JP5749468B2 - 回路装置およびその製造方法 - Google Patents

回路装置およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5749468B2
JP5749468B2 JP2010213693A JP2010213693A JP5749468B2 JP 5749468 B2 JP5749468 B2 JP 5749468B2 JP 2010213693 A JP2010213693 A JP 2010213693A JP 2010213693 A JP2010213693 A JP 2010213693A JP 5749468 B2 JP5749468 B2 JP 5749468B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead
substrate
circuit
circuit element
leads
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010213693A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012069763A (ja
Inventor
真下 茂明
茂明 真下
文夫 堀内
文夫 堀内
清昭 工藤
清昭 工藤
章 櫻井
章 櫻井
裕紀 稲垣
裕紀 稲垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Components Industries LLC
Original Assignee
Semiconductor Components Industries LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Components Industries LLC filed Critical Semiconductor Components Industries LLC
Priority to JP2010213693A priority Critical patent/JP5749468B2/ja
Priority to US13/240,870 priority patent/US8450837B2/en
Priority to CN201110285320.2A priority patent/CN102420223B/zh
Priority to KR1020110096143A priority patent/KR101300954B1/ko
Publication of JP2012069763A publication Critical patent/JP2012069763A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5749468B2 publication Critical patent/JP5749468B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49517Additional leads
    • H01L23/49531Additional leads the additional leads being a wiring board
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/42Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
    • H01L23/433Auxiliary members in containers characterised by their shape, e.g. pistons
    • H01L23/4334Auxiliary members in encapsulations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • H01L23/49548Cross section geometry
    • H01L23/49551Cross section geometry characterised by bent parts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49575Assemblies of semiconductor devices on lead frames
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/16Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/16Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
    • H01L25/162Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits the devices being mounted on two or more different substrates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/16Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/2612Auxiliary members for layer connectors, e.g. spacers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/4501Shape
    • H01L2224/45012Cross-sectional shape
    • H01L2224/45015Cross-sectional shape being circular
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45117Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/45124Aluminium (Al) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48095Kinked
    • H01L2224/48096Kinked the kinked part being in proximity to the bonding area on the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • H01L2224/48139Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate with an intermediate bond, e.g. continuous wire daisy chain
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/4847Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
    • H01L2224/48472Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond the other connecting portion not on the bonding area also being a wedge bond, i.e. wedge-to-wedge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/485Material
    • H01L2224/48505Material at the bonding interface
    • H01L2224/48699Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al)
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/49105Connecting at different heights
    • H01L2224/49109Connecting at different heights outside the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • H01L2224/49113Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting different bonding areas on the semiconductor or solid-state body to a common bonding area outside the body, e.g. converging wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01013Aluminum [Al]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01023Vanadium [V]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01074Tungsten [W]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/078Adhesive characteristics other than chemical
    • H01L2924/0781Adhesive characteristics other than chemical being an ohmic electrical conductor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19107Disposition of discrete passive components off-chip wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/20Parameters
    • H01L2924/207Diameter ranges
    • H01L2924/20752Diameter ranges larger or equal to 20 microns less than 30 microns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/20Parameters
    • H01L2924/207Diameter ranges
    • H01L2924/20753Diameter ranges larger or equal to 30 microns less than 40 microns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/20Parameters
    • H01L2924/207Diameter ranges
    • H01L2924/20754Diameter ranges larger or equal to 40 microns less than 50 microns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/20Parameters
    • H01L2924/207Diameter ranges
    • H01L2924/20755Diameter ranges larger or equal to 50 microns less than 60 microns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/20Parameters
    • H01L2924/207Diameter ranges
    • H01L2924/20756Diameter ranges larger or equal to 60 microns less than 70 microns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/20Parameters
    • H01L2924/207Diameter ranges
    • H01L2924/20757Diameter ranges larger or equal to 70 microns less than 80 microns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/20Parameters
    • H01L2924/207Diameter ranges
    • H01L2924/20758Diameter ranges larger or equal to 80 microns less than 90 microns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/20Parameters
    • H01L2924/207Diameter ranges
    • H01L2924/20759Diameter ranges larger or equal to 90 microns less than 100 microns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/20Parameters
    • H01L2924/207Diameter ranges
    • H01L2924/2076Diameter ranges equal to or larger than 100 microns

Description

本発明は回路装置およびその製造方法に関し、特に、大電流のスイッチングを行うパワー系の半導体素子と、この半導体素子を制御する制御素子が内蔵された回路装置およびその製造方法に関する。
図9を参照して、従来の混成集積回路装置100の構成を説明する(下記特許文献1を参照)。矩形の基板101の表面には、絶縁層102を介して導電パターン103が形成され、この導電パターン103に回路素子が固着されて、所定の電気回路が形成される。ここでは、回路素子として半導体素子105Aおよびチップ素子105Bが、導電パターン103に接続されている。リード104は、基板101の周辺部に形成された導電パターン103から成るパッド109に接続され、外部端子として機能している。封止樹脂108は、基板101の表面に形成された電気回路を封止する機能を有する。
半導体素子105Aは、例えば数アンペア〜数百アンペア程度の大電流が通過するパワー系の素子であり、発熱量が非常に大きい。このことから、半導体素子105Aは、導電パターン103に載置されたヒートシンク110の上部に載置されていた。ヒートシンク110は、例えば縦×横×厚み=10mm×10mm×1mm程度の銅等の金属片から成る。
特開平5−102645号公報
上記した構成を備える混成集積回路装置100には、例えば、動作に伴う発熱量が多いインバータ回路が内蔵される。インバータ回路で大電流の直流電力を交流電力に変換することにより多量の熱が発生しても、発生した熱は基板101を経由して良好に外部に放出される。
しかしながら、このような構成の混成集積回路装置100では、半導体素子105Aのスイッチングを制御する制御素子を混成集積回路装置100とは別途に用意する必要があり、このことがコスト高を招いていた。また、回路基板101の上面に、半導体素子105Aと共に制御素子を実装することも可能である。しかしながら、このようにすると、熱伝導性に優れた基板101を経由して、半導体素子105Aから発生した熱が制御素子に伝導して制御素子が過熱状態と成り誤作動を招く恐れがあった。
更に、インバータ回路等の大電流を変換する回路を基板101の上面に形成すると、電流容量を確保するために導電パターン103の幅を広くする必要がり、このことが混成集積回路装置100の小型化を阻害していた。
本発明は、上述した問題を鑑みてなされ、本発明の主な目的は、放熱性に優れた小型の回路装置およびその製造方法を提供することにある。
本発明の回路装置は、第1基板と、外部に露出するリード部と前記第1基板の上面に固着されたアイランド部とを有するリードと、前記リードの前記アイランド部に実装された第1回路素子と、前記第1回路素子と電気的に接続される第2回路素子が実装されると共に、前記第1基板と重畳する位置で前記リードに接続された第2基板と、前記第1基板、前記第2基板、前記第1回路素子および前記第2回路素子を被覆する封止樹脂と、を備え、前記リードの内側の端部は、前記第1回路素子と接続されるボンディング部と、前記第2基板を支持する支持部とに枝分かれすることを特徴とする。
本発明の回路装置の製造方法は、複数のリードから成るリードフレームを用意する工程と、前記リードの一部に設けたアイランド部の上面に第1回路素子を実装し、前記アイランド部の下面を第1基板の上面に固着すると共に、第2回路素子が実装された第2基板を前記リードで支持する工程と、前記第1基板、前記第1回路素子、前記第2基板および前記第2回路素子を封止する工程と、を備え、第2基板を前記リードで支持する工程では、内側の端部で枝分かれする前記リードの一方側であるボンディング部と前記第1回路素子とを接続し、内側の端部で枝分かれする前記リードの他方側である支持部で前記第2基板を支持することを特徴とする。
本発明によれば、例えば大電流のスイッチングを行うトランジスタである第1回路素子を第1基板に実装し、この半導体素子を制御する第2回路素子が実装された第2基板を、第1回路素子に重畳して配置している。このようにすることで、発熱量が大きい第1回路素子と、この第1回路素子を制御する第2回路素子を1つの回路装置に内蔵することが可能となる。
更に本発明によれば、リードの一部から成るアイランド部の上面に第1回路素子を実装し、このアイランド部の下面を第1基板の上面に固着している。このことにより、第1回路素子を通過した大電流を、従来の導電パターンを経由せずに外部に取り出すことが可能となる。従って、幅広な導電パターンが第1基板の上面から排除されるので、装置全体が小型化される。
本発明の回路装置を示す図であり、(A)は斜視図であり、(B)は断面図である。 本発明の回路装置を示す平面図であり、(A)はリードの構成を示す平面図であり、(B)は制御基板を示す平面図である。 (A)および(B)は、本発明の回路装置を部分的に示す断面図である。 (A)および(B)は、本発明の回路装置を部分的に示す断面図である。 本発明の回路装置を示す図であり、(A)は組み込まれるインバータ回路を示す回路図であり、(B)はリードを抜き出して示す平面図であり、(C)はリードを示す断面図である。 本発明の回路装置の製造方法を示す図であり、(A)は平面図であり、(B)は断面図である。 本発明の回路装置の製造方法を示す図であり、(A)は平面図であり、(B)は断面図である。 本発明の回路装置の製造方法を示す図であり、(A)は断面図であり、(B)は平面図である。 背景技術の混成集積回路装置を示す断面図である。
図1から図5を参照して、先ず、回路装置の一例として混成集積回路装置10の構造を説明する。
図1を参照して、本形態の混成集積回路装置10の構成を説明する。図1(A)は混成集積回路装置10を斜め上方から見た斜視図である。図1(B)は混成集積回路装置10の断面図である。
図1(A)および図1(B)を参照して、混成集積回路装置10は、トランジスタ22等の回路素子(第1回路素子)が配置された回路基板12(第1基板)と、トランジスタ22を制御する制御素子42等(第2回路素子)が実装された制御基板(第2基板)とが重畳して配置されており、回路基板12および制御基板14は封止樹脂16により一体的に樹脂封止されている。更に、回路基板12の上面に配置されたトランジスタ22や、制御基板14の上面に実装された制御素子42も、封止樹脂16により被覆されている。更にまた、回路基板12および制御基板14に配置された各回路素子は、リード18、20を経由して外部と接続される。
回路基板12は、アルミニウム(Al)や銅(Cu)等の金属を主材料とする金属基板である。回路基板12の具体的な大きさは、例えば、縦×横×厚さ=30mm×15mm×1.5mm程度である。回路基板12としてアルミニウムより成る基板を採用した場合は、回路基板12の両主面はアルマイト処理される。ここでは、回路基板12の上面および側面が封止樹脂16により被覆されて、下面は外部に露出している。このことにより、露出する回路基板12の下面にヒートシンクを当接させることが可能となり、放熱性が向上される。また、耐湿性および絶縁耐圧性を確保するために、回路基板12の下面を封止樹脂16で被覆しても良い。
制御基板14は、ガラスエポキシ基板等の安価な絶縁材料からなる基板であり、上面または両主面に厚みが50μm程度の導電パターンが形成されている。制御基板14には、回路基板12に配置されたトランジスタ22を制御する制御素子42や、チップ抵抗やチップコンデンサ等の受動素子が配置されている。これらの素子は動作時の発熱が小さいので、放熱性に劣る材料からなる制御基板14であっても十分に対処可能である。ここで、図1(B)では、LSIである制御素子42は樹脂封止されたパッケージの状態で制御基板14の上面に実装されているが、ベアチップの状態で制御基板14の上面に実装されても良い。
図1(B)を参照すると、紙面上の左側にリード18が設けられ、右側にリード20が設けられている。これらのリード18、20は、装置の外部端子として機能するだけではなく、回路基板12および制御基板14を製造工程で機械的に支持する機能も備えている。更には、リード20は、回路基板12の上面に配置されたトランジスタ22等と、制御基板14の上面に配置された制御素子42とを電気的に接続する経路の一部としても機能している。ここでは、封止樹脂16の対向する2つの側面からリードが外部に導出されているが、1つの側面または4つの側辺から複数のリードが外部に導出されるようにしても良い。
リード18は、回路基板12の一側辺に沿って複数個が設けられている。このリード18には、制御基板14を機械的に支持するリードと、トランジスタ22等の回路素子が実装されるリードが含まれる。図1(B)を参照すると、リード18は、内側から、アイランド部28、傾斜部30、ボンディング部34およびリード部32から構成されている。アイランド部28の上面にはトランジスタ22およびダイオード24が半田等の導電性固着剤を経由して固着されている。そして、アイランド部28の下面は回路基板12の上面に固着されている。このことにより、トランジスタ22およびダイオード24が動作時に発生した熱は、アイランド部28および回路基板12を経由して良好に外部に放出される。更に、リード18の中間部に、傾斜部30を設けることにより、回路基板12の左上部の端部がリード18と離間して、両者のショートが防止される。また、ボンディング部34は、金属細線26(例えば直径が20μm〜500μmのアルミワイヤ)を経由してトランジスタ22およびダイオード24と接続される部位である。金属細線26を介した接続構造は図5(B)を参照して後述する。
更に、一部のリード18では、内側の端部が上方を向くように曲折加工されている。このように加工されたリード18の端部にて、制御基板14が支持されている。この部位の詳細は図4を参照して後述する構造と同様である。
リード20は、リード18に対向する位置に複数個が設けられている。リード20の内側に設けられたボンディング部36は、リード18のアイランド部28に実装されたトランジスタ22と、電気的に接続されている。また、リード20の内側の端部は枝分かれして、上方に向かって曲折されて制御基板14を機械的に支持している。
リード18とリード20との機能は異なる。具体的には、図1(B)で左側に配置されたリード18は、トランジスタ22やダイオード24が実装される。そして、これらの素子から成るインバータ回路により変換される直流電流や、変換後の交流電流がリード18を通過する。一方、紙面上にて右側のリード20は、回路基板12の上面に配置されるトランジスタ22の制御電極と、制御基板14に実装される制御素子42とを接続する働きを有する。
図2(A)を参照してリード18、20の構成を説明する。この図を参照して、リード18A−18Jと、リード20A−20Lは、互いに対向するように配置されている。
リード18A−18Jの中で、端部に配置されたリード18A、18Jは、図1(B)に示す制御基板14を機械的に支持するためのリードであり、紙面上における上方端部が制御基板14の下面に接触する。リード18Bは、外部から直流電流が供給されるリードであり、電流値を検出するための抵抗45がリード18B、18Cの間に配置されている。
リード18D−18Iは、各々の上面に、3相のインバータ回路を構成するトランジスタおよびダイオードが実装されている。この事項の詳細は図5を参照して後述する。
リード20A−20Lの中で、端部に配置されたリード20A、20Lは、制御基板14を機械的に支持するためのリードである。また、リード20C、20Dは、金属細線26を経由して夫々がリード18B、18Cと接続され、電流値を検出するために用いられる。
リード20F−20Jは、リード18D−18Iに実装されたトランジスタの制御電極と接続されている。そして、例えばリード20Eの内側の端部は、ボンディング部36と支持部38に枝分かれしている。ボンディング部36は、金属細線26を経由して、リード18Dに実装されたトランジスタの制御電極と接続される。そして、支持部38は制御基板14と接続される(図1(B)参照)。このことにより、リード20Eを経由して、リード18Dに実装されたトランジスタと、制御基板14に実装された制御素子42とが電気的に接続される。リード20Eの支持部38と制御基板14とが接続される構造は、図4を参照して後述する。
図2(B)は、上記したリードの上方に配置される制御基板14を示す平面図である。この図を参照すると、制御基板14の上面には所定形状の導電パターン50が形成され、この導電パターン50に制御素子42やチップ素子等の受動素子が接続されている。
制御基板14の紙面上における上側側辺に沿って複数個のパッドが設けられている。これらのパッドの内、端部の裏面に配置されたパッド50A、50Bは、図2に示したリード20A、20Lが固着されるパッドである。パッド50A、50Bは、リードと固着するためのものであり、電気信号が通過しない所謂ダミーパッドである。また、中間部に設けられたパッドは、図2(A)に示すリード20B−20Jと接続されて、制御信号が通過するパッドとして機能する。
制御基板14の紙面上に於ける下側側辺の両端にパッド50C、50Dが配置されている。これらのパッドは、図2(A)に示すリード18A、18Jの端部と固着されて、制御基板14を機械的に支持するためのパッドである。
上記した各パッドにリードが固着される構造は図4を参照して後述する。
図3(A)および図3(B)の断面図を参照して、リードのアイランド部28が回路基板12の上面に固着される構造を説明する。
図3(A)を参照して、アルミニウム等の金属からなる回路基板12の上面は、絶縁層44により被覆されている。絶縁層44は、AL等のフィラーが例えば60重量%〜80重量%程度に高充填されたエポキシ樹脂等から成る。そして、絶縁層44の上面に、厚みが50μm程度の銅等の金属からなる導電パターン46が形成され、この導電パターン46の上面に半田等の固着材48を介して、リードのアイランド部28が固着されている。このことにより、トランジスタ22が動作時に発生する熱は、アイランド部28、固着材48、導電パターン46および回路基板12を経由して外部に放出される。
図3(B)では、絶縁層44の上面に導電パターンが形成されず、アイランド部28の下面は、導電性又は絶縁性の固着材48を介して絶縁層44の上面に固着されている。
図4(A)を参照して、リード20が制御基板14と接続される構成を説明する。リード20の内側の先端部は、支持部38とボンディング部36に枝分かれしており、支持部38は上方に曲折加工されている一方、ボンディング部36は下方に曲折加工されている。ボンディング部36は金属細線26を経由してトランジスタ22の制御電極と接続され、支持部38は制御基板14と接続される。
具体的には、ガラスエポキシ樹脂等の絶縁材料から成る基材の上面に導電パターン50が形成されており、下面にも導電パターン52がパッド状に形成されている。また、上面の導電パターン50と下面の導電パターン52とは、制御基板14を貫通する貫通電極54により接続されている。そして、制御基板14の下面に設けた導電パターン52が、導電性の固着材を介して支持部38と接続されている。このことにより、制御基板14の上面に実装された制御素子42と、回路基板12の上面に配置されたトランジスタ22が、リード20を経由して接続される。従って、制御素子42から供給される制御信号に基づいて、トランジスタ22がスイッチング動作を行う。
図4(B)を参照して、リード20の支持部38と制御基板14とを、金属細線26を経由して接続しても良い。具体的には、金属細線26の一端が制御基板14の上面に配置された導電パターン50に接続され、他端が支持部38の上面に接続される。この場合は、制御基板14の裏面に導電パターンを設ける必要がなくなり、更に制御基板14を貫通する貫通電極も不要となる。
図5を参照して、混成集積回路装置10に3相のインバータ回路が組み込まれた場合の構成を説明する。図5(A)はインバータ回路の回路図であり、図5(B)はリードの構成を示す平面図であり、図5(C)はリード18の断面図である。
図5(A)を参照して、インバータ回路56は、6個のIGBT(Q1−Q6)と6個のダイオード(D1−D6)から構成され、Q1−Q3がハイサイド側のトランジスタであり、Q4−Q6がローサイド側のトランジスタである。そして、各IGBT(Q1−Q6)のコレクタ電極およびエミッタ電極には、逆並列にフライホイールダイオード(D1−D6)が接続されている。この様に、フライホイールダイオードをIGBTに対して逆並列に接続させることで、誘導性負荷に発生する逆起電力からIGBTが過電圧破壊されないように保護される。
このような構成により、インバータ回路56に入力された直流電力は3相(U、V、W)の交流電力に変換され、この交流電力により負荷であるモータMが駆動回転される。
また、IGBT(Q1)とIGBT(Q4)とは直列に接続されており、排他的にオン/オフ制御されて両素子の中間点からU相の交流電力がリードを経由して外部に出力される。また、IGBT(Q2)とIGBT(Q5)とは直列に接続されており、排他的にオン/オフする両素子の中間点からV相の交流電力が外部に出力される。更に、直列接続されるIGBT(Q3)とIGBT(Q6)は排他的にオン/オフし、両者の中間点からW相の交流電力が外部に出力される。また、各IGBTのスイッチングは、図1(B)に示す制御素子42により制御されている。
図5(B)を参照して、リード18D−18Jが備える各アイランド部28D−28Jの上面には、IGBTおよびダイオードが半田等の導電性固着剤を介して固着されている。具体的には、リード18Dのアイランド部28DにはIGBT(Q1)とダイオードD1が実装され、リード18Eのアイランド部28EにはIGBT(Q2)とダイオードD2が実装される。そして、リード18Fのアイランド部28FにはIGBT(Q3)とダイオードD3が実装され、リード18Jのアイランド部28Jには3つのIGBT(Q4−Q6)とダイオードD4−D6が実装されている。ここで、各IGBTの裏面に設けられたコレクタ電極およびダイオードのカソード電極が、各アイランド部の上面に半田等の導電性接合材を介して接続される。
そして、各アイランドに実装されたトランジスタおよびダイオードは、インバータ回路を構成するために金属細線を経由して接続される。本形態では、各リードのアイランド部に実装されたトランジスタおよびダイオードは、金属細線を経由して隣接するリードのボンディング部と接続されている。
具体的には、リード18Dのアイランド部28Dに実装されたIGBT(Q1)のエミッタ電極およびダイオードD1のアノード電極は、金属細線26を経由して、リード18Cのボンディング部34Cに接続されている。また、リード18Eのアイランド部28Eに実装されたIBGT(Q2)のエミッタ電極およびダイオードD2のアノード電極は、金属細線26を経由して、リード18Dのボンディング部34Dに接続されている。更に、リード18Fのアイランド部28Fに実装されたIBGT(Q3)のエミッタ電極およびダイオードD3のアノード電極は、金属細線26を経由して、リード18Eのボンディング部34Eに接続されている。
更にまた、直流電源のマイナス側に接続されるアイランド部28Jに実装されたIGBT(Q4−Q6)およびD4−D6は、リード18D−18Fのボンディング部34D−34Fに接続される。具体的には、IGBT(Q4)のエミッタ電極およびダイオードD4のアノード電極が、金属細線26を経由して、リード18Dのボンディング部34Dと接続される。また、IGBT(Q5)のエミッタ電極およびダイオードD5のアノード電極が、金属細線26を経由して、リード18Eのボンディング部34Eと接続される。また、IGBT(Q6)のエミッタ電極およびダイオードD6のアノード電極が、金属細線26を経由して、リード18Fのボンディング部34Fと接続される。
本形態では、このように隣接したリード同士で金属細線による接続を行っている。更には、IGBT(Q4)およびダイオードD4とリード18Dのボンディング部34Dとを接続する金属細線26は、リード18E、18Fの上方を飛び越えて形成されている。ここで、リード18C−18Jが全体的に平坦な状態であると、このように複雑に形成される金属細線26同士が接触してショートを起こす恐れがある。本形態では、図5(C)に示すように、金属細線が接続されるボンディング部34は、傾斜部30を経由してアイランド部28よりも上方に位置している。このことにより、インバータ回路を構成するために金属細線を複雑な形状に形成しても、金属細線同士が接触してショートすることが防止されている。
更に本形態では、図1(B)に示すように、回路基板12の上面には導電パターンを形成せず、回路基板12の上面に載置されたリード18のアイランド部28にトランジスタ22およびダイオード24を実装している。即ち、本形態のリード18は外部出力端子として機能しているだけではなく、背景技術の導電パターンの機能も備えている。リード18のアイランド部28の厚みは例えば500μm程度であり、背景技術にて回路基板の上面に形成されていた導電パターンの厚み(50μm)よりも厚く形成されている。従って、数十アンペア程度の大電流に対処するために従来では薄い導電パターンを広く形成していたが、本形態では厚いリード18自体が広い断面積を有するので、リード18が占有する面積を従来の導電パターンよりも狭くすることが可能となる。このことが、装置全体の小型化に寄与する。
更にまた、本形態では、図1(B)を参照して、回路基板12に配置されたトランジスタ22の動作を制御する制御素子42を、回路基板12とは別体の制御基板14に配置している。このようにすることで、使用状況下にて高温となるトランジスタ22と制御素子42とを熱的に分離することが可能となる。更に本形態では、上記したように、トランジスタ22から発生した熱は金属からなる回路基板12を経由して良好に外部に放出される。従って、トランジスタ22の発熱に伴う制御素子42の過熱が防止される。
図6から図8を参照して、次に、上述した構成の混成集積回路装置10の製造方法を説明する。
図6を参照して、先ず、多数個のリード18、20が設けられたリードフレーム58を用意する。図6(A)は、リードフレーム58に設けられる1つのユニット60を示す平面図であり、図6(B)はユニット60を示す断面図である。
図6(A)を参照して、ユニット60は、一つの混成集積回路装置を構成する多数のリード18、20から成り、個々のリード18、20の一端は回路基板12が載置される領域内に位置する。リード18は、紙面上にてユニット60内部の左側に配置されており、上記したように、トランジスタやダイオードが実装されるアイランド部28が設けられている。リード20は、紙面上にて右側に配置されており、外部接続端子として機能すると共に、トランジスタの制御電極の接続および、制御基板を機械的に支持する役割を有する。
リードフレーム58には、このような構造を有する複数のユニット60が、額縁状の外枠64の内部に設けられており、以下の工程は各ユニット60に対して一括して行われる。
図6(B)に示すように、リード20の途中部分は曲折加工された傾斜部であり、上方に曲折されて後に制御基板を支持する支持部38が内側の端部に設けられている。また、後に実装されるトランジスタの制御電極と接続されるボンディング部36も、リード20の端部に設けられている。また、紙面上左側のリード18の途中部分にもプレス加工により曲折された傾斜部30が設けられている。そして、傾斜部30とリード部32との間に、ワイヤボンディングの為のボンディング部34が設けられている。
図7を参照して、次に、リードに回路素子および各基板を固着する。図7(A)は本工程を示す平面図であり、図7(B)は断面図である。図7(A)では、回路基板12および制御基板14が配置される領域を点線にて示している。
具体的は、先ず、リード18のアイランド部28に、半田等の導電性接着材を経由してトランジスタ22の裏面電極を固着する。同様に、ダイオード24の裏面電極を固着する。次に、トランジスタ22の電極を、金属細線26を経由して、リード18の中間部に設けたボンディング部34と接続する。同様に、金属細線26を経由して、トランジスタ22の制御電極(ゲート電極)をリード20のボンディング部36と接続する。
更に、図7(B)を参照して、回路基板12の上面にリード18のアイランド部28を固着する。アイランド部28の下面が回路基板12の上面に固着される構造は、図3(A)に示すように回路基板12の上面に形成された導電パターン46に固着されてもよいし、図3(B)に示すように回路基板12の上面を被覆する絶縁層44の上面に直に固着されても良い。
更に、リード18の支持部39およびリード20の支持部38に、制御基板14を固着する。また、リード20の支持部38と制御基板14の主面に設けられた導電パターンとを電気的に接続する。支持部38と制御基板14とが接続される構造は、図4に示した通りである。このような構成によって、回路基板12および制御基板14はリードフレーム58に固定される。
図8を参照して、次に、回路基板12および制御基板14が被覆されるように封止樹脂を形成する。図8(A)は金型を用いて回路基板12をモールドする工程を示す断面図であり、図8(B)はモールドを行った後のリードフレーム58を示す平面図である。
図8(A)を参照して、先ず、上金型68および下金型70から形成されるキャビティ72に、回路基板12および制御基板14をリードフレームに固定された状態で収納する。ここでは、上金型68および下金型70でリード18、20を挟持することにより、キャビティ72内部に於ける回路基板12および制御基板14の位置を固定している。更に、金型に設けたゲートからキャビティ72に樹脂を注入して、回路基板12、制御基板14および各回路素子等を封止する。本工程では、熱硬化性樹脂を用いたトランスファーモールドまたは、熱可塑性樹脂を用いたインジェクションモールドが行われる。ここで、回路基板12を封止する構造としては、樹脂封止のみには限らず、ポッティング、ケース材による封止などでも良い。
図8(B)を参照して、上述したモールド工程が終了した後に、リード18、20をリードフレーム58からプレス加工により分離する。具体的には、タイバー62が設けられた箇所にてリード18、20を個別に分離し、図1に示すような混成集積回路装置をリードフレーム58から分離する。
10 混成集積回路装置
12 回路基板
14 制御基板
16 封止樹脂
18 リード
18A、18B、18C、18D、18E、18F リード
18G、18H、18I、18J リード
20 リード
20A、20B、20C、20D、20E、20F リード
20G、20H、20I、20J、20K、20L リード
22 トランジスタ
24 ダイオード
26 金属細線
28 アイランド部
28D、28E、28F、28J アイランド部
30 傾斜部
32 リード部
34 ボンディング部
34C、34D、34E、34F ボンディング部
36 ボンディング部
38 支持部
39 支持部
40 導電パターン
42 制御素子
44 絶縁層
45 抵抗
46 導電パターン
48 固着材
50 導電パターン
50A、50B、50C、50D パッド
52 導電パターン
54 貫通電極
56 インバータ回路
58 リードフレーム
60 ユニット
62 タイバー
64 外枠
68 上金型
70 下金型
72 キャビティ
Q1、Q2、Q3、Q4、Q5、Q6 IGBT
D1、D2、D3、D4、D5、D6 ダイオード

Claims (10)

  1. 第1基板と、
    外部に露出するリード部と前記第1基板の上面に固着されたアイランド部とを有するリードと、
    前記リードの前記アイランド部に実装された第1回路素子と、
    前記第1回路素子と電気的に接続される第2回路素子が実装されると共に、前記第1基板と重畳する位置で前記リードに接続された第2基板と、
    前記第1基板、前記第2基板、前記第1回路素子および前記第2回路素子を被覆する封止樹脂と、
    を備え、
    前記リードの内側の端部は、前記第1回路素子と接続されるボンディング部と、前記第2基板を支持する支持部とに枝分かれすることを特徴とする回路装置。
  2. 前記リードには、前記第1基板の第1側辺に沿って配置されて前記アイランド部が設けられた複数の第1リードと、前記第1基板の他の側辺である第2側辺に沿って配置された複数の第2リードと、が含まれ、
    前記第1リードの前記アイランド部に前記第1回路素子が実装され、
    前記第2リードは接続手段を経由して前記第1回路素子と接続されることを特徴とする請求項1に記載の回路装置。
  3. 前記第1リードの前記リード部と前記アイランド部との間に、前記第1基板の主面から離間して前記第1回路素子と接続手段を経由して接続される第1ボンディング部が設けられることを特徴とする請求項2に記載の回路装置。
  4. 前記第ボンディング部は、前記第1基板の主面から離間して配置されることを特徴とする請求項に記載の回路装置。
  5. 隣接する一方の前記第1リードの前記アイランド部に実装された前記第1回路素子と、隣接する他方の前記第1リードの前記第1ボンディング部とを、接続手段を経由して電気的に接続することを特徴とする請求項3に記載の回路装置。
  6. 前記第1基板の下面は前記封止樹脂から外部に露出することを特徴とする請求項1から請求項の何れかに記載の回路装置。
  7. 前記第1回路素子は、インバータ回路を構成するトランジスタであり、
    前記第2回路素子は、前記トランジスタのスイッチングを制御する制御素子であることを特徴とする請求項1から請求項の何れかに記載の回路装置。
  8. 複数のリードから成るリードフレームを用意する工程と、
    前記リードの一部に設けたアイランド部の上面に第1回路素子を実装し、前記アイランド部の下面を第1基板の上面に固着すると共に、第2回路素子が実装された第2基板を前記リードで支持する工程と、
    前記第1基板、前記第1回路素子、前記第2基板および前記第2回路素子を封止する工程と、
    を備え、
    第2基板を前記リードで支持する工程では、内側の端部で枝分かれする前記リードの一方側であるボンディング部と前記第1回路素子とを接続し、内側の端部で枝分かれする前記リードの他方側である支持部で前記第2基板を支持することを特徴とする回路装置の製造方法。
  9. 前記第1基板は、前記リードの前記アイランド部に固着されることにより、前記リードフレームに固定されることを特徴とする請求項に記載の回路装置の製造方法。
  10. 前記リードは、外部に露出するリード部と、前記第1回路素子と接続手段を経由して接続されるボンディング部と、前記アイランド部とを有し、
    前記リードの前記アイランド部と前記ボンディング部との間に傾斜部が形成されることにより、前記ボンディング部を前記アイランド部よりも上方に配置することを特徴とする請求項または請求項に記載の回路装置の製造方法。
JP2010213693A 2010-09-24 2010-09-24 回路装置およびその製造方法 Active JP5749468B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010213693A JP5749468B2 (ja) 2010-09-24 2010-09-24 回路装置およびその製造方法
US13/240,870 US8450837B2 (en) 2010-09-24 2011-09-22 Circuit device having an improved heat dissipitation, and the method of manufacturing the same
CN201110285320.2A CN102420223B (zh) 2010-09-24 2011-09-23 电路装置及其制造方法
KR1020110096143A KR101300954B1 (ko) 2010-09-24 2011-09-23 회로 장치 및 그 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010213693A JP5749468B2 (ja) 2010-09-24 2010-09-24 回路装置およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012069763A JP2012069763A (ja) 2012-04-05
JP5749468B2 true JP5749468B2 (ja) 2015-07-15

Family

ID=45869813

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010213693A Active JP5749468B2 (ja) 2010-09-24 2010-09-24 回路装置およびその製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8450837B2 (ja)
JP (1) JP5749468B2 (ja)
KR (1) KR101300954B1 (ja)
CN (1) CN102420223B (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012069764A (ja) * 2010-09-24 2012-04-05 On Semiconductor Trading Ltd 回路装置およびその製造方法
JP2014007345A (ja) * 2012-06-26 2014-01-16 Denso Corp 集積回路
KR20140002330A (ko) * 2012-06-29 2014-01-08 삼성전기주식회사 중첩 모듈 패키지 및 그 제조 방법
CN103435001B (zh) * 2013-08-05 2016-03-02 天水华天微电子股份有限公司 混合集成电路装置及封装方法
JP6790372B2 (ja) * 2016-02-05 2020-11-25 富士電機株式会社 半導体装置
JP6623958B2 (ja) * 2016-07-12 2019-12-25 株式会社デンソー 駆動対象スイッチの駆動回路
JP6790684B2 (ja) * 2016-09-30 2020-11-25 富士電機株式会社 半導体装置
CN110235244B (zh) * 2017-02-06 2023-06-27 三菱电机株式会社 功率半导体模块以及电力转换装置
JP6594556B1 (ja) * 2018-01-17 2019-10-23 新電元工業株式会社 電子モジュール
KR102552077B1 (ko) * 2018-04-23 2023-07-06 현대자동차주식회사 적층형 파워 모듈 및 이의 제조 방법
US20220396154A1 (en) * 2021-06-14 2022-12-15 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Vehicle mounted electric power converter

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62216259A (ja) * 1986-03-17 1987-09-22 Fujitsu Ltd 混成集積回路の製造方法および構造
JP2951102B2 (ja) 1991-05-23 1999-09-20 三洋電機株式会社 混成集積回路
US5483217A (en) * 1992-07-15 1996-01-09 Nippondenso Co., Ltd. Electronic circuit device
JP3096536B2 (ja) * 1993-03-25 2000-10-10 三洋電機株式会社 混成集積回路
JPH10125826A (ja) * 1996-10-24 1998-05-15 Hitachi Ltd 半導体装置及びその製法
JPH10135380A (ja) * 1996-10-31 1998-05-22 Hitachi Ltd 半導体装置
JP3674333B2 (ja) * 1998-09-11 2005-07-20 株式会社日立製作所 パワー半導体モジュール並びにそれを用いた電動機駆動システム
JP4073559B2 (ja) * 1998-10-30 2008-04-09 三菱電機株式会社 半導体装置
JP3521785B2 (ja) * 1999-02-05 2004-04-19 株式会社日立製作所 樹脂封止した半導体装置
KR100403608B1 (ko) * 2000-11-10 2003-11-01 페어차일드코리아반도체 주식회사 스택구조의 인텔리젠트 파워 모듈 패키지 및 그 제조방법
AU2003299866A1 (en) * 2003-02-25 2004-09-28 Tessera, Inc. High frequency chip packages with connecting elements
JP4100332B2 (ja) * 2003-11-12 2008-06-11 株式会社デンソー 電子装置およびその製造方法
JP4146785B2 (ja) * 2003-11-19 2008-09-10 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
JP4334335B2 (ja) * 2003-12-24 2009-09-30 三洋電機株式会社 混成集積回路装置の製造方法
JP4436706B2 (ja) * 2004-03-25 2010-03-24 三洋電機株式会社 混成集積回路装置
US7565738B2 (en) * 2004-05-31 2009-07-28 Sanyo Electric Co., Ltd. Method for manufacturing circuit device
JP2006073591A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Nippon Seiki Co Ltd 混成集積回路装置及びその製造方法
CN101253626B (zh) * 2005-08-31 2010-09-29 三洋电机株式会社 电路装置及其制造方法
WO2007026944A1 (ja) * 2005-08-31 2007-03-08 Sanyo Electric Co., Ltd. 回路装置およびその製造方法
US20070257343A1 (en) * 2006-05-05 2007-11-08 Hauenstein Henning M Die-on-leadframe (dol) with high voltage isolation
US20080099922A1 (en) * 2006-10-30 2008-05-01 Noriaki Sakamoto Circuit device and manufacturing method thereof
US7957158B2 (en) * 2006-10-31 2011-06-07 Sanyo Electric Co., Ltd. Circuit device
US8106496B2 (en) * 2007-06-04 2012-01-31 Stats Chippac, Inc. Semiconductor packaging system with stacking and method of manufacturing thereof
TWI402952B (zh) * 2007-09-27 2013-07-21 Sanyo Electric Co 電路裝置及其製造方法
JP2009081325A (ja) * 2007-09-27 2009-04-16 Sanyo Electric Co Ltd 回路装置
JP4934559B2 (ja) * 2007-09-27 2012-05-16 オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド 回路装置およびその製造方法
TW200915970A (en) * 2007-09-27 2009-04-01 Sanyo Electric Co Circuit device, circuit module and outdoor equipment
JP5550225B2 (ja) * 2008-09-29 2014-07-16 セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー 回路装置
JP5563918B2 (ja) * 2010-07-22 2014-07-30 セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー 回路装置の製造方法
JP2012069764A (ja) * 2010-09-24 2012-04-05 On Semiconductor Trading Ltd 回路装置およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20120074552A1 (en) 2012-03-29
JP2012069763A (ja) 2012-04-05
CN102420223A (zh) 2012-04-18
US8450837B2 (en) 2013-05-28
CN102420223B (zh) 2014-07-30
KR20120031454A (ko) 2012-04-03
KR101300954B1 (ko) 2013-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5749468B2 (ja) 回路装置およびその製造方法
KR102019596B1 (ko) 회로 장치 및 그의 제조 방법
JP3674333B2 (ja) パワー半導体モジュール並びにそれを用いた電動機駆動システム
US7759778B2 (en) Leaded semiconductor power module with direct bonding and double sided cooling
US7598603B2 (en) Electronic component having a power switch with an anode thereof mounted on a die attach region of a heat sink
US7291869B2 (en) Electronic module with stacked semiconductors
US9468087B1 (en) Power module with improved cooling and method for making
US11915999B2 (en) Semiconductor device having a carrier, semiconductor chip packages mounted on the carrier and a cooling element
JP7298177B2 (ja) 半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法
JP2010034350A (ja) 半導体装置
JP5909396B2 (ja) 回路装置
JP2008135735A (ja) 回路装置
JP5876299B2 (ja) 回路装置
JPH09186288A (ja) 半導体装置
US8120169B2 (en) Thermally enhanced molded leadless package
JP3525823B2 (ja) 相補型igbtの実装構造
CN115443531A (zh) 功率模组及其制造方法、转换器和电子设备
TW202015187A (zh) 馬達用模製智能電源模組
JP2023100406A (ja) 半導体装置
JP2013187267A (ja) 半導体モジュール
JP2012169349A (ja) 回路装置

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20130218

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130408

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130830

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20141024

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141028

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150123

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150512

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150514

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5749468

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D04

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250