JP2009004521A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】アライメント誤差を低減させた露光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る露光装置１は、投影光学系５を保持するメインベース部材２０と、グローバルアライメント顕微鏡６を保持してメインベース部材２０に取り付けられる補正ベース部材３０とを有し、メインベース部材２０の線膨張係数が補正ベース部材３０の線膨張係数よりも低く、メインベース部材２０および補正ベース部材３０が互いに逆方向に熱膨張するように、補正ベース部材３０がメインベース部材２０に取り付けられ、温度変化に拘わらずベースライン長Ｌが一定となるように構成される。
【選択図】図１

Description

本発明は、露光装置に関する。

露光装置（ステッパー）のアライメント方式で、オフアクシスアライメント（例えば、特許文献１〜３を参照）を採用した場合、外部要因または内部要因により温度変化が生ずると、要素部品の熱膨張および熱収縮により、アライメント検出器と投影光学系との間のベースライン長が変動し、アライメント誤差が生ずる。上記の影響を極力小さくするため、要素部品にインバー材等の低膨張金属を使って装置を構成するのが一般的である。

しかしながら、低膨張とは言っても温度変化による膨張収縮は生ずる。そこで、通常のステッパーでは専用のエンバイロメンタルチャンバを備えており、温度環境を±０．１℃程度に保つことが可能である。このような場合、要素部品をインバー材等で製作すればベースライン変動を許容範囲に収めることができる。

ところで、露光装置には、ハードディスクドライブの磁気ヘッドに、いわゆるＡＢＳ（Air Bearing Surface：空気軸受け面）加工を行う露光装置（ステッパー）がある。このようなＡＢＳ露光用途のステッパーは、小型簡易型ステッパーとして知られているが、上述のような専用のチャンバを備えておらず、動作環境としては通常のステッパーより厳しい。
国際公開第９９／３４４１６号パンフレット 特開２００５−３１７６１７号公報 特開２００５−１１６５８０号公報

特に、温度変化は±１℃以上で、通常のステッパーより厳しい温度環境に晒される。そのため、温度変化により生ずるアライメント誤差を低減させる必要があった。

本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、アライメント誤差を低減させた露光装置を提供することを目的とする。

このような目的達成のため、本発明に係る露光装置は、レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系と、前記被露光体に設けられたアライメントマークを検出する位置検出光学系とを備え、前記位置検出光学系の光軸と前記投影光学系の光軸との間の距離であるベースライン長に基づいて、前記レチクルのパターンを前記被露光体に投影露光するように構成された露光装置において、前記投影光学系および前記位置検出光学系のうちいずれか一方を保持するメインベース部材と、前記投影光学系および前記位置検出光学系のうち他方を保持して前記メインベース部材に取り付けられる補正ベース部材とを有し、温度変化に拘わらず前記ベースライン長がほぼ一定となるように前記補正ベース部材と前記メインベース部材を契合して構成される。

なお、上述の発明において、前記メインベース部材が板状に形成され、前記補正ベース部材が板状に形成されて前記メインベース部材に重なるように取り付けられており、前記補正ベース部材は、前記投影光学系の光軸および前記位置検出光学系の光軸と直交する延長線上に、温度変化に拘わらず前記メインベース部材に対して固定される固定部を有し、前記メインベース部材の線膨張係数をδ１とし、前記補正ベース部材の線膨張係数をδ２とし、前記位置検出光学系の光軸と前記投影光学系の光軸との間の前記ベースライン長をＬとし、前記補正ベース部材が保持する前記投影光学系もしくは前記位置検出光学系の光軸から前記固定部までの距離をＭとしたとき、次式
｜δ１×（Ｌ＋Ｍ）−δ２×Ｍ｜＜０．００２ （単位：ｍｍ／℃）
の条件を満足することが好ましい。

さらに、上述の発明において、前記メインベース部材の材料がインバー材であるとともに、前記補正ベース部材の材料がステンレス材であることが好ましい。

また、上述の発明において、前記メインベース部材が前記投影光学系を保持するとともに、前記補正ベース部材が前記位置検出光学系を保持するように構成されることが好ましい。

本発明によれば、アライメント誤差を低減させることができる。

以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。本発明に係る露光装置の一例であるオフアクシスアライメントの露光装置を図１に示している。この露光装置１は、ハードディスクドライブの磁気ヘッド１５（図５を参照）に、ＡＢＳ加工を行う工程で用いられるものであり、被露光体が固定保持された固定治具１８を支持するＸＹＺステージ２と、被露光体に転写される所定のマスクパターン３ａが形成されたレチクル３と、レチクル３を照明するための照明光を発光する照明装置４と、照明装置４から発光されてレチクル３を透過した光によりレチクル３に形成されたレチクルパターンを被露光体に投影する投影光学系５と、被露光体に設けられたアライメントマークを検出するグローバルアライメント顕微鏡６とを主体に構成される。

磁気ヘッド１５は、ハードディスクドライブの磁気ディスク（図示せず）に対して磁気情報の書き込み・読み出しを行うためのものであり、図５に示すような直方体形に形成されて、図示しないスイングアームの先端部に取り付けられる。磁気ディスクの回転接線方向に対応する側の磁気ヘッド１５の側面には、磁気ディスクに対して磁気情報の書き込み・読み出しを行うための回路パターンである読み書き部１６が形成される。磁気ディスクと対向する磁気ヘッド１５の底面には、磁気ディスクの高速回転により生じる空気の流れを利用して磁気ディスクと磁気ヘッド１５との間隔を一定に保つためのＡＢＳ面１７が形成される。

このような磁気ヘッド１５は、図６に示すようなウェハ１９から作られる。このウェハ１９の表面には、露光等により読み書き部１６等の電子回路が複数並んで形成され、電子回路が形成されたウェハ１９を０．２ｍｍ前後の短冊状（直方体状）に切断して、切断面を研磨仕上げすることで、複数のローバー１０が作られる。ウェハ１９の切断面であるローバー１０の側面には、複数のＡＢＳ面１７が形成され、図７に示すように、複数の磁気ヘッド１５が一列に繋がったローバー１０が作られる。このように磁気ヘッド１５が繋がったローバー１０を切断することで、一枚のウェハ１９から多数の磁気ヘッド１５を作ることができる。

図７に示すように、ローバー１０は、複数の読み書き部１６が形成される読み書き部形成面１１および、複数のＡＢＳ面１７が形成されるＡＢＳ形成面１２を有することになるが、このＡＢＳ形成面１２に複数のＡＢＳ面１７を形成する工程で、本実施形態の露光装置１が用いられることになる。すなわち、ローバー１０が本実施形態における被露光体であり、ＡＢＳ形成面１２が被露光面となる。

また、ローバー１０は、図８に示すように、複数のローバー１０，１０，…が固定治具１８（一般にジグと称される）によって同一平面上に保持された状態で露光される。なお一般に、生産性向上のため、固定治具１８には５０本程度のローバー１０が固定保持される。固定治具１８は、金属材料もしくはセラミックス材料を用いて平板状に形成され、接着剤等を用いて、複数のローバー１０，１０，…が互いに隣接するように並んで固定治具１８の上面に固定保持される。なおこのとき、各ローバー１０のＡＢＳ形成面がそれぞれ上面を向くようになっている。

ところで、図１に示すようにＸＹＺ軸を定義すると、露光装置１のＸＹＺステージ２は、固定治具１８（各ローバー１０）をＸＹＺ方向へ平行移動可能に支持する。なお、図１において、水平面内で互いに直行する座標軸をそれぞれＸ軸およびＹ軸とし、鉛直軸方向の座標軸をＺとしており、ＸＹＺ軸がそれぞれ互いに直交する座標軸となっている。

ＸＹＺステージ２の上部には、Ｆ（フィデューシャル）マークユニット７が設けられる。Ｆマークユニット７は、ガラス等の光が透過可能な材料を用いて円盤状に形成され、Ｆマークユニット７の上面にアライメント用のＦマーク（図示せず）が形成されている。

レチクル３は、ガラス等の光が透過可能な材料を用いて平板状に形成され、図示しないレチクルステージに保持される。レチクル３の中央部下面側には、ＡＢＳ面を形成するためローバー１０に転写されるマスクパターン３ａが形成される。

レチクル３のマスクパターン３ａをローバー１０に投影する投影光学系５は、ＸＹＺステージ２の上方に位置した状態でメインベース部材２０に保持される。また、ＸＹＺステージ２上のローバー１０を検出するためのグローバルアライメント顕微鏡６は、ＸＹＺステージ２の上方に位置した状態で補正ベース部材３０に保持され、この補正ベース部材３０はメインベース部材２０に取り付けられている。なお、グローバルアライメント顕微鏡６によって検出するアライメントマークには、図８に示すように、ローバー１０のＡＢＳ形成面１２に現れた読み書き部１６等のパターンが用いられる。

また、グローバルアライメント顕微鏡６の光軸Ｏ１は、投影光学系５の光軸Ｏ２と平行に延びており、グローバルアライメント顕微鏡６の光軸上焦点位置Ｐ１と投影光学系５の光軸上焦点位置Ｐ２との間の距離Ｌ′がベースライン長となる。これは、図１に示す機械寸法、すなわち、グローバルアライメント顕微鏡６の光軸Ｏ１と投影光学系５の光軸Ｏ２との間の距離Ｌに相当する。

メインベース部材２０は、図２に示すように、低膨張金属であるねずみ鋳鉄系インバー材（Ｆｅ−３５Ｎｉ−Ｃ）を用いて板状に形成され、図示省略するベース搭載台の上部に取り付けられる。なお、ねずみ鋳鉄系インバー材（Ｆｅ−３５Ｎｉ−Ｃ）の線膨張係数は、３×１０^−６（１／℃）である。メインベース部材２０の四隅には、メインベース取付孔２１が形成されており、ネジ等の締結部材を用いてメインベース部材２０をベース搭載台に取り付けることができるようになっている。

メインベース部材２０の中央部近傍には、投影光学系５の鏡筒部５ａが挿通される投影部保持孔２２が形成される。投影部保持孔２２の周辺部４箇所には、ネジ孔である投影部取付孔２３がそれぞれ等間隔に形成されており、鏡筒部５ａのフランジ部分をネジ等の締結部材を用いてメインベース部材２０に締結させることができるようになっている。このように、投影光学系５の鏡筒部５ａを投影部保持孔２２に挿通させるとともに、締結部材（および投影部取付孔２３）を用いて鏡筒部５ａのフランジ部分をメインベース部材２０に締結させることで、投影光学系５がメインベース部材２０に保持される。

なお、投影部取付孔２３の周辺部にスリット部２４が形成されており、スリット部２４近傍の弾性変形を利用して、メインベース部材２０の熱膨張および収縮による投影光学系５の位置ずれを防止している。本実施形態において、投影光学系５の鏡筒部５ａは黄銅（Ｃ３６０１ＢＤ）を用いて形成されており、メインベース部材２０と材料および線膨張係数が異なるが、これにより、メインベース部材２０および鏡筒部５ａの熱膨張および収縮に拘わらず、投影光学系５の位置を一定に保つことが可能になる。

また、メインベース部材２０には、投影光学系５の光軸Ｏ２が通る投影部取付孔２３の中心からレンズベース長Ｌだけ離れた所に、補正ベース部材３０に保持されたグローバルアライメント顕微鏡６が挿通される補正ベース挿通孔２５が形成される。投影部保持孔２２の周辺部３箇所には、ネジ孔である１つの補正ベース基準孔２６および２つの補正ベース取付孔２７がそれぞれ等間隔に形成されており、補正ベース部材３０をネジ等の締結部材を用いてメインベース部材２０に締結させることができるようになっている。

このように、補正ベース部材３０に保持されたグローバルアライメント顕微鏡６を補正ベース挿通孔２５に挿通させるとともに、締結部材（および補正ベース基準孔２６と補正ベース取付孔２７）を用いて補正ベース部材３０をメインベース部材２０に締結させることで、グローバルアライメント顕微鏡６を保持した補正ベース部材３０がメインベース部材２０に取り付けられる。なお、補正ベース基準孔２６は、投影光学系５の光軸Ｏ２が通る投影部取付孔２３の中心と、グローバルアライメント顕微鏡６の光軸Ｏ１が通る補正ベース挿通孔２５の中心とを結ぶ延長線上に形成される。

補正ベース部材３０は、図３に示すように、ステンレス材（ＳＵＳ４１０−ＨＰ）を用いて板状に形成され、メインベース部材２０の上面に重なるように取り付けられる。なお、ステンレス材（ＳＵＳ４１０−ＨＰ）の線膨張係数は、９．９×１０^−６（１／℃）であり、メインベース部材２０の線膨張係数が補正ベース部材３０の線膨張係数よりも低くなることになる。

補正ベース部材３０の中央部近傍には、グローバルアライメント顕微鏡６の鏡筒部分が挿通される顕微鏡保持孔３１が形成される。顕微鏡保持孔３１の周辺部３箇所には、ネジ孔である顕微鏡取付孔３２がそれぞれ等間隔に形成されており、グローバルアライメント顕微鏡６のフランジ部分をネジ等の締結部材を用いて補正ベース部材３０に締結させることができるようになっている。このように、グローバルアライメント顕微鏡６の鏡筒部分を顕微鏡保持孔３１に挿通させるとともに、締結部材（および顕微鏡取付孔３２）を用いてグローバルアライメント顕微鏡６のフランジ部分を補正ベース部材３０に締結させることで、グローバルアライメント顕微鏡６が補正ベース部材３０に保持される。なお、グローバルアライメント顕微鏡６の鏡筒部分の材料は、補正ベース部材３０と同じ材料（ステンレス材）であることが好ましい。

補正ベース部材３０の端部近傍３箇所には、１つの補正ベース固定孔３３および２つの補正ベース連結孔３４がそれぞれ形成されており、前述したように、ネジ等の締結部材を用いて、グローバルアライメント顕微鏡６を保持した補正ベース部材３０をメインベース部材２０に取り付けることができるようになっている。補正ベース固定孔３３は、補正ベース部材３０の一端側で、グローバルアライメント顕微鏡６の光軸Ｏ１が通る顕微鏡保持孔３１の中心から所定の距離Ｍだけ離れた所に形成され、補正ベース部材３０をメインベース部材２０に取り付ける際、メインベース部材２０の補正ベース基準孔２６と位置が合わせられた状態で締結部材により緊締される。

なおこのとき、メインベース部材２０において、投影光学系５の光軸Ｏ２が通る投影部取付孔２３の中心と、グローバルアライメント顕微鏡６の光軸Ｏ１が通る補正ベース挿通孔２５の中心とを結ぶ延長線上に補正ベース基準孔２６が形成されるため、補正ベース部材３０の補正ベース固定孔３３は、グローバルアライメント顕微鏡６の光軸Ｏ１および投影光学系５の光軸Ｏ２と直交する延長線上に位置することになる。

一方、２つの補正ベース連結孔３４は、補正ベース部材３０の他端側に形成され、補正ベース部材３０をメインベース部材２０に取り付ける際、メインベース部材２０の補正ベース取付孔２７とそれぞれ位置が合わせられた状態で締結部材により締結される。また、補正ベース連結孔３４の周辺部にスリット部３５が形成されており、スリット部３５近傍の弾性変形を利用して、補正ベース部材３０の他端側が自由に熱膨張および収縮できるようになっている。これにより、補正ベース部材３０が熱膨張および収縮する際、補正ベース部材３０の一端側に位置する補正ベース固定孔３３が温度変化に拘わらずメインベース部材２０に対して固定され、補正ベース部材３０の他端側がメインベース部材２０に対して伸縮することになる。

また、メインベース部材２０または補正ベース部材３０のどちらか一方の孔３３，３４の周囲を除く面を０．３ｍｍ前後低く加工しておき、メインベース部材２０と補正ベース部材３０が孔３３，３４の周囲以外では接触しないように配慮するのが好ましい。この配慮により、メインベース部材２０および補正ベース部材３０が熱により膨張収縮するとき、摩擦等によって互いに余計な力を与え合うことがなくなる。なお、この０．３ｍｍ前後の隙間にサーマルコンパウンド等の導熱性ペーストを充填しておくことは、メインベース部材２０および補正ベース部材３０の温度を均一に保つために有効である。

このような露光装置１を用いた露光（ＡＢＳ加工）について、以下に説明する。まず、前述したように、ウェハ１９の表面に読み書き部１６等の電子回路を露光等により形成し、電子回路が形成されたウェハ１９を短冊状に切断して切断面を研磨仕上げすることで、複数のローバー１０を作り出す。次に、各ローバー１０のＡＢＳ形成面１２を上に向けた状態で、固定治具１８の上面に複数のローバー１０，１０，…を互いに隣接するように並べて接着固定する。

そして、複数のローバー１０，１０，…が接着固定された固定治具１８をＸＹＺステージ２上に載置し、ＡＢＳ形成面１２に現れた読み書き部１６等のパターンを基準（アライメントマーク）として、各ローバー１０に一つずつマスクパターン３ａを露光し、フォトリゾ加工を行う。このとき、グローバルアライメント顕微鏡６によるアライメントマークの検出結果から、ベースライン長Ｌを考慮して露光するローバー１０とレチクル３との位置関係を調節し、投影光学系５によりレチクル３のマスクパターン３ａをローバー１０に投影する。

本実施形態においては、温度変化によるベースライン長Ｌの変動を抑えるため、投影光学系５がメインベース部材２０に保持され、グローバルアライメント顕微鏡６が補正ベース部材３０に保持されている。そして、メインベース部材２０の線膨張係数をδ１とし、補正ベース部材３０の線膨張係数をδ２とし、ベースライン長をＬとし、補正ベース部材３０に保持されたグローバルアライメント顕微鏡６の光軸Ｏ１（すなわち、顕微鏡保持孔３１の中心）から補正ベース固定孔３３までの距離をＭとしたとき、次の条件式（１）で表される条件を満足している。なお、条件式（１）において、Ｎ＝Ｌ＋Ｍである。

δ１×Ｎ−δ２×Ｍ＝０ …（１）

このようにすれば、本実施形態では、補正ベース部材３０の補正ベース固定孔３３が温度変化に拘わらずメインベース部材２０に対して固定され、補正ベース部材３０の熱膨張する方向が＋Ｙ方向となって、補正ベース部材３０が取り付けられる側のメインベース部材２０の熱膨張する方向（−Ｙ方向）と逆方向になるため、メインベース部材２０における投影部取付孔２３の中心（光軸Ｏ２）と補正ベース基準孔２６（すなわち、補正ベース部材３０の補正ベース固定孔３３）との間の熱膨張量（収縮量）と、補正ベース部材３０における顕微鏡保持孔３１の中心（光軸Ｏ１）と補正ベース固定孔３３との間の熱膨張量（収縮量）とが条件式（１）のように等しいと、温度変化に拘わらずベースライン長Ｌが一定となる。

例えば、Ｌ＝１００ｍｍであった場合、前述したように、δ１＝３×１０^−６（１／℃）であり、δ２＝９．９×１０^−６（１／℃）であるため、Ｍ＝４３．５ｍｍとなる。

この結果、本実施形態の露光装置１によれば、メインベース部材２０および補正ベース部材３０が互いに逆方向に熱膨張するように、補正ベース部材３０をメインベース部材２０に契合させて、温度変化に拘わらずベースライン長Ｌが一定となるように構成されるため、温度変化により生ずるアライメント誤差を低減させることが可能になる。

具体的には、条件式（１）で表される条件を満足することにより、温度変化に拘わらずベースライン長Ｌが一定となり、温度変化により生ずるアライメント誤差を確実に低減させることできる。なお、相対的に線膨張係数の差があればよいので、組み合わせにより、より低価格の材料を使用することが可能になる。また現実的には、クリーンルームの温度変動（±０．５℃）とアライメント精度とを考え合わせると、条件式（１）は、｜δ１×（Ｌ＋Ｍ）−δ２×Ｍ｜＜０．００２（ｍｍ／℃）を満たせばよい。

このとき、メインベース部材２０の材料がインバー材であるとともに、補正ベース部材３０の材料がステンレス材であることが好ましく、このようにすれば、インバー材が低膨張材料である（δ１が小さくなる）ため、条件式（１）におけるＭ寸法を大きくする必要がなく、メインベース部材２０および補正ベース部材３０を小さくすることが可能になる。

また、メインベース部材２０が投影光学系５を保持するとともに、補正ベース部材３０がグローバルアライメント顕微鏡６を保持することが好ましく、このようにすれば、比較的重量のある投影光学系５がメインベース部材２０に保持されることで、装置の組み付けを容易にすることができる。

なお、上述の実施形態において、投影光学系５がメインベース部材２０に保持されるとともに、グローバルアライメント顕微鏡６が補正ベース部材３０に保持されているが、これに限られるものではない。例えば、図４に示す露光装置１００は、グローバルアライメント顕微鏡６がメインベース部材１２０に保持され、投影光学系５が補正ベース部材１３０に保持されている。

メインベース部材１２０は、鋳鉄（ＦＣ２００）を用いて板状に形成され、図示省略するベース搭載台の上部に取り付けられる。なお、鋳鉄（ＦＣ２００）の線膨張係数は、１２×１０^−６（１／℃）である。このとき、グローバルアライメント顕微鏡６の鏡筒部分の材料は、メインベース部材１２０と同じ材料（鋳鉄）であることが好ましく、このようにすれば、線膨張係数の違いによる対策（スリット等）を行う必要がなく、メインベース部材１２０の構造を簡素化することが可能になり、さらには、ベース搭載台も鋳鉄を用いて製作することが可能になることから、安価な材料を用いて製造コストを低減させることが可能になる。また、このメインベース部材１２０には、上述の実施形態の場合と同様にして、補正ベース基準孔および補正ベース取付孔（図示せず）が形成される。

補正ベース部材１３０は、投影光学系５の鏡筒部５ａと同じ材料である黄銅（Ｃ３６０１ＢＤ）を用いて板状に形成され、メインベース部材１２０の上面に重なるように取り付けられる。なお、黄銅（Ｃ３６０１ＢＤ）の線膨張係数は、２０．５×１０^−６（１／℃）であり、メインベース部材１２０の線膨張係数が補正ベース部材１３０の線膨張係数よりも低くなることになる。このように、投影光学系５の鏡筒部５ａと同じ材料を用いることで、線膨張係数の違いによる対策（スリット等）を行う必要がなく、補正ベース部材１３０の構造を簡素化することが可能になることから、製造コストを低減させることが可能になる。

また、この補正ベース部材１３０には、上述の実施形態の場合と同様にして、補正ベース固定孔１３３と、補正ベース連結孔およびスリット部（図示せず）が形成される。そして、補正ベース部材１３０をメインベース部材１２０に取り付ける際、補正ベース固定孔１３３とメインベース部材１２０の補正ベース基準孔と位置が合わせられた状態で締結部材により緊締され、補正ベース部材１３０が熱膨張および収縮する際、補正ベース部材１３０の一端側に位置する補正ベース固定孔１３３が温度変化に拘わらずメインベース部材１２０に対して固定され、補正ベース部材１３０の他端側がメインベース部材１２０に対して伸縮することになる。

このような構成の露光装置１００においても、メインベース部材１２０の線膨張係数をδ１とし、補正ベース部材１３０の線膨張係数をδ２とし、グローバルアライメント顕微鏡６の光軸Ｏ１と投影光学系５の光軸Ｏ２との間のベースライン長をＬとし、補正ベース部材１３０に保持された投影光学系５の光軸Ｏ２から補正ベース固定孔１３３までの距離をＭとして、前述の条件式（１）で表される条件を満足するようにすることで、上述の実施形態の場合と同様にして、温度変化に拘わらずベースライン長Ｌが一定となり、温度変化により生ずるアライメント誤差を低減させることが可能になる。さらに、メインベース部材１２０および補正ベース部材１３０の材料として鋳鉄や黄銅といった安価な材料を用いているため、製造コストを低減させることができる。

なお、例えば、Ｌ＝１００ｍｍであった場合、前述したように、δ１＝１２×１０^−６（１／℃）であり、δ２＝２０．５×１０^−６（１／℃）であるため、Ｍ＝１４１．２ｍｍとなる。

また、上述の実施形態において、被露光体としてローバー１０を露光しているが、これに限られるものではなく、半導体ウェハに対して露光を行う露光装置に対しても、本発明を適用することが可能である。

本発明に係る露光装置の斜視図である。 メインベースの平面図である。 補正ベースの平面図である。 露光装置の変形例を示す斜視図である。 磁気ヘッドの斜視図である。 ウェハの斜視図である。 ローバーの斜視図である。 ローバーおよび固定治具の模式図である。

符号の説明

１ 露光装置
３ レチクル（３ａ マスクパターン） ５ 投影光学系（５ａ 鏡筒部）
６ グローバルアライメント顕微鏡（位置検出光学系）
２０ メインベース部材
３０ 補正ベース部材 ３３ 補正ベース固定孔（固定部）
１００ 露光装置（変形例）
１２０ メインベース部材
１３０ 補正ベース部材 １３３ 補正ベース固定孔（固定部）
Ｏ１ グローバルアライメント顕微鏡の光軸
Ｏ２ 投影光学系の光軸

Claims (4)

1. レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系と、前記被露光体に設けられたアライメントマークを検出する位置検出光学系とを備え、前記位置検出光学系の光軸と前記投影光学系の光軸との間の距離であるベースライン長に基づいて、前記レチクルのパターンを前記被露光体に投影露光するように構成された露光装置において、
   前記投影光学系および前記位置検出光学系のうちいずれか一方を保持するメインベース部材と、
   前記投影光学系および前記位置検出光学系のうち他方を保持して前記メインベース部材に取り付けられる補正ベース部材とを有し、
   温度変化に拘わらず前記ベースライン長がほぼ一定となるように前記補正ベース部材と前記メインベース部材を契合して構成されることを特徴とする露光装置。
2. 前記メインベース部材が板状に形成され、
   前記補正ベース部材が板状に形成されて前記メインベース部材に重なるように取り付けられており、
   前記補正ベース部材は、前記投影光学系の光軸および前記位置検出光学系の光軸と直交する延長線上に、温度変化に拘わらず前記メインベース部材に対して固定される固定部を有し、
   前記メインベース部材の線膨張係数をδ１とし、前記補正ベース部材の線膨張係数をδ２とし、前記位置検出光学系の光軸と前記投影光学系の光軸との間の前記ベースライン長をＬとし、前記補正ベース部材が保持する前記投影光学系もしくは前記位置検出光学系の光軸から前記固定部までの距離をＭとしたとき、次式
   ｜δ１×（Ｌ＋Ｍ）−δ２×Ｍ｜＜０．００２ （単位：ｍｍ／℃）
   の条件を満足することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記メインベース部材の材料がインバー材であるとともに、前記補正ベース部材の材料がステンレス材であることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
4. 前記メインベース部材が前記投影光学系を保持するとともに、前記補正ベース部材が前記位置検出光学系を保持するように構成されることを特徴とする請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の露光装置。

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