JP5953624B2 - Si/C複合体の製造方法 - Google Patents
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Description
i)下記化学式(1)で表される芳香族含有シリコンアルコキシド化合物を有機溶媒と共に混合し、SiO2/C複合体を形成する段階;
ii)前記段階i)から得たSiO2/C複合体をアルカリ金属またはアルカリ土金属と混合した後、これを非活性雰囲気で熱処理して前記シリカを還元させる段階;及び
iii)前記段階ii)から得た熱処理結果物を酸処理して酸化物を除去する段階を含むSi/C複合体の製造方法を提供する:
R1は、フェニル基であり、
R2は、C1からC4のアルコキシ基であり、
nは、1から3である。
R1は、フェニル基であり、
R2は、C1からC4のアルコキシ基であり、
nは、1から3である。
<段階(i):SiO2/C複合体の製造>
3000mlのフラスコにフェニルトリエトキシシラン(PTES)(0.82g):テトラエチルオルトシリケート(TEOS)(41.81g)を1:59モル比で混合してエタノール1400gと共に混合した。この混合物を大気雰囲気下、常温で5分間撹拌した後、34%のアンモニア水と超純水蒸留水(deionized water:DIW)の混合物をゆっくり滴加した後、3時間の間撹拌した後、ゲル化が起こるまで常温で反応させる。このゲル化物を乾燥してC/SiO2の割合が0.1であるSiO2/C複合体を製造した。
製造例2
製造例3
製造例4
製造例5
製造例6
製造例7
実施例1:C/Siの割合が0.1であるSi/C複合体の製造
前記製造例1で製造されたSiO2/C複合体0.1gとマグネシウム粒子0.085gを混合し、アルゴン雰囲気下、約650℃で約2時間30分間熱処理してSi/C+MgOを得た。
前記段階(ii)から得たSi/C+MgOを0.1Mの塩酸水溶液で24時間撹拌した後、これを濾過紙で濾過してMgOを除去し、これを80℃のオーブンで乾燥してC/Siの割合が0.1であるSi/Cを得た。
実施例2:C/Siの割合が1であるSi/C複合体の製造
実施例3:C/Siの割合が2であるSi/C複合体の製造
実施例1から3で製造されたSi/C及び黒鉛を、14:86の重量比で混合して負極活物質として用いた。前記負極活物質、導電剤としてアセチレンブラック、バインダーとしてスチレン−ブタジエンゴム(SBR)、増粘剤としてカルボキシメチルセルロース(CMC)を96:1:2:1の重量比で混合した後、これらを溶媒である水(H2O)と共に混合して均一な負極活物質スラリーを製造した。
リチウム二次電池の製造(コイン型半電池)
比較例1
比較例2
実験例1
前記製造例1から7及び実施例で製造された複合体をそれぞれSEM顕微鏡写真で確認し、その結果を図4及び図5に示した。
実験例2
前記製造例1から7及び実施例3で製造された複合体をそれぞれ(炭素/硫黄含量分析器、CS analyzer)を利用して炭素の含量を測定し、その結果を図4及び図5に示した。
実験例3
実施例4と6、及び比較例1で製造された負極の電極伝導度を、面抵抗測定器を利用して測定した。その結果を下記表1に示した。
実験例4
前記実施例5と6、及び比較例2で製造されたコイン型半電池の充放電サイクルに伴う容量を調べるため、実施例5と6、及び比較例2で製造されたコイン型半電池を23℃で定電流/定電圧(CC/CV)条件で4.2V、1/41Cまで0.5Cで充電した後、定電流(CC)条件で1.5Vまで0.5Cで放電し、容量を測定した。これを1から50サイクルで繰り返して行った。その結果を図6に示し、1回目のサイクルに比べた50回目のサイクルの相対容量を下記表2に示した。
Claims (18)
- i)下記化学式(1)で表される芳香族含有シリコンアルコキシド化合物を有機溶媒と共に混合してSiO2/C複合体を形成する段階;
ii)前記段階i)から得たSiO2/C複合体をアルカリ金属またはアルカリ土金属と混合した後、これを非活性雰囲気で熱処理してシリカを還元させる段階;及び
iii)前記段階ii)から得た熱処理結果物を酸処理して酸化物を除去する段階を含むSi/C複合体の製造方法;
前記化学式(1)で、
R1は、フェニル基であり、
R2は、C1からC4のアルコキシ基であり、
nは、1から3である。 - 前記Si/C複合体でSiに対するCのモル比(C/Si ratio)は、0超過18未満の範囲である請求項1に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記炭素の含量は、Si/C複合体の全体重量に対し1から50重量%である請求項1または請求項2に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記Si/C複合体の粒径は、10nmから100μmである請求項1から請求項3の何れか一項に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記Si/C複合体の粒子の表面上に炭素コーティング層がさらに形成されている請求項1から請求項4の何れか一項に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記芳香族含有シリコンアルコキシド化合物は、フェニルトリエトキシシラン(Phenyl Tri Ethoxy Silane; PTES)、フェニルトリメトキシシラン(Phenyl Tri Methoxy Silane; PTMS)及びジフェニルジエトキシシラン(Di Phenyl Di Ethoxy Silane;DDES)からなる群から選ばれるいずれか一つまたはこれらのうち2種以上の混合物である請求項1から請求項5の何れか一項に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記芳香族含有シリコンアルコキシド化合物は、フェニルトリエトキシシラン(Phenyl Tri Ethoxy Silane;PTES)である請求項6に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記芳香族含有シリコンアルコキシド化合物の含量は、有機溶媒に対して0.1重量部から20重量部である請求項1から請求項7の何れか一項に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記段階i)で線形シリコンアルコキシド化合物をさらに添加する請求項1から請求項8の何れか一項に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記線形シリコンアルコキシド化合物は、テトラエチルオルトシリケート(Tetra Ethyl Ortho Silicate;TEOS)、テトラメチルオルトシリケート(Tetra Methyl Ortho Silicate;TMOS)、テトラプロピルオルトシリケート(Tetra Propyl Ortho Silicate;TPOS)及びテトラブチルオルトシリケート(Tetra Butyl Ortho Silicate;TBOS)からなる群から選ばれるいずれか一つまたはこれらのうち2種以上の混合物である請求項9に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記線形シリコンアルコキシド化合物は、テトラエチルオルトシリケート(Tetra Ethyl Ortho Silicate;TEOS)またはテトラメチルオルトシリケート(Tetra Methyl Ortho Silicate;TMOS)である請求項10に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記芳香族含有シリコンアルコキシド化合物と線形シリコンアルコキシド化合物との混合比は、モル比で1:0.3から60である請求項9から請求項11の何れか一項に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記アルカリ金属がリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムまたはフランシウムである請求項1から請求項12の何れか一項に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記アルカリ土金属がベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムまたはラジウムである請求項1から請求項13の何れか一項に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記段階ii)の熱処理は、350℃から1400℃の温度範囲で行われることを特徴とする請求項1から請求項14の何れか一項に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記段階iii)の後、Si/C複合体を炭素前駆体と混合してSi/C複合体の表面を炭素でコーティングする段階をさらに含む請求項1から請求項15の何れか一項に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記コーティングは、300℃から1400℃の温度範囲で行われる請求項16に記載のSi/C複合体の製造方法。
- 前記炭素前駆体は、ピッチまたは炭化水素系物質であることを特徴とする請求項16または請求項17に記載のSi/C複合体の製造方法。
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