JP5708556B2 - Iii族窒化物半導体素子及び窒化ガリウムエピタキシャル基板 - Google Patents
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Description
MOCVD法を用いて窒化ガリウム膜を基板上に成膜した。Ga原料として、TMGを用いた。窒素原料としては、高純度アンモニアを用いた。キャリアガスとしては、高純度化した水素および窒素を用いた。例えば、高純度アンモニアの純度は99.999%以上であり、高純化水素および高純化窒素の純度は99.999995%以上であった。
イエローバンド発光強度/バンド端発光強度の比
エピタキシャル基板A:0.035
エピタキシャル基板B:0.05
である。
実施例1においてGaN基板を用いて作製されたエピタキシャル基板C、Dを用いてショットキバリアダイオードを作製した。エピタキシャル膜の表面にAuショットキ電極を形成すると共に、GaN基板の裏面にTi/Al/Ti/Auオーミック電極を形成して、ショットキバリアダイオードC、Dを作製した。これらの電極は、エピタキシャル基板C、Dに同時に形成された。
ショットキバリアダイオードC、Dの耐圧とオン抵抗を以下に示す。
電子デバイス 逆方向耐圧 順方向オン抵抗
ショットキバリアダイオードC 200V以上 1.17mΩcm2
ショットキバリアダイオードD 175V 0.78mΩcm2
以下に記す通り、エピタキシャル膜の特性としてフォトルミネッセンススペクトルに注目して、デバイス特性を評価した。この評価によれば、GaNエピタキシャル層のPLスペクトルとショットキデバイス特性との関連が見出された。基板にはn型の自立GaNウエハを用い、貫通転位密度は、1×106cm−2以下であった。以下の実験のための2枚の同じ品質のn型自立GaNウエハを準備した。自立GaNウエハのn型ドーパントは、酸素である。
PLスペクトル測定には波長325nmのHe−Cdレーザを使用した。その励起光条件を以下に示す。
スポット径:直径0.5mm
パワー:1.2mW(0.6W/cm2)
イエローバンド発光強度/バンド端発光強度の比(IY/IB)
エピタキシャル基板A1:0.05
エピタキシャル基板B1:0.7
である。(IY/IB)は以下のように求められる。例えば、強度(IB)はバンド端発光強度のピーク値であり、強度(IY)はイエローバンドのPLスペクトルにおけるピーク値である。
ダイオード名、 逆方向耐圧 順方向特性オン抵抗
ダイオードDA1: 200V以上、0.77mΩcm2
ダイオードDB1: 181V 、1.46mΩcm2
本実施の形態は、ショットキ接合を有するIII族窒化物半導体素子であって、導電性を有するIII族窒化物支持基体と、前記III族窒化物支持基体の主面上に設けられており、イエローバンド波長帯のフォトルミネッセンススペクトル強度IYとバンド端波長におけるスペクトル強度IBEとの強度比(IY/IBE)が0.05以下である窒化ガリウム領域と、前記窒化ガリウム領域にショットキ接合を成すショットキ電極とを備える。また、本実施の形態は、ショットキ接合を有するIII族窒化物半導体素子であって、導電性を有するIII族窒化物支持基体と、前記III族窒化物支持基体の主面上に設けられており、イエローバンド波長帯に対応するエネルギレベルを有する深い準位を含む窒化ガリウム領域と、前記窒化ガリウム領域にショットキ接合を成すショットキ電極とを備え、前記窒化ガリウム領域の前記深い準位の濃度は、前記イエローバンド波長帯における前記深い準位からのフォトルミネッセンススペクトル強度IYと前記窒化ガリウム領域バンド端波長におけるスペクトル強度IBEとの強度比(IY/IBE)が0.05となる値以下である。本実施の形態では、前記深い準位は、炭素、水素及び酸素の少なくともいずれかの不純物に関連する準位を含む。本実施の形態では、前記III族窒化物支持基体は、導電性を有する窒化ガリウムからなる。本実施の形態では、前記窒化ガリウム領域の成長温度は、摂氏1050度以上であり、摂氏1200度以下であり、前記窒化ガリウム領域の成長におけるV族原料とIII族原料の供給モル比(V/III)が500以上である。さらに、本実施の形態は、窒化ガリウムエピタキシャル基板であって、導電性を有するIII族窒化物支持基体と、前記III族窒化物支持基体の主面上に設けられておりイエローバンド波長帯のフォトルミネッセンススペクトルとバンド端波長におけるスペクトル強度との強度比が0.05以下である特徴を有する窒化ガリウム領域とを備える。本実施の形態では、前記III族窒化物支持基体は、導電性を有する窒化ガリウムからなる。本実施の形態では、前記窒化ガリウム領域の成長温度は、摂氏1050度以上であり、摂氏1200度以下であり、前記窒化ガリウム領域の成長におけるV族原料とIII族原料の供給モル比(V/III)が500以上である。
Claims (8)
- ショットキ接合を有するIII族窒化物半導体素子であって、
導電性を有するIII族窒化物支持基体と、
前記III族窒化物支持基体の主面上に設けられており、イエローバンド波長帯のフォトルミネッセンススペクトル強度IYとバンド端波長におけるスペクトル強度IBEとの強度比(IY/IBE)が0.05以下である窒化ガリウム領域と、
前記窒化ガリウム領域にショットキ接合を成すショットキ電極と、
前記III族窒化物支持基体の裏面上に設けられた電極と、
を備え、
前記III族窒化物支持基体の主面はc面を備え、
前記窒化ガリウム領域は、当該III族窒化物半導体素子のドリフト層であり、
前記ドリフト層は有機金属気相成長法で形成されており、
前記ドリフト層の厚さは1マイクロメートル以上であり、前記ドリフト層のドーパント濃度は1×1015cm−3以上1×10 16 cm −3 以下であることを特徴とするIII族窒化物半導体素子。 - ショットキ接合を有するIII族窒化物半導体素子であって、
導電性を有するIII族窒化物支持基体と、
前記III族窒化物支持基体の主面上に設けられており、イエローバンド波長帯に対応するエネルギレベルを有する深い準位を含む窒化ガリウム領域と、
前記窒化ガリウム領域にショットキ接合を成すショットキ電極と、
前記III族窒化物支持基体の裏面上に設けられた電極と、
を備え、
前記窒化ガリウム領域の前記深い準位の濃度は、前記イエローバンド波長帯における前記深い準位からのフォトルミネッセンススペクトル強度IYと前記窒化ガリウム領域のバンド端波長におけるスペクトル強度IBEとの強度比(IY/IBE)が0.05となる値以下であり、
前記III族窒化物支持基体の主面はc面を備え、
前記窒化ガリウム領域は、当該III族窒化物半導体素子のドリフト層であり、
前記ドリフト層は有機金属気相成長法で形成されており、
前記ドリフト層の厚さは1マイクロメートル以上であり、前記ドリフト層のドーパント濃度は1×1015cm−3以上1×10 16 cm −3 以下であることを特徴とするIII族窒化物半導体素子。 - 前記深い準位は、炭素、水素及び酸素の少なくともいずれかの不純物に関連する準位を含む、ことを特徴とする請求項2に記載されたIII族窒化物半導体素子。
- 前記III族窒化物支持基体は、導電性を有する窒化ガリウムからなる、ことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載されたIII族窒化物半導体素子。
- 前記窒化ガリウム領域の成長温度は、摂氏1050度以上であり、摂氏1200度以下であり、
前記窒化ガリウム領域の成長におけるV族原料とIII族原料の供給モル比(V/III)が500以上である、ことを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載されたIII族窒化物半導体素子。 - ショットキ接合を有するIII族窒化物半導体素子のための窒化ガリウムエピタキシャル基板であって、
導電性を有するIII族窒化物支持基体と、
前記III族窒化物支持基体の主面上に設けられておりイエローバンド波長帯のフォトルミネッセンススペクトルとバンド端波長におけるスペクトル強度との強度比が0.05以下である特徴を有する窒化ガリウム領域と、
を備え、
前記III族窒化物支持基体の主面はc面を備え、
前記窒化ガリウム領域は、当該III族窒化物半導体素子のドリフト層であり、
前記ドリフト層は有機金属気相成長法で形成されており、
前記ドリフト層の厚さは1マイクロメートル以上であり、前記ドリフト層のドーパント濃度は1×1015cm−3以上1×10 16 cm −3 以下である、ことを特徴とする窒化ガリウムエピタキシャル基板。 - 前記III族窒化物支持基体は、導電性を有する窒化ガリウムからなる、ことを特徴とする請求項6に記載された窒化ガリウムエピタキシャル基板。
- 前記窒化ガリウム領域の成長温度は、摂氏1050度以上であり、摂氏1200度以下であり、
前記窒化ガリウム領域の成長におけるV族原料とIII族原料の供給モル比(V/III)が500以上である、ことを特徴とする請求項6又は請求項7に記載された窒化ガリウムエピタキシャル基板。
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