JP5763598B2 - プラント制御装置、プラント制御方法及びプラント制御プログラム - Google Patents
プラント制御装置、プラント制御方法及びプラント制御プログラム Download PDFInfo
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Description
以下、本発明の実施例を、熱間圧延機における圧延機スタンド間張力制御を例に説明する。図1は、本実施形態に係る張力制御系を示す図である。図1に示すように、スタンド間張力制御部10は、熱間タンデム圧延機のi−1スタンド圧延機1とiスタンド圧延機2の間にある被圧延材8にかかる張力を、ルーパ7に設置された張力計9により検知し、i−1スタンド速度制御装置11に対する速度指令を変更することでi−1スタンド圧延機1のロール速度を制御する。
実施の形態1においては、制御動作制限装置200として制御偏差ゲインを用いたが、単純なデッドバンドのように他の制御動作制限手段を用いても良い。また、実施の形態1においては、熱間タンデム圧延機のスタンド間張力制御につき説明したが、同様な方法は冷間タンデム圧延機をはじめとする種々の制御対象プラントに適用可能である。
2 iスタンド圧延機
7 ルーパ
8 被圧延材
9 張力系
10 スタンド間張力制御
11 i−1スタンド速度制御装置
12 iスタンド速度制御装置
13 油圧シリンダ
14 ルーパ支点
15 ルーパアーム
16 ルーパロール
17 シリンダ位置検知器
20 ルーパ位置制御装置
30 被圧延材先端部
31 速度−張力応答
32 板張力−シリンダー圧力
33 板道長変化ー−張力
34 ルーパ位置−スタンド間張力
35 ルーパ機械系
101 CPU
102 RAM
103 ROM
104 HDD
105 I/F
106 LCD
107 操作部
108 バス
200 制御動作制限装置
201 定常偏差補償装置
202 定常偏差補償実施可否選択装置
203 制御ゲイン修正装置
204 制御ゲイン学習装置
205 制御ゲインデータベース
250 上位計算機
300 制御対象プラント
301 制御装置
Claims (7)
- 制御対象のプラントの状態量偏差に基づいて帰還制御を行うプラント制御装置であって、
前記状態量偏差に基づく比例制御、積分制御及び微分制御の少なくともいずれか1つの帰還制御を行う第1の制御部と、
前記状態量偏差に基づき、前記第1の制御部による制御ゲインより低い制御ゲインの積分制御を行う第2の制御部と、
前記状態量偏差の絶対値が所定値以下である場合に、前記第1の制御部による帰還制御を制限し、前記第2の制御部に積分制御を実行させる制御切替部と、
前記第2の制御部による積分制御に対する前記制御対象のプラントの制御応答に基づいて前記第1の制御部の制御ゲインを調整するゲイン調整部とを含むことを特徴とするプラント制御装置。 - 前記制御切替部は、前記プラントの状態量偏差の絶対値が所定の制限開始閾値以下である場合に前記第1の制御部に入力される前記状態量偏差を調整することにより前記第1の制御部による帰還制御を制限することを特徴とする請求項1に記載のプラント制御装置。
- 前記制御切替部は、前記プラントの状態量偏差の絶対値が前記制限開始閾値以下である場合に、前記プラントの状態量偏差の絶対値が前記制限開始閾値よりも小さい制限完了閾値に近付くにつれて前記第1の制御部に入力される前記状態量偏差がゼロに近づくように調整し、前記プラントの状態量偏差が前記制限完了閾値以下である場合に前記第1の制御部に入力される状態量偏差をゼロとすることを特徴とする請求項2に記載のプラント制御部。
- 前記第2の制御部は、入力された状態量偏差に基づいて積分制御を開始した後、前記状態量偏差を所定範囲内で所定期間安定させた後に前記状態量偏差がゼロになるように前記積分制御を開始することを特徴とする請求項1に記載のプラント制御部。
- 前記ゲイン調整部は、前記第2の制御部による積分制御によって前記状態量偏差が所定の割合まで減少するまでの期間に基づいて前記第1の制御部の制御ゲインを調整することを特徴とする請求項1に記載のプラント制御部。
- 制御対象のプラントの状態量偏差に基づく比例制御、積分制御及び微分制御の少なくともいずれか1つの帰還制御を行う第1の制御部と、前記状態量偏差に基づき、前記第1の制御部による制御ゲインより低い制御ゲインの積分制御を行う第2の制御部とを切り替えて前記制御対象のプラントを制御するプラント制御方法であって、
前記状態量偏差の絶対値が所定値以下である場合に、前記第1の制御部による帰還制御を制限し、前記第2の制御部に積分制御を実行させ、
前記第2の制御部による積分制御に対する前記制御対象のプラントの制御応答に基づいて前記第1の制御部の制御ゲインを調整することを特徴とするプラント制御方法。 - 制御対象のプラントの状態量偏差に基づく比例制御、積分制御及び微分制御の少なくともいずれか1つの帰還制御を行う第1の制御部と、前記状態量偏差に基づき、前記第1の制御部による制御ゲインより低い制御ゲインの積分制御を行う第2の制御部とを切り替えて前記制御対象のプラントを制御するプラント制御プログラムであって、
前記状態量偏差の絶対値が所定値以下である場合に、前記第1の制御部による帰還制御を制限し、前記第2の制御部に積分制御を実行させるステップと、
前記第2の制御部による積分制御に対する前記制御対象のプラントの制御応答に基づいて前記第1の制御部の制御ゲインを調整するステップとを情報処理装置に実行させることを特徴とするプラント制御プログラム。
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