JP6623847B2 - 光源装置及びこれを備えた露光装置 - Google Patents
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Description
前記光源部の後段に配置され、前記第一波長の光の強度を検出する光検出部と、
前記第一光放射領域及び前記第二光放射領域に対して、それぞれ個別に、通電のオンオフ制御を行うことが可能に構成された制御部とを備え、
前記制御部は、
前記第一波長の光の目標積算光量である第一目標積算光量に関する情報を記憶した記憶部を有し、
前記光検出部で検知された前記第一波長の光の強度に基づいて算出された積算光量が、前記第一目標積算光量に達すると、前記第二光放射領域に対する通電の制御とは独立して、前記第一光放射領域に対する通電を停止する制御を行うことを特徴とする。
前記光検出部は、前記第二波長の光の強度の検出が可能な構成であり、
前記記憶部は、前記第二波長の光の目標積算光量である第二目標積算光量に関する情報が記憶されており、
前記制御部は、前記光検出部で検知された前記第二波長の光の強度に基づいて算出された積算光量が、前記第二目標積算光量に達すると、前記第一光放射領域に対する通電の制御とは独立して、前記第二光放射領域に対する通電を停止する制御を行うものとしても構わない。
前記光源部から射出された光をコリメートする第一光学系と、
前記第一光学系から射出された光を集光する第二光学系とを有し、
前記光検出部は、前記第二光学系よりも後段に配置されているものとすることができる。
前記第二光学系の後段に配置され、入射された光の一部を分光する第三光学系を備え、
前記光検出部は、前記第三光学系によって分光された光が入射される構成とすることができる。
入射面が前記第二光学系の焦点位置に配置されたインテグレータ光学系を備え、
前記光検出部は、前記インテグレータ光学系の後段、又は前記第二光学系と前記インテグレータ光学系との間に配置されているものとしても構わない。
前記光源装置と、前記光源装置から射出された光を前記マスクに照射して、前記マスクのパターン像を前記感光性基板上に投影する投影光学系とを備えたことを特徴とする。
前記入力部から入力された前記第一目標積算光量に関する情報が、前記記憶部に記憶される構成としても構わない。
図3は、第一実施形態の光源装置の構成の一例を模式的に示す図面である。
光源装置の第二実施形態の構成について説明する。なお、以下の各実施形態では、第一実施形態と異なる箇所を主として説明し、第一実施形態と共通の箇所は適宜説明を割愛する。
光源装置の第三実施形態の構成について説明する。図10は、第三実施形態の光源装置の構成の一例を模式的に示す図面である。図10に示す光源装置1は、図3に示す光源装置1と比較して、分光光学系24及び光検出部31bを更に備えている点が異なっている。
図12は、第一実施形態の光源装置1を含む露光装置の構成を模式的に示す図面である。露光装置19は、インテグレータ光学系8の後段に投影光学系15及びマスク16を備え、必要に応じて投影レンズ17を備える。投影光学系15によって投影される位置にマスク16を設置し、マスク16の後段にマスク16のパターン像を焼き付ける対象となる感光性基板18を設置する。この状態で、光源部2から光が射出されると、この光が第二光学系7によって集光された後、ロッドインテグレータ9で照度分布が均一化された光として、投影光学系15に照射される。投影光学系15は、この光を、マスク16のパターン像を直接又は投影レンズ17を介して感光性基板18上に投影する。
以下、別実施形態について説明する。
2 : 光源部
2a,2b : 光放射領域
3 : LED素子
3a,3b : LED素子
5 : 第一光学系
5a,5b : 第一光学系
6 : コリメートレンズ
6a,6b : コリメートレンズ
7 : 第二光学系
7a,7b : 第二光学系
7f : 第二光学系の焦点
8 : インテグレータ光学系
9 : ロッドインテグレータ
9a : ロッドインテグレータの光入射面
9b : ロッドインテグレータの光射出面
10 : 光軸
11 : 制御部
11a,11b : 制御部
15 : 投影光学系
16 : マスク
17 : 投影レンズ
18 : 感光性基板
19 : 露光装置
21 : 合成光学系
22 : 第三光学系
23 : 光学系
24 : 分光光学系
31a,31b : 光検出部
41a,41b : 第一入力受付部
42a,42b : 第二入力受付部
43a,43b : 記憶部
44a,44b : 比較部
45a,45b : 積算光量演算部
46a,46b : 消灯指示部
47b : 目標時間設定部
48b : 時間評価部
60 : 光学系
Claims (7)
- 第一波長の光を射出する複数のLED素子を含む第一光放射領域と、前記第一波長とは異なる第二波長の光を射出する複数のLED素子を含む第二光放射領域とを有した光源部と、
前記光源部の後段に配置され、前記第一波長の光の強度を検出する光検出部と、
前記第一光放射領域及び前記第二光放射領域に対して、それぞれ個別に、通電のオンオフ制御を行うことが可能に構成された制御部とを備え、
前記制御部は、
前記第一波長の光の目標積算光量である第一目標積算光量に関する情報を記憶した記憶部を有し、
前記光検出部で検知された前記第一波長の光の強度に基づいて算出された積算光量が、前記第一目標積算光量に達すると、前記第二光放射領域に対する通電の制御とは独立して、前記第一光放射領域に対する通電を停止する制御を行うことを特徴とする光源装置。 - 前記制御部は、前記第二光放射領域に対する通電を開始してから、所定の時間が経過した後に、前記第一光放射領域に対する通電の制御とは独立して、前記第二光放射領域に対する通電を停止する制御を行うことを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
- 前記光検出部は、前記第二波長の光の強度の検出が可能な構成であり、
前記記憶部は、前記第二波長の光の目標積算光量である第二目標積算光量に関する情報が記憶されており、
前記制御部は、前記光検出部で検知された前記第二波長の光の強度に基づいて算出された積算光量が、前記第二目標積算光量に達すると、前記第一光放射領域に対する通電の制御とは独立して、前記第二光放射領域に対する通電を停止する制御を行うことを特徴とする請求項1に記載の光源装置。 - 前記光源部から射出された光をコリメートする第一光学系と、
前記第一光学系から射出された光を集光する第二光学系とを有し、
前記光検出部は、前記第二光学系よりも後段に配置されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光源装置。 - 前記第二光学系の後段に配置され、入射された光の一部を分光する第三光学系を備え、
前記光検出部は、前記第三光学系によって分光された光が入射されることを特徴とする請求項4に記載の光源装置。 - 入射面が前記第二光学系の焦点位置に配置されたインテグレータ光学系を備え、
前記光検出部は、前記インテグレータ光学系の後段、又は前記第二光学系と前記インテグレータ光学系との間に配置されていることを特徴とする請求項4又は5に記載の光源装置。 - マスクのパターンを感光性基板上に転写する露光装置であって、
請求項1〜6のいずれか1項に記載の光源装置と、
前記光源装置から射出された光を前記マスクに照射して、前記マスクのパターン像を前記感光性基板上に投影する投影光学系とを備えたことを特徴とする露光装置。
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