JP4594358B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
第1の解決手段のプラズマ処理装置は、プラズマ空間を囲う真空チャンバと、この真空チャンバ内に設置された電極と、この電極の表面に接着して設けられた静電チャックと、この静電チャックの周囲に設けられ(前記電極のうちの導体部分すなわち電極導体に対してもその外側面を部分的に囲むようになっ)た絶縁部材とを具備したプラズマ処理装置において、前記静電チャックの辺縁部が前記絶縁部材に接着されていることを特徴とする。
第2の解決手段のプラズマ処理装置は、上記の第1の解決手段のプラズマ処理装置であって、前記静電チャックの辺縁部が前記絶縁部材の表面上に達していることを特徴とする。
第3の解決手段のプラズマ処理装置は、上記の第2の解決手段のプラズマ処理装置であって、前記静電チャックは、(導電層とこれを挟む絶縁層などからなり、前記)絶縁層に挟まれた(前記)導電層が前記電極の静電チャック接着面と同じ又はそれを越えた広さを有しているものであることを特徴とする。
第5の解決手段のプラズマ処理装置は、プラズマ空間を囲う真空チャンバと、この真空チャンバ内に設置された電極と、この電極の(うち特に導体部の)表面に接着して設けられた静電チャックと、この静電チャックの周囲に設けられた絶縁部材と、前記電極の導体部および前記絶縁部材の周囲に設けられた絶縁性覆部とを具備したプラズマ処理装置において、前記電極の導体部の外側面および前記絶縁部材の外側面(の一部又は全部)を覆う絶縁性シート部材が設けられていることを特徴とする。
2 真空チャンバ本体部(真空チャンバ)
2a 吸引口
3 真空チャンバ蓋部(真空チャンバ)
4 可変バルブ(可変絞り、圧力制御機構、圧力制御手段)
4a ゲートバルブ(仕切弁)
5 真空ポンプ
11 アノード部(平行平板の一方、上部電極)
11a アッパーサポート
13 プラズマ処理空間
31 RF電源(高周波電源)
31a 給電線(導電線)
40 カソード部(平行平板の他方、下部電極、被処理物乗載用電極)
40a ローアーサポート
41 電極導体(板状良導体、電極の導体部)
41b 上面(上向面、表面、静電チャック接着面)
41c 小径外周面(外側面)
41d 大径外周面(外側面)
42 絶縁カバー部(電極導体周囲の絶縁性覆部)
43 シールドカバー(接地部)
44 絶縁リング(静電チャック周囲の絶縁部材、着脱部、第1部材)
44a 大径内周面(内腔面、内口側面)
44b 中段上向面(静電チャック接着面・到達面、内口上面)
44c 小径内周面(内腔面、内口側面)
44d 外周面(外側面)
45 絶縁テープ(プラズマ耐性フィルム、間隙内の絶縁性シート部材)
46 絶縁リング(静電チャック周囲の絶縁部材、固定部、第2部材)
50 静電チャック
51 バイアス電源(直流高電圧電源)
51a 給電線(導電線)
51b 給電孔(導電線絶縁部)
52 上部絶縁層(基板側絶縁層、被処理物乗載側絶縁層)
53 導電層(中間層)
54 下部絶縁層(電極側絶縁層、電極導体接着側絶縁層)
55 中間接着層(導電層と上下絶縁層との接着層)
55a 中間接着層辺縁部(静電チャック拡大部)
56 下部接着層(静電チャックと電極導体との接着層)
56a 下部接着層辺縁部(静電チャック拡大部)
57 絶縁性接着剤(プラズマ耐性接着剤、静電チャック側周面被覆部材)
58 欠損孔(欠落穴、プラズマ破損部)
Claims (3)
- プラズマ空間を囲う真空チャンバと、前記真空チャンバ内に設置された電極と、前記電極の上面に設けられた静電チャックと、前記電極の外周面上部を囲んで設けられた絶縁部材と、前記電極および前記絶縁部材の周囲に設けられた絶縁性覆部とを具備したプラズマ処理装置において、
前記電極の外周面および前記絶縁部材の外周面と前記絶縁性覆部との間に絶縁性シート部材が設けられており、
前記絶縁部材は前記電極と隣接し、かつ前記電極の上面と同一高さである上向面を備え、
前記静電チャックの外周面は前記上向面上に達しており、
絶縁性接着剤が前記静電チャックの外周面から前記絶縁部材の上向面にかけて塗布されている
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記絶縁部材は、中央開口部を有する第1部材および第2部材を備え、
前記第1部材は、内周面が前記静電チャックの外周面より広く、
前記第2部材は、内周面が前記静電チャックの外周面より狭く、且つ外周面が前記第1部材の内周面と嵌合可能に形成された
ことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記第2部材の下端部分が前記第1部材の下に鍔状に張り出して形成されており、
前記電極の外周面および前記第2部材の外周面と前記絶縁性覆部との間に前記絶縁性シート部材が設けられている
ことを特徴とする請求項2に記載のプラズマ処理装置。
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JP2007211105A JP4594358B2 (ja) | 2007-08-13 | 2007-08-13 | プラズマ処理装置 |
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Citations (4)
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2007
- 2007-08-13 JP JP2007211105A patent/JP4594358B2/ja not_active Expired - Lifetime
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