JP5744380B2 - 光ファイバ - Google Patents
光ファイバ Download PDFInfo
- Publication number
- JP5744380B2 JP5744380B2 JP2009075321A JP2009075321A JP5744380B2 JP 5744380 B2 JP5744380 B2 JP 5744380B2 JP 2009075321 A JP2009075321 A JP 2009075321A JP 2009075321 A JP2009075321 A JP 2009075321A JP 5744380 B2 JP5744380 B2 JP 5744380B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- concentration
- optical fiber
- region
- quartz tube
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims description 107
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 86
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 86
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 79
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 73
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 68
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 38
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 27
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 19
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 13
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 6
- 238000009987 spinning Methods 0.000 claims description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 claims 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 70
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 50
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 44
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 37
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 36
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 32
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 17
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 12
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 10
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 6
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 4
- JGDITNMASUZKPW-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.Cl[Al](Cl)Cl JGDITNMASUZKPW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- -1 rare earth ions Chemical class 0.000 description 3
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910017119 AlPO Inorganic materials 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K aluminium phosphate Chemical compound O1[Al]2OP1(=O)O2 ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000007380 fibre production Methods 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N thulium atom Chemical compound [Tm] FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKLHRQNQYIJFFX-UHFFFAOYSA-K ytterbium(III) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Yb+3] CKLHRQNQYIJFFX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01838—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners for delivering and depositing additional reactants as liquids or solutions, e.g. for solution doping of the deposited glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01853—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
- C03C13/045—Silica-containing oxide glass compositions
- C03C13/046—Multicomponent glass compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0095—Solution impregnating; Solution doping; Molecular stuffing, e.g. of porous glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/28—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/34—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers
- C03B2201/36—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers doped with rare earth metals and aluminium, e.g. Er-Al co-doped
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/20—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide
- C03C2201/28—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/32—Doped silica-based glasses containing metals containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/34—Doped silica-based glasses containing metals containing rare earth metals
- C03C2201/3488—Ytterbium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/34—Doped silica-based glasses containing metals containing rare earth metals
- C03C2201/36—Doped silica-based glasses containing metals containing rare earth metals containing rare earth metals and aluminium, e.g. Er-Al co-doped
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/50—After-treatment
- C03C2203/52—Heat-treatment
- C03C2203/54—Heat-treatment in a dopant containing atmosphere
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
- H01S3/067—Fibre lasers
- H01S3/06708—Constructional details of the fibre, e.g. compositions, cross-section, shape or tapering
- H01S3/06716—Fibre compositions or doping with active elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
- H01S3/067—Fibre lasers
- H01S3/06708—Constructional details of the fibre, e.g. compositions, cross-section, shape or tapering
- H01S3/06729—Peculiar transverse fibre profile
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Lasers (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
γ=(2π/λ)×(n2/Aeff) ・・・(1)
式(1)中、λは波長、n2は非線形屈折率、Aeffは有効断面積である。式(1)から明らかなように、非線形光学効果の発生を抑制するためには、Aeffを大きくすることが有効である。
Δ=(ncore−nclad)/ncore×100(%) ・・・(2)
一方、リン(P)の添加方法としては、MCVD法により石英管内にガラス微粒子を堆積させる際に、POCl3ガスを石英管内に流入させる方法(特許文献3参照)が開示されている。
本発明は、MCVD法により、主に二酸化ケイ素からなるガラス微粒子を石英管内に堆積させる工程と、液浸法により、希土類元素とアルミニウムを、前記石英管内のガラス微粒子に添加する工程と、前記石英管内にリンを含むガスを流入させながら、該石英管を加熱して、リンを添加しながら該石英管内のガラス微粒子を焼結させる工程と、希土類元素、アルミニウム及びリンを添加した前記石英管を加熱してコラップスする工程と、を有し、コアに希土類元素が添加された光ファイバ母材の製造方法で製造された光ファイバ母材を紡糸して得られた光ファイバであって、コアの径方向断面において、酸化アルミニウムの濃度が五酸化二リンの濃度よりも高い領域が無いか、又は該領域がある場合には、該領域よりも、五酸化二リンの濃度が酸化アルミニウムの濃度よりも高い領域の方が広いことを特徴とする光ファイバを提供する。
本発明の光ファイバは、前記第一領域において、五酸化二リンの濃度及び酸化アルミニウムの濃度が略同等であることが好ましい。
なお、以下に示す光ファイバ母材又は光ファイバの、ドーパントの濃度及び比屈折率差の値は、特に断りのない限り、径方向断面において、中心から等距離にある部位(10箇所)の平均値である。
本発明の光ファイバ母材の製造方法は、コアに希土類元素が添加された光ファイバ母材の製造方法であって、MCVD(modified chemical vapor deposition)法により、主に二酸化ケイ素からなるガラス微粒子(スート)を石英管内に堆積させる工程(以下、スート堆積工程と略記する)と、液浸法により、希土類元素とアルミニウムを、前記石英管内のガラス微粒子に添加する工程(以下、液浸工程と略記する)と、前記石英管内にリンを含むガスを流入させながら、該石英管を加熱して、リンを添加しながら該石英管内のガラス微粒子を焼結させる工程(以下、焼結工程と略記する)と、希土類元素、アルミニウム及びリンを添加した前記石英管を加熱してコラップスする工程(以下、コラップス工程と略記する)と、を有することを特徴とする。
スート堆積工程では、MCVD法により、主に二酸化ケイ素(SiO2)からなるガラス微粒子(スート)を石英管内に堆積させる。MCVD法は、通常の手法で行えば良い。また、「主に二酸化ケイ素からなるガラス」とは、「シリカガラス」のことである。さらに、「石英管内に堆積させる」とは、「石英管の内表面上に堆積させる」ことを指す。
そこで、本発明では、スート堆積工程でAlやPなどのドーパントの添加は行わずに、ガラス微粒子を堆積させる。
液浸工程では、液浸法により、希土類元素とAlを、石英管内に堆積させたガラス微粒子に添加する。
前記希土類元素は、目的に応じて適宜選択すれば良いが、イッテルビウム(Yb)、エルビウム(Er)、ツリウム(Tm)、イットリウム(Y)、ホルミウム(Ho)、サマリウム(Sm)、プラセオジム(Pr)及びネオジム(Nd)等が例示できる。これら希土類元素は一種を単独で使用しても良いし、二種以上を併用しても良い。本発明においては、作製した光ファイバ母材を光ファイバとし、これからファイバアンプやファイバレーザを構成することを考慮すると、Ybが特に好ましい。
また、Alの原料化合物は、ガス化する温度が比較的低く、例えば、AlCl3は200℃程度で加熱すれば、気相で容易に石英管内に流入させることができる。しかし、コア中のAlの濃度を所望の値に制御するためには、スート堆積工程で述べたように、ガス搬送ラインを加熱して高温に維持する必要がある。これは、後述する焼結工程でも同様である。そこで、本発明においては、Alの濃度を制御するために、Alは気相で添加するのではなく、液浸法で添加する。
焼結工程では、ガラス微粒子に希土類元素とAlを添加した石英管内に、リンを含むガスを流入させながら、該石英管を加熱して、リンを添加しながら該石英管内のガラス微粒子を焼結させる。
焼結は、リンを含むガスを流入させること以外は、通常の手法で行えば良い。
リンを含むガスとしては、POCl3が好ましい。POCl3は、ガス化する温度が低く、気相で容易に石英管内に流入させることができる。
また、焼結工程では、スート堆積工程とは異なり、リンを含むガスの流量を調整しても、希土類元素の濃度制御が困難になることも無い。
このように、リンは気相での添加に適しており、液浸工程での添加に適さないので、本発明においては、焼結工程で添加する。
コラップス工程では、希土類元素、Al及びPを添加した前記石英管を加熱してコラップスする。コラップスは、前記石英管を使用すること以外は、通常の手法で行えば良い。そして、コラップス工程を行うことで、光ファイバ母材が得られる。
本発明の光ファイバは、上記本発明の方法で製造された光ファイバ母材を紡糸して得られた光ファイバであって、コアの径方向断面において、Al高濃度領域が無いか、又はAl高濃度領域がある場合には、Al高濃度領域よりもP高濃度領域の方が広いことを特徴とする。
光ファイバ母材の紡糸は、通常の手法で行えば良い。
ファイバレーザにおいては、出力光のビーム品質を良好なものとするために、出力光をコア中でシングルモード伝搬又は少数モード伝搬させることが好ましい。そのためには、前記式(2)で表される比屈折率差を小さくして、上記のようにコア直径を大きくすることで、シングルモード伝搬又は少数モード伝搬と、非線形光学効果の抑制とを両立できる。
すなわち、光ファイバは、比屈折率差の分布形状が、図6又は図7に示すように矩形に近くなり、光ファイバのコアを伝搬する光の電解分布が広がり、Aeffが大きくなる。したがって、誘導ラマン散乱等の非線形光学効果の発生が効果的に抑制されたファイバアンプやファイバレーザを作製できる。また、希土類元素の濃度の制御も容易である。
表1は、下記実施例及び比較例での光ファイバ母材の製造時における各ドーパントの添加工程と、得られた光ファイバ母材の光特性を示したものである。詳細については、以下、順次説明する。
○・・・再現性が良く、容易に制御できる
△・・・再現性が悪く、制御が困難である
×・・・再現性が極めて悪く、制御できない
[実施例1]
MCVD法により、石英管内にSiO2ガラス微粒子(スート)を堆積させた。
次いで、液浸法により、前記SiO2ガラス微粒子にYb及びAlを添加した。具体的には、YbCl3とAlCl3・6H2Oを純水に溶解させた溶液に、SiO2ガラス微粒子を堆積させた石英管を3時間浸漬し、前記溶液を除去した後、石英管内に酸素ガスを継続して流入させることにより、SiO2ガラス微粒子を6時間乾燥させた。
次いで、POCl3を酸素ガスでバブリングして石英管内に流入させながら、石英管を酸水素バーナで加熱し、Pを添加しながらSiO2ガラス微粒子を焼結させた。
次いで、石英管内の内圧を調整しながら、石英管を酸水素バーナでさらに高温で加熱してコラップスを行い、中実な光ファイバ母材を作製した。
プリフォームアナライザを使用して、得られた光ファイバ母材の径方向断面における比屈折率差の分布形状を測定した。測定結果を図1に示す。また、光ファイバ母材を、その径方向で輪切りにし、EPMAにより、その断面の径方向におけるAl2O3とP2O5の濃度分布を線分析した。分析結果を図2に示す。なお、図1及び2では、コアの半径部分に相当するグラフのみを示している。そして、横軸は半径を示し、「0」はコアの中心を示す。これらは、以降の図においても同様である。
一方、Yb2O3の濃度が実施例1と同じになるように、Yb2O3を液浸法で添加して作製した光ファイバ母材では、Yb2O3の濃度分布は、実施例1でのAl2O3の濃度分布とパターンが類似し、釣鐘状となる。Yb2O3は、SiO2ガラスの屈折率を上昇させるドーパントであるため、比屈折率差の分布は図8に示すような釣鐘状となる。そして、Yb2O3の屈折率上昇分と、図3における屈折率上昇分とを足し合わせると、図1に示すような、矩形に近い比屈折率差の分布となる。
実施例1と同様の方法で、MCVD法により、石英管内にSiO2ガラス微粒子を堆積させた。
次いで、AlCl3・6H2Oを使用しなかったこと以外は、実施例1と同様の方法で、液浸法により、前記SiO2ガラス微粒子にYbを添加し、SiO2ガラス微粒子を乾燥させた。
次いで、POCl3を酸素ガスでバブリングして石英管内に流入させ、この時同時に、AlCl3ガスも石英管内に流入させながら、石英管を酸水素バーナで加熱し、PとAlを添加しながらSiO2ガラス微粒子を焼結させた。
次いで、実施例1と同様の方法でコラップスを行い、光ファイバ母材を作製した。
そして、得られた光ファイバ母材について、実施例1と同様に、比屈折率差の分布を測定し、Al2O3とP2O5の濃度分布を線分析した。比屈折率差の分布の測定結果を図4に、濃度分布の分析結果を図5にそれぞれ示す。
このように、得られた光ファイバ母材は特性が良好ではなく、加えて、この製造方法では、Alを気相で添加するので、ガス搬送ラインを高温に維持する必要があり、製造装置が複雑になってしまい、製造コストが上昇してしまうという問題点があった。
MCVD法により、石英管内に、Alを添加したSiO2ガラス微粒子を堆積させた。Alは、特開2003−137542に記載の方法で、気相で添加した。すなわち、AlCl3ガスを石英管内に流入させながら、SiO2ガラス微粒子を堆積させた。
次いで、比較例1と同様の方法で、液浸法により、前記SiO2ガラス微粒子にYbを添加し、SiO2ガラス微粒子を乾燥させた。
次いで、実施例1と同様の方法で、Pを添加しながらSiO2ガラス微粒子を焼結させ、実施例1と同様の方法でコラップスを行い、光ファイバ母材を作製した。
そして、得られた光ファイバ母材について、実施例1と同様に、比屈折率差の分布を測定し、Al2O3とP2O5の濃度分布を線分析した。
さらに、この製造方法では、光ファイバ母材のYb濃度の制御が困難であった。この製造方法では、スート堆積時にAlを添加しているが、この時、Alの添加量を制御するために、AlCl3ガスの流量を変化させたため、SiO2ガラス微粒子のかさ密度が大きく変化し、液浸法で添加されるYb2O3の濃度が変動してしまったことが原因と考えられる。このように、Yb濃度を再現性良く制御できないという問題点が発生してしまった。
加えて、この製造方法でも、比較例1の場合と同様に、Alを気相で添加するので、ガス搬送ラインを高温に維持する必要があり、製造装置が複雑になってしまい、製造コストが上昇してしまうという問題点があった。
MCVD法により、石英管内に、Pを添加したSiO2ガラス微粒子を堆積させた。Pは、POCl3を酸素ガスでバブリングして石英管内に流しながら、SiO2ガラス微粒子を合成することで添加した。
次いで、実施例1と同様の方法で、液浸法により、前記SiO2ガラス微粒子にYbとAlを添加し、SiO2ガラス微粒子を乾燥させた。
次いで、POCl3やAlCl3ガスを流入させずに、石英管を酸水素バーナで加熱し、SiO2ガラス微粒子を焼結させた。
次いで、実施例1と同様の方法でコラップスを行い、光ファイバ母材を作製した。
そして、得られた光ファイバ母材について、実施例1と同様に、比屈折率差の分布を測定し、Al2O3とP2O5の濃度分布を線分析した。
しかし、この製造方法でも、光ファイバ母材のYb濃度の制御が困難であった。これは、スート合成時にPを添加しており、Pの添加量を制御するために、POCl3ガスの流量を変化させたことで、SiO2ガラス微粒子のかさ密度が大きく変化し、比較例2の場合と同様に、液浸法で添加されるYb2O3の濃度が変動してしまったことが原因と考えられる。このように、Yb濃度を再現性良く制御できないという問題点が発生してしまった。
MCVD法により、石英管内に、PとAlを添加したSiO2ガラス微粒子を堆積させた。この時、POCl3を酸素ガスでバブリングして石英管内に流入させ、同時に、AlCl3ガスも石英管内に流入させながら、SiO2ガラス微粒子を堆積させることで、PとAlを添加した。
次いで、比較例1と同様の方法で、液浸法により、前記SiO2ガラス微粒子にYbを添加し、SiO2ガラス微粒子を乾燥させた。
次いで、比較例3と同様の方法で、POCl3ガスやAlCl3ガスを流入させずに、石英管を酸水素バーナで加熱し、SiO2ガラス微粒子を焼結させた。
次いで、実施例1と同様の方法でコラップスを行い、光ファイバ母材を作製した。
そして、得られた光ファイバ母材について、実施例1と同様に、比屈折率差の分布を測定し、Al2O3とP2O5の濃度分布を線分析した。
また、この製造方法でも、光ファイバ母材のYb濃度の制御が困難であった。これは、比較例2又は3の場合と同様に、スート堆積時にPとAlを添加しており、Pの添加量を制御するためにPOCl3ガスの流量を、Alの添加量を制御するためにAlCl3ガスの流量をそれぞれ変化させたことが原因と考えられる。さらに、この製造方法では、スート堆積時にPとAlの両方を添加しているため、比較例2及び3の場合よりも、一層、Yb濃度の制御が困難であった。このように、Yb添加濃度を再現性良く制御できないという問題点が発生してしまった。
加えて、この製造方法でも、比較例1及び2の場合と同様に、Alを気相で添加するので、ガス搬送ラインを高温に維持する必要があり、製造装置が複雑になってしまい、製造コストが上昇してしまうという問題点があった。
比較例3と同様の方法で、MCVD法により、石英管内に、Pを添加したSiO2ガラス微粒子を堆積させた。
次いで、比較例1と同様の方法で、液浸法により、前記SiO2ガラス微粒子にYbを添加し、SiO2ガラス微粒子を乾燥させた。
次いで、AlCl3ガスを石英管内に流入させながら、石英管を酸水素バーナで加熱し、Alを添加しながらSiO2ガラス微粒子を焼結させた。
次いで、実施例1と同様の方法でコラップスを行い、光ファイバ母材を作製した。
そして、得られた光ファイバ母材について、実施例1と同様に、比屈折率差の分布を測定し、Al2O3とP2O5の濃度分布を線分析した。
また、この製造方法でも、比較例3の場合と同様に、光ファイバ母材のYb濃度の制御が困難であり、Yb濃度を再現性良く制御できないという問題点が発生してしまった。
加えて、この製造方法でも、Alを気相で添加するので、ガス搬送ラインを高温に維持する必要があり、製造装置が複雑になってしまい、製造コストが上昇してしまうという問題点があった。
石英管内に堆積させたSiO2ガラス微粒子に、液浸法でYb、Al及びPを添加するため、液浸溶液の調製を試みた。しかし、YbCl3、AlCl3・6H2O及びH3PO4を純水に添加して撹拌したところ、白色沈殿が生じ、液浸溶液を調製できなかった。白色沈殿は、リン酸アルミニウム(AlPO4)であると考えられる。
比較例2と同様の方法で、MCVD法により、石英管内に、Alを添加したSiO2ガラス微粒子を堆積させた。
次いで、液浸法により、前記SiO2ガラス微粒子にYb及びPを添加するため、YbCl3及びH3PO4を純水に溶解させた溶液に石英管を浸漬し、乾燥させた後、SiO2ガラス微粒子の焼結、コラップスを行ったが、Pを所望の十分な濃度で添加できなかった。理由は明らかではないが、液浸法は、高濃度のPの添加に適していなかった。
また、この製造方法でも、Alを気相で添加するので、ガス搬送ラインを高温に維持する必要があり、製造装置が複雑になってしまい、製造コストが上昇してしまうという問題点があった。
実施例1と同様の方法で、MCVD法により、石英管内にSiO2ガラス微粒子を堆積させた。
次いで、比較例7と同様の方法で、液浸法により、前記SiO2ガラス微粒子にYb及びPを添加し、乾燥させた後、SiO2ガラス微粒子の焼結、コラップスを行ったが、比較例7の場合と同様に、Pを所望の十分な濃度で添加できなかった。
また、この製造方法でも、Alを気相で添加するので、ガス搬送ラインを高温に維持する必要があり、製造装置が複雑になってしまい、製造コストが上昇してしまうという問題点があった。
[実施例2]
実施例1で作製した光ファイバ母材を使用して、コアにYb、P及びAlを共添加した光ファイバを作製した。具体的には、以下の通りである。
光ファイバ母材を使用して外付け法によりクラッド部を形成させた後、機械研磨によって、クラッド部の径方向における断面形状が正七角形となるように加工した。
次いで、紡糸を行い、NA(Numerical Aperture)が0.46となる低屈折率の樹脂で外周上を被覆し、さらにその上を、通常の高屈折率紫外線硬化性樹脂で被覆して、ダブルクラッド光ファイバとした。
得られた光ファイバは、径方向断面が正七角形状のものであり、コア径(直径)が26μmであり、クラッドの径方向断面である正七角形の内接円の直径が約400nmであった。また、カットオフ波長は1.69μm、有効断面積(Aeff)は393μm2であり、直径150mmに曲げて使用した時の曲げ損失は、実用上問題ないレベルであった。
比較例1で作製した光ファイバ母材を使用し、実施例2と同様の方法で、同様の形状及びサイズの光ファイバを作製した。この時、カットオフ波長が1.69μmとなるように調整した。
得られた光ファイバは、Aeffは288μm2であり、直径150mmに曲げて使用した時の曲げ損失は、実用上問題ないレベルであった。
[試験例1]
実施例2で作製した光ファイバの誘導ラマン散乱の抑制効果を確認するために、ファイバレーザを構成して、レーザ発振実験を行った。具体的には、以下の通りである。
光ファイバのコアに、波長1060nmで平均出力1Wのパルス状の種光を入射させ、クラッドに波長915nmで出力50Wの励起光を入射させて、波長1060nmの光を増幅した。増幅用光ファイバの出射口側には、波長1100nm以上の光をカットするフィルタを配置した。波長1060nm付近の出力光を増幅する場合、一次の誘導ラマン散乱光は、波長1110nm付近に発生する。さらに、二次の誘導ラマン散乱光は、波長1160nm付近に発生する。そこで、前記フィルタを配置することで、出力光から誘導ラマン散乱光をカットし、波長1060nm付近の出力光を選択的に取り出すことにより、出力光の波長の広がりを抑制した。所望の波長以外の光が含まれると、出力光をレンズで集光する場合に色収差の問題が生じるが、これにより、この問題を解決できる。このような、フィルタの使用による波長の広がりの抑制は、一般的に適用される手段である。上記のようにフィルタを通して得られた出力光のパワーを測定したところ、32Wであった。
比較例9で作製した光ファイバを使用し、試験例1と同様の方法で、フィルタを通して得られた出力光のパワーを測定したところ、27Wであった。
一方、実施例1の光ファイバ母材は、比屈折率差の分布形状が矩形に近いため、この母材を使用して作製した実施例2の光ファイバは、誘導ラマン散乱の発生が抑制されたものであった。そのため、波長幅の広がりが抑制され、且つエネルギー変換効率が高いファイバレーザが作製できた。
Claims (3)
- MCVD法により、主に二酸化ケイ素からなるガラス微粒子を石英管内に堆積させる工程と、
液浸法により、希土類元素とアルミニウムを、前記石英管内のガラス微粒子に添加する工程と、
前記石英管内にリンを含むガスを流入させながら、該石英管を加熱して、リンを添加しながら該石英管内のガラス微粒子を焼結させる工程と、
希土類元素、アルミニウム及びリンを添加した前記石英管を加熱してコラップスする工程と、
を有し、コアに希土類元素が添加された光ファイバ母材の製造方法で製造された光ファイバ母材を紡糸して得られた光ファイバであって、
コアの径方向断面において、酸化アルミニウムの濃度が五酸化二リンの濃度よりも高い領域が無いか、又は該領域がある場合には、該領域よりも、五酸化二リンの濃度が酸化アルミニウムの濃度よりも高い領域の方が広いことを特徴とする光ファイバ。 - コアの径方向断面のうち、五酸化二リンの濃度及び酸化アルミニウムの濃度の少なくともいずれかが0.5モル%以上である領域において、五酸化二リンの濃度と酸化アルミニウムの濃度との差が0.5モル%よりも小さい径方向内側の領域を第一領域とし、五酸化二リンの濃度と酸化アルミニウムの濃度との差が0.5モル%以上である、前記第一領域よりも径方向外側の領域を第二領域とした時、第一領域と第二領域との合計に対する第二領域の比率が50%以上であることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ。
- 前記第一領域において、五酸化二リンの濃度及び酸化アルミニウムの濃度が略同等であることを特徴とする請求項2に記載の光ファイバ。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009075321A JP5744380B2 (ja) | 2009-03-26 | 2009-03-26 | 光ファイバ |
PCT/JP2010/002153 WO2010109893A1 (ja) | 2009-03-26 | 2010-03-26 | 光ファイバ母材の製造方法及び光ファイバ |
US13/243,092 US8693833B2 (en) | 2009-03-26 | 2011-09-23 | Manufacturing method for optical fiber preform and optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009075321A JP5744380B2 (ja) | 2009-03-26 | 2009-03-26 | 光ファイバ |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014054108A Division JP5758517B2 (ja) | 2014-03-17 | 2014-03-17 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010228933A JP2010228933A (ja) | 2010-10-14 |
JP5744380B2 true JP5744380B2 (ja) | 2015-07-08 |
Family
ID=42780589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009075321A Expired - Fee Related JP5744380B2 (ja) | 2009-03-26 | 2009-03-26 | 光ファイバ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8693833B2 (ja) |
JP (1) | JP5744380B2 (ja) |
WO (1) | WO2010109893A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102815866B (zh) * | 2012-08-17 | 2015-03-11 | 华中科技大学 | 一种光纤预制棒的掺杂装置 |
JP2014143287A (ja) * | 2013-01-23 | 2014-08-07 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 希土類添加光ファイバ及びその製造方法 |
CN105916823A (zh) * | 2014-01-16 | 2016-08-31 | 古河电气工业株式会社 | 光纤预制棒的制造方法以及光纤的制造方法 |
CN104445913A (zh) * | 2014-11-13 | 2015-03-25 | 连云港市盛昌照明电器有限公司 | 一种光子晶体光纤预制棒的制备方法 |
DE102016123343A1 (de) * | 2016-12-02 | 2018-06-07 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Optisches Fasersystem mit Modenfeldanpassung |
CN107515205B (zh) * | 2017-08-22 | 2020-04-10 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 石英玻璃光纤组分浓度计算方法及系统 |
US11407671B2 (en) * | 2018-06-08 | 2022-08-09 | Council Of Scientific & Industrial Research | Process of fabrication of Erbium and Ytterbium-co-doped multi-elements silica glass based cladding-pumped fiber |
CN111470769A (zh) * | 2020-04-24 | 2020-07-31 | 黄宏琪 | 一种稀土掺杂少模光纤的制备方法 |
CN115448590A (zh) * | 2022-08-31 | 2022-12-09 | 长飞光纤光缆股份有限公司 | 一种管内法制备稀土掺杂光纤预制棒的方法 |
CN116282882B (zh) * | 2023-03-05 | 2024-04-19 | 北京工业大学 | 一种Nd3+掺杂石英光纤预制棒及制备方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59217636A (ja) * | 1983-05-23 | 1984-12-07 | Hitachi Cable Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
JPS6090838A (ja) | 1983-10-25 | 1985-05-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光伝送用石英ガラス母材の製造方法 |
JP2931026B2 (ja) | 1990-02-05 | 1999-08-09 | 古河電気工業株式会社 | 希土類元素ドープガラスの製造方法 |
JP4014846B2 (ja) | 2001-10-29 | 2007-11-28 | 株式会社フジクラ | 三塩化アルミニウムガスの移送方法 |
JP2003238189A (ja) * | 2002-02-14 | 2003-08-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラスパイプの製造方法 |
WO2006112071A1 (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-26 | Fujitsu Limited | 光ファイバ及びその製造方法並びに光増幅器 |
US7450813B2 (en) * | 2006-09-20 | 2008-11-11 | Imra America, Inc. | Rare earth doped and large effective area optical fibers for fiber lasers and amplifiers |
-
2009
- 2009-03-26 JP JP2009075321A patent/JP5744380B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-03-26 WO PCT/JP2010/002153 patent/WO2010109893A1/ja active Application Filing
-
2011
- 2011-09-23 US US13/243,092 patent/US8693833B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8693833B2 (en) | 2014-04-08 |
WO2010109893A1 (ja) | 2010-09-30 |
JP2010228933A (ja) | 2010-10-14 |
US20120014653A1 (en) | 2012-01-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5744380B2 (ja) | 光ファイバ | |
US9151889B2 (en) | Rare earth doped and large effective area optical fibers for fiber lasers and amplifiers | |
Langner et al. | A new material for high-power laser fibers | |
JP5551631B2 (ja) | 希土類添加光ファイバ及びその製造方法 | |
JP5612654B2 (ja) | ファイバ・レーザおよびファイバ増幅器用の希土類がドープされ有効区域が大きい光ファイバ | |
US20130071082A1 (en) | High birefringence polarization-maintaining optical fiber based on multi component silica glass | |
JP5033719B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
US20220037847A1 (en) | Optical fiber for a fiber laser, fiber laser, and production method for optical fiber for a fiber laser | |
US6751990B2 (en) | Process for making rare earth doped optical fiber | |
JP5758517B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
JP5657274B2 (ja) | 希土類元素添加光ファイバおよびその製造方法 | |
DK2108624T3 (en) | Rare-earth-doped optical fiber, optical fiber amplifier, and the method of making a preform for such a fiber | |
Kirchhof et al. | Materials and technologies for microstructured high power laser fibers | |
JP6794755B2 (ja) | 光ファイバ | |
Saha et al. | Large core Yb-doped optical fiber through vapor phase doping technique | |
US8116607B2 (en) | Rare-earth doped optical fiber, method of producing the same, and fiber laser | |
JP2011060854A (ja) | 増幅用光ファイバ、及び、それを用いたファイバレーザ装置 | |
WO2010097872A1 (ja) | 光増幅用光ファイバおよびファイバレーザ | |
JP2006199550A (ja) | 希土類添加光ファイバ母材の製造方法および希土類添加光ファイバ | |
US20030142937A1 (en) | P-Si Er fiber profile | |
US20230402808A1 (en) | Active lma optical fiber with enhanced transverse mode stability | |
JP6603779B1 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法 | |
JP5400851B2 (ja) | 希土類添加光ファイバ | |
CA3162288A1 (en) | Active lma optical fiber with enhanced transverse mode stability | |
Sahu et al. | Fibers for high-power lasers and amplifiers |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130903 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131217 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140317 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20140324 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20140502 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150430 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5744380 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |