JP6001667B2 - 基板処理装置及び液晶表示パネル製造装置 - Google Patents
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Description
図1は本発明にかかる基板処理装置の一例を示す概略斜視図である。図1に示すように、基板処理装置Aは、液晶表示パネルを構成する液晶ガラス基板1(以下基板1とする)に所定の処理(ここでは、アニール処理)を施す処理装置である。また、基板処理装置Aはアニール処理に限定されるものではなく、これ以外の処理を施すものであってもよいし、また、アニール処理と他の処理を同時又は順次行うことができるものであってもよい。
本発明にかかる基板処理装置の他の例について図面を参照して説明する。図3は本発明にかかる基板処理装置の他の例に用いられる基板支持部材の概略図である。図3に示す基板支持部材4は、外周面にらせん状の凹溝411を備えた静電気抑制部41を備えている。このような、らせん状の凹溝411を備えた基板支持部材4を用いることでも、基板支持部材4と基板1との接触面積を小さくすることができる。
本発明にかかる基板処理装置の他の例について図面を参照して説明する。図5は本発明にかかる基板処理装置のさらに他の例を示す図である。図5に示す基板処理装置Bは、基板支持部材5と、基板支持部材5を保持するフレーム6とを備えている。
本発明にかかる基板処理装置に用いられる基板支持部材の効果について実際に基板の帯電量を測定して確認した。実験では、実施例として石英の円柱の表面にブラスト処理を施した基板支持部材を用いたものを用い、比較例として石英の円柱を基板支持部材として用いたものとを用いた。
2 基板支持部材
21 静電気抑制部
3 フレーム
1 携帯端末
Claims (9)
- 外周面で基板を支持する棒状の基板支持部材と、前記基板支持部材を保持するフレームを備え、前記基板に所定の処理を施す基板処理装置であって、
前記基板支持部材は石英で形成されると共に、回転及び摺動しないようにフレームに保持されており、
前記基板支持部材が、少なくとも前記基板と接触する部分に表面粗さが0.8μm〜1.2μmの凹凸が形成された静電気抑制部を備え、
前記静電気抑制部を含む前記基板支持部材の外周面には、前記基板支持部材の周方向に連続して形成されている凹溝が、前記基板支持部材の長手方向に並んで複数個形成されていることを特徴とする基板処理装置。 - 外周面で基板を支持する棒状の基板支持部材を備え、前記基板に所定の処理を施す基板処理装置であって、
前記基板支持部材が、少なくとも前記基板と接触する部分に凹凸が形成された静電気抑制部を備え、
前記静電気抑制部を含む前記基板支持部材の外周面には、前記基板支持部材の長手方向に並び、前記基板支持部材の周方向に連続する螺旋状の凹溝が形成されていることを特徴とする基板処理装置。 - 前記凹凸の表面粗さが0.8μm〜1.2μmである請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記基板支持部材は、回転及び摺動しないようにフレームに保持されている請求項2または3に記載の基板処理装置。
- 前記静電気抑制部が前記基板支持部材の外周面全面に形成されている請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置。
- 少なくとも前記静電気抑制部が耐熱性を有する材料で形成されている請求項1から請求項5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記基板に対しアニール処理を行う請求項6に記載の基板処理装置。
- 前記凹凸は、基板支持部材の表面にブラスト処理を施して形成する請求項1から7のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記基板がガラス基板である請求項1から請求項8のいずれかに記載の基板処理装置を備えている液晶表示パネル製造装置。
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