JP5809409B2 - インプリント装置及びパターン転写方法 - Google Patents
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Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010260368A JP5809409B2 (ja) | 2009-12-17 | 2010-11-22 | インプリント装置及びパターン転写方法 |
| US12/963,009 US9244342B2 (en) | 2009-12-17 | 2010-12-08 | Imprint apparatus and pattern transfer method |
| TW099143476A TWI461842B (zh) | 2009-12-17 | 2010-12-13 | 壓印設備和圖案轉印方法 |
| KR1020100129305A KR101353715B1 (ko) | 2009-12-17 | 2010-12-16 | 임프린트 장치 및 패턴 전사 방법 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009286964 | 2009-12-17 | ||
| JP2009286964 | 2009-12-17 | ||
| JP2010260368A JP5809409B2 (ja) | 2009-12-17 | 2010-11-22 | インプリント装置及びパターン転写方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011146689A JP2011146689A (ja) | 2011-07-28 |
| JP2011146689A5 JP2011146689A5 (enExample) | 2014-01-16 |
| JP5809409B2 true JP5809409B2 (ja) | 2015-11-10 |
Family
ID=44149928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010260368A Active JP5809409B2 (ja) | 2009-12-17 | 2010-11-22 | インプリント装置及びパターン転写方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9244342B2 (enExample) |
| JP (1) | JP5809409B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101353715B1 (enExample) |
| TW (1) | TWI461842B (enExample) |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5864929B2 (ja) * | 2011-07-15 | 2016-02-17 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品の製造方法 |
| JP6061524B2 (ja) * | 2011-08-11 | 2017-01-18 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品の製造方法 |
| JP6140966B2 (ja) | 2011-10-14 | 2017-06-07 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
| JP5686779B2 (ja) | 2011-10-14 | 2015-03-18 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
| JP6159072B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2017-07-05 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 |
| US20140205702A1 (en) * | 2013-01-24 | 2014-07-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Template, manufacturing method of the template, and position measuring method in the template |
| US20140209567A1 (en) * | 2013-01-29 | 2014-07-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Template, manufacturing method of the template, and strain measuring method in the template |
| JP6120677B2 (ja) * | 2013-05-27 | 2017-04-26 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 |
| JP5960198B2 (ja) | 2013-07-02 | 2016-08-02 | キヤノン株式会社 | パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法 |
| JP2016154241A (ja) * | 2013-07-02 | 2016-08-25 | キヤノン株式会社 | パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法 |
| JP6242099B2 (ja) * | 2013-07-23 | 2017-12-06 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置およびデバイス製造方法 |
| JP6401501B2 (ja) * | 2014-06-02 | 2018-10-10 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品の製造方法 |
| JP6457773B2 (ja) | 2014-10-07 | 2019-01-23 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置及び物品製造方法 |
| KR102244758B1 (ko) | 2014-10-27 | 2021-04-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 패널 및 이의 제조 방법 |
| JP6549834B2 (ja) * | 2014-11-14 | 2019-07-24 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
| JP2016134441A (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-25 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
| WO2016208160A1 (en) * | 2015-06-22 | 2016-12-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article |
| JP6114861B2 (ja) * | 2015-06-22 | 2017-04-12 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 |
| JP6671160B2 (ja) | 2015-11-30 | 2020-03-25 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、物品製造方法および位置合わせ方法 |
| JP6909021B2 (ja) * | 2017-03-07 | 2021-07-28 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
| JP6381721B2 (ja) * | 2017-03-30 | 2018-08-29 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置及びデバイス製造方法 |
| JP7116552B2 (ja) * | 2018-02-13 | 2022-08-10 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および、物品製造方法 |
| JP7134717B2 (ja) * | 2018-05-31 | 2022-09-12 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 |
| JP7116605B2 (ja) * | 2018-06-28 | 2022-08-10 | キヤノン株式会社 | インプリント材のパターンを形成するための方法、インプリント装置、インプリント装置の調整方法、および、物品製造方法 |
| JP7383450B2 (ja) * | 2019-10-23 | 2023-11-20 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 |
| JP2023088471A (ja) * | 2021-12-15 | 2023-06-27 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、及び物品の製造方法 |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3569962B2 (ja) * | 1994-06-17 | 2004-09-29 | 株式会社ニコン | 位置合わせ装置及び位置合わせ方法、それを用いた露光装置及び露光方法 |
| JPH09115819A (ja) | 1995-10-13 | 1997-05-02 | Nikon Corp | アライメント方法及び装置 |
| US6330052B1 (en) * | 1997-06-13 | 2001-12-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and its control method, stage apparatus, and device manufacturing method |
| JP4109736B2 (ja) * | 1997-11-14 | 2008-07-02 | キヤノン株式会社 | 位置ずれ検出方法 |
| JP2002043209A (ja) | 2000-07-24 | 2002-02-08 | Nec Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
| KR20030040378A (ko) * | 2000-08-01 | 2003-05-22 | 보드 오브 리전츠, 더 유니버시티 오브 텍사스 시스템 | 임프린트 리소그래피를 위한 투명한 템플릿과 기판사이의고정확성 갭 및 방향설정 감지 방법 |
| JP2002334833A (ja) | 2001-03-09 | 2002-11-22 | Toshiba Corp | 荷電ビーム露光装置及び露光方法 |
| TW584901B (en) | 2001-11-30 | 2004-04-21 | Sony Corp | Exposure method of using complementary dividing moldboard mask |
| US20050151947A1 (en) * | 2002-07-31 | 2005-07-14 | Nikon Corporation | Position measuring method, position control method, exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US7027156B2 (en) * | 2002-08-01 | 2006-04-11 | Molecular Imprints, Inc. | Scatterometry alignment for imprint lithography |
| JP4478424B2 (ja) * | 2003-09-29 | 2010-06-09 | キヤノン株式会社 | 微細加工装置およびデバイスの製造方法 |
| JP4481698B2 (ja) | 2004-03-29 | 2010-06-16 | キヤノン株式会社 | 加工装置 |
| JP2006165371A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Canon Inc | 転写装置およびデバイス製造方法 |
| JP4756984B2 (ja) * | 2005-10-07 | 2011-08-24 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光装置の制御方法およびデバイスの製造方法 |
| JP4827513B2 (ja) * | 2005-12-09 | 2011-11-30 | キヤノン株式会社 | 加工方法 |
| US7450296B2 (en) * | 2006-01-30 | 2008-11-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and system for patterning alignment marks on a transparent substrate |
| JP5306989B2 (ja) * | 2006-04-03 | 2013-10-02 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | 複数のフィールド及びアライメント・マークを有する基板を同時にパターニングする方法 |
| JP4185941B2 (ja) | 2006-04-04 | 2008-11-26 | キヤノン株式会社 | ナノインプリント方法及びナノインプリント装置 |
| JP4958614B2 (ja) * | 2006-04-18 | 2012-06-20 | キヤノン株式会社 | パターン転写装置、インプリント装置、パターン転写方法および位置合わせ装置 |
| JP4848832B2 (ja) * | 2006-05-09 | 2011-12-28 | 凸版印刷株式会社 | ナノインプリント装置及びナノインプリント方法 |
| JP2009004521A (ja) | 2007-06-21 | 2009-01-08 | Nikon Engineering Co Ltd | 露光装置 |
| TW201003449A (en) | 2008-06-10 | 2010-01-16 | Applied Materials Israel Ltd | Method and system for evaluating an object that has a repetitive pattern |
| US8628712B2 (en) * | 2008-10-27 | 2014-01-14 | Molecular Imprints, Inc. | Misalignment management |
| JP2010283207A (ja) | 2009-06-05 | 2010-12-16 | Toshiba Corp | パターン形成装置およびパターン形成方法 |
-
2010
- 2010-11-22 JP JP2010260368A patent/JP5809409B2/ja active Active
- 2010-12-08 US US12/963,009 patent/US9244342B2/en active Active
- 2010-12-13 TW TW099143476A patent/TWI461842B/zh active
- 2010-12-16 KR KR1020100129305A patent/KR101353715B1/ko active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI461842B (zh) | 2014-11-21 |
| JP2011146689A (ja) | 2011-07-28 |
| KR20110069730A (ko) | 2011-06-23 |
| KR101353715B1 (ko) | 2014-01-20 |
| TW201128302A (en) | 2011-08-16 |
| US9244342B2 (en) | 2016-01-26 |
| US20110147970A1 (en) | 2011-06-23 |
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| JP2016134441A (ja) | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 | |
| JP6381721B2 (ja) | インプリント方法、インプリント装置及びデバイス製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131121 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131121 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140611 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140613 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140808 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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