JP6048490B2 - Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板およびそれを用いた太陽電池 - Google Patents

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Description

本発明は、ガラス基板の間に光電変換層が形成されている太陽電池用のガラス基板、およびそれを用いた太陽電池に関する。より詳しくは、ガラス基板として典型的にはガラス基板とカバーガラスとを有し、ガラス基板上に11族、13族、16族元素を主成分とした光電変換層が形成されているCu−In−Ga−Se太陽電池用のガラス基板、およびそれを用いた太陽電池に関するものである。
カルコパイライト結晶構造を持つ11−13族、11−16族化合物半導体や立方晶系あるいは六方晶系の12−16族化合物半導体は、可視から近赤外の波長範囲の光に対して大きな吸収係数を有している。そのために、高効率薄膜太陽電池の材料として期待されている。代表的な例としてCu(In,Ga)Se(以下、「CIGS」または「Cu−In−Ga−Se」と記述する。)やCdTeがあげられる。
CIGS薄膜太陽電池(以下、「CIGS太陽電池」ともいう)では、安価であることと平均熱膨張係数がCIGS化合物半導体のそれに近いことから、ソーダライムガラスが基板として用いられ、太陽電池が得られている。
また、効率の良い太陽電池を得るため、高温の熱処理温度に耐えうるガラス材料の提案もされている(特許文献1〜5参照)。
日本国特開平11−135819号公報 日本国特開2010−118505号公報 日本国特開平8−290938号公報 日本国特開2008−280189号公報 日本国特開2010−267965号公報
ガラス基板にはCIGS光電変換層(以下、「CIGS層」ともいう)が形成されるが、特許文献1に開示されているように、発電効率の良い太陽電池を作製するにはより高温での熱処理が好ましく、ガラス基板には高温での熱処理に耐えうること、および、所定の平均熱膨張係数を満たすことが要求される。特許文献1では比較的徐冷点の高いガラス組成物が提案されているが、特許文献1に記載された発明が高い発電効率を有するとは必ずしもいえない。
特許文献2や4記載の発明では、歪点が高く所定の平均熱膨張係数を満たす太陽電池用ガラスが提案されている。しかし、特許文献2の課題は耐熱性の確保と生産性の改善であり、特許文献4の課題は表面品位の向上と耐失透性の改善であり、いずれも発電効率に関する課題を解決するものでは無い。そのため、特許文献2や4に記載された発明が高い発電効率を有するとは必ずしもいえない。
また、特許文献3では、特許文献2に近い高歪点ガラス基板の提案があるが、これはプラズマディスプレイ用途を主眼としているもので、課題が異なるものであり、特許文献3記載の発明が高い発電効率を有するとは必ずしも言えない。
さらに、特許文献4では、酸化ホウ素を多く含有し、歪点が高く所定の平均熱膨張係数を満たすガラスが提案されている。しかしながら、ガラス中にホウ素が多く存在すると、特許文献5に記載されているように、p型半導体であるCIGS層中にホウ素が拡散してドナーとして働き発電効率を低下させるおそれがある。さらに、ホウ素の除去設備が必要で、コスト増となりやすいという問題があった。
特許文献5では、ガラス中のホウ素を低減させているが、具体的に記載されているガラス組成では発電効率は不十分であり、さらなる発電効率の向上という点では改善の余地がある。
このようにCIGS太陽電池に使用されるガラス基板において高い発電効率、高いガラス転移点温度、所定の平均熱膨張係数、板ガラス生産時の溶解性、成形性、及び失透防止の特性をバランスよく有することは困難であった。
本発明は、高い発電効率、高いガラス転移点温度、所定の平均熱膨張係数、板ガラス生産時の溶解性、成形性、失透防止の特性をバランスよく有するCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板、およびそれを用いた太陽電池を提供することを目的とする。
本願発明者等は、上記課題を解決する上で鋭意検討した結果、Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板において、特定の組成とすることで高い発電効率、高いガラス転移点温度、所定の平均熱膨張係数、板ガラス生産時の溶解性、成形性、失透防止の特性をバランスよく有するCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板とすることができることを見出した。
すなわち、本発明は、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
SiOを45〜70%、
Alを11〜20%、
を0.5%以下
MgOを0〜6%、
CaOを4〜12%、
SrOを5〜20%、
BaOを0〜6%、
ZrOを0〜8%、
NaOを4.5〜10%、
Oを3.5〜15%、
MgO+CaO+SrO+BaOを10〜30%、
NaO+KOを8〜20%含有し、
NaO/KOが0.7〜2.0であり、
(2×NaO(含有質量%)−2×MgO(含有質量%)−CaO(含有質量%))×(NaO(含有質量%)/KO(含有質量%))が3〜22であり、
ガラス転移点温度が640〜700℃、平均熱膨張係数が60×10−7〜110×10−7/℃、密度が2.45〜2.9g/cm以下であるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板を提供する。
また、本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板においては、NaO/KOが0.9〜1.7であり、(2×NaO(含有質量%)−2×MgO(含有質量%)−CaO(含有質量%))×(NaO(含有質量%)/KO(含有質量%))が5〜12であることが好ましい。
また、本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板においては、粘度が10dPa・sとなる温度(T)が1230℃以下、粘度が10dPa・sとなる温度(T)が1620℃以下、前記Tと失透温度(T)との関係がT−T≧−30℃であることが好ましい。
さらに本発明は、これを用いた太陽電池を提供する。
本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、高い発電効率、高いガラス転移点温度、所定の平均熱膨張係数、板ガラス生産時の溶解性、成形性、及び失透防止の特性をバランスよく有することができ、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いることで発電効率の高い太陽電池を提供できる。
図1は、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いた太陽電池の実施形態の一例を模式的に表す断面図である。 図2Aは、実施例において評価用ガラス基板上に作製した太陽電池セルを示す。 図2Bは、図2Aに示した太陽電池セルのA−A’線に沿った断面図を示す。 図3は、図2Aに示す太陽電池セルを8個並べた、評価用ガラス基板上の評価用CIGS太陽電池を示す。
<本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板>
以下、本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板について説明する。
本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
SiOを45〜70%、
Alを11〜20%、
を0.5%以下、
MgOを0〜6%、
CaOを4〜12%、
SrOを5〜20%、
BaOを0〜6%、
ZrOを0〜8%、
NaOを4.5〜10%、
Oを3.5〜15%、
MgO+CaO+SrO+BaOを10〜30%、
NaO+KOを8〜20%含有し、
NaO/KOが0.7〜2.0であり、
(2×NaO(含有質量%)−2×MgO(含有質量%)−CaO(含有質量%))×(NaO(含有質量%)/KO(含有質量%))が3〜22であり、
ガラス転移点温度が640〜700℃、平均熱膨張係数が60×10−7〜110×10−7/℃、密度が2.45〜2.9g/cm以下であるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板を提供する。なお、Cu−In−Ga−Seを以下「CIGS」と記載する。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板のガラス転移点温度(Tg)は640℃以上、700℃以下であり、ソーダライムガラスのガラス転移点温度より高い。ガラス転移点温度(Tg)は高温におけるCIGS層の形成を担保するため645℃以上であるのが好ましく、650℃以上がより好ましく、655℃以上がさらに好ましい。ガラス転移点温度(Tg)は、溶解時の粘性を上げ過ぎないようにするために690℃以下とするのが好ましい。ガラス転移点温度(Tg)は、より好ましくは685℃以下、さらに好ましくは680℃以下である。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の50〜350℃における平均熱膨張係数は60×10−7〜110×10−7/℃である。当該平均熱膨張係数が60×10−7/℃未満または110×10−7/℃超ではCIGS層との熱膨張差が大きくなりすぎ、剥がれ等の欠点が生じやすくなる。当該平均熱膨張係数は、好ましくは65×10−7/℃以上、より好ましくは70×10−7/℃以上、さらに好ましくは75×10−7/℃以上である。また、プラス電極であるMo(モリブデン)膜との膨張差による反りを低減するために、当該平均熱膨張係数は、好ましくは100×10−7/℃以下、より好ましくは95×10−7/℃以下、更に好ましくは90×10−7/℃以下である。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、粘度が10dPa・sとなる温度(T)と失透温度(T)との関係がT−T≧−30℃である。T−Tが−30℃未満では、板ガラス成形時に失透が生じやすく、ガラス板の成形が困難になるおそれがある。T−Tは好ましくは−10℃以上、より好ましくは10℃以上、さらに好ましくは30℃以上、特に好ましくは50℃以上である。ここで、失透温度とは、ガラスを特定の温度で17時間保持するときに、ガラス表面および内部に結晶が生成しない最大温度を指す。
ガラス板の成形性、即ち、平坦性向上や生産性向上を考慮すると、Tは1230℃以下である。Tは1220℃以下が好ましく、1210℃以下がより好ましく、1200℃以下がさらに好ましく、1190℃以下が特に好ましい。
また、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、ガラスの溶解性、即ち、均質性向上や生産性向上を考慮して、粘度が10dPa・sとなる温度(T)を1620℃以下とする。Tは1590℃以下が好ましく、1570℃以下がより好ましく、1560℃以下が更に好ましく、1550℃以下が特に好ましい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板では、ヤング率が77GPa以上が好ましい。ヤング率が77GPaより小さいと、一定応力下でのひずみ量が大きくなり、製造工程での反りが発生し不具合を生じ正常に成膜できないおそれがある。また、製品での反りが大きくなり好ましくない。ヤング率は、より好ましくは77.5GPa以上、さらに好ましくは78GPa以上、特に好ましくは78.5GPa以上である。
また、ヤング率(以下、「E」ともいう)を密度(以下、「d」ともいう)で割った比弾性率(E/d)は、27.5GPa・cm/g以上が好ましい。比弾性率(E/d)が27.5GPa・cm/gより小さいと、ローラー搬送中、もしくは部分的な支持の場合に自重で撓んでしまい、製造工程で正常に流動させられないおそれがある。比弾性率(E/d)は、より好ましくは28GPa・cm/g以上である。なお、比弾性率(E/d)を27.5GPa・cm/g以上とするには、例えばヤング率が77GPa以上であれば、密度を2.8g/cm以下とし、ヤング率が79GPa以上であれば、密度を2.85g/cm以下とすればよい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、密度が2.45g/cm以上、2.9g/cm以下である。密度が2.9g/cmを超えると、製品質量が重くなり好ましくない。また、ガラス基板が脆くなり破壊しやすくなり好ましくない。密度はより好ましくは2.85g/cm以下、さらに好ましくは2.82g/cm以下、特に好ましくは2.8g/cm以下である。
また、密度が2.45g/cm未満であると、ガラス基板の構成元素として、原子番号の小さい軽元素しか使用することができず、所望の発電効率、ガラス粘度を得られないおそれがある。密度は、より好ましくは2.5g/cm以上、さらに好ましくは2.55g/cm以上、特に好ましくは2.6g/cm以上である。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板において上記組成(以下、「母組成」ともいう)に限定する理由は以下のとおりである。
なお、以下における百分率(%)は、特に断りがない限り、質量%を意味するものとする。
なお、本発明において「実質的に含有しない」とは、原料等から混入する不可避的不純物以外には含有しないこと、すなわち、意図的に含有させないことを意味する。
SiO:SiOはガラスの骨格を形成する成分で、その含有量が45質量%未満ではガラス基板の耐熱性および化学的耐久性が低下し、平均熱膨張係数が増大するおそれがある。その含有量は、好ましくは48%以上であり、より好ましくは50%以上であり、さらに好ましくは52%以上である。
しかし、その含有量が70%超であるとガラスの高温粘度が上昇し、溶解性が悪化する問題が生じるおそれがある。その含有量は、好ましくは65%以下であり、より好ましくは60%以下であり、さらに好ましくは58%以下である。
Al:Alはガラス転移点温度を上げ、耐候性(ソラリゼーション)、耐熱性および化学的耐久性を向上し、ヤング率を上げる。その含有量が11%未満では、ガラス転移点温度が低下するおそれがある。また平均熱膨張係数が増大するおそれがある。その含有量は、好ましくは11.5%以上であり、より好ましくは12%以上、さらに好ましくは12.5%以上である。
しかし、その含有量が20%超であると、ガラスの高温粘度が上昇し、溶解性が悪くなるおそれがある。また、失透温度が上昇し、成形性が悪くなるおそれがある。また発電効率が低下するおそれがある。その含有量は好ましくは18%以下、より好ましくは16%以下、さらに好ましくは15%以下、特に好ましくは14%以下である。
:Bは、溶解性を向上させる等のために0.5%まで含有してもよい。その含有量が0.5%を超えると、ガラス転移点温度が下がる、または平均熱膨張係数が小さくなるおそれがあり、CIGS層を形成するプロセスにとって好ましくない。また失透温度が上昇して失透しやすくなり板ガラス成形が難しくなるおそれがある。さらに、大規模な除去設備が必要となり、環境負荷が大きくなるため好ましくない。
また、p型半導体であるCIGS層中にB(ホウ素)が拡散してドナーとして働き、発電効率を低下させるおそれがあり好ましくない。その含有量は、好ましくは0.3%以下である。Bを実質的に含有しないことがより好ましい。
MgO:MgOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有してもよい。その含有量は、好ましくは0.05%以上であり、より好ましくは0.1%以上であり、さらに好ましくは0.2%以上である。
しかし、その含有量が6%超であると、失透温度が上昇するおそれがある。さらに、発電効率が低下するおそれがある。その含有量は、好ましくは4%以下、より好ましくは3%以下、更に好ましくは2.5%以下、特に好ましくは2.0%以下、一層好ましくは1.5%以下、最も好ましくは1.0%以下である。
CaO:CaOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので4%以上含有させる。その含有量は、好ましくは4.5%以上、より好ましくは4.8%以上、さらに好ましくは5%以上である。しかし、その含有量が12%超であると、ガラス基板の平均熱膨張係数が増大するおそれがある。また、Naがガラス基板中で移動しにくくなり発電効率が低下するおそれがある。その含有量は、好ましくは10%以下、より好ましくは8%以下、さらに好ましくは7%以下、特に好ましくは6%以下である。
SrO:SrOはガラスの溶解時の粘性を下げ、平均熱膨張係数を所望の値に維持し、溶解を促進する効果があるので、さらに、CIGS層へのNaの拡散を促進する効果があるので5%以上含有させる。その含有量は、好ましくは5.5%以上、より好ましくは6%以上、さらに好ましくは6.5%以上である。しかし、SrOを20%超含有するとガラス基板の平均熱膨張係数が増大し、密度が増大し、ガラスが脆くなるおそれがある。その含有量は18%以下が好ましく、15%以下であることがより好ましく、13%以下であることがさらに好ましく、12%以下であることが特に好ましい。一層好ましくは10%以下、最も好ましくは8%以下である。
BaO:BaOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有させることができる。その含有量は、好ましくは0.1%以上、より好ましくは0.2%以上、さらに好ましくは0.5%以上である。しかし、BaOを6%超含有すると発電効率が低下し、またガラス基板の平均熱膨張係数が増大し、密度が増大し、ガラスが脆くなるおそれがある。また、ヤング率が低下するおそれがある。その含有量は4%以下が好ましく、3%以下であることがより好ましく、2%以下であることが更に好ましい。
ZrO:ZrOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有させることができる。しかし、ZrOを8%超含有するとガラス基板の平均熱膨張係数が低下し、発電効率が低下し、また失透温度が上昇して失透しやすくなり板ガラス成形が難しくなる。その含有量は7%以下が好ましく、より好ましくは6%以下、さらに好ましくは5.5%以下である。また、その含有量は、好ましくは0.5%以上であり、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは1.5%以上である。
TiO:TiOは溶解性の向上等のために2%まで含有してもよい。その含有量が2%を超えると失透温度が上昇して失透しやすくなり板ガラス成形が難しくなる。その含有量は、好ましくは1%以下であり、より好ましくは0.5%以下である。
MgO、CaO、SrOおよびBaO:MgO、CaO、SrOおよびBaOは、ガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進させる点から合量(MgO+CaO+SrO+BaO)で10%以上含有する。それらの合量は13%以上が好ましく、15%以上がより好ましく、17%以上がさらに好ましい。しかし、それらの合量が30%を超えると失透温度が上昇し、成形性が悪くなる恐れがある。そのため、それらの合量は26%以下が好ましく、22%以下がより好ましく、20%以下がさらに好ましい。
NaO:NaOはCIGSの太陽電池の発電効率向上に寄与するための成分であり、必須成分である。また、ガラス溶解温度での粘性を下げ、溶解しやすくする効果があるので4.5〜10%含有させる。Naはガラス基板上に構成されたCIGS層中に拡散し、発電効率を高めるが、その含有量が4.5%未満ではガラス基板上のCIGS層へのNa拡散が不十分となり、発電効率も不十分となるおそれがある。その含有量が5%以上であると好ましく、含有量が5.5%以上であるとより好ましく、5.7%以上であるとさらに好ましい。
一方、NaO含有量が10%を超えると平均熱膨張係数が大きくなり、ガラス転移点温度が低下する傾向がある。または化学的耐久性が劣化する。または、ヤング率が低下するおそれがある。または、過剰なNaにより、Mo(モリブデン)膜を劣化させて発電効率の低下につながるおそれがある。その含有量が9%以下であると好ましく、8%以下であるとより好ましく、7%以下であるとさらに好ましい。
O:KOはNaOと同様の効果があるため、また、CIGS太陽電池の製造工程における高温でのCIGSの結晶成長において、CIGS組成の変化を抑えるはたらきがあり、それにより、短絡電流の低下が抑えられるため3.5〜15%含有させる。
しかし、その含有量が15%超であるとガラス転移点温度が低下し、平均熱膨張係数が大きくなるおそれがある。または、ヤング率が低下するおそれがある。その含有量は3.8%以上であるのが好ましく、4%以上であるのがより好ましく、4.2%以上であるのがさらに好ましい。また、その含有量は12%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましく、8%以下であることがさらに好ましい。
NaOおよびKO:ガラス溶解温度での粘性を十分に下げるために、またCIGS太陽電池の発電効率向上のために、NaOおよびKOの合量(NaO+KO)は8〜20%である。NaO+KOは、好ましくは8.5%以上であり、より好ましくは9%以上、さらに好ましくは9.5%以上である。
しかし、NaO+KOが20%超であるとガラス転移点温度が下がりすぎるおそれがある。また、平均熱膨張係数が小さくなるおそれがある。NaO+KOは18%以下が好ましく、16%以下であることがより好ましく、14%以下がさらに好ましい。
また、NaOとKOの比NaO/KOは0.7以上である。NaO量がKO量に対して少なすぎると、ガラス基板上のCIGS層へのNa拡散が不十分となり、発電効率も不十分となるおそれがある。NaO/KOは好ましくは0.8以上、より好ましくは0.9以上、さらに好ましくは1.0以上である。
しかし、NaO/KOが2.0超であるとガラス転移点温度が下がりすぎるおそれがある。また、前述のKOによる、CIGS太陽電池の製造工程における高温でのCIGSの結晶成長において、CIGS組成の変化を抑えて、短絡電流の低下を抑える効果が得られなくなるおそれがある。そのためNaO/KOは1.7以下が好ましく、1.5以下であることがより好ましく、1.4以下であることがさらに好ましい。
MgO、CaO、NaOおよびKO:NaOはCIGS層の特性向上に有効で、CaOはNaの拡散に悪影響を与える因子であり、MgOはCaの拡散に影響を与える因子であること、さらに、NaOがKOよりも多い状態のほうが混合アルカリ効果によりNaOの拡散が促進されることから、発電効率向上のためには(2×NaO(含有%)−2×MgO(含有%)−CaO(含有%))×(NaO(含有%)/KO(含有%))は3以上とする。この値が3より小さいと十分な発電効率が得られないおそれがある。この値は、より好ましくは4以上、さらに好ましくは4.5以上、特に好ましくは5以上、一層好ましくは6以上である。
また、NaOが多すぎる場合、耐熱性や化学的耐久性、耐候性が低下し、また前述のとおりKOが少ない場合もCIGS太陽電池の製造工程における高温でのCIGSの結晶成長において、CIGS組成の変化を抑えて、短絡電流の低下を抑える効果が得られなくなるおそれがあるために、(2×NaO(含有%)−2×MgO(含有%)−CaO(含有%))×(NaO(含有%)/KO(含有%))は22以下とする。この値は、より好ましくは18以下、さらに好ましくは14以下、特に好ましくは12以下、一層好ましくは9.5以下である。
本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
SiOを45〜70%、
Alを11〜20%、
を0.5%以下
MgOを0〜6%、
CaOを4〜12%、
SrOを5〜20%、
BaOを0〜6%、
ZrOを0〜8%、
NaOを4.5〜10%、
Oを3.5〜15%、
MgO+CaO+SrO+BaOを10〜30%、
NaO+KOを8〜20%含有し、
NaO/KOが0.9〜1.7であり、
(2×NaO(含有%)−2×MgO(含有%)−CaO(含有%))×(NaO(含有%)/KO(含有%))が5〜12であることが好ましい。
また、本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、上記組成であって、粘度が10dPa・sとなる温度(T)が1230℃以下、粘度が10dPa・sとなる温度(T)が1620℃以下、上記Tと失透温度(T)との関係がT−T≧−30℃であることがより好ましい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は本質的に上記母組成からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を、それぞれ1%以下、合計で5%以下含有してもよい。たとえば、耐候性、溶解性、失透性、紫外線遮蔽、屈折率等の改善を目的に、ZnO、LiO、WO、Nb、V、Bi、TiO、MoO、TlO、P等を含有してもよい場合がある。
また、ガラスの溶解性、清澄性を改善するため、ガラス基板中にSO、F、Cl、SnOをそれぞれ1%以下、合量で2%以下含有するように、これらの原料を母組成原料に添加してもよい。
また、ガラス基板の化学的耐久性向上のため、ガラス基板中にY、Laを合量で2%以下含有させてもよい。
また、ガラス基板の色調を調整するため、ガラス基板中にFe、TiO等の着色剤を含有してもよい。このような着色剤の含有量は、合量で1%以下が好ましい。
また、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、環境負荷を考慮すると、As、Sbを実質的に含有しないことが好ましい。また、安定してフロート成形することを考慮すると、ZnOを実質的に含有しないことが好ましい。しかし、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、フロート法による成形に限らず、フュージョン法による成形により製造してもよい。
<本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の製造方法>
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の製造方法について説明する。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を製造する場合、従来の太陽電池用ガラス基板を製造する際と同様に、溶解・清澄工程および成形工程を実施する。なお、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、アルカリ金属酸化物(NaO、KO)を含有するアルカリガラス基板であるため、清澄剤としてSOを効果的に用いることができ、成形方法としてフロート法およびフュージョン法(ダウンドロー法)に適している。
太陽電池用のガラス基板の製造工程において、ガラスを板状に成形する方法としては、太陽電池の大型化に伴い、大面積のガラス基板を容易に、安定して成形できるフロート法を用いることが好ましい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の製造方法の好ましい態様について説明する。 初めに、原料を溶解して得た溶融ガラスを板状に成形する。例えば、得られるガラス基板が上記組成となるように原料を調製し、上記原料を溶解炉に連続的に投入し、1500〜1700℃に加熱して溶融ガラスを得る。そしてこの溶融ガラスを例えばフロート法を適用してリボン状のガラス板に成形する。
次に、リボン状のガラス板をフロート成形炉から引出した後に、冷却手段によって室温状態まで冷却し、切断後、CIGS太陽電池用ガラス基板を得る。
<本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の用途>
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、CIGS太陽電池用のガラス基板、またカバーガラスとしても好適である。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をガラス基板に適用する場合、ガラス基板の厚さは3mm以下とするのが好ましく、より好ましくは2mm以下、さらに好ましくは1.5mm以下である。またガラス基板にCIGS層を付与する方法は特に制限されないが、セレン化法による方法が特に好ましい。本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いることで、CIGS層を形成する際の加熱温度を500〜700℃、好ましくは600〜650℃とすることができる。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をガラス基板のみに使用する場合、カバーガラス等は特に制限されない。カバーガラスの組成の他の例は、ソーダライムガラス等が挙げられる。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をカバーガラスとして使用する場合、カバーガラスの厚さは3mm以下とするのが好ましく、より好ましくは2mm以下、さらに好ましくは1.5mm以下である。またCIGS層を有するガラス基板にカバーガラスを組立てる方法は特に制限されない。本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いることで、加熱して組立てる場合、その加熱温度を500〜700℃、好ましくは600〜650℃とすることができる。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をCIGSの太陽電池用のガラス基板およびカバーガラスに併用すると、平均熱膨張係数が同等であるため太陽電池組立時の熱変形等が発生せず好ましい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、膨張係数がソーダライムガラスに近く、ガラス転移点が高いという特徴から、その他の太陽電池用の基板ガラス、またはカバーガラスに用いることも可能である。例えばCIGS太陽電池と同様に、光電変換層形成の際に500〜700℃の加熱温度が必要なCd−Te系化合物の太陽電池やCu−Zn−Sn−S系(SはSeまたはS)化合物の太陽電池の光電変換層を形成するガラス基板に好適に利用される。
<本発明におけるCIGS太陽電池>
次に、本発明における太陽電池について説明する。
本発明における太陽電池は、ガラス基板と、カバーガラスと、上記ガラス基板と上記カバーガラスとの間に、光電変換層として配置されるCIGS層と、を有する。そして、上記ガラス基板とカバーガラスとの少なくともガラス基板が、本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板である。
以下添付の図面を使用して本発明における太陽電池を詳細に説明する。なお本発明は添付の図面に限定されない。
図1は本発明における太陽電池の実施形態の一例を模式的に表す断面図である。
図1において、本発明におけるCIGS太陽電池1は、ガラス基板5、カバーガラス19、およびガラス基板5とカバーガラス19との間にCIGS層9を有する。ガラス基板5は、上記で説明した本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板からなるのが好ましい。太陽電池1は、ガラス基板5上にプラス電極7であるMo膜の裏面電極層を有し、その上にCIGS層9を有する。CIGS層の組成はCu(In1−xGax)Seが例示できる。xはInとGaの組成比を示すもので0<x<1である。
CIGS層9上には、バッファ層11としてのCdS(硫化カドミウム)層、ZnS(亜鉛硫化物)層、ZnO(酸化亜鉛)層、Zn(OH)(水酸化亜鉛)層、またはこれらの混晶層を有する。バッファ層を介して、ZnOまたはITO、またはAlをドープしたZnO(AZO)等の透明導電膜13を有し、さらにその上にマイナス電極15であるAl電極(アルミニウム電極)等の取出し電極を有する。これらの層の間の必要な場所には反射防止膜を設けてもよい。図1においては、透明導電膜13とマイナス電極15との間に反射防止膜17が設けられている。
またマイナス電極15上にカバーガラス19を設けてもよく、必要な場合はマイナス電極とカバーガラスとの間は、樹脂封止される、または接着用の透明樹脂で接着される。カバーガラスは、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いてもよい。
本発明においてCIGS層の端部または太陽電池の端部は封止されていてもよい。封止するための材料としては、例えば本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板と同じ材料、そのほかのガラス、樹脂が挙げられる。
なお添付の図面に示す太陽電池の各層の厚さは図面に限定されない。
以下、実施例および製造例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例および製造例に限定されない。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の実施例(例3、411、14、16、参考例(1、2、5、6、10、12、13、15)および比較例(例7〜9)を示す。なお表1および表2中のかっこは、計算値である。
表1および表2で表示した組成になるように各成分の原料を調合し、該ガラス基板用成分の母組成原料100質量部に対し、硫酸塩をSO換算で0.1質量部原料に添加し、白金坩堝を用いて1600℃の温度で3時間加熱し溶解した。溶解にあたっては、白金スターラーを挿入し1時間攪拌しガラスの均質化を行った。次いで溶融ガラスを流し出し、板状に成形後冷却し、ガラス板を得た。
こうして得られたガラス板の平均熱膨張係数(単位:×10−7/℃)、ガラス転移点温度Tg(単位:℃)、密度d(単位:g/cm)、ヤング率E(単位:GPa)、比弾性率E/d(単位:GPa・cm/g)、粘度が10dPa・sとなる温度(T)(単位:℃)、粘度が10dPa・sとなる温度(T)(単位:℃)、失透温度(T)(単位:℃)、発電効率を測定し、表1に示した。以下に各物性の測定方法を示す。
なお、実施例では、ガラス板について各物性を測定しているが、各物性は、ガラス板とガラス基板とで同じ値である。得られたガラス板を加工、研磨を施すことで、ガラス基板とすることができる。
(1)Tg:Tgは示差熱膨張計(TMA)を用いて測定した値であり、JIS R3103−3(2001年度)により求めた。
(2)50〜350℃の平均熱膨張係数:示差熱膨張計(TMA)を用いて測定し、JIS R3102(1995年度)より求めた。
(3)密度:ガラス板から切り出した、泡を含まない約20gのガラス塊をアルキメデス法によって測定した。
(4)ヤング率:厚み7〜10mmのガラスについて、超音波パルス法により測定した。
(5)粘度:回転粘度計を用いて測定し、粘度ηが10dPa・sとなるときの温度T(溶解性の基準温度)と、粘度ηが10dPa・sとなるときの温度T(成形性の基準温度)を測定した。
(6)失透温度(T):ガラス板から切り出したガラス塊5gを白金皿に置き、所定温度で17時間電気炉中で保持した。保持した後のガラス塊表面および内部に結晶が析出しない温度の最大値を失透温度とした。
(7)発電効率:得られたガラス板を太陽電池の基板に用い、以下に示すように評価用太陽電池を作製し、これを用いて発電効率について評価を行った。結果を表1に示す。
評価用太陽電池の作製について、図2A、図2B及び図3、およびその符号を用いて以下説明している。なお、評価用太陽電池の層構成は、図1の太陽電池のカバーガラス19および反射防止膜17を有さない以外は、図1に示す太陽電池の層構成とほぼ同様である。
得られたガラス板を大きさ3cm×3cm、厚さ1.1mmに加工し、ガラス基板を得た。ガラス基板5aの上に、スパッタ装置にて、プラス電極7aとしてMo(モリブデン)膜を成膜した。成膜は室温にて実施し、厚み500nmのMo膜を得た。
プラス電極7a(Mo膜)上にスパッタ装置にて、CuGa合金ターゲットでCuGa合金層を成膜し、続いてInターゲットを使用してIn層を成膜することで、In−CuGaのプリカーサ膜を成膜した。成膜は室温にて実施した。蛍光X線によって測定したプリカーサ膜の組成が、Cu/(Ga+In)比が0.8、Ga/(Ga+In)比が0.25となるように各層の厚みを調整し、厚み650nmのプリカーサ膜を得た。
プリカーサ膜をRTA(Rapid Thermal Annealing)装置を用いてアルゴンおよびセレン化水素混合雰囲気(セレン化水素はアルゴンに対し5体積%、「セレン雰囲気」と呼ぶ)にて加熱処理した。
条件Aとしては、まず、第1段階としてセレン雰囲気で500℃で10分保持を行い、CuおよびInおよびGaとSeとを反応させて、その後、第2段階として硫化水素雰囲気(硫化水素はアルゴンに対し5体積%)に置換した後、さらに580℃で30分保持してCIGS結晶を成長させることでCIGS層9aを得た。
また、条件Bとして、まず、第1段階としてセレン雰囲気で250℃で30分保持を行い、CuおよびInおよびGaとSeとを反応させて、その後、第2段階として硫化水素雰囲気(硫化水素はアルゴンに対し5体積%)に置換した後、さらに600℃で30分保持してCIGS結晶を成長させることでCIGS層9aを得た。
得られたCIGS層9aの厚みは条件A、条件Bともに2μmであった。
CIGS層9a上にCBD(Chemical Bath Deposition)法にて、バッファ層11aとしてCdS層を成膜した。具体的には、まず、ビーカー内で、濃度0.01Mの硫酸カドミウム、濃度1.0Mのチオウレア、濃度15Mのアンモニア、および純水を混合させた。次に、CIGS層を上記混合液に浸し、ビーカーごと予め水温を70℃にしておいた恒温バス槽に入れ、CdS層を50〜80nm成膜した。
さらにCdS層上にスパッタ装置にて、透明導電膜13aを以下の方法で成膜した。まず、ZnOターゲットを使用してZnO層を成膜し、次に、AZOターゲット(Alを1.5wt%含有するZnOターゲット)を使用してAZO層を成膜した。各層の成膜は室温にて実施し、厚み480nmの2層構成の透明導電膜13aを得た。
透明導電膜13aのAZO層上にEB蒸着法により、U字型のマイナス電極15aとして膜厚1μmのアルミ膜を成膜した(U字の電極長(縦8mm、横4mm)、電極幅0.5mm)。
最後に、メカニカルスクライブによって透明導電膜13a側からCIGS層9aまでを削り、図2A及び図2Bに示すようなセル化を行った。図2Aは1つの太陽電池セルを上面から見た図であり、図2Bは図2A中のA−A’の断面図である。一つのセルは幅0.6cm、長さ1cmで、マイナス電極15aを除いた面積が0.51cmであり、図3に示すように、合計8個のセルが1枚のガラス基板5a上に得られた。
ソーラーシミュレータ(山下電装株式会社製、YSS−T80A)に、評価用CIGS太陽電池(上記8個のセルを作製した評価用ガラス基板5a)を設置し、あらかじめInGa溶剤を塗布したプラス電極7aにプラス端子を(不図示)、マイナス電極15aのU字の下端にマイナス端子16aをそれぞれ電圧発生器に接続した。ソーラーシミュレータ内の温度は25℃一定に温度調節機にて制御した。疑似太陽光を照射し、60秒後に、電圧を−1Vから+1Vまで0.015V間隔で変化させ、8個のセルのそれぞれの電流値を測定した。
この照射時の電流と電圧特性から発電効率を下記式(1)により算出した。8個のセルのうち最も効率の良いセルの値を、各ガラス基板の発電効率の値として表1に示す。試験に用いた光源の照度は0.1W/cmであった。
発電効率[%]=Voc[V]×Jsc[A/cm2]×FF[無次元]×100/試験に用いる光源の照度[W/cm2] 式(1)
発電効率は、開放電圧(Voc)と短絡電流密度(Jsc)と曲線因子(FF)の掛け算で求められる。
なお、開放電圧(Voc)は端子を開放した時の出力であり、短絡電流(Isc)は短絡した時の電流である。短絡電流密度(Jsc)はIscをマイナス電極を除いたセルの面積で割ったものである。
また最大の出力を与える点が最大出力点と呼ばれ、その点の電圧が最大電圧値(Vmax)、電流が最大電流値(Imax)と呼ばれる。最大電圧値(Vmax)と最大電流値(Imax)の掛け算の値を、開放電圧(Voc)と短絡電流(Isc)の掛け算の値で割った値が曲線因子(FF)として求められる。上記の値を使用し、発電効率を求めた。
ガラス中のSO残存量は100〜500ppmであった。
なお、ガラス組成物中のSOの残存量は、ガラス板から切り出したガラスの塊を粉末状にして蛍光X線で評価し、測定した。
また、例10〜16のガラスは、意図的にFe及びTiOを含有させていないが、原料から不可避に混入した量は、ともに100〜500ppmであった。
なお、ガラス組成物中のFe及びTiOの含有量は、ガラス板から切り出したガラスの塊を粉末状にして蛍光X線で評価し、測定した。
Figure 0006048490
Figure 0006048490
表1および表2より明らかなように、実施例及び参考例(例1〜6、10〜16)のガラス板は、ガラス転移点温度Tgが640℃以上と高く、平均熱膨張係数が60×10-7〜110×10-7/℃であり、密度が2.9g/cm以下であり、太陽電池用ガラス基板の特性をバランスよく有している。また、実施例(例1)のガラス板は、条件Aおよび条件Bともに発電効率が高かった。
なお、例1以外のガラス板の発電効率も高い結果である。例1〜6、10〜16のガラスは、SrOが5〜20%、NaOが4.5〜10%、KOが3.5〜15%、NaO/KOが0.7〜2.0であり、(2×NaO(含有質量%)−2×MgO(含有質量%)−CaO(含有質量%))×(NaO(含有質量%)/KO(含有質量%))が3〜22であるため、発電効率が高い。
したがって高い発電効率、高いガラス転移点温度、及び所定の平均熱膨張係数をバランスよく有することができる。そのため、CIGS光電変換層がMo膜付ガラス基板から剥離することがなく、さらに本発明における太陽電池を組立てる際(具体的にはCIGSの光電変換層を有するガラス基板とカバーガラスとを加熱してはりあわせる際)、ガラス基板が変形しにくく発電効率により優れる。
一方、表1および表2が示すように比較例(例7)のガラス板はTgが低く、600℃以上での成膜時にガラス板が変形しやすい。さらにNaO/KO、(2NaO−2MgO−CaO)×(NaO/KO)が低いため、また、BaOが多いため発電効率が劣る。
比較例(例8)のガラス板はNaO/KO、(2NaO−2MgO−CaO)×(NaO/KO)が低いため、またSrOが少ないため発電効率が劣る。
比較例(例9)のガラス板はNaO/KO、(2NaO−2MgO−CaO)×(NaO/KO)が低く、SrOが少なく、MgOが多すぎるため発電効率が劣る。
本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、CIGSの太陽電池用のガラス基板として好適である。また、CIGS太陽電池用のカバーガラス、他の太陽電池用基板やカバーガラスに使用することもできる。
以上、本発明を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、本発明は、さらに別の態様でも実施でき、その主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加えうるものである。
本出願は、2012年3月7日付けで出願された日本特許出願(特願2012−050060)に基づいており、その全体が引用により援用される。
本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、高い発電効率、高いガラス転移点温度、所定の平均熱膨張係数、高いガラス強度、低いガラス密度、板ガラス生産時の溶解性、成形性、及び失透防止の特性をバランスよく有することができ、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いることで発電効率の高い太陽電池を提供できる。
1 太陽電池
5、5a ガラス基板
7、7a プラス電極
9、9a CIGS層
11、11a バッファ層
13、13a 透明導電膜
15、15a マイナス電極
17 反射防止膜
19 カバーガラス

Claims (8)

  1. 下記酸化物基準の質量百分率表示で、
    SiO52〜70%、
    Alを11〜14%、
    を0.5%以下、
    MgOを0〜6%、
    CaOを4〜12%、
    SrOを5〜20%、
    BaOを0〜%、
    ZrO4.5〜8%、
    NaOを4.5〜10%、
    Oを4.2〜15%、
    MgO+CaO+SrO+BaOを10〜30%、
    NaO+KOを8〜20%含有し、
    NaO/KOが0.7〜2.0であり、
    (2×NaO(含有質量%)−2×MgO(含有質量%)−CaO(含有質量%))×(NaO(含有質量%)/KO(含有質量%))が3〜22であり、
    ガラス転移点温度が640〜700℃、50〜350℃における平均熱膨張係数が60×10−7〜110×10−7/℃、密度が2.45〜2.9g/cm以下であるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
  2. NaO/KOが0.9〜1.7であり、
    (2×NaO(含有質量%)−2×MgO(含有質量%)−CaO(含有質量%))×(NaO(含有質量%)/KO(含有質量%))が5〜12である請求項1記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
  3. NaO/KOが1.0〜1.5であり、
    (2×NaO(含有質量%)−2×MgO(含有質量%)−CaO(含有質量%))×(NaO(含有質量%)/KO(含有質量%))が6〜9.5である請求項1又は2に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
  4. MgOを0〜2.5%、
    SrOを5.5〜18%
    含有する請求項1〜3のいずれか一項に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
  5. Alを11.5〜14%、
    MgOを0〜1.5%、
    CaOを4.5〜8%
    SrOを7〜15%、
    BaOを0〜2%
    含有する請求項1〜4のいずれか一項に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
  6. ガラス転移点温度が660〜690℃、50〜350℃における平均熱膨張係数が70×10−7〜95×10−7/℃、密度が2.6〜2.8g/cm以下である請求項1〜5のいずれか一項に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
  7. 粘度が10dPa・sとなる温度(T)が1230℃以下、粘度が10dPa・sとなる温度(T)が1620℃以下、前記Tと失透温度(T)との関係がT−T≧−30℃である請求項1〜6のいずれか一項に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
  8. ガラス基板と、カバーガラスと、前記ガラス基板と前記カバーガラスとの間に配置されるCu−In−Ga−Seの光電変換層と、を有し、
    前記ガラス基板と前記カバーガラスのうち少なくともガラス基板が、請求項1〜7のいずれか一項に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板である太陽電池。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201542485A (zh) * 2014-05-15 2015-11-16 Asahi Glass Co Ltd 太陽電池用玻璃基板及使用其之太陽電池
JP6742593B2 (ja) * 2015-01-05 2020-08-19 日本電気硝子株式会社 支持ガラス基板の製造方法及び積層体の製造方法
JP6428344B2 (ja) * 2015-02-13 2018-11-28 Agc株式会社 ガラス基板
GB201505091D0 (en) 2015-03-26 2015-05-06 Pilkington Group Ltd Glass
CN114873911B (zh) * 2019-01-18 2024-06-07 康宁股份有限公司 用于电子装置的低介电损耗玻璃
CN110342569B (zh) * 2019-06-24 2021-09-21 吉林大学 一种形貌可控的CuInS2纳米材料的高压制备方法
US12122714B2 (en) 2020-12-10 2024-10-22 Corning Incorporated Glass with unique fracture behavior for vehicle windshield
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Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5022532B2 (ja) * 1999-06-08 2012-09-12 旭硝子株式会社 基板用ガラスおよびガラス基板
JP4635297B2 (ja) * 1999-06-08 2011-02-23 旭硝子株式会社 基板用ガラスおよびガラス基板
JP2001348246A (ja) * 2000-06-01 2001-12-18 Asahi Glass Co Ltd 基板用ガラスおよびガラス基板
JP5757473B2 (ja) * 2010-07-26 2015-07-29 旭硝子株式会社 Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板及びそれを用いた太陽電池
JP5915892B2 (ja) * 2011-05-10 2016-05-11 日本電気硝子株式会社 薄膜太陽電池用ガラス板
KR101554532B1 (ko) * 2011-05-10 2015-09-21 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 박막 태양 전지용 유리판

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