JP6210136B2 - ガラス基板 - Google Patents

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Description

本発明は、ガラス基板に関し、詳しくはガラス基板の間に光電変換層が形成されている太陽電池用のガラス基板に関する。より詳しくは、ガラス基板として典型的にはガラス基板とカバーガラスとを有し、ガラス基板上に11族、13族、16族元素を主成分とした光電変換層が形成されているCu−In−Ga−Se太陽電池用のガラス基板に関するものである。
カルコパイライト結晶構造を持つ11−13族、11−16族化合物半導体や立方晶系あるいは六方晶系の12−16族化合物半導体は、可視から近赤外の波長範囲の光に対して大きな吸収係数を有している。そのために、高効率薄膜太陽電池の材料として期待されている。代表的な例としてCu(In,Ga)Se(以下、「CIGS」または「Cu−In−Ga−Se」と記述する。)やCdTeがあげられる。
CIGS薄膜太陽電池(以下、「CIGS太陽電池」ともいう)では、安価であることと平均熱膨張係数がCIGS化合物半導体のそれに近いこととから、ソーダライムガラスが基板として用いられ、太陽電池が得られている。
また、効率の良い太陽電池を得るため、高温の熱処理温度に耐えうるガラス材料の提案もされている(特許文献1参照)。
日本国特開平11−135819号公報
ガラス基板にはCIGS光電変換層(以下、「CIGS層」ともいう)が形成されるが、特許文献1に開示されているように、発電効率の良い太陽電池を作製するにはより高温での熱処理が好ましく、ガラス基板には高温での熱処理に耐えうることが要求される。特許文献1では比較的徐冷点の高いガラス組成物が提案されているが、特許文献1に記載された発明が高い発電効率を有するとは必ずしもいえない。
本発明者等はガラス基板のアルカリを所定範囲で増やすことによって発電効率を高くすることができることを発見したが、アルカリの増量はガラス転移点温度(T)の低下を招くという問題があった。
一方で、ガラス基板上のCIGS層の製膜中または製膜後の剥離を防止するためには、ガラス基板は、所定の平均熱膨張係数を有することが求められる。
さらに、CIGS太陽電池の製造および使用の観点から、ガラスの軽量化、また板ガラス生産時に失透しないことが求められる。
このようにCIGS太陽電池に使用されるガラス基板において高い発電効率、高いガラス転移点温度、所定の平均熱膨張係数、低いガラス密度、及び板ガラス生産時の失透防止の特性をバランスよく有することは困難であった。
本発明は、高い発電効率、高いガラス転移点温度、所定の平均熱膨張係数、低いガラス密度、及び板ガラス生産時の失透防止の特性をバランスよく有するガラス基板を提供することを目的とする。
本発明の一側面としては、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
SiOを60%超過、
ZrOを0.5〜5%、
NaOを4〜8%、
Al、MgO、CaOを含み、
MgO+CaO+SrO+BaOを13.1%以下、
NaO+KOを12.5%以下含有し、
SiO−Alが43%以上50%未満であり、
O/NaOが1.3以下であり、
ガラス転移点温度が640℃以上、密度が2.7g/cm以下である、ガラス基板を提供する。
本発明のガラス基板は、高い発電効率、高いガラス転移点温度、所定の平均熱膨張係数、低いガラス密度、及び板ガラス生産時の失透防止の特性をバランスよく有することができ、本発明のガラス基板を用いることで発電効率の高い太陽電池を提供できる。
図1は本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いた太陽電池の実施形態の一例を模式的に表す断面図である。 図2Aは、実施例において評価用ガラス基板上に作製した太陽電池セルを示す。 図2Bは、図2Aに示した太陽電池セルのA−A’線に沿った断面図を示す。 図3は、図2Aに示す太陽電池セルを8個並べた、評価用ガラス基板上の評価用CIGS太陽電池を示す。
<本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板>
以下、本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板について説明する。
本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
SiOを56〜63%、
Alを10〜15%、
を0〜1%、
MgOを2.5〜5%、
CaOを3〜8%、
SrOを0〜4%、
BaOを0〜5%、
ZrOを0.5〜5%、
TiOを0〜3%、
Laを0〜5%、
NaOを4〜8%、
Oを3〜8%、
NaO+KOを10〜15%含有し、
SiO−Alが43%以上50%未満であり、
O/NaOが1.3以下であり、
ガラス転移点温度が640℃以上、平均熱膨張係数が70×10−7〜90×10−7/℃、密度が2.7g/cm以下であるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板である。
なお、Cu−In−Ga−Seを以下「CIGS」と記載する。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板のガラス転移点温度(T)は640℃以上であり、ソーダライムガラスのガラス転移点温度より高い。ガラス転移点温度(T)は、高温におけるCIGS層の形成を担保するため650℃以上であるのが好ましく、655℃以上がより好ましく、660℃以上がさらに好ましい。一方、ガラス転移点温度(T)は、溶解時の粘性を上げ過ぎないようにするために750℃以下とするのが好ましい。
ガラス転移点温度(T)は、より好ましくは720℃以下、さらに好ましくは690℃以下である。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の50〜350℃における平均熱膨張係数は70×10−7〜90×10−7/℃である。当該平均熱膨張係数が70×10−7/℃未満または90×10−7/℃超では、CIGS層との熱膨張差が大きくなりすぎ、剥がれ等の欠点が生じやすくなる。当該平均熱膨張係数は、好ましくは85×10−7/℃以下である。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、粘度が10dPa・sとなる温度(T)と失透温度(T)との関係がT−T≧−30℃であることが好ましい。T−Tが−30℃未満では、板ガラス成形時に失透が生じやすく、ガラス板の成形が困難になるおそれがある。T−Tは、より好ましくは−20℃以上、さらに好ましくは−10℃以上、特に好ましくは0℃以上、より特に好ましくは10℃以上である。ここで、失透温度とは、ガラスを特定の温度で17時間保持するときに、ガラス表面および内部に結晶が生成しない最大温度を指す。
ガラス板の成形性、即ち、平坦性向上や生産性向上を考慮すると、Tは1250℃以下であることが好ましい。Tは1230℃以下がより好ましく、1210℃以下がさらに好ましい。
また、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、ガラスの溶解性、即ち、均質性向上や生産性向上を考慮して、粘度が10dPa・sとなる温度(T)を1700℃以下とすることが好ましい。Tは1650℃以下がより好ましく、1630℃以下がさらに好ましい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、密度が2.7g/cm以下である。密度が2.7g/cmを超えると、製品質量が重くなり好ましくない。密度は好ましくは2.65g/cm以下、より好ましくは2.6g/cm以下である。また、密度は、フロート法やフュージョン法等の通常の方法でガラス基板を製造するために、容易に製造可能なガラス組成範囲であることを考慮すると、2.4g/cm以上であることが好ましい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板において上記組成に限定する理由は以下のとおりである。
なお、以下における百分率(%)は、特に断りがない限り、質量%を意味するものとする。
また、本発明において「実質的に含有しない」とは、原料等から混入する不可避的不純物以外には含有しないこと、すなわち、意図的に含有させないことを意味し、これ以降、特に断りがなければ、具体的には、含有量が0.1%以下であることとする。
SiO:SiOはガラスの骨格を形成する成分で、その含有量が56%未満ではガラス基板の耐熱性および化学的耐久性が低下し、平均熱膨張係数が増大するおそれがある。その含有量は、好ましくは58%以上であり、より好ましくは60%以上である。
しかし、その含有量が63%超であると、ガラスの高温粘度が上昇し、溶解性が悪化する問題が生じるおそれがある。その含有量は、好ましくは62%以下である。
Al:Alはガラス転移点温度を上げ、耐候性(ソラリゼーション)、耐熱性および化学的耐久性を向上させる。その含有量が10%未満では、ガラス転移点温度が低下するおそれがある。また平均熱膨張係数が増大するおそれがある。その含有量は、好ましくは10.5%以上であり、より好ましくは11%以上である。
しかし、その含有量が15%超であると、ガラスの高温粘度が上昇し、溶解性が悪くなるおそれがある。
また、失透温度が上昇し、成形性が悪くなるおそれがある。また発電効率が低下するおそれがある。その含有量は、好ましくは13%以下である。
:Bは、溶解性を向上させる等のために1%まで含有してもよい。その含有量が1%を超えると、ガラス転移点温度が下がる、または平均熱膨張係数が小さくなる傾向があり、CIGS層を形成するプロセスにとって好ましくない。また失透温度が上昇して失透しやすくなり、板ガラス成形が難しくなる。その含有量は、好ましくは0.5%以下である。Bを実質的に含有しないことがより好ましい。
MgO:MgOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有させるが、その含有量が2.5%未満であると、ガラスの高温粘度が上昇し溶解性が悪化するおそれがある。また、化学的耐久性が悪くなり、密度が増大するおそれがある。その含有量は、好ましくは3%以上である。
しかし、その含有量が5%超であると、発電効率が低下するおそれがある。また失透温度が上昇するおそれがある。その含有量は、好ましくは5%以下、より好ましくは4.5%以下である。
CaO:CaOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有させるが、その含有量が3%未満では、ガラスの高温粘度が上昇し溶解性が悪化するおそれがある。その含有量は、好ましくは3%以上、より好ましくは4%以上である。しかし、その含有量が8%超であると、ガラスの平均熱膨張係数が増大するおそれがある。また、Naがガラス基板中で移動しにくくなり発電効率が低下するおそれがある。その含有量は、好ましくは6%以下である。
SrO:SrOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有させることができる。しかし、SrOを4%超含有すると、発電効率が低下し、また、ガラス基板の平均熱膨張係数が増大し、密度が増大するおそれがある。その含有量は、3%以下が好ましく、2%以下であることがより好ましい。
BaO:BaOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有させることができる。しかし、BaOを5%超含有すると、ガラス基板の平均熱膨張係数が増大し、また密度が増大するおそれがある。その含有量は、5%以下が好ましく、4%以下であることがより好ましい。
ZrO:ZrOはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があり、また耐熱性および化学的耐久性を向上させるので含有させるが、その含有量が0.5%未満では、ガラス転移点温度が低下するおそれがある。その含有量は、好ましくは0.5%以上であり、より好ましくは1%以上である。しかし、ZrOを5%超含有すると失透温度が上昇して失透しやすくなり板ガラス成形が難しくなる。または、密度が増大するおそれがある。その含有量は、好ましくは4.5%以下であり、より好ましくは3%以下である。
TiO:TiOは溶解性の向上等のために3%まで含有してもよい。その含有量が3%を超えると、失透温度が上昇して失透しやすくなり板ガラス成形が難しくなる。その含有量は、好ましくは2%以下であり、より好ましくは1%以下である。
La:Laはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有させることができる。また、耐熱性および化学的耐久性を向上させる。その含有量が5%を超えると、失透温度が上昇して失透しやすくなり板ガラス成形が難しくなる。また、Laの原料はコストを増大させるおそれがある。Laの含有量は、4%以下が好ましく、特にガラスの溶解時の粘性が十分低く、かつ耐熱性が要求される目的以外では、Laは実質的に含有されないことが好ましい。
NaO:NaOはCIGSの太陽電池の発電効率向上に寄与するための成分であり、必須成分である。また、ガラス溶解温度での粘性を下げ、溶解しやすくする効果があるので4〜8%含有させる。Naはガラス基板上に構成されたCIGS層中に拡散し、発電効率を高めるが、NaOの含有量が4%未満では、ガラス基板上のCIGS層へのNa拡散が不十分となり、発電効率も不十分となるおそれがある。その含有量が4.5%以上であると好ましく、5%以上であるとより好ましい。
NaOの含有量が8%を超えると、平均熱膨張係数が大きくなり、ガラス転移点温度が低下する傾向がある。または化学的耐久性が劣化する傾向がある。その含有量は、7.5%以下であると好ましく、7%以下であるとより好ましい。
O:KOはNaOと同様の効果があるため、3〜8%含有させる。その含有量が3%未満では、ガラス基板上のCIGS層へのK拡散が不十分となり、発電効率も不十分となるおそれがある。その含有量は3%以上であると好ましく、4%以上であるとより好ましい。
しかし、その含有量が8%超であると、ガラス転移点温度が低下し、平均熱膨張係数が大きくなるおそれがある。または、密度が増大するおそれがある。その含有量は6%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましい。
NaOおよびKO:ガラス溶解温度での粘性を十分に下げるために、またCIGS太陽電池の発電効率向上のために、NaOおよびKOの合量(NaO+KO)は10〜15%であり、好ましくは10.5%以上であり、より好ましくは11%以上である。しかし、NaO+KOが15%超であると、ガラス転移点温度が下がりすぎるおそれがある。NaO+KOは、13%以下が好ましく、12.5%以下であることがより好ましい。
また、NaO量とKO量の比(KO/NaO)は1.3以下である。NaO量がKO量に対して少ないと、ガラス上のCIGS層へのNa拡散が不十分となり、発電効率も不十分となるおそれがある。KO/NaOは、好ましくは1.25以下、より好ましくは1.2以下、さらに好ましくは1.1以下、特に好ましくは1.0以下である。しかし、ガラス基板上のCIGS層へのK拡散を確保し発電効率を確保する観点から、KO/NaOは、0.4以上であることが好ましく、より好ましくは0.5以上、さらに好ましくは0.6以上、特に好ましくは0.7以上である。
SiOおよびAl:上記NaOおよびKOの条件を満たした上でガラス転移点温度(T)を640℃以上にするためには、SiO量からAl量を引いた値(SiO−Al)は43%以上50%未満である。SiO−Alが50%以上ではガラス転移点温度が下がりすぎるおそれがある。SiO−Alは、好ましくは49.5%以下、より好ましくは49%以下である。しかし、SiO−Alが43%未満ではガラスの高温粘度が上昇し、溶解性が悪くなるおそれがある。また、失透温度が上昇し、成形性が悪くなるおそれがある。さらにNaおよびKの拡散量が抑制され、発電効率が不十分になるおそれがある。SiO−Alは、好ましくは45%以上であり、より好ましくは47%以上である。
本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
SiOを58〜62%、
Alを10〜13%、
を0〜0.5%、
MgOを3〜4.5%、
CaOを4〜6%、
SrOを0〜3%、
BaOを0〜4%、
ZrOを0.5〜3%、
TiOを0〜3%、
Laを0〜4%、
NaOを5〜7%、
Oを3〜6%、
NaO+KOを10〜13%含有し、
SiO−Alが43%以上50%未満であり、
O/NaOが1.2以下であり、
ガラス転移点温度が650℃以上、平均熱膨張係数が70×10−7〜90×10−7/℃、密度が2.7g/cm以下であるCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板が好ましい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は本質的に上記母組成からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を、それぞれ1%以下、合計で5%以下含有してもよい。たとえば、耐候性、溶解性、失透性、紫外線遮蔽、屈折率等の改善を目的に、ZnO、LiO、WO、Nb、V、Bi、MoO、TiO、P等を含有してもよい場合がある。
また、ガラスの溶解性や清澄性を改善するため、ガラス基板中にSO、F、Cl及び/又はSnOをそれぞれ1%以下、合量で2%以下含有するように、これらの原料を母組成原料に添加してもよい。
また、ガラス基板の化学的耐久性向上のため、ガラス基板中にY及び/又はLaを合量で2%以下含有させてもよい。
また、ガラス基板の色調を調整するため、ガラス基板中にFe等の着色剤を含有してもよい。このような着色剤の含有量は、合量で1%以下が好ましい。
また、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、環境負荷を考慮すると、As及びSbを実質的に含有しないことが好ましい。また、安定してフロート成形することを考慮すると、ZnOを実質的に含有しないことが好ましい。しかし、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、フロート法による成形に限らず、フュージョン法による成形により製造してもよい。
<本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の製造方法>
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の製造方法について説明する。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を製造する場合、従来の太陽電池用ガラス基板を製造する際と同様に、溶解・清澄工程および成形工程を実施する。なお、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、アルカリ金属酸化物(NaO及びKO)を含有するアルカリガラス基板であるため、清澄剤としてSOを効果的に用いることができ、成形方法としてフロート法およびフュージョン法(ダウンドロー法)に適している。
太陽電池用のガラス基板の製造工程において、ガラスを板状に成形する方法としては、太陽電池の大型化に伴い、大面積のガラス基板を容易に、安定して成形できるフロート法を用いることが好ましい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の製造方法の好ましい態様について説明する。
初めに、原料を溶解して得た溶融ガラスを板状に成形する。例えば、得られるガラス基板が上記組成となるように原料を調製し、上記原料を溶解炉に連続的に投入し、1550〜1700℃に加熱して溶融ガラスを得る。そしてこの溶融ガラスを例えばフロート法を適用してリボン状のガラス板に成形する。
次に、リボン状のガラス板をフロート成形炉から引出した後に、冷却手段によって室温状態まで冷却し、切断後、CIGS太陽電池用ガラス基板を得る。
<本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の用途>
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、CIGS太陽電池用のガラス基板、またカバーガラスとしても好適である。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をガラス基板に適用する場合、ガラス基板の厚さは3mm以下とするのが好ましく、より好ましくは2mm以下、さらに好ましくは1.5mm以下である。またガラス基板にCIGS層を付与する方法は特に制限されない。本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いることで、CIGS層を形成する際の加熱温度を500〜700℃、好ましくは570〜700℃とすることができる。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をガラス基板のみに使用する場合、カバーガラス等は特に制限されない。カバーガラスの組成の他の例は、ソーダライムガラス等が挙げられる。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をカバーガラスとして使用する場合、カバーガラスの厚さは3mm以下とするのが好ましく、より好ましくは2mm以下、さらに好ましくは1.5mm以下である。またCIGS層を有するガラス基板にカバーガラスを組立てる方法は特に制限されない。本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いることで、加熱して組立てる場合、その加熱温度を500〜700℃、好ましくは570〜700℃とすることができる。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は、膨張係数がソーダライムガラスに近く、ガラス転移点が高いという特徴から、その他の太陽電池用の基板ガラス、またはカバーガラスに用いることも可能である。例えばCIGS太陽電池と同様に、光電変換層形成の際に500〜700℃の加熱温度が必要なCd−Te系化合物の太陽電池やCu−Zn−Sn−S系(SはSeまたはS)化合物の太陽電池の光電変換層を形成するガラス基板に好適に利用される。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板をCIGSの太陽電池用のガラス基板およびカバーガラスに併用すると、平均熱膨張係数が同等であるため太陽電池組立時の熱変形等が発生せず好ましい。
<本発明におけるCIGS太陽電池>
次に、本発明における太陽電池について説明する。
本発明における太陽電池は、ガラス基板と、カバーガラスと、上記ガラス基板と上記カバーガラスとの間に、光電変換層として配置されるCIGS層と、を有する。そして、上記ガラス基板とカバーガラスとのうち少なくともガラス基板が、本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板である。
以下添付の図面を使用して本発明における太陽電池を詳細に説明する。なお本発明は添付の図面に限定されない。
図1は本発明における太陽電池の実施形態の一例を模式的に表す断面図である。
図1において、本発明におけるCIGS太陽電池1は、ガラス基板5、カバーガラス19、およびガラス基板5とカバーガラス19との間にCIGS層9を有する。ガラス基板5は、上記で説明した本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板からなるのが好ましい。太陽電池1はガラス基板5上にプラス電極7であるMo膜の裏面電極層を有し、その上にCIGS層9を有する。CIGS層の組成はCu(In1-XGa)Seが例示できる。xはInとGaの組成比を示すもので0<x<1である。
CIGS層9上には、バッファ層11としてのCdS(硫化カドミウム)層、ZnS(亜鉛硫化物)層、ZnO(酸化亜鉛)層、Zn(OH)(水酸化亜鉛)層、またはこれらの混晶層を有する。バッファ層11を介して、ZnOまたはITO、またはAlをドープしたZnO(AZO)等の透明導電膜13を有し、さらにその上にマイナス電極15であるAl電極(アルミニウム電極)等の取出し電極を有する。これらの層の間の必要な場所には反射防止膜を設けてもよい。図1においては、透明導電膜13とマイナス電極15との間に反射防止膜17が設けられている。
またマイナス電極15上にカバーガラス19を設けてもよく、必要な場合はマイナス電極とカバーガラスとの間は、樹脂封止したり接着用の透明樹脂で接着される。カバーガラスは、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いてもよい。
本発明においてCIGS層の端部または太陽電池の端部は封止されていてもよい。封止するための材料としては、例えば本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板と同じ材料、そのほかのガラス、樹脂が挙げられる。
なお添付の図面に示す太陽電池の各層の厚さは図面に限定されない。
本発明のCIGS太陽電池において、CIGS層の形成方法は特に限定されるものではない。Se以外の構成元素を含有成分としたプリカーサ膜を形成後、HSeガス雰囲気中で熱処理を行う、いわゆるセレン化法でもよいし、各構成元素を物理蒸着する蒸着法でもよいし、または、CIGS粉末を用いてインクを調整し、スクリーン印刷後に熱処理を施して焼結させる印刷法でもよい。
本発明のCIGS太陽電池において、セレン化法を用いる場合、第1段階の温度は400〜600℃であることが好ましく、保持時間は5〜20分が好ましい。また、第2段階の温度は570〜600℃であることが好ましく、保持時間は20〜60分が好ましい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いたCIGS太陽電池は、発電効率が15%以上であることが好ましく、より好ましくは16%以上、さらに好ましくは17%以上である。なお、ここでいう発電効率は、後述の実施例で用いた発電効率の評価方法によって得られる発電効率とする。
以下、実施例および製造例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例および製造例に限定されない。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板の実施例(例1〜10)および比較例(例11〜14)を示す。なお表1〜2中のかっこは、計算値である。
表1〜2で表示した組成になるように各成分の原料を調合し、該ガラス基板用成分の原料100質量部に対し、硫酸塩をSO換算で0.1〜0.3質量部、Feを0.1質量部原料に添加し、白金坩堝を用いて1600〜1650℃の温度で3時間加熱し溶解した。溶解にあたっては、白金スターラーを挿入し1時間攪拌しガラスの均質化を行った。次いで溶融ガラスを流し出し、板状に成形後冷却し、ガラス板を得た。
なお、表1〜2中、SOおよびFe以外の成分(ガラス基板用成分)は質量%換算であるが、SOおよびFeはガラス基板用成分の原料100質量部に対する量(質量部)である。
こうして得られたガラス板の平均熱膨張係数(単位:×10−7/℃)、ガラス転移点温度T(単位:℃)、粘度が10dPa・sとなる温度(T)(単位:℃)、粘度が10dPa・sとなる温度(T)(単位:℃)、失透温度(T)(単位:℃)、密度(単位:g/cm)、発電効率を測定し、表1〜2に示した。以下に各物性の測定方法を示す。
なお、実施例では、ガラス板について各物性を測定しているが、各物性は、ガラス板とガラス基板とで同じ値である。得られたガラス板を加工、研磨を施すことで、ガラス基板とすることができる。
(1)T:Tは示差熱膨張計(TMA)を用いて測定した値であり、JIS R3103−3(2001年度)により求めた。
(2)50〜350℃の平均熱膨張係数:示差熱膨張計(TMA)を用いて測定し、JIS R3102(1995年度)より求めた。
(3)粘度:回転粘度計を用いて測定し、粘度ηが10dPa・sとなるときの温度T(溶解性の基準温度)と、粘度ηが10dPa・sとなるときの温度T(成形性の基準温度)を測定した。
(4)失透温度(T):ガラス板から切り出したガラス塊5gを白金皿に置き、所定温度で17時間電気炉中で保持した。保持した後のガラス塊表面および内部に結晶が析出しない温度の最大値を失透温度とした。
(5)密度:泡を含まない約20gのガラス塊をアルキメデス法によって測定した。
(6)発電効率:得られたガラス板を太陽電池の基板に用い、以下に示すように評価用太陽電池を作製し、これを用いて発電効率について評価を行った。結果を表1〜2に示す。
評価用太陽電池の作製について、図2A、図2B及び図3、およびその符号を用いて以下説明している。なお、評価用太陽電池の層構成は、図1の太陽電池のカバーガラス19および反射防止膜17を有さない以外は、図1に示す太陽電池の層構成とほぼ同様である。
得られたガラス板を大きさ3cm×3cm、厚さ1.1mmに加工し、ガラス基板を得た。ガラス基板5aの上に、スパッタ装置にて、プラス電極7aとしてモリブデン膜を製膜した。製膜は室温にて実施し、厚み500nmのモリブデン膜を得た。
プラス電極7a(モリブデン膜)上にスパッタ装置にて、CuGa合金ターゲットでCuGa合金層を製膜し、続いてInターゲットを使用してIn層を製膜することで、In−CuGaのプリカーサ膜を製膜した。製膜は室温にて実施した。蛍光X線によって測定したプリカーサ膜の組成が、Cu/(Ga+In)比が0.8、Ga/(Ga+In)比が0.25となるように各層の厚みを調整し、厚み650nmのプリカーサ膜を得た。
プリカーサ膜をRTA(Rapid Thermal Annealing)装置を用いてアルゴンおよびセレン化水素混合雰囲気(セレン化水素はアルゴンに対し5体積%)にて加熱処理した。まず、第1段階として500℃で10分保持を行い、CuとInとGaとを、Seと反応させた。その後、第2段階として硫化水素雰囲気(硫化水素はアルゴンに対し5体積%)に置換した後、570〜600℃で30分保持してCIGS結晶を硫化させることでCIGS層9aを得た。得られたCIGS層9aの厚みは2μmであった。
CIGS層9a上にCBD(Chemical Bath Deposition)法にて、バッファ層11aとしてCdS層を製膜した。具体的には、まず、ビーカー内で、濃度0.01Mの硫酸カドミウム、濃度1.0Mのチオウレア、濃度15Mのアンモニア、および純水を混合させた。次に、CIGS層を上記混合液に浸し、ビーカーごと予め水温を70℃にしておいた恒温バス槽に入れ、CdS層を50〜80nm製膜した。
さらにCdS層上にスパッタ装置にて、透明導電膜13aを以下の方法で製膜した。まず、ZnOターゲットを使用してZnO層を製膜し、次に、AZOターゲット(Alを1.5wt%含有するZnOターゲット)を使用してAZO層を製膜した。各層の製膜は室温にて実施し、厚み480nmの2層構成の透明導電膜13aを得た。
透明導電膜13aのAZO層上にEB蒸着法により、U字型のマイナス電極15aとして膜厚1μmのアルミ膜を製膜した(U字の電極長(縦8mm、横4mm)、電極幅0.5mm)。
最後に、メカニカルスクライブによって透明導電膜13a側からCIGS層9aまでを削り、図2A及び図2Bに示すようなセル化を行った。図2Aは1つの太陽電池セルを上面から見た図であり、図2Bは図2A中のA−A’の断面図である。一つのセルは幅0.6cm、長さ1cmで、マイナス電極15aを除いた面積が0.5cmであり、図3に示すように、合計8個のセルが1枚のガラス基板5a上に得られた。
ソーラーシミュレータ(山下電装株式会社製、YSS−T80A)に、評価用CIGS太陽電池(上記8個のセルを作製した評価用ガラス基板5a)を設置し、あらかじめInGa溶剤を塗布したプラス電極7aにプラス端子を(不図示)、マイナス電極15aのU字の下端にマイナス端子16aをそれぞれ電圧発生器に接続した。ソーラーシミュレータ内の温度は25℃一定に温度調節機にて制御した。疑似太陽光を照射し、60秒後に、電圧を−1Vから+1Vまで0.015V間隔で変化させ、8個のセルのそれぞれの電流値を測定した。
この照射時の電流と電圧特性から発電効率を下記式(1)により算出した。8個のセルのうち最も効率の良いセルの値を、各ガラス基板の発電効率の値として表1〜2に示す。
試験に用いた光源の照度は0.1W/cmであった。
発電効率[%]=Voc[V]×Jsc[A/cm2]×FF[無次元]×100/試験に用いる光源の照度[W/cm2] 式(1)
発電効率は、開放電圧(Voc)と短絡電流密度(Jsc)と曲線因子(FF)の掛け算で求められる。
なお、開放電圧(Voc)は端子を開放した時の出力であり、短絡電流(Isc)は短絡した時の電流である。短絡電流密度(Jsc)はIscをマイナス電極を除いたセルの面積で割ったものである。
また最大の出力を与える点が最大出力点と呼ばれ、その点の電圧が最大電圧値(Vmax)、電流が最大電流値(Imax)と呼ばれる。最大電圧値(Vmax)と最大電流値(Imax)の掛け算の値を、開放電圧(Voc)と短絡電流(Isc)の掛け算の値で割った値が曲線因子(FF)として求められる。上記の値を使用し、発電効率を求めた。
ガラス板中のSO残存量は100〜500ppm、Fe残存量は0.1質量%であった。
なお、ガラス組成物中のSOの残存量は、ガラス板から切り出したガラスの塊を粉末状にして蛍光X線で評価し、測定した。
Figure 0006210136
Figure 0006210136
表1〜2より明らかなように、実施例(例1〜10)のガラス基板は、ガラス転移点温度Tが640℃以上と高く、平均熱膨張係数が70×10-7〜90×10-7/℃であり、密度が2.7g/cm以下と太陽電池用ガラス基板の特性をバランスよく有している。また、実施例(例1〜10)のガラス板は、T−Tが−30℃以上である。例2、例5及び例6のガラス板は、発電効率は17.2%、15.9%及び16.5%で高い。
なお、例2、例5及び例6以外のガラス板の発電効率も15%以上であった。
一方、比較例である例11のガラス板は、SiO−Alが50%超であり、ガラス転移点が640℃未満と耐熱性が不十分である。また、SrOおよびBaOの含有量が多いため、比重が増大した。
また、例12および例13のガラス板は、SiO−Alは50%未満であり、耐熱性は十分であるが、KO/NaOは1.3超とKOの割合が多いため、発電効率が不十分である。
さらに例14のガラス板はKO/NaOは1.3以下でNaOの割合が多くなっているが、SiO−Alが43%未満でAl量が多過ぎるため、NaおよびKの拡散量が抑制され、発電効率が不十分になったと考えられる。
本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、CIGSの太陽電池用のガラス基板、カバーガラスとして好適であるが、他の太陽電池用基板やカバーガラスに使用することもできる。
以上、本発明を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、本発明は、さらに別の態様でも実施でき、その主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加えうるものである。
本出願は、2012年1月20日付けで出願された日本特許出願(特願2012−009681)に基づいており、その全体が引用により援用される。
本発明のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、高い発電効率、高いガラス転移点温度、所定の平均熱膨張係数、低いガラス密度、及び板ガラス生産時の失透防止の特性をバランスよく有することができ、本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板を用いることで発電効率の高い太陽電池を提供できる。
1 太陽電池
5、5a ガラス基板
7、7a プラス電極
9、9a CIGS層
11、11a バッファ層
13、13a 透明導電膜
15、15a マイナス電極
17 反射防止膜
19 カバーガラス

Claims (3)

  1. 下記酸化物基準の質量百分率表示で、
    SiOを60%超過、
    Al を10%以上、
    ZrOを0.5〜5%、
    NaOを4〜8%、
    を0〜1%、
    MgOを4.5%以下、
    CaOを3%以上、
    SrOを0〜4%、
    BaOを0〜5%を含み
    NaO+KOを12.5%以下含有し、
    SiO−Alが43%以上50%未満であり、
    O/NaOが1.3以下であり、
    ガラス転移点温度が640℃以上、密度が2.7g/cm以下である、ガラス基板。
  2. 下記酸化物基準の質量百分率表示でO/NaOが1.2以下であり、ガラス転移点温度が650℃以上である、請求項1に記載のガラス基板。
  3. 密度が2.6g/cm以下である、請求項1または2に記載のガラス基板。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP5951152B1 (ja) * 2014-09-19 2016-07-13 旭硝子株式会社 ガラス基板及びcigs太陽電池
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JPH11135819A (ja) * 1997-10-31 1999-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 化合物薄膜太陽電池
JPH11180728A (ja) * 1997-12-22 1999-07-06 Central Glass Co Ltd ディスプレイ装置用基板ガラス組成物
JPH11310433A (ja) * 1998-04-27 1999-11-09 Central Glass Co Ltd 表示装置用基板ガラス
JP2008280189A (ja) * 2007-05-08 2008-11-20 Nippon Electric Glass Co Ltd 太陽電池用ガラス基板およびその製造方法
EP3392220A1 (en) * 2007-11-29 2018-10-24 Corning Incorporated Glasses having improved toughness and scratch resistance
JP5825703B2 (ja) * 2009-02-03 2015-12-02 日本電気硝子株式会社 化学強化ガラス
JP5699434B2 (ja) * 2009-04-02 2015-04-08 旭硝子株式会社 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
JP2010202514A (ja) * 2010-06-10 2010-09-16 Hoya Corp 携帯型液晶ディスプレイ用のガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いた携帯型液晶ディスプレイ
JP5915892B2 (ja) * 2011-05-10 2016-05-11 日本電気硝子株式会社 薄膜太陽電池用ガラス板
JP5737043B2 (ja) * 2011-07-29 2015-06-17 旭硝子株式会社 基板用ガラスおよびガラス基板
WO2013108790A1 (ja) * 2012-01-20 2013-07-25 旭硝子株式会社 Cu-In-Ga-Se太陽電池用ガラス基板およびそれを用いた太陽電池
SG10201605515PA (en) * 2012-05-16 2016-09-29 Hoya Corp Glass for magnetic recording medium substrate and usage thereof

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