大電圧値(Vmax)、電流が最大電流値(Imax)と呼ばれる。最大電圧値(Vmax)と最大電流値(Imax)の掛け算の値を、開放電圧(Voc)と短絡電流(Isc)の掛け算の値で割った値が、曲線因子(FF)として求められる。上記の値を使用し、発電効率を求めた。
(7)直列抵抗(Rser)
直列抵抗(Rser)は素子を電流が流れる時の抵抗成分であり、光照射時に、電圧が開放電圧(Voc)と等しいときの、電圧に対する電流の勾配である。この関係を用いて直列抵抗を求めた。
(8)フリーキャリア密度
CIGS太陽電池セルのキャリア密度は、下記文献1に記載のDLCP(Drive Level Capacietance Profiling)法によって求めた。測定には、LCRメータ:E4980A(アジレントテクノロジー(株)製)を用い、測定周波数は11KHzとし、Vac+Vdc=−300〜+200[mV]の範囲で、測定を行い、Vac+Vcd=0[mV]のときの測定値を、キャリア密度とした。
また、CIGS太陽電池は、ライトソーキングによって、キャリア密度が変化することが知られているので、ライトソーキングによるキャリアを除くために、測定前に、分析チャンバーにて、50℃で30分以上保持してから、光を入れずにそのまま温度を下げ、測定を開始した。
CIGS太陽電池のキャリア密度は、20K〜300Kで、10Kずつ温度を上げながら測定した。約150K以下の低温側では、フリーキャリアのキャリア密度が測定される。キャリア密度は、約150Kから更に温度を上げていくと、深い準位の欠陥による立ち上がりにより、キャリア密度が急激に増えていく。そのため、フリーキャリア密度は、深い準位の欠陥によって測定されるキャリア密度が増加する前の、100Kでの測定値とした。
文献1: Heath, Jennifer T., J. David Cohen, William N. Shafarman. "Bulk and MetaStable Defects in CuIn(1-x)Ga(x)Se2 Thin Films Using Drive Level Capacitance Profiling." J. of Applied Physics. 95.3 (2004).
ガラス中のSO残存量は100〜500ppmであった。
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表1〜6より明らかなように、実施例(例1〜5、7〜29、46〜48)のガラス基板は、ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比が0.7以下であり、ガラス基板表面と内部とのNaO含有量比が0.4〜1.1であり、ガラス基板表層のNaの熱処理前後比が1.1以上であり、且つガラス転移点温度Tgが高く、発電効率も高く、シリーズ抵抗も低かった。したがって高い発電効率と高いガラス転移点温度とを両立させることできる。
また、実施例(例3)のガラス基板は、フリーキャリア密度が高く、結晶品質の向上が確認された。
また、実施例(例1〜5、7〜29、46〜48)のガラス基板は平均熱膨張係数が70×10−7〜100×10−7/℃であるので、本発明の太陽電池を組立てる際(具体的にはCIGSの光電変換層を有するガラス基板とカバーガラスとを加熱してはりあわせる際)、ガラス基板が変形しにくく安定した発電効率が得られやすい。
比較例(例30〜32)のガラス基板は、NaOの含有量が13.1%と多いため、Tgが580℃よりも低くなり、CIGS成膜時に基板が変形してしまい、電池製造に支障をきたすおそれがある。
また、比較例(例33、34)のガラス基板はNaO量が0.5%で少ないため、SO処理をしているが、ガラス基板表層の熱処理後のNa量が0.3原子%より小さくなり、発電効率が低かった。
また、表1及び5より明らかなように、SO処理をしていない比較例(例6、35〜43)のガラス基板は、各原料の組成は本発明の範囲内であるが、SO処理をしていないため、ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比が0.90〜1.00と大きく、またガラス基板表層のNaの熱処理前後比が0.78〜1.00と小さいため、発電効率が得られにくい。
比較例(例6)のガラス基板は、フリーキャリア密度が低く、結晶品質の向上が確認できなかった。
比較例(例44)のガラス基板は、NaO/(CaO+SrO+BaO)が1.62と大きく、またSO処理もしていないため、ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比が0.97と大きく、ガラス基板表層のNaの熱処理前後比が0.67と小さいため、発電効率が得られにくい。さらに、NaOの含有量が13.1%と多いため、Tgが580℃よりも低くなり、CIGS成膜時に基板が変形してしまい電池製造に支障をきたすおそれがある。
比較例(例45)のガラス基板は、SO処理をしていないため、ガラス基板表層のNaの熱処理前後比が0.66と小さく、またNaO量が0.5%で少ないため、発電効率も低い。
また、表6より明らかなように、実施例(46〜48)のガラス基板は、ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比が0.7以下であり、ガラス基板表面と内部とのNaO含有量比が0.4〜1.1であり、ガラス基板表層のNaの熱処理前後比が1.1以上であり、且つガラス転移点温度Tgが高く、発電効率も高かった。さらに、実施例(47、48)のガラス基板は、シリーズ抵抗も低かった。したがって高い発電効率と高いガラス転移点温度とを両立させることできる。
また、実施例(例47、48)のガラス基板は、フリーキャリア密度が高く、結晶品質の向上が確認された。一方、比較例(例49、50)のガラス基板は、ガラス基板表層と内部とのCa+Sr+Baの比が0.96以上と大きく、またSO処理もしていないため、発電効率も低い。
以上、本発明を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、本発明は、さらに別の態様でも実施でき、その主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加えうるものである。
本出願は、2012年1月25日付けで出願された日本特許出願(特願2012−012875)に基づいており、その全体が引用により援用される。
本発明のセレン化法により作製されるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、セレン化法により作製されるCIGS太陽電池用ガラス基板、カバーガラスとして好適であるが、他の太陽電池用基板やカバーガラスに使用することもできる。
また、本発明のセレン化法により作製されるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板を用いることで、発電効率のよい太陽電池を提供できる。
1 太陽電池
5、5a ガラス基板
7、7a プラス電極
9、9a CIGS層
11、11a バッファ層
13、13a 透明導電膜
15、15a マイナス電極
17 反射防止膜
19 カバーガラス

Claims (4)

  1. ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)と、の比(A/B)が0.7以下であって、
    ガラス基板表面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)と、ガラス基板表面から5000nmのガラスを取り去った面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)と、の比(a/b)が0.4〜1.1であり、
    ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)の、N雰囲気下600℃1時間の熱処理前Cと熱処理Dの(D/C)が1.1以上であり、
    ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiOを50〜72%、Alを1〜15%、MgOを0〜10%、CaOを0.1〜11%、SrOを0〜13%、BaOを0〜11%、NaOを1〜11%、KOを2〜21%、ZrOを0〜10.5%、 を0.5%以下、MgO+CaO+SrO+BaOを4〜25%、CaO+SrO+BaOを2〜23%、NaO+KOを8〜22%、NaO/(CaO+SrO+BaO)≦1.2、含有し、
    ガラス転移点温度が580℃以上、平均熱膨張係数が70×10−7〜100×10−7/℃である、
    Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
  2. 前記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)と、の比(A/B)が0.5以下であって、
    前記ガラス基板表面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)と、ガラス基板表面から5000nmのガラスを取り去った面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)と、の比(a/b)が0.5〜0.87であり、
    前記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)の、N雰囲気下600℃1時間の熱処理前Cと熱処理Dの(D/C)が1.5以上であり、
    ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、ZrOを0.5〜9%、CaO+SrO+BaOを2.5〜19%、SrO+BaOを0〜16%、含有する、
    請求項1に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
  3. 前記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)と、の比(A/B)が0.35以下であって、
    前記ガラス基板表面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)と、ガラス基板表面から5000nmのガラスを取り去った面から蛍光X線により測定したNaO含有量(質量%)と、の比(a/b)が0.6〜0.84であり、
    前記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)の、N雰囲気下600℃1時間の熱処理前Cと熱処理Dの(D/C)が2.0以上であり、
    ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、CaO+SrO+BaOを3〜15%、SrO+BaOを0〜8%、含有する、
    請求項1又は2に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
  4. ガラス基板と、カバーガラスと、前記ガラス基板と前記カバーガラスとの間に配置される、Cu−In−Ga−Seの光電変換層と、を有し、
    前記ガラス基板と前記カバーガラスのうち少なくとも前記ガラス基板が、請求項1〜3のいずれか一項に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板である太陽電池。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6044772B2 (ja) * 2013-01-18 2016-12-14 日本電気硝子株式会社 保護膜付きガラス基材
TW201544481A (zh) * 2014-05-21 2015-12-01 Asahi Glass Co Ltd 玻璃板
JPWO2015194569A1 (ja) * 2014-06-20 2017-04-20 旭硝子株式会社 ガラス板及びその製造方法
JP6508211B2 (ja) * 2014-09-19 2019-05-08 Agc株式会社 ガラス基板、その製造方法及びcigs太陽電池
JP6428344B2 (ja) * 2015-02-13 2018-11-28 Agc株式会社 ガラス基板
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WO2017047366A1 (ja) * 2015-09-18 2017-03-23 旭硝子株式会社 太陽電池用ガラス基板及び太陽電池

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11135819A (ja) * 1997-10-31 1999-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 化合物薄膜太陽電池
WO2008149858A1 (ja) * 2007-06-07 2008-12-11 Nippon Electric Glass Co., Ltd. 強化ガラス基板及びその製造方法
JPWO2010050591A1 (ja) * 2008-10-31 2012-03-29 旭硝子株式会社 太陽電池
KR20120104972A (ko) * 2009-12-04 2012-09-24 아사히 가라스 가부시키가이샤 유리판 및 그 제조 방법
JP5664891B2 (ja) * 2009-12-14 2015-02-04 日本電気硝子株式会社 ガラス基板
KR20130100244A (ko) * 2010-07-26 2013-09-10 아사히 가라스 가부시키가이샤 Cu-In-Ga-Se 태양 전지용 유리 기판 및 그것을 사용한 태양 전지

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