CN108374161B - 一种遮蔽框及化学气相沉积装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种遮蔽框，该遮蔽框可与一承载台结合，以遮蔽位于承载台上基板的周围区域。此遮蔽框包括遮蔽外框和遮蔽内框，在遮蔽外框远离承载台的一面凸设有至少一限位装置，遮蔽内框通过该限位装置套设于遮蔽外框上，使遮蔽内框相对于遮蔽外框水平方向固定但竖直方向活动。本发明还公开一种化学气相沉积装置，包括上述遮蔽框。通过上述结构，实现遮蔽框与基板的贴合效果好。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种遮蔽框及化学气相沉积装置。
背景技术
现代的半导体器件需要从玻璃基板沉积和移除导电、半导电以及介电材料的多个层来形成特征，例如有机发光二极管(OLED)、晶体管、以及低介电常数的介电薄膜。玻璃基板处理技术包括化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、蚀刻等。因为沉积薄膜所需要的相对较低的处理温度、以及能够由使用等离子体处理带来的良好的薄膜质量，等离子体处理广泛地用在平板设备的生产中。
在处理期间，玻璃基板的边缘和背面以及腔室内部组件必须受到保护，以免沉积。典型地，沉积掩模设备(deposition masking device)或遮蔽框(shadow frame)在基板周围放置，以避免处理气体或等离子体到达基板的边缘和背面，并在处理期间将基板保持在支撑构件上。遮蔽框可设置在支撑构件上方的处理腔室中，所以，当支撑构件移动到一个较高的处理位置时，遮蔽框抬起并接触基板边缘部分。因此，遮蔽框覆盖基板上表面周围数毫米，从而避免基板上有边缘和背面的沉积。
在考虑使用遮蔽框的优点的情况下，目前的遮蔽框设计有一些缺点。现有技术中所使用的遮蔽框为铝制基底，表面进行阳极氧化，以达到绝缘的目的，因铝材较软，易发生形变，导致遮蔽不足产生膜晕或过度压迫玻璃基板，产生破片影响机台正常运行、生产。另在化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)制程时，温度分别为340/360、275/285摄氏度，铝材表面阳极在制程中因热膨胀系数不同，易造成阳极剥离现象，产生的粒子影响产品良率。
并且，在生产过程中,因适应的玻璃基板厚度不同(0.4～0.7mm)及机械框架受应力后产生形变，会导致产品异常，遮蔽框具有间隙，以使遮蔽框与基板边缘表面分离，若间隙过大，则气体或等离子体会到达基板的边缘和背面，发生电击击穿，若间隙过小，会压迫玻璃基板，导致基板破损。
发明内容
本发明的目的主要在于提供一种与基板实现贴合效果好的遮蔽框及化学气相沉积装置。
为实现前述发明目的，本发明提供一种遮蔽框，该遮蔽框可与一承载台结合，以遮蔽位于承载台上基板的周围区域。所述遮蔽框包括遮蔽外框和遮蔽内框，其特征在于，所述遮蔽外框远离所述承载台的一面凸设有至少一个限位装置，所述遮蔽内框通过所述限位装置套设于所述遮蔽外框上，使所述遮蔽内框相对于所述遮蔽外框水平方向固定但竖直方向活动。
在其中一实施例中，所述限位装置为定位销，所述遮蔽内框设有相对应的通孔，所述遮蔽内框通过所述通孔装设于所述定位销上。
在其中一实施例中，所述定位销为陶瓷材质，且与所述遮蔽外框连接。
在其中一实施例中，所述定位销顶部面凹陷呈内六角或十字形。
在其中一实施例中，所述定位销上部直径大于所述通孔直径，且装设有第一保护套，用以减轻所述定位销与所述遮蔽内框的撞击力度，所述定位销中间部位直径小于所述通孔直径，且包设有可拆卸的第二保护套。
在其中一实施例中，所述定位销下部直径小于所述通孔直径且设有外螺纹，所述遮蔽外框对应设有螺纹孔，所述定位销与所述遮蔽外框通过外螺纹与螺纹孔相连接。
在其中一实施例中，所述定位销等间距地间隔设置于所述遮蔽外框上。
在其中一实施例中，所述定位销与遮蔽内框配合的部位包设有可拆卸的保护套。
在其中一实施例中，所述遮蔽内框与所述遮蔽外框相邻的一侧为遮蔽内框外侧，远离所述遮蔽外框的一侧为遮蔽内框内侧，所述遮蔽内框外侧高于所述遮蔽内框内侧。
在其中一实施例中，所述遮蔽外框与所述遮蔽内框的相邻一侧为遮蔽外框内侧，所述遮蔽外框内侧底部设有用于支撑所述遮蔽内框的支撑部，所述支撑部宽度小于所述遮蔽内框宽度，使所述遮蔽内框一部分超出所述支撑部边缘。
本发明还公开一种化学气相沉积装置，包括上述遮蔽框。
本发明实施例在于提供一种遮蔽框及化学气相沉积装置，该遮蔽框可与一承载台结合，通过在遮蔽外框远离承载台的一面凸设有至少一限位装置，使遮蔽内框通过该限位装置套设于遮蔽外框上，并相对于遮蔽外框水平方向固定但竖直方向活动，从而使该遮蔽框与玻璃基板实现很好的贴合，进而避免对玻璃基板的过度压迫或间隙偏大导致的产品异常。
附图说明
图1为本发明实施例遮蔽框结构示意图；
图2为本发明实施例定位销结构示意图；
图3为本发明实施例遮蔽框局部剖视图；
图4为本发明实施例遮蔽外框结构示意图；
图5为本发明实施例遮蔽内框边框侧视图。
为了帮助理解，在可能的情况下，使用相同的附图标记来指示附图中共用的相同元件。能够预期在一个实施例中公开的元件可能被有利地使用于其它实施例中，而未特别引述。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术方式及功效，以下结合附图及实施例，对本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
图1为本发明实施例遮蔽框结构示意图，图2为本发明实施例定位销结构示意图。请参考图1和图2，本发明实施例遮蔽框，可与一承载台结合，用于液晶显示屏加工过程中遮蔽基板，所述遮蔽框包括遮蔽外框100和遮蔽内框200，所述遮蔽外框100远离所述承载台的一面凸设有一限位装置，所述遮蔽内框100通过所述限位装置套设于所述遮蔽外框100上，在本实施例中，所述限位装置包括定位销300，所述遮蔽内框200上设有相对应的通孔211，所述遮蔽内框200通过所述通孔211套设于遮蔽外框100的定位销300上，使所述遮蔽内框200相对于所述遮蔽外框100水平方向固定但竖直方向活动。
本实施例以用于处理腔室(如CVD腔室,PECVD腔室)的遮蔽框进行描述，且其遮蔽外框100和遮蔽内框200采用陶瓷材质(在其他实施例中，遮蔽外框100和遮蔽内框200采用铝或阳极氧化铝或陶瓷组合物材质)。
优选地，定位销300为陶瓷材质。定位销300等间距地间隔设置在遮蔽外框100上，定位销300顶部面凹陷，形成内六角，使定位销300便于拆卸(在其他实施例中，顶部面内陷呈十字形或其他便于拆卸的形状)，且上部位直径大于通孔211直径，用以限定所述遮蔽内框200上下活动的范围。定位销300的上部位与遮蔽内框200接触的一端设置相应的第一保护套310，以缓冲定位销300与遮蔽内框200的撞击力，并防止在实际工作中因碰撞产生的颗粒物质。定位销300与遮蔽内框200配合的中间部位直径小于通孔211直径，且中间部位包设有可拆卸的第二保护套，第二保护套为金属材质。定位销300与遮蔽外框100连接的下部位带外螺纹，遮蔽外框100上对应的设置有相配合的螺纹孔，便于定位销300的拆卸与更换。
在其他实施例中，定位销与所述遮蔽外框通过黏接或焊接或其他可拆卸结构固定连接。
通孔211间隔设于遮蔽内框200上，与定位销300相对应，相配合地，通孔211的内表面与定位销300进行相应的抛光处理，以降低工作过程中与定位销300的摩擦。
图3为本发明实施例遮蔽框局部剖视图，图4为本发明实施例遮蔽外框结构示意图，图5为本发明实施例遮蔽内框边框侧视图。请参考图1、图3-图5，遮蔽外框100呈矩形，四条边框底部均平坦。遮蔽外框100与遮蔽内框200相邻的一侧为遮蔽外框100内侧，远离遮蔽内框200的一侧为遮蔽外框100外侧。
本实施例遮蔽外框100以其中一条边框110为例，遮蔽外框100的边框110上表面由外侧向内侧倾斜。在其它实施例中，遮蔽外框100的边框上表面平坦。
遮蔽外框100边框110内侧与遮蔽内框200相对的面为第一内侧面113，第一内侧面113垂直平坦，与遮蔽内框200之间存在间隙，此间隙便于遮蔽内框200的安放，且不足以对基板造成影响。第一内侧面113底部设有用于支撑遮蔽内框200的支撑部111，支撑部111宽度小于遮蔽内框200的宽度，使遮蔽内框200一部分超出支撑部111边缘，满足遮蔽内框200遮蔽基板边缘的需要。支撑部111上表面间隔设有多个与定位销300相对应的螺纹孔112，使多个定位销300通过外螺纹与多个螺纹孔112固定连接在遮蔽外框100，便于定位销300的更换。
远离第一内侧面113且位于遮蔽外框100边框110外侧的面为第一外侧面114，第一外侧面114相对于第一内侧面113。
第一外侧面114的下部凹陷，凹陷部分呈“┒”形。凹陷部朝下的一面为支撑面115，用于工作时做CVD腔室支撑台支撑遮蔽框的接触面。
遮蔽内框200呈矩形，四条边框的表面设有多个与螺纹孔112相对应的通孔211，用于定位销300穿过此通孔211与螺纹孔112连接，从而使遮蔽内框200相对于遮蔽外框100上下活动而水平固定；其底部平坦，便于遮蔽内框200与遮蔽外框100的支撑部111及基板贴合。遮蔽内框200与遮蔽外框100相邻的一侧为外侧，远离的遮蔽外框100的一侧为内侧。
本实施例遮蔽内框200以其中一条边框210为例，遮蔽内框200边框210外侧与第一内侧面113相对的面为第二外侧面212，第二外侧面212垂直平坦，第二外侧面212与第一内侧面113等高。
远离第二外侧面212且位于遮蔽内框200边框210内侧的面为第二内侧面213，第二内侧面213相对于第二外侧面212，且第二外侧面212高于第二内侧面213，使遮蔽内框200边框210由外侧向内侧倾斜(本实施例中，第二外侧面212高为5mm，第二内侧面213为1mm)。
本发明遮蔽外框100和遮蔽内框200其余边框与上述结构相同或相似，因此本实施例未对其余边框做过多阐述，本领域人员因当可以想象。
遮蔽内框200经设置在遮蔽外框上定位销300穿过通孔211嵌入遮蔽外框100中，使遮蔽内框200相对遮蔽外框100水平方向固定但竖直方向活动。
本发明实施例还公开一种化学气相沉积装置，包括上述遮蔽框。
本发明设计巧妙，有许多优点。
1、通过将遮蔽内框置于遮蔽外框内，遮蔽框设有使遮蔽内框相对遮蔽外框水平方向固定但竖直方向活动的限位装置，可与基板实现贴合效果好，进而避免对玻璃基板的过度压迫或间隙偏大导致的产品异常。
2、通过将遮蔽内框外侧与遮蔽内框内侧设计成外高内低的梯形结构，使遮蔽内框定位销穿过的外侧重量大于内侧重量，便于遮蔽内框上下活动和降低遮蔽内框对基板的压力。
3、通过用陶瓷材质制造遮蔽框，即达到绝缘遮蔽作用，又可避免阳极剥离产生的等离子体。
需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者装置不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者装置所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者装置中还存在另外的相同要素。
以上仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种遮蔽框，可与一承载台结合，以遮蔽位于承载台上基板的周围区域，所述遮蔽框包括遮蔽外框和遮蔽内框，其特征在于，所述遮蔽外框远离所述承载台的一面凸设有至少一个限位装置，所述遮蔽内框通过所述限位装置套设于所述遮蔽外框上，使所述遮蔽内框相对于所述遮蔽外框水平方向固定但竖直方向活动。
2.如权利要求1所述的遮蔽框，其特征在于，所述限位装置包括定位销，所述遮蔽内框设有相对应的通孔，所述遮蔽内框通过所述通孔套设于所述定位销上。
3.如权利要求2所述的遮蔽框，其特征在于，所述定位销为陶瓷材质，且与所述遮蔽外框连接。
4.如权利要求3所述的遮蔽框，其特征在于，所述定位销顶部面凹陷呈内六角或十字形。
5.如权利要求3所述的遮蔽框，其特征在于，所述定位销上部直径大于所述通孔直径，且装设有第一保护套，用以缓冲所述定位销与所述遮蔽内框的撞击力，所述定位销中间部位直径小于所述通孔直径，且包设有可拆卸的第二保护套。
6.如权利要求3所述的遮蔽框，其特征在于，所述定位销下部直径小于所述通孔直径且设有外螺纹，所述遮蔽外框对应设有螺纹孔，所述定位销与所述遮蔽外框通过外螺纹与螺纹孔相连接。
7.如权利要求2所述的遮蔽框，其特征在于，所述定位销等间距地间隔设置于所述遮蔽外框上。
8.如权利要求1所述的遮蔽框，其特征在于，所述遮蔽内框与所述遮蔽外框相邻的一侧为遮蔽内框外侧，远离所述遮蔽外框的一侧为遮蔽内框内侧，所述遮蔽内框外侧高于所述遮蔽内框内侧。
9.如权利要求8所述的遮蔽框，其特征在于，所述遮蔽外框与所述遮蔽内框的相邻一侧为遮蔽外框内侧，所述遮蔽外框内侧底部设有用于支撑所述遮蔽内框的支撑部，所述支撑部宽度小于所述遮蔽内框宽度，使所述遮蔽内框一部分超出所述支撑部边缘。
10.一种化学气相沉积装置，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的遮蔽框。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: 215301, 1, Longteng Road, Kunshan, Jiangsu, Suzhou Applicant after: InfoVision Optoelectronics(Kunshan)Co.,Ltd. Address before: 215301, 1, Longteng Road, Kunshan, Jiangsu, Suzhou Applicant before: INFOVISION OPTOELECTRONICS (KUNSHAN) Co.,Ltd. |
|
| CB02 | Change of applicant information | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |