JP5888188B2 - 水素分離体 - Google Patents
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Description
本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、その目的は、水素分離体におけるガスリークを低減できる水素分離体を提供することにある。
特に、原料ガスから水素を分離する場合には、水素分離体の外側と内側とで(原料ガス側の圧力が高くなるように)差圧を設けるので、ガスリークが発生し易いが、本実施形態の水素分離体を用いることにより、好適にガスリークを防止できる。
緻密質支持部との中間のガス通過性を有する中間支持部を備えていてもよい。また、中間支持部は一つであっても複数であってもよい。
(4)本発明では、第4態様として、前記界面部は、前記多孔質支持部と前記緻密質支持部とが直接に接する界面であることを特徴とする。
<支持体の構成>
前記緻密質支持部、中間支持部、多孔質支持部の材料としては、セラミックスが用いられる。このセラミックスとしては、イットリア安定化ジルコニア、安定化ジルコニア、アルミナ、マグネシア、セリア、ドープドセリアのうち、少なくとも1種が挙げられる。
前記中間支持部は、緻密質支持部よりはガス通過性が高く、且つ、多孔質支持部よりはガス通過性が低いものであり、多孔質支持部と同様に、全体又は一部が水素を含むガスの透過が可能な多孔質材料で構成することができる。
<緻密層の構成>
前記緻密層は、前記緻密質支持部と同様に、ガスの透過がない気密性を有しており、例えば相対密度70%以上の緻密さを採用できる。
<水素分離金属層の構成>
前記水素分離金属層を構成する材料としては、Pd、PdCu合金、PdAg合金、PdAu合金が挙げられる。従って、この水素分離金属層を形成するための金属としては、Pd、Cu、Ag、Au、PdCu合金、PdAg合金、PdAu合金が挙げられる。なお、Cu、Ag、Auは、単独で用いられるものではなく、水素透過性を有するPdと合金化して用いられる合金用金属である。
a)まず、本実施例の水素分離体の構成について説明する。
を備えるとともに、その基端側に筒状の緻密質支持部7とを備えており、多孔質支持部5と緻密質支持部7とは同軸に配置されて一体のセラミック支持体9を構成している。
そして、後述するように、セラミック支持体9の外表面の大部分を(基端側を除いて)を覆うように、層状の表面構造11が形成されている。
また、多孔質支持部5の外周面の露出する部分(即ち緻密層17で覆われない部分)の全体を覆うように、多孔質セラミックからなる多孔質層19が形成されており、この多孔質層19の基端側は、緻密層17の先端側の外周面に接合し、その外周面の一部を覆っている。
更に、多孔質層19の全表面を覆うように、水素分離金属層21が形成されており、この水素分離金属層21の基端側は、緻密層17の先端側の外周面に接するように形成されている。
図4に示す様に、水素分離装置31は、水素分離体1と、水素分離体1の開放端側が挿入された筒状の取付金具33と、水素分離体1の外周面と取付金具33の内周面との間に
配置された円筒形のシール部材35と、水素分離体1に外嵌されてシール部材35の先端側を押圧する円筒形の押圧金具37と、押圧金具37に外嵌されて取付金具33に螺合する筒状の固定金具39とを備えている。なお、図4では、表面構造11は省略してある。
<第1粉末充填工程>
本実施例では、図5(a)に示す様な型枠61を用いてプレス成形を行う。この型枠61の筒状のゴム型63の軸中心には、水素分離体1の外形に対応した円柱形の内部孔65が形成されており、この内部孔65の軸中心には、水素分離体1の中心孔3の形状に対応した円柱状(試験管形状)の中心ピン67が立設されている。これにより、略円筒形状の型枠孔69が形成されている。
<第2粉末充填工程>
次に、図5(b)に示す様に、同様に、ゴム型63の型枠孔69内において、緻密質形成部71の上に、多孔質支持部5を形成する材料として、造孔材として有機ビーズを50体積%添加したYSZ造粒粉を充填した。
<加圧工程>
次に、図5(c)に示す様に、ゴム型63の上部に、上部金型73を固定した。なお、上部金型73には、多孔質支持部5の先端に対応する形状の凹部75が形成されており、この凹部75が嵌め込まれることによって、多孔質支持部5と同様な形状の多孔質形成部77が作製される。
<仮焼成工程>
次に、ゴム型63より取り出した有底円筒形状成形体79を脱脂し、その後、1000℃にて、1時間仮焼成することにより、図6(a)に示す様に、(焼結後に緻密質支持部
7となる)仮焼成緻密質支持部81と(焼結後に多孔質支持部3となる)仮焼成多孔質支持部83とが一体となった(焼結後にセラミック支持体9となる)セラミック仮焼成体85を得た。
<緻密層形成工程>
次に、図6(b)に要部(図6(a)のC部)を拡大して示すように、セラミック仮焼成体85の外周側の表面、即ち、仮焼成緻密質支持部81と仮焼成多孔質支持部83との界面87の露出部分89を所定幅で覆うように、YSZスラリーを塗布して、(焼結後に緻密層17となる)層状の緻密層形成部91を形成した。なお、YSZスラリーは、YSZ粉末に有機溶剤を加えてスラリー状としたものである。また、塗布方法としては、ディップコート、印刷、スプレーコート等を採用できる。
<第1焼成工程>
次に、緻密層形成部91とセラミック仮焼成体85とを同時に焼成(共焼成)し、図6(c)に示すように、表面に緻密層17を備えた外径φ10mm×長さ300mmのセラミック支持体9得た。詳しくは、緻密質支持部7と多孔質支持部5との界面13の露出部分15を覆うように形成された緻密層17を備えたセラミック支持体9を得た。
<全多孔質層形成工程>
次に、図6(d)に示す様に、セラミック支持体9の外表面に、前記YSZスラリーを用い、ディップコーティング法によって、全多孔質層形成部91を形成した。
<Pd金属核形成工程>
次に、緻密層17及び全多孔質層93を備えたセラミック支持体9(その外側)を、Snイオン溶液に浸漬し、Snイオンを全多孔質層93の表面側に吸着させ、水洗後、Pdイオン溶液に浸漬させて、SnイオンとPdイオンの交換反応によりPdイオンを吸着させた。
<多孔質保護層形成工程>
次に、図6(f)に示す様に、Pd金属核を付着させた全多孔質層93に対して、再度上述したYSZスラリーをディップコーティングした後に、1200℃で焼き付けることにより、多孔質保護層27を形成した。
<無電解めっき工程>
次に、無電解めっき法(化学めっき法)により、全多孔質層93内の表面側に付着させたPd金属核を成長させ、図6(g)に要部(図6(f)のD部)を拡大して示す様に、細孔95の一部を埋めるようにして、3.0μmの厚みでPdからなる無電解めっき層(水素分離金属充填層)96を形成した。
93及び多孔質保護層27が形成されている範囲)を、浴温60℃の無電解Pdめっき液(パラジウム化合物:濃度2g/L)中にセットし、20分にわたり無電解めっきを行って、無電解めっき層96を形成した。なお、無電解めっきを行う場合には、セラミック支持体9の内側(中心孔3側)を外側より低圧にするとより好適である。
<電解めっき工程>
次に、図7に示す様に、セラミック支持体9(従って複合支持体97)の中心孔3に、濃度6.0mol/LのNaCl水溶液を電解液として導入した。
これらの工程によって、水素分離体1が完成した。
a)まず、本実施例の水素分離体の構成について説明する。
このセラミック支持体123は、前記実施例1と同様な筒状の緻密質支持部125と試験管形状の多孔質支持部127とを備えるとともに、緻密質支持部125と多孔質支持部127との間に、同軸に筒状の中間支持部129を備えている。
特に、本実施例では、緻密質支持部125と中間支持部129との界面(第1界面)131の露出部分133と、中間支持部129と多孔質支持部127との界面(第2界面)135の露出部分137とを覆うように、実施例1と同様な緻密層139が形成されている。
形成されている。
なお、同様な部材は同じ番号を用いて説明する。
<第1粉末充填工程>
本実施例では、図9(a)に示す様に、実施例1と同様なゴム型63を用いてプレス成形を行う。つまり、このゴム型63の型枠孔69内に、緻密質支持部125を形成する材料として、YSZ造粒粉を充填し、円筒状の緻密質形成部71を作製した。
<第2粉末充填工程>
次に、図9(b)に示す様に、同様に、ゴム型63の型枠孔69内において、緻密質形成部71の上に、中間支持部129を形成する材料として、造孔材として有機ビーズを16体積%添加したYSZ造粒粉を充填し、中間形成部147を作製した。
<第3粉末充填工程>
次に、図9(c)に示す様に、同様に、ゴム型63の型枠孔69内において、中間形成部147の上に、多孔質支持部127を形成する材料として、造孔材として有機ビーズを50体積%添加したYSZ造粒粉を充填した。
<加圧工程>
次に、図9(d)に示す様に、ゴム型63の上部に、上部金型73を固定した。これにより、中間形成部147の上に、多孔質支持部127とほぼ同様な形状の多孔質形成部77を作製した。
図10(a)に要部を示す様に、本実施例3の水素分離体151は、実施例1と同様に、緻密質支持部153及び多孔質支持部155からなるセラミック支持体157を備えている。
特に、本実施例3では、緻密層163と(多孔質層165及び水素分離金属層167からなる)全多孔質層169とは、前記実施例1のように径方向において重なる部分はなく、緻密層163の先端側(同図右側)の端面と全多孔質層169の基端側の端面とが、同図の左右方向において当接するように形成されている。
本実施例においても、前記実施例1と同様な効果を奏する。
図10(b)に要部を示す様に、本実施例4の水素分離体181は、実施例1と同様に、緻密質支持部183及び多孔質支持部185からなるセラミック支持体187を備えている。
特に、本実施例4では、緻密層193と(多孔質中に水素分離金属が充填された)水素分離金属層195とは、緻密層193の先端側(同図右側)の端面と水素分離金属層195の基端側の端面とが、同図の左右方向において当接するように形成されている。なお、本実施例では、前記実施例1のような多孔質層はない。
本実施例においても、前記実施例1と同様な効果を奏する。
図10(c)に要部を示す様に、本実施例5の水素分離体201は、実施例1と同様に、緻密質支持部203及び多孔質支持部205からなるセラミック支持体207を備えている。
特に、本実施例5では、緻密層213と(多孔質中に水素分離金属が充填された)水素分離金属層215とは、緻密層213の先端側(同図右側)の端面と水素分離金属層215の基端側の端面とが、同図の左右方向において当接するように形成されている。
本実施例においても、前記実施例1と同様な効果を奏する。また、本実施例では、水素
分離金属層215と緻密層213との接触面積が広いので、ガスリークを一層好適に防止できる。
[実験例]
次に、本発明の効果を確認するために行った実験例について説明する。
この比較例の水素分離体221は、緻密質支持部223と多孔質支持部225とからなるセラミック支持体227を備えているが、前記実施例1のような緻密質層を備えていない。また、多孔質支持部225上には、実施例1と同様に、多孔質層228、水素分離金属層229、多孔質保護層231が積層されており、多孔質層228、水素分離金属層229、多孔質保護層231の各基端側の端部は、緻密質支持部223の外表面に接合されている。
この水中Heリーク試験では、各水素分離体の閉塞された先端側を水中に入れ、室温にて、水素分離体の内側(中心孔)に1.0MPaGのHeガスを供給し、そのときに、水素分離体の外側からHeガスが漏出するか否かを調べた。
尚、本発明は前記実施形態や実施例になんら限定されるものではなく、本発明を逸脱しない範囲において種々の態様で実施しうることはいうまでもない。
(2)また、内部給電方式の場合には、セラミック支持体の外側に電解液を供給するとともに、内側に電解めっき液を供給し、内側(中心孔側)よりめっき金属を析出させてもよい。
7、125、153、183、203、223…緻密質支持部
5、127、155、185、205、225…多孔質支持部
9、123、157、187、207、227…セラミック支持体
13、131、135、159、189、209…界面
15、133、137、161、191、211…露出部分
17、139、163、193、213…緻密層
19、141、165、228…多孔質層
21、143、167、195、215、229…水素分離金属層
25、95、105、109…細孔
93、169…全多孔質層
129…中間支持部
Claims (5)
- ガスの通過が可能な多孔質支持部と気密性を有する緻密質支持部とが、一体に構成された支持体と、
水素を含む気体のうち水素のみを選択して透過させる水素分離金属が前記支持体上に層状に配置された水素分離金属層と、
を備えるとともに、
前記水素分離金属層は、多孔質材の細孔内に水素分離金属が充填されたものである水素分離体において、
気密性を有する緻密層が、前記多孔質支持部と前記緻密質支持部との界面部を覆うように、前記多孔質支持部と前記緻密質支持部とに跨って、前記支持体上に形成されており、
且つ、前記水素分離金属層は、前記緻密層に接するとともに、前記多孔質支持部の表面を覆うように形成されていることを特徴とする水素分離体。 - 前記水素分離金属層は、前記緻密層の表面のうち、前記多孔質支持部上又は前記緻密質支持部上に位置する前記緻密層の表面の一部又は全体を覆うように形成されていることを特徴とする請求項1に記載の水素分離体。
- 前記前記多孔質支持部と前記緻密質支持部との界面部に、前記多孔質支持部と前記緻密質支持部との間のガス通過性を有する中間支持部を、一つないし複数備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の水素分離体。
- 前記界面部は、前記多孔質支持部と前記緻密質支持部とが直接に接する界面であることを特徴とする請求項1又は2に記載の水素分離体。
- 前記水素分離体は、軸方向の一方の端部が閉塞されるとともに他方の端部が開放された筒状体であり、
前記閉塞側に一端が閉塞された筒状の前記多孔質支持部を備えるとともに、前記開放側に筒状の前記緻密質支持部を備えたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の水素分離体。
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