JP5853946B2 - 外周切断刃の製造方法 - Google Patents

外周切断刃の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5853946B2
JP5853946B2 JP2012282364A JP2012282364A JP5853946B2 JP 5853946 B2 JP5853946 B2 JP 5853946B2 JP 2012282364 A JP2012282364 A JP 2012282364A JP 2012282364 A JP2012282364 A JP 2012282364A JP 5853946 B2 JP5853946 B2 JP 5853946B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cutting blade
alloy
abrasive grains
outer peripheral
base plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012282364A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013154463A (ja
Inventor
治和 前川
治和 前川
隆治 山口
隆治 山口
正信 島尾
正信 島尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2012282364A priority Critical patent/JP5853946B2/ja
Publication of JP2013154463A publication Critical patent/JP2013154463A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5853946B2 publication Critical patent/JP5853946B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D18/00Manufacture of grinding tools or other grinding devices, e.g. wheels, not otherwise provided for
    • B24D18/0018Manufacture of grinding tools or other grinding devices, e.g. wheels, not otherwise provided for by electrolytic deposition
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B53/00Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
    • B24B53/001Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces involving the use of electric current
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D5/00Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting only by their periphery; Bushings or mountings therefor
    • B24D5/12Cut-off wheels
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D1/00Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor
    • B28D1/22Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising
    • B28D1/24Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising with cutting discs
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1603Process or apparatus coating on selected surface areas
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1646Characteristics of the product obtained
    • C23C18/165Multilayered product
    • C23C18/1651Two or more layers only obtained by electroless plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1655Process features
    • C23C18/1662Use of incorporated material in the solution or dispersion, e.g. particles, whiskers, wires
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D15/00Electrolytic or electrophoretic production of coatings containing embedded materials, e.g. particles, whiskers, wires
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02Electroplating of selected surface areas
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • C25D5/12Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
    • C25D5/14Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium two or more layers being of nickel or chromium, e.g. duplex or triplex layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00Electrolytic etching or polishing
    • C25F3/16Polishing
    • C25F3/22Polishing of heavy metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F7/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23HWORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
    • B23H7/00Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
    • B23H7/02Wire-cutting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23HWORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
    • B23H9/00Machining specially adapted for treating particular metal objects or for obtaining special effects or results on metal objects
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/32Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
    • C23C18/34Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
    • C23C18/36Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents using hypophosphites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/06Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • C25D17/12Shape or form
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/007Electroplating using magnetic fields, e.g. magnets
    • C25D5/009Deposition of ferromagnetic material

Description

本発明は、超硬合金の円形リング状薄板からなる台板の外周縁部に、砥粒と該砥粒間及び該砥粒と台板とを連結する金属又は合金とを具備してなる砥粒層で切り刃部を形成した外周切断刃の前記切り刃部をドレスするドレッシング方法に関する。
希土類永久磁石(焼結磁石)の切断加工として、外周切断刃による切断加工が知られている。この方法は、切断機の価格が安く、超硬刃を用いると、切り代もそれほど大きくなく、被作物の寸法精度がよく、加工速度も比較的速いなどの特徴があり、量産性に優れた加工方法として希土類焼結磁石の切断に広く利用されている。
希土類永久磁石の切断に用いられる外周切断刃としては、特許文献1:特開平9−174441号公報、特許文献2:特開平10−175171号公報、特許文献3:特開平10−175172号公報等に、超硬合金の台板の外周縁部にNiメッキ等の金属や合金でダイヤモンド砥粒やcBN砥粒などを固定したものが知られている。
このような外周切断刃は、超硬合金の円形リング状薄板からなる台板の外周縁部に、ダイヤモンド砥粒やcBN砥粒を保持した状態で電気メッキ又は無電解メッキを行って、該砥粒間及び該砥粒と前記台板との間を連結する金属又は合金を形成することにより前記砥粒と前記金属又は合金からなる砥粒層で切り刃部を形成することにより製造される。この場合、上記切り刃部を形成した後、該切り刃部を形成する砥粒層を整形し、また砥粒を露出させる目立てを行なうドレッシング処理が施される。また、製造後も使用により低下した切れ味を回復させるため、適時に製造時と同様のドレッシング処理が行なわれる。
このドレッシング処理としては、ワイヤー放電加工やダイヤモンド、cBN、SiC、アルミナなどの砥石からなるドレッサーで砥粒層表面を研削して、目詰まりした切り屑を取り除いたり、結合材を削り取って砥粒を露出させる方法が一般に採用されている。
このドレッシング処理の良否は製造後又は回復処理後の切断性能に大きく影響し、例えば切断面に切り跡が生じたり、更には加工精度にも差が生じる場合がある。このため、確実に切り刃部のチップポケットに詰まった切り屑を除去し、また結合材の一部を取り除いて砥粒を確実に露頭させることができ、良好な目立てを確実に行なって外周切断刃の性能を向上させることができるドレッシング方法の開発が望まれる。
なお、上記特許文献1〜3の他に本発明と関連すると思われる先行技術文献としては、下記特許文献4,5が挙げられる。
特開平9−174441号公報 特開平10−175171号公報 特開平10−175172号公報 特開昭63−216627号公報 特開平5−005605号公報
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、超硬合金の円形リング状薄板からなる台板の外周縁部に砥粒と該砥粒間及び該砥粒と台板とを連結する金属又は合金からなる砥粒層で切り刃部を形成した外周切断刃を、良好かつ効率的にドレッシングすることができ、切断加工性能に優れた外周切断刃を確実に得ることができる外周切断刃のドレッシング方法、及び該ドレッシング方法を用いた外周切断刃の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、超硬合金の円形リング状薄板からなる台板の外周縁部に砥粒と結合材(金属又は合金)とからなる切り刃部を形成した外周切断刃の該切り刃部をドレッシング処理する場合に、電解研磨により前記結合材の一部やチップポケットに詰まった切削屑を溶解除去することにより、良好に砥粒を露頭させると共に確実にチップポケットを形成して、良好に目立てすることができることを見出した。
そして、この電解研磨によるドレッシングを効率的に行なう方法につき更に検討を進めた結果、上記外周切断刃を一対の円形治具に挟持することにより保持して該外周切断刃両面の所定範囲をカバーすると共に、前記切り刃部を前記円形治具の外周端から突出させた状態とすること、これを電解研磨槽に収容された電解研磨液に浸漬すると共に、前記切り刃部の周囲を所定間隔離間して囲う電極と、前記切り刃部の両側面を所定間隔離間して挟むように覆う一対の電極を対極として配置すること、前記円形治具を介して外周切断刃に通電すると共に前記対極に通電して電解研磨を行なうことにより、非常に効率よく確実に良好な上記電解研磨を行なうことができ、効率的に良好なドレッシング処理を施すことができること、しかも電気メッキ又は無電解メッキによって上記結合材(金属又は合金)を台板の周囲に析出形成させて上記切り刃部を形成することにより上記外周切断刃を作製した場合には、ワイヤー放電加工及び/又は砥石により切り刃部を整形した後、前記電気メッキ又は無電解メッキに用いたメッキ浴を前記電解研磨液としてそのまま用いることができることを見出し、本発明を完成したものである。
従って、本発明は、下記外周切断刃の製造方法を提供する。
請求項
超硬合金の円形リング状薄板からなる台板の外周縁部に砥粒を保持した状態で電気メッキを行い、該砥粒間及び該砥粒と前記台板との間を連結する金属又は合金を析出形成することにより前記砥粒と前記金属又は合金とを具備してなる砥粒層を形成して、これを切り刃部とし、ワイヤー放電加工及び/又は砥石により該切り刃部を形成する前記砥粒層のせり出し、厚み及び外径を整えた後、該切り刃部に電解研磨によるドレッシング処理を施して、前記砥粒間の金属又は合金の一部や切り刃部表面のチップポケットに詰った切削屑を電解除去し、該切り刃部を前記砥粒の一部が突出した状態とする外周切断刃の製造方法において、
前記切り刃部形成の際、前記台板を、該台板よりも大径でかつ永久磁石が仕込まれた一対の円形治具間に挟持することにより保持して台板両面の所定範囲をカバーすると共に、両円形治具の外周縁部間に形成された隙間に磁性材料をコーティングした砥粒を磁力により保持し、これをメッキ浴に浸漬すると共に該台板の外周を所定間隔離間して囲う第1電極を陽極として配設して前記電気メッキを行うことにより、前記砥粒層からなる切り刃部を形成すること、また
前記ドレッシング処理の際、前記台板の外周縁部に前記切り刃部が形成された外周切断刃を、該外周切断刃よりも小径な一対の円形治具間に挟持することにより保持して該外周切断刃両面の所定範囲をカバーすると共に、前記切り刃部を前記円形治具の外周端から突出させた状態とし、これを、前記メッキ浴を電解研磨液として用いて該電解研磨液に浸漬すると共に、前記第1電極と、前記切り刃部の両側面を所定間隔離間して挟むように覆う一対の第2電極とを対極として配置し、前記外周切断刃と前記対極との間に通電して、前記電解研磨を行うことを特徴とする外周切断刃の製造方法。
請求項2:
上記第1電極が、台板又は切り刃部の外周を所定間隔離間して囲う筒状電極であり、上記第2電極が、上記切り刃部の両側面を所定間隔離間して挟むように覆う一対のリング状電極である請求項1記載の外周切断刃の製造方法
請求項
上記砥粒がダイヤモンド砥粒及び/又はcBN砥粒である請求項1又は2記載の外周切断刃の製造方法。
請求項
上記電気メッキより形成される砥粒間及び該砥粒と上記台板との間を連結する上記金属又は合金の、金属がNi又はCuであり、合金がNi−Fe合金、Ni−Mn合金、Ni−P合金、Ni−Co合金、Ni−Sn合金である請求項1〜3のいずれか1項に記載の外周切断刃の製造方法。
請求項
上記電気メッキを行なって上記砥粒と上記金属又は合金とを具備する砥粒層を形成した後、更に電気メッキ又は無電解メッキを施すカバーメッキを行なって、砥粒間及び砥粒と台板との間の連結強度を更に高める請求項1〜4のいずれか1項に記載の外周切断刃の製造方法。
請求項
上記電気メッキを行なって上記砥粒と上記金属又は合金とを具備してなる砥粒層を形成した後、上記砥粒間及び上記砥粒と台板との間に存在する空隙に、溶融した金属及び/又は合金を含浸させて硬化させる工程を行なう請求項1〜4のいずれか1項に記載の外周切断刃の製造方法。
請求項
上記含浸させる金属がSn及びPbのいずれか一方又は両方であり、上記含浸させる合金がSn−Ag−Cu合金、Sn−Ag合金、Sn−Cu合金、Sn−Zn合金及びSn−Pb合金から選ばれる1種以上である請求項記載の外周切断刃の製造方法。
本発明のドレッシング方法によれば、超硬合金からなる台板の外周縁部に砥粒と結合材(金属又は合金)を具備してなる切り刃部を形成した外周切断刃の該切り刃部を効率的かつ良好にドレッシングすることができ、優れた切断加工性能を有する外周切断刃を効率よく確実に得ることができるものである。
本発明のドレッシング方法に用いられる円形治具の一例を示す概略図である。 同治具を用いて外周切断刃を保持した状態を示す該略図である。 本発明のドレッシング方法又は製造方法に用いられる電解研磨槽又はめっき用浴槽を示す概略斜視図である。 本発明のドレッシング方法又は製造方法に対極(電解研磨時)又は陽極(めっき時)として用いられる円筒電極の一例を示す概略斜視図である。 本発明のドレッシング方法に対極として用いられる一対のリング状電極の一例を示す概略斜視図である。 本発明のドレッシング方法における外周切断刃の切り刃部と対極との位置関係を示す概略図である。 実施例1で得られた外周切断刃の切り刃部側面を示す光学実体顕微鏡写真である。 比較例1で得られた外周切断刃の切り刃部側面を示す光学実体顕微鏡写真である。 実施例1,2で得られた外周切断刃を用いて切断加工を行なった希土類永久磁石の切断面を示す写真であり、(A)は実施例1、(B)は実施例2である。 比較例1,2で得られた外周切断刃を用いて切断加工を行なった希土類永久磁石の切断面を示す写真であり、(A)は比較例1、(B)は比較例2である。 実施例1,2及び比較例1,2で得られた外周切断刃を用いて切断加工を行なった希土類永久磁石の寸法精度を比較するグラフである。
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明の外周切断刃のドレッシング方法は、上記のように、台板の外周縁部に砥粒と金属又は合金の結合材とを具備してなる砥粒層で形成された切り刃部を有する外周切断刃の該切り刃部に対して電解研磨によりドレッシングを施すものであり、前記外周切断刃を一対の円形治具で挟持して保持し、これを電解研磨槽に収容された電解研磨液に浸漬して電解研磨を行なうものである。
上記円形治具は、上記外周切断刃を挟持して、該外周切断刃両面の所定範囲をカバーすると共に、上記切り刃部を治具の外周端から突出させた状態で保持するものであり、例えば図1に示した円形治具2,2を例示することができる。
図1中2,2は、中心部にスクリュー挿通孔(図示せず)を有する円盤状の円形治具であり、これら円形治具2,2はそれぞれエンジニアリングプラスチックやアルミナ等のセラミックスなどの絶縁性材料からなり、ドレッシングを施す外周切断刃1の外径より小さい外径に形成される。21,21はそれぞれ円形治具2,2の中央部に装着される台板押さえを兼ねた電極体であり、これら電極体21,21は、一対の円形治具2,2を支持、固定する導電性の支持棒22と通電コマ23,23を介して接触し、支持棒22からこの電極体21,21に通電し得るようになっている。この場合、これら通電が行なわれる部材には、電解研磨槽で上記の電解研磨液と接触する部分にシリコーンなどの絶縁性材料で被膜が形成されている。また、図中24,24はそれぞれ円形治具2,2を固定する治具押さえ、25はエンドブロックである。
図1に示されているように、この円形治具2,2間に外周切断刃1を配置して、図2(A)に示されているように,上記支持棒22先端に突設されたネジ部及び上記エンドブロック25に突設されたネジ部を通電コマ23,23に形成された雌ネジ孔(図示せず)に螺着し、締結することにより、両治具押さえ24,24で上記円形治具2,2を押さえつけ、この両円形治具2,2で外周切断刃1を挟持して保持するものである。
この場合、外周切断刃1の台板には上記電極体21,21が適度な圧力で圧接した状態となり、上記支持棒22から上記通電コマ23,23を介してこの電極体21,21に通電され、外周切断刃1に電流が印加されるようになっている。また、上記円形治具2,2は、外周切断刃1よりも小さい外径に形成され、外周切断刃1両面の所定範囲をカバーすると共に、図2(B)に示されているように、該外周切断刃1の外周縁部に形成された切り刃部11が円形治具2,2の外周端から突出するようになっている。この突出量pは、通常、切り刃部11の幅以上に設定され、切り刃部11が確実に円形治具2,2の外周端から突出するようにされる。
この円形治具2,2に保持した外周切断刃1を電解研磨槽に収容された電解研磨液に浸漬し、上記切り刃部11の外周を所定間隔離間して囲う電極(第1電極)と、前記切り刃部11の両側面を所定間隔離間して挟むように覆う一対の電極(第2電極)とを対極として配置し、電解研磨を行なう。
上記電解研磨槽としては、上記切り刃部を電気メッキにより形成する際に用いられる電気メッキ用浴槽と同様のものを用いることができ、例えば図3に示されているように、加熱用電気ヒータ31と浴循環用配管32を備えた電解研磨槽3が例示される。また、無電解メッキにより上記切り刃部を形成する際に用いられる無電解メッキ用浴槽に上記対極を配置して電解研磨槽とすることもできる。
上記対極として用いられる、切り刃部11の外周を所定間隔離間して囲う電極(第1電極)も、上記切り刃部を電気メッキにより形成する際に陽極として用いられる電極と同様のものを用いることができ、例えば図4に示されているように、一対のリング枠を数本の柱状枠で連結してこれらリング枠及び柱状枠を円筒状に組み上げた大小2個の円筒枠41,42を同心して2重に連結した円筒状の筒状電極4を例示することができる。
また、対極として用いられる、切り刃部11の両側面を所定間隔離間して挟むように覆う一対の電極(第2電極)としては、例えば図5に示されたリング状電極5,6を例示することができる。図中5は、外周切断刃1の下側(電解研磨槽3の底側)に配置させるもので、リング板状の枠の内側にリング状の金属メッシュ51を取り付けたものである。また、図中6は外周切断刃1の上側に配置されるものであり、同様にリング板状の枠の内側にリング状の金属メッシュ61を取り付けたものであり、この上側のリング状電極6には枠から鉤状の吊板62が4本立設されており、この吊板62を上記筒状電極4の上端周縁部に引っ掛けて外周切断刃1の上側に配置するようになっている。
これらの対極4,5,6は、枠及びメッシュの両方とも良好な導電性を有する金属で形成され、チタン、オーステナイト系ステンレス、ニッケルなどが用いられる。これらの中でも特にチタンは軽さ、耐食性の点で特に好ましく用いられる。
そして、上記電解研磨槽3に上記円形治具2,2に保持した外周切断刃1を収容し、上記筒状電極4及びリング状電極5,6を配置する。その配置は、図6に示されているように、上記筒状電極4が外周切断刃1の外周縁部に形成された上記切り刃部11の外周を所定間隔離間して囲うように配置され、また上記一対のリング状電極5,6は、前記切り刃部11の両側面を所定間隔離間して挟むように覆った状態に配置される。そして、上記支持棒22から上記通電コマ23及び電極体21を介して外周切断刃1に所定の電流を通電すると共に、対極として配置した上記筒状電極4及びリング状電極5,6に通電して、外周切断刃1の切り刃部11の表面を電解研磨する。
この電解研磨に用いられる電解研磨液は、上記切り刃部11を構成する結合材に用いられた金属又は合金に応じて公知の電解研磨液を用いることができ、結合材の金属又は合金を良好に溶解し得るものが適宜選択して用いられる。また、電解条件も上記結合材やドレッシングの程度に応じて適宜設定すればよい。例えば、結合材としてNiメッキの単一金属が用いられている場合には、そのNiメッキを行なった際のニッケルめっき浴と同様の組成の電解研磨液を用いることができ、より具体的には硫酸ニッケル240〜380g/L,塩化ニッケル40〜90g/L,ホウ酸40〜60g/Lからなるニッケルめっき浴や、スルファミン酸ニッケル450〜650g/L,塩化ニッケル5〜15g/L,ホウ酸30〜40g/Lからなるスルファミン酸ニッケルめっき浴を電解研磨液として用いることができる。また、特に制限されるものではないが、上記ニッケルめっき浴を電解研磨液とした場合には電流1〜10A/dm2の範囲で電解研磨を行なえばよく、上記スルファミン酸めっき浴を電解研磨液とした場合には電流3〜10A/dm2の範囲で電解研磨を行なえばよい。
更に、無電解メッキによりNiメッキを行なった際の無電解ニッケルメッキ浴を電解液として用いることも可能であり、例えば、硫酸ニッケル20〜25g/L,次亜リン酸ナトリウム20〜25g/L,酢酸ナトリウム5〜10g/L,クエン酸ナトリウム5〜10g/Lからなる無電解ニッケルめっき浴を電解研磨液として用いることもできる。この場合には電流0.3〜1.0A/dm2の範囲で電解研磨を行なえばよい。
本発明ドレッシング方法の適用対象である外周切断刃は、上記のように、超硬合金の円形リング状薄板からなる台板の外周縁部に切り刃部が形成されたものであり、その切り刃部が、砥粒と、該砥粒間及び該砥粒と前記台板との間を連結する金属又は合金(結合材)とを具備してなる砥粒層で形成されたものである。
この場合、上記砥粒及び結合材の金属又は合金は、特に制限はなく、いずれのものであってもよい。前記砥粒としては、例えばダイヤモンド砥粒、cBN砥粒、アルミナ砥粒、アルミナを主成分とするアルミナ系砥粒、SiC砥粒、SiCを主成分とするSiC系砥粒などが例示され、特にダイヤモンド砥粒及び/又はcBN砥粒を用いた外周切断刃に好適に用いられる。前記結合材の金属又は合金としては、特に制限されるものではないが、電気メッキ又は無電解メッキにより形成される単一金属又は合金であることが好ましい。具体的には、金属としてはNi又はCuが好適であり、また合金としてはNi−Fe合金、Ni−Mn合金、Ni−P合金、Ni−Co合金、Ni−Sn合金が好適である。
また、上記砥粒間及び上記砥粒と台板との間に存在する微細な空隙に金属又は合金を含浸させたものであってもよい。含浸させる金属としては、SnやPbを挙げることができ、これらの一方又は両方を用いることができる。含浸させる合金としてはSn−Ag−Cu合金、Sn−Ag合金、Sn−Cu合金、Sn−Zn合金、Sn−Pb合金などを例示することができ、これらの1種以上を用いることができる。
本発明のドレッシング方法は、勿論、使用により切れ味の低下した外周切断刃を回復されるためのドレッシング処理にも好適に用いられるが、上述のように切り刃部を形成する際に用いた電気めっき浴や無電解めっき浴を電解研磨液として用いることができるので、電気メッキ又は無電解メッキにより結合材の金属や合金を析出形成させて切り刃部を形成し、該切り刃部を整形した後、ドレッシング処理を行なって外周切断刃を製造する際の、ドレッシング処理として特に好適に使用することができる。
即ち、超硬合金の円形リング状薄板からなる台板の外周縁部に上記砥粒を保持した状態で電気メッキ又は無電解メッキを行って、該砥粒間及び該砥粒と前記台板との間を連結する上記金属又は合金を析出形成することにより前記砥粒と前記金属又は合金とを具備してなる砥粒層を形成して、これを切り刃部とし、ワイヤー放電加工及び/又は砥石により該切り刃部を形成する前記砥粒層のせり出し、厚み及び外径を整えた後、前記電気メッキ又は無電解メッキを行なったメッキ浴を電解研磨液として用いて上記本発明のドレッシング方法によりドレッシング処理を施し、外周切断刃を製造することができる。なお、前記砥粒層の「せり出し」とは、台板の表面からの台板の軸方向に沿った砥粒層の高さである。
電気メッキ又は無電解メッキにより金属又は合金を析出形成させて上記砥粒層からなる切り刃部を形成する場合、上記ドレッシング方法を行う際に用いる円形治具と同様の治具を用いて、電気メッキ又は無電解メッキを外周切断刃の台板に施すことができる。ただし、この場合には、図2(C)に示されているように、円形治具2,2の外径を台板12よりも大きく設定して、両円形治具2,2の外周縁部間に形成された隙間に砥粒を保持するように構成し、このように砥粒を保持した状態でメッキを行なうことにより、該砥粒間及び該砥粒と前記台板との間をメッキ金属又は合金で連結することができる。この場合、前記砥粒を保持する隙間の大きさdは、形成する切り刃部11の大きさに応じて適宜設定される。なお、電気メッキ又は無電解メッキにより析出形成させる金属又は合金としては、上記に例示したとおりである。
砥粒を上記円形治具2,2の外周縁部の隙間に保持する方法としては、例えば砥粒に予め磁性材料をコーティングしておくと共に、円形治具2,2に永久磁石を取り付けてその磁力により砥粒を前記隙間に保持、固定する方法を好適に採用することができる。
また、電気メッキを行なう場合のめっき用浴槽も上記図3に示されたものと同様のものを用いることができる。この場合、上記筒状電極4(第1電極)を対極としてではなく陽極として電気メッキを行なえばよく、その際には上述した一対のリング状電極5,6(第2電極)は使用しない。そして、電解研磨によりドレッシングを行う際にはこのメッキ用浴槽をそのまま電解研磨槽として使用し、リング状電極5,6を配置して前記筒状電極4と共に対極として使用し、電解研磨によるドレッシングを行なえばよい。
上記電気メッキ又は無電解メッキを行なって上記砥粒と前記金属又は合金からなる砥粒層を形成した後、砥粒間及び砥粒と台板との間の連結強度を更に高めるため、更に電気メッキ又は無電解メッキを施すカバーメッキを行なうこともできる。このカバーメッキも上記電気メッキ又は無電解メッキと同様にして行なうことができる。ただし、図2(B)の場合と同様に、円形治具2,2の外径は外周切断刃よりも小さく設定され、砥粒層からなる切り刃部11が円形治具2,2の外周端から突出した状態とし、この砥粒層にカバーメッキを施すようにする。
また、上記電気メッキ又は無電解メッキを行なって上記砥粒と前記金属又は合金からなる砥粒層を形成した後、上記砥粒間及び上記砥粒と台板との間に存する空隙に、溶融した金属及び/又は合金を含浸させて硬化させる工程を行なってもよい。即ち、砥粒を台板に電気メッキ又は無電解メッキにより固着して切り刃部を形成した外周切断刃では、砥粒としてある程度の粒径のものが用いられるため、固着された砥粒は、砥粒と砥粒の間及び砥粒と台板の間で一部分でしか接触し得ず、それらの間の隙間をメッキで完全に埋めることはできない。そのため、切り刃部には、メッキ後においても切り刃部表面に連通する空隙が存在する。その空隙を金属又は合金で埋めることにより、強度を向上させることができ、より高い加工精度を達成することができるようになる。この場合、含浸させる金属及び/又は合金は融点が350℃以下のものが好ましく用いられ、具体的な金属、合金としては、上記に例示したとおりである。
切り刃部を形成する砥粒層に金属又は合金を含浸する方法として具体的には、例えば、φ0.1〜2.0mm、好ましくはφ0.8〜1.5mmの線状、粉状、又は切り刃部の形状寸法と同じで厚みが0.05〜1.5mmのリング状の薄膜状に加工した金属又は合金を、砥粒層(切り刃部)に載せ、ホットプレートのような加熱器上、オーブンの中などで、融点以上に昇温し、溶融した金属又は合金を、切り刃部に含浸させ、その後、徐々に冷却して室温に戻す方法が挙げられる。この他、切り刃部の近傍に幾らかのクリアランスがある下金型に、含浸前の外周切断刃を入れた後、予め計り取った金属や合金を充填して上金型をはめ、上下に適度に加圧しながら加熱して、金属や合金を切り刃部に含浸させ、冷却してから脱圧し、金型から取り出す方法も可能である。加熱後は、ひずみが残らないように、徐々に冷却する。
なお、砥粒層(切り刃部)に金属又は合金を載せる際に、金属又は合金を砥粒層(切り刃部)に固定する目的や、砥粒層(切り刃部)の濡れ性をよくする目的で、予め、例えば、塩素やフッ素が含有されている市販のソルダーフラックスなどを塗布することも有効である。
このように砥粒層(切り刃部)を台板の外周縁部に形成した後、上述した本発明方法によるドレッシング処理を施す前に、上述のように、ワイヤー放電加工や、酸化アルミ、炭化ケイ素、ダイヤモンドなどの砥石による研削/研磨加工によって前記砥粒層(切り刃部)のせり出し、厚み及び外径を整え、その後に上述した本発明方法によるドレッシング処理を施す。その際、刃厚にもよるが、刃先にC0.1以上又はR0.1以上の面取りを施すことは、切断面の切り跡を少なくすることに加えて、切断加工を施す磁石端面のカケも低減することができるので有効である。
以下、実施例と比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。
[実施例1]
円形リング状薄板の超硬合金台板(内径60mm、外径133mm)を図1,2に示された治具と同様の構成を有する一対の円形治具で挟んで保持した。この円形治具は外径を台板の外径よりも2mm小さく設定し、円形治具の外周端から台板の外周縁部が1mm突出するようにし、下記電気ニッケルメッキ浴1を用いて電気メッキを行なって下地メッキを施した。この台板を図1及び図2(A),(C)に示された一対の円形治具2,2で挟んで保持した。円形治具2,2は外径を台板の外径よりも2mm以上大きく設定し、また永久磁石を外周部近傍に内蔵させ、外周部に形成された隙間に、予め磁性体(ニッケル)をコーティングしたダイヤモンド砥粒(平均粒径130μm)0.8gを充填して磁力により保持固定した。これに図3に示された電気めっき用浴槽3に収容した下記電気ニッケルメッキ浴2を用いて電気メッキを施し、台板と砥粒及び砥粒と砥粒間を結合させて台板の外周縁部に砥粒を固着させ、砥粒層を形成した。その際、筒状電極4を陽極とした。
次に,図1及び図2(A),(B)に示された円形治具2,2に、この台板を挟持して保持した。その際、円形治具2,2は外径を砥粒が固着した台板の外径よりも2mm小さく設定し、固着した砥粒を含む砥粒層が円形治具の外周端から突出するようにした。そして、図3に示された電気めっき用浴槽3に収容した下記スルファミン酸ニッケルメッキ浴を用い、固着した台板と砥粒及び砥粒間を更に強固にするため電気メッキを施して、カバーメッキを行なった。得られた砥粒層をWA砥石及びGC砥石の2種類の砥石で研磨して砥粒層のせり出しが50μmとなるようにせり出しと厚みを整えた後、ワイヤー放電加工により研磨して外径を135mmに整え、切り刃部とした。
この切り刃部を形成した台板を図1及び図2(A),(B)に示された一対の円形治具2,2間に挟んで保持した。この円形治具2,2は外径を台板の外径よりも2mm小さく設定し、円形治具の外周端から切り刃部が突出するようにした。上記電気メッキを施した際に用いた下記電気ニッケルメッキ浴2を電解研磨液として電解研磨を施してドレッシング処理を行ない、外周切断刃とした。その際、電気メッキを行なった際の図3のめっき用浴槽3を電解研磨槽として用いると共に、図5に示されたリング状電極5,6を図6のように配置し、このリング状電極5,6及び筒状電極4を対極とし、台板側を陽極として電解研磨を行なった。
〔電気ニッケルメッキ浴1(下地メッキ)〕
[組成]
NiCl2・6H2O: 55g/L
NiSO4・6H2O: 370g/L
ホウ酸: 45g/L
[めっき条件]
浴温: 50〜55℃
電流値(定電流): 0.5A/dm2
通電時間: 60min

〔電気ニッケルメッキ浴2〕
[組成]
NiCl2・6H2O: 70g/L
NiSO4・6H2O: 370g/L
ホウ酸: 45g/L
[めっき条件]
浴温: 50〜55℃
電流値(定電流): 0.2A/dm2
通電時間: 150min

〔スルファミン酸ニッケルメッキ浴〕
[組成]
Ni(NH2SO32・4H2O: 600g/L
NiCl2・6H2O: 10g/L
ホウ酸: 35g/L
[めっき条件]
浴温: 60〜65℃
電流値(定電流): 0.5A/dm2
通電時間: 60min
得られた外周切断刃の切り刃部側面の光学実体顕微鏡写真を図7に示す。同写真のとおり、砥粒が明確に露頭しており、また各砥粒間に明確なチップポケットが認められた。
次に、得られた外周切断刃を用い、希土類永久磁石のNd−Fe−B系製品に対して下記条件で成形切断加工を行なった。切断した磁石片の切断面の写真を図9(A)に示す。図9(A)のとおり、切断面には切り跡もなく、きれいな切断面が得られた。更に、同外周切断刃を用いて厚さ2mmの磁石片を4個切り出し、各磁石片について切断面の最大厚み差を測定して切断寸法精度を評価した。結果を図11のグラフに示す。図11のとおり、得られた4個の磁石片は、最大の厚み差が0.025μm前後の非常に寸法精度に優れるものであり、得られた外周切断刃が加工精度に優れるものであることが確認された。
〔切断加工条件〕
外周刃回転速度: 6000rpm
外周刃の送り速度: 400mm/min
切断深さ: 1mm/回
[比較例1]
砥粒層を砥石で研磨してせり出し(50μm)、厚み及び外径を整えた後、ワイヤー放電加工により外径を整えると共に、この砥石による研磨及びワイヤー放電加工による研削をドレッシング処理とし、電解研磨によるドレッシング処理を行なわないこと以外は、実施例1と同様にして外周切断刃を作製した。
得られた外周切断刃の切り刃部側面の光学実体顕微鏡写真を図8に示す。同写真のとおり、切り刃部側面の表面には明確に露頭した砥粒がほとんど見られず、明確なチップポケットも認められなかった。
次に、得られた外周切断刃を用い、希土類永久磁石のNd−Fe−B系製品に対して実施例1と同様の条件で成形切断加工を行なった。切断した磁石片の切断面の写真を図10(A)に示す。図10(A)のとおり、切断面に多くの切り跡が見られ、良好な切断面は得られなかった。更に、同外周切断刃を用い、実施例1と同様にして4個の磁石片を切り出し切断寸法精度を評価した。結果を図11のグラフに示す。図11のとおり、得られた4個の磁石片は、最大の厚み差が0.05μmを大きく超えてしまい、実施例1に比べて寸法精度に劣るものであった。従って、得られた外周切断刃は実施例1の外周切断刃に比べて加工精度に劣るものである。
[実施例2]
カバーメッキを行なわず、砥粒層に対してSn−Pb合金を含浸させたこと以外は、実施例1と同様にして外周切断刃を作製した。Sn−Pb合金の含浸は次のとおりに行なった。まず、230℃に加熱したホットプレート上に切り刃部を形成した台板を載せて5分間加熱した。そして、φ8mmの線状に加工したSn−Pb合金を230℃に加熱した半田ごてを用いて溶融させ、この溶融したSn−Pb合金を前記加熱した台板の砥粒層(切り刃部)に含浸させ、自然冷却した。
得られた外周切断刃を用い、希土類永久磁石のNd−Fe−B系製品に対して実施例1と同様の条件で成形切断加工を行なった。切断した磁石片の切断面の写真を図9(B)に示す。図9(B)のとおり、断面には切り跡もなく、きれいな切断面が得られた。更に、同外周切断刃を用い、実施例1と同様にして4個の磁石片を切り出し切断寸法精度を評価した。結果を図11のグラフに示す。図11のとおり、得られた4個の磁石片は、最大の厚み差が0.025μm前後の非常に寸法精度に優れるものであり、得られた外周切断刃が加工精度に優れるものであることが確認された。
[比較例2]
砥粒層を砥石で研磨してせり出し(50μm)及び厚み及び外径を整えた後、ワイヤー放電加工により外径を整えると共に、この砥石による研磨及びワイヤー放電加工による研削をドレッシング処理とし、電解研磨によるドレッシング処理を行なわないこと以外は、実施例2と同様にして外周切断刃を作製した。
得られた外周切断刃を用い、希土類永久磁石のNd−Fe−B系製品に対して実施例1と同様の条件で成形切断加工を行なった。切断した磁石片の切断面の写真を図10(B)に示す。図10(B)のとおり、切断面に多くの切り跡が見られ、良好な切断面は得られなかった。更に、同外周切断刃を用い、実施例1と同様にして4個の磁石片を切り出し切断寸法精度を評価した。結果を図11のグラフに示す。図11のとおり、得られた4個の磁石片は、最大の厚み差が0.1μmを大きく超えており、1つは0.2μmを超えるほどの大きな厚みばらつきが生じてしまい、実施例2に比べての寸法精度に大きく劣るものであった。従って、得られた外周切断刃は実施例2の外周切断刃よりも加工精度に大きく劣るものである。
1 外周切断刃
11 切り刃部(砥粒層)
12 台板
2 円形治具
21 電極体
22 支持棒
23 通電コマ
24 治具押さえ
25 エンドブロック
3 電解研磨槽(めっき用浴槽)
31 加熱用電気ヒータ
32 浴循環用配管
4 筒状電極(対極、第1電極
41,42 円筒体
5 リング状電極(対極、第2電極
51 金属メッシュ
6 リング状電極(対極、第2電極
61 金属メッシュ
62 吊板

Claims (7)

  1. 超硬合金の円形リング状薄板からなる台板の外周縁部に砥粒を保持した状態で電気メッキを行い、該砥粒間及び該砥粒と前記台板との間を連結する金属又は合金を析出形成することにより前記砥粒と前記金属又は合金とを具備してなる砥粒層を形成して、これを切り刃部とし、ワイヤー放電加工及び/又は砥石により該切り刃部を形成する前記砥粒層のせり出し、厚み及び外径を整えた後、該切り刃部に電解研磨によるドレッシング処理を施して、前記砥粒間の金属又は合金の一部や切り刃部表面のチップポケットに詰った切削屑を電解除去し、該切り刃部を前記砥粒の一部が突出した状態とする外周切断刃の製造方法において、
    前記切り刃部形成の際、前記台板を、該台板よりも大径でかつ永久磁石が仕込まれた一対の円形治具間に挟持することにより保持して台板両面の所定範囲をカバーすると共に、両円形治具の外周縁部間に形成された隙間に磁性材料をコーティングした砥粒を磁力により保持し、これをメッキ浴に浸漬すると共に該台板の外周を所定間隔離間して囲う第1電極を陽極として配設して前記電気メッキを行うことにより、前記砥粒層からなる切り刃部を形成すること、また
    前記ドレッシング処理の際、前記台板の外周縁部に前記切り刃部が形成された外周切断刃を、該外周切断刃よりも小径な一対の円形治具間に挟持することにより保持して該外周切断刃両面の所定範囲をカバーすると共に、前記切り刃部を前記円形治具の外周端から突出させた状態とし、これを、前記メッキ浴を電解研磨液として用いて該電解研磨液に浸漬すると共に、前記第1電極と、前記切り刃部の両側面を所定間隔離間して挟むように覆う一対の第2電極とを対極として配置し、前記外周切断刃と前記対極との間に通電して、前記電解研磨を行うことを特徴とする外周切断刃の製造方法。
  2. 上記第1電極が、台板又は切り刃部の外周を所定間隔離間して囲う筒状電極であり、上記第2電極が、上記切り刃部の両側面を所定間隔離間して挟むように覆う一対のリング状電極である請求項1記載の外周切断刃の製造方法
  3. 上記砥粒がダイヤモンド砥粒及び/又はcBN砥粒である請求項1又は2記載の外周切断刃の製造方法。
  4. 上記電気メッキより形成される砥粒間及び該砥粒と上記台板との間を連結する上記金属又は合金の、金属がNi又はCuであり、合金がNi−Fe合金、Ni−Mn合金、Ni−P合金、Ni−Co合金、Ni−Sn合金である請求項1〜3のいずれか1項に記載の外周切断刃の製造方法。
  5. 上記電気メッキを行なって上記砥粒と上記金属又は合金とを具備する砥粒層を形成した後、更に電気メッキ又は無電解メッキを施すカバーメッキを行なって、砥粒間及び砥粒と台板との間の連結強度を更に高める請求項1〜4のいずれか1項に記載の外周切断刃の製造方法。
  6. 上記電気メッキを行なって上記砥粒と上記金属又は合金とを具備してなる砥粒層を形成した後、上記砥粒間及び上記砥粒と台板との間に存在する空隙に、溶融した金属及び/又は合金を含浸させて硬化させる工程を行なう請求項1〜4のいずれか1項に記載の外周切断刃の製造方法。
  7. 上記含浸させる金属がSn及びPbのいずれか一方又は両方であり、上記含浸させる合金がSn−Ag−Cu合金、Sn−Ag合金、Sn−Cu合金、Sn−Zn合金及びSn−Pb合金から選ばれる1種以上である請求項記載の外周切断刃の製造方法。
JP2012282364A 2012-01-06 2012-12-26 外周切断刃の製造方法 Active JP5853946B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012282364A JP5853946B2 (ja) 2012-01-06 2012-12-26 外周切断刃の製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012001250 2012-01-06
JP2012001250 2012-01-06
JP2012282364A JP5853946B2 (ja) 2012-01-06 2012-12-26 外周切断刃の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013154463A JP2013154463A (ja) 2013-08-15
JP5853946B2 true JP5853946B2 (ja) 2016-02-09

Family

ID=47721967

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012282364A Active JP5853946B2 (ja) 2012-01-06 2012-12-26 外周切断刃の製造方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20130174493A1 (ja)
EP (1) EP2612728B1 (ja)
JP (1) JP5853946B2 (ja)
KR (1) KR20130081250A (ja)
CN (1) CN103192322B (ja)
MY (1) MY161152A (ja)
PH (1) PH12013000003A1 (ja)
TW (1) TWI581905B (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140005911A (ko) * 2010-11-29 2014-01-15 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 초경 합금 베이스 플레이트 외주 절단날 및 그 제조 방법
CN105177585A (zh) * 2015-10-19 2015-12-23 大连海事大学 一种基于化学镀抛光复合工艺的高光洁金属表面制备方法
WO2018203448A1 (ja) * 2017-05-02 2018-11-08 信越半導体株式会社 ワークの切断方法及び接合部材
JP7087284B2 (ja) * 2017-06-09 2022-06-21 信越化学工業株式会社 外周切断刃の製造方法
CN107745453A (zh) * 2017-11-30 2018-03-02 浙江新瑞欣精密线锯有限公司 一种用于线锯生产的引导轮组件
CN108411355B (zh) * 2018-03-30 2020-04-03 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 一种轮毂型电镀超薄金刚石切割片的刀刃开刃方法
JP7408232B2 (ja) 2019-06-11 2024-01-05 株式会社ディスコ 環状の砥石の製造方法

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB502267A (en) * 1937-10-26 1939-03-15 British Insulated Cables Ltd Improvements in the etching of metal cylinders
US3395092A (en) * 1965-05-24 1968-07-30 Ribes Vincent Dressing apparatus for diamond wheels
JPS63216627A (ja) 1987-03-03 1988-09-08 Oyo Jiki Kenkyusho:Kk ブレ−ド切断方法
JPH0818255B2 (ja) * 1987-04-02 1996-02-28 三菱マテリアル株式会社 極薄刃砥石
JPH055605A (ja) 1991-06-27 1993-01-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルにおける位置計測方法
JP3008560B2 (ja) * 1991-06-28 2000-02-14 日本電気株式会社 研削切断装置
JPH07207254A (ja) * 1993-02-03 1995-08-08 Hiroshi Iwata 砥粒の電着式切断刃物
JPH0760642A (ja) * 1993-08-30 1995-03-07 Rikagaku Kenkyusho 電解ドレッシング研削方法及び装置
JP2923440B2 (ja) * 1994-11-30 1999-07-26 アルファーダイヤモンド工業株式会社 可撓性ダイヤモンド塗装研磨物体
JPH08309668A (ja) * 1995-05-16 1996-11-26 Mitsubishi Materials Corp 内周刃砥石の製造方法
JP3199355B2 (ja) * 1995-11-10 2001-08-20 株式会社東京精密 内周刃のドレッシング方法
JPH09168970A (ja) * 1995-12-15 1997-06-30 Sony Corp 研削用砥石の目立て方法及び目立て装置
JP2868180B2 (ja) 1995-12-26 1999-03-10 信越化学工業株式会社 希土類磁石切断用ダイヤモンド砥石外周刃とそれを用いた希土類磁石の切断方法
JPH10175171A (ja) 1996-12-16 1998-06-30 Shin Etsu Chem Co Ltd 希土類磁石切断用マルチダイヤモンド砥石
JPH10175172A (ja) 1996-12-16 1998-06-30 Shin Etsu Chem Co Ltd 希土類磁石切断用マルチダイヤモンド砥石
US7585398B2 (en) * 1999-04-13 2009-09-08 Semitool, Inc. Chambers, systems, and methods for electrochemically processing microfeature workpieces
TWI286963B (en) * 2004-03-10 2007-09-21 Read Co Ltd Dresser for polishing cloth and method for manufacturing thereof
JP4478795B2 (ja) * 2004-07-05 2010-06-09 栃木県 磁性砥粒及び磁気研磨法
CN1931522A (zh) * 2005-09-13 2007-03-21 巨擘科技股份有限公司 修整晶圆研磨垫的修整器及其制造方法
JP5095159B2 (ja) * 2006-08-31 2012-12-12 富士重工業株式会社 電解ドレッシング研削装置
US20080202552A1 (en) * 2006-12-07 2008-08-28 Lawrence Bernard Kool Method for selectively removing coatings from metal substrates
JP5470713B2 (ja) * 2008-02-25 2014-04-16 株式会社村田製作所 電鋳薄刃砥石及びその製造方法
CN101310927A (zh) * 2008-06-26 2008-11-26 上海交通大学 非导电性结合剂金刚石砂轮的电火花修整方法
JP5051399B2 (ja) * 2009-05-01 2012-10-17 信越化学工業株式会社 外周切断刃の製造方法及び外周切断刃製造用治具
MX2012007501A (es) * 2009-12-31 2012-08-01 Saint Gobain Abrasifs Sa Articulo abrasivo que incorpora un segmento abrasivo infiltrado.
CN102229111B (zh) * 2011-06-07 2013-06-05 河南工业大学 金刚石形面约束自由磨粒变速挤磨超硬磨料砂轮修整方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP2612728A3 (en) 2016-06-01
US20130174493A1 (en) 2013-07-11
EP2612728A2 (en) 2013-07-10
MY161152A (en) 2017-04-14
KR20130081250A (ko) 2013-07-16
TWI581905B (zh) 2017-05-11
CN103192322B (zh) 2017-04-12
EP2612728B1 (en) 2018-04-11
PH12013000003B1 (en) 2014-08-04
PH12013000003A1 (en) 2014-08-04
TW201347915A (zh) 2013-12-01
JP2013154463A (ja) 2013-08-15
CN103192322A (zh) 2013-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5853946B2 (ja) 外周切断刃の製造方法
TWI531447B (zh) Ultra - hard alloy platen outer cutting edge and its manufacturing method
TW200800504A (en) Electroplated abrasive tools, methods, and molds
JP5975138B2 (ja) 超硬合金台板外周切断刃の製造方法
JP5967249B2 (ja) 超硬合金台板外周切断刃
TW201238715A (en) Super hard alloy baseplate outer circumference cutting blade and manufacturing method thereof
JP6844430B2 (ja) 外周切断刃及びその製造方法
KR100481302B1 (ko) 전착 다이아몬드 휠의 제조 방법, 그 방법에 의해 제조된 전착 다이아몬드 휠, 다이아몬드 휠의 전착 도금 장치
JPS59142068A (ja) 切断加工用砥石の製造方法
JP5975137B2 (ja) 超硬合金台板外周切断刃
JP2903051B2 (ja) ドレスギヤの製造方法
JP2000210871A (ja) 台金付電鋳カッタ―及びその製造方法
JP2022113768A (ja) 外周切断刃
JP4494590B2 (ja) 薄刃ブレードの製造方法
JP2005152281A (ja) 歯科用バーの製造方法
JPH0771790B2 (ja) 電鋳薄刃砥石の製造方法
KR100593150B1 (ko) 로터리 드레서 및 그 제조방법
JP2004306151A (ja) メタルボンド砥石及びその製造方法
JPH01264777A (ja) ワイヤーブラシ及びその製造方法
JP4208676B2 (ja) 高集中度電鋳工具およびその製造方法
JPH08229828A (ja) 超砥粒工具及びその製造方法
CN115648040A (zh) 一种硬质合金材料的表面处理方法和装置
JPS5959352A (ja) 切断加工用砥石の製造方法
KR20200024045A (ko) 다층 전착 절삭공구 제조 방법 및 이에 의해 제조된 다층 전착 절삭공구
JP2004098181A (ja) 電着砥石の製作方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20141125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150623

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150821

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151110

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151123

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5853946

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150