JP5723652B2 - 測光装置および露光装置 - Google Patents
測光装置および露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5723652B2 JP5723652B2 JP2011074420A JP2011074420A JP5723652B2 JP 5723652 B2 JP5723652 B2 JP 5723652B2 JP 2011074420 A JP2011074420 A JP 2011074420A JP 2011074420 A JP2011074420 A JP 2011074420A JP 5723652 B2 JP5723652 B2 JP 5723652B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- line
- light receiving
- light
- spectral sensitivity
- spectral
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 119
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 105
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 31
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 26
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 22
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 15
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 14
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000005375 photometry Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70558—Dose control, i.e. achievement of a desired dose
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/0219—Electrical interface; User interface
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/0233—Handheld
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
- G01J1/0488—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts with spectral filtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/82—Lamps with high-pressure unconstricted discharge having a cold pressure > 400 Torr
- H01J61/822—High-pressure mercury lamps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/84—Lamps with discharge constricted by high pressure
- H01J61/86—Lamps with discharge constricted by high pressure with discharge additionally constricted by close spacing of electrodes, e.g. for optical projection
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B41/00—Circuit arrangements or apparatus for igniting or operating discharge lamps
- H05B41/14—Circuit arrangements
- H05B41/36—Controlling
- H05B41/38—Controlling the intensity of light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
21 放電ランプ
30 照度演算制御部
40 受光部
41 受光素子
42 フィルタ
50 照度測定制御装置
100 照度計
110 受光部
114 フィルタ
120 本体
Claims (15)
- g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)の輝線を含む光を放射する放電ランプと、
受光部を有し、前記放電ランプから放射される光を測定する光測定手段と、
前記光測定手段における測定値に基づき、前記放電ランプへ供給する電力を調整する照明調整手段とを備え、
前記光測定手段が、g線、h線、i線のうち隣り合う2つの輝線間にピーク感度のある分光感度特性を有することを特徴とする露光装置。 - 前記分光感度特性における分光感度曲線の半値幅が、前記隣り合う2つの輝線間の波長域よりも広いことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記分光感度特性において、前記隣り合う2つの輝線における感度が、ともに前記ピーク感度の85パーセント以下であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記分光感度特性が、i線とh線との間の波長域(365nm〜405nm)にピーク感度を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の露光装置。
- 前記分光感度特性が、h線とg線との間の波長域(405nm〜436nm)にピーク感度のある分光感度特性を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の露光装置。
- 前記分光感度特性における分光感度曲線が、前記ピーク感度を中心とした略ガウス分布曲線によって表されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の露光装置。
- 前記光測定手段が、前記放電ランプから放射される光の照度を測定し、
前記照明調整手段が、一定照度を維持するように供給電力を調整することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の露光装置。 - 前記放電ランプが、水銀を0.2mg/mm3以上封入した水銀ランプであることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の露光装置。
- 受光素子と、入射光路上に配置されるフィルタとを有する受光部と、
前記受光素子に入射する光に基づいて、測光演算する測定部とを備え、
前記受光部が、g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)のうち隣り合う2つの輝線間にピーク感度のある分光感度特性を有することを特徴とする測光装置。 - 前記分光感度特性における分光感度曲線の半値幅が、前記隣り合う2つの輝線間の波長域よりも広いことを特徴とする請求項9に記載の測光装置。
- 前記分光感度特性において、前記隣り合う2つの輝線における感度が、ともに前記ピーク感度の85パーセント以下であることを特徴とする請求項9に記載の測光装置。
- 前記分光感度特性が、i線とh線との間の波長域(365nm〜405nm)にピーク感度を有することを特徴とする請求項9乃至11のいずれかに記載の測光装置。
- 前記分光感度特性が、h線とg線との間の波長域(405nm〜436nm)にピーク感度のある分光感度特性を有することを特徴とする請求項9乃至11のいずれかに記載の測光装置。
- 測光装置本体に信号ケーブルを介して接続可能であり、
受光素子と、
入射光路上に配置されるフィルタとを備え、
輝線であるg線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)のうち隣り合う2つの輝線間にピーク感度のある分光感度特性を有することを特徴とする測光装置の受光部。 - 受光素子と、入射光路上に配置されるフィルタとを有する受光部と、
前記受光素子に入射する光に基づいて、測光演算する測定部とを備え、
前記受光部が、放電ランプから発光される連続的スペクトル光に含まれる、g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)のうち、あるいはその他の複数の輝線のうち、隣り合う2つの輝線間にピーク感度のある分光感度特性を有することを特徴とする測光装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011074420A JP5723652B2 (ja) | 2011-03-30 | 2011-03-30 | 測光装置および露光装置 |
TW101105585A TWI536119B (zh) | 2011-03-30 | 2012-02-21 | Photometric devices and exposure devices |
PCT/JP2012/058304 WO2012133616A1 (ja) | 2011-03-30 | 2012-03-29 | 放電ランプ |
KR1020137025788A KR101867527B1 (ko) | 2011-03-30 | 2012-03-29 | 측광 장치 및 노광 장치 |
CN201280016296.5A CN103460137B (zh) | 2011-03-30 | 2012-03-29 | 测光装置和曝光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011074420A JP5723652B2 (ja) | 2011-03-30 | 2011-03-30 | 測光装置および露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012208351A JP2012208351A (ja) | 2012-10-25 |
JP5723652B2 true JP5723652B2 (ja) | 2015-05-27 |
Family
ID=46931318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011074420A Active JP5723652B2 (ja) | 2011-03-30 | 2011-03-30 | 測光装置および露光装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5723652B2 (ja) |
KR (1) | KR101867527B1 (ja) |
CN (1) | CN103460137B (ja) |
TW (1) | TWI536119B (ja) |
WO (1) | WO2012133616A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI629568B (zh) * | 2013-08-09 | 2018-07-11 | 日商奧克製作所股份有限公司 | 照明裝置及包含該照明裝置的曝光裝置 |
KR20150134527A (ko) | 2014-05-22 | 2015-12-02 | 주식회사 만도 | 유압 밸브의 코일 전류 측정 장치 및 그 코일 전류 측정 방법 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4319830A (en) * | 1979-08-06 | 1982-03-16 | Terence Roach | Multispectral light detection system |
JPS58165324A (ja) * | 1982-03-25 | 1983-09-30 | Nec Corp | マスクアライナ−の積算露光量の測定法 |
JPS62137527A (ja) * | 1985-12-12 | 1987-06-20 | Toshiba Corp | 分光分布検査装置 |
JPH036011A (ja) * | 1989-06-02 | 1991-01-11 | Nec Yamagata Ltd | 半導体装置製造用ウェーハ露光装置 |
JPH04142020A (ja) * | 1990-10-02 | 1992-05-15 | Nec Yamagata Ltd | 露光装置 |
JPH04343032A (ja) * | 1991-05-21 | 1992-11-30 | Nec Yamagata Ltd | 露光装置用照度計 |
JP2947303B2 (ja) * | 1991-07-08 | 1999-09-13 | 三菱電機株式会社 | 放電灯点灯装置 |
JP3526652B2 (ja) * | 1995-05-11 | 2004-05-17 | 倉敷紡績株式会社 | 光学的測定方法および光学的測定装置 |
JP2002005736A (ja) | 2000-06-23 | 2002-01-09 | Orc Mfg Co Ltd | 紫外線照度分布測定装置 |
JP2002340667A (ja) | 2001-05-15 | 2002-11-27 | Nikon Corp | 照度計測装置および露光装置 |
JP2003257846A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-09-12 | Nikon Corp | 光源ユニット、照明装置、露光装置及び露光方法 |
JP2004170325A (ja) | 2002-11-22 | 2004-06-17 | Shimadzu Corp | 分光計測装置 |
JP4262032B2 (ja) | 2003-08-25 | 2009-05-13 | キヤノン株式会社 | Euv光源スペクトル計測装置 |
JP4428403B2 (ja) * | 2006-06-28 | 2010-03-10 | ソニー株式会社 | 赤外線信号受光装置、液晶ディスプレイ及び光学素子 |
JP5181138B2 (ja) | 2006-11-02 | 2013-04-10 | 友達光電股▲ふん▼有限公司 | 液晶パネル製造装置及び液晶パネルの製造方法 |
JP2009021971A (ja) * | 2007-06-15 | 2009-01-29 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 光通信システム |
JP2009251551A (ja) * | 2008-04-11 | 2009-10-29 | Ushio Inc | 紫外線照射装置および該装置の制御方法 |
JP5320006B2 (ja) | 2008-10-03 | 2013-10-23 | 株式会社オーク製作所 | 露光描画装置 |
-
2011
- 2011-03-30 JP JP2011074420A patent/JP5723652B2/ja active Active
-
2012
- 2012-02-21 TW TW101105585A patent/TWI536119B/zh active
- 2012-03-29 WO PCT/JP2012/058304 patent/WO2012133616A1/ja active Application Filing
- 2012-03-29 KR KR1020137025788A patent/KR101867527B1/ko active IP Right Grant
- 2012-03-29 CN CN201280016296.5A patent/CN103460137B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012208351A (ja) | 2012-10-25 |
KR20140061305A (ko) | 2014-05-21 |
KR101867527B1 (ko) | 2018-06-15 |
CN103460137A (zh) | 2013-12-18 |
CN103460137B (zh) | 2016-05-25 |
TWI536119B (zh) | 2016-06-01 |
WO2012133616A1 (ja) | 2012-10-04 |
TW201239550A (en) | 2012-10-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI629458B (zh) | 用於量測脈衝光束之光譜特徵的度量衡系統及方法 | |
CN108474651B (zh) | 形貌测量系统 | |
JP5820689B2 (ja) | レーザ装置 | |
WO2006126444A1 (ja) | センサの校正方法、露光方法、露光装置、デバイス製造方法、および反射型マスク | |
JP2020535458A (ja) | 放射源 | |
TWI411894B (zh) | 曝光裝置 | |
US7612868B2 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing device | |
JP5723652B2 (ja) | 測光装置および露光装置 | |
JPH04211108A (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
JP4207240B2 (ja) | 露光装置用照度計、リソグラフィ・システム、照度計の較正方法およびマイクロデバイスの製造方法 | |
JP2010045356A (ja) | リソグラフィ装置及び方法 | |
JP5541198B2 (ja) | 光照射装置 | |
JP6623847B2 (ja) | 光源装置及びこれを備えた露光装置 | |
JP6886525B2 (ja) | パルス光ビームのスペクトル特徴制御 | |
JP4290427B2 (ja) | 光学装置用光源 | |
JP2009267097A (ja) | スペクトル幅計測器の校正方法、スペクトル幅計測器の校正装置、狭帯域化レーザ装置、露光装置及び電子デバイスの製造方法 | |
JP2008181126A (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JP2012234883A (ja) | 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
JP5880496B2 (ja) | 光源装置およびプロジェクタ | |
JP4268364B2 (ja) | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれによって製造したデバイス | |
US7283208B2 (en) | Lithographic apparatus, method of manufacturing a device, and device manufactured thereby | |
TW200303970A (en) | Light source unit, lighting device, exposure device and exposure method | |
JPH049448B2 (ja) | ||
TW200412616A (en) | Exposure device, exposure method, method of making devices, measuring method and measuring device | |
JPH0620925A (ja) | 露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140327 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141028 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141224 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150324 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150330 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5723652 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |