JP5669723B2 - レチクルローディングおよびアンローディング方法およびシステム - Google Patents
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Description
1.ステップモードでは、サポート構造(例えばマスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームBに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板テーブルWTは、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。
2.スキャンモードでは、サポート構造(例えばマスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームBに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。サポート構造(例えばマスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。
3.別のモードでは、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造(例えばマスクテーブル)MTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームBに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。パルス放射源SOが採用されてよく、また、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
本発明の様々な実施形態を上述したが、これらは例示的にのみ示したものであって限定ではないことを理解すべきである。当業者には明らかであるように、本発明の精神および範囲から逸脱することなく形態および細部において様々な変更を加えてもよい。したがって、本発明の範囲は、上述した例示的な実施形態によって限定されるべきではなく、むしろ、特許請求の範囲およびその等価物によってのみ定義されるべきである。
Claims (11)
- (a)ベースプレートをローディングおよびアンローディング可能な第1の位置で、回転式交換デバイス(RED)の第1のアーム上に、第1のレチクルを保持する第1のベースプレートをローディングすることと、
(b)レチクルステージに対しレチクルをローディングおよびアンローディング可能な第2の位置に、前記REDの前記第1のアームに支持された前記第1のベースプレートを搬送すること、
(c)前記第2の位置で、前記第1のアームに支持された前記第1のベースプレートから前記第1のレチクルを前記レチクルステージへアンローディングすることと、
(d)前記第1のレチクルが前記第1のベースプレートからアンローディングされた後、前記第1のレチクルが前記レチクルステージでパターニングされている間、前記REDの前記第1のアームに支持された前記第1ベースプレートを第3の位置でバッファリングすることと、
(e)前記第1のレチクルがパターニングされた後、前記REDの前記第1のアームに支持された前記第1のベースプレートを前記第2の位置に搬送し、パターニングされた前記第1のレチクルを前記レチクルステージから前記第1のベースプレートへローディングすることと、
(f)前記(d)において、前記REDの前記第1のアームに支持された前記第1のベースプレートがバッファリングされている間に、第2のレチクルに対して前記(a)〜(e)のステップを実施するために、前記REDの第2のアームによって支持される、前記第2のレチクルを保持する第2のベースプレートを前記第1の位置に搬送すること、
を含み、
前記第1および第2のベースプレートは、前記REDの回転軸から実質的に等距離に配置され、前記第1のアームと前記第2のアームとは、前記第1のアームが前記第3の位置に位置する間に前記第2のアームが前記第1の位置に位置するような角度で、ユニゾンで回転するように構成されている、方法。 - (g)前記REDの第3のアームによって支持される第3のベースプレートによって保持される第3のレチクルをプリアライメントすることをさらに含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記(a)における前記第1のベースプレートのローディング、前記(d)における前記第2のベースプレートのバッファリング、および前記(g)における前記第3のベースプレートのプリアライメントが、実質的に同時に行われる、
請求項2の方法。 - エンコーダを有するモータシステムによって前記REDを回転させることをさらに含み、
前記モータシステムは、前記モータシステムからのガス放出および粒子汚染が実質的に排除されるように真空チャンバ内に密封される、請求項1に記載の方法。 - 前記REDの前記第1のアームを前記第1の位置に搬送させて、前記第1のベースプレートを前記REDからアンローディングすることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 回転軸を有する回転式サポートデバイスと、
前記回転式サポートデバイスに接続され、第1のベースプレートを支持する第1のベースプレートサポートと、
前記回転式サポートデバイスに接続され、第2のベースプレートを支持する第2のベースプレートサポートと、
を含み、
(a)ベースプレートをローディングおよびアンローディング可能な第1の位置で、回転式サポートデバイスの前記第1のベースプレートサポートに、第1のレチクルを保持する前記第1のベースプレートをローディングすることと、
(b)ベースプレートをローディングおよびアンローディング可能な第2の位置に、前記第1のベースプレートサポートに支持された前記第1のベースプレートを搬送すること、
(c)前記第2の位置で、前記第1のベースプレートサポートに支持された前記第1のベースプレートから前記第1のレチクルをレチクルステージへアンローディングすることと、
(d)前記第1のレチクルが前記第1のベースプレートからアンローディングされた後、前記第1のレチクルが前記レチクルステージでパターニングされている間、前記第1のベースプレートサポートに支持された前記第1のベースプレートを第3の位置でバッファリングすることと、
(e)前記第1のレチクルがパターニングされた後、前記第1のベースプレートサポートに支持された前記第1のベースプレートを前記第2の位置に搬送し、パターニングされた前記第1のレチクルを前記レチクルステージから前記第1のベースプレートへローディングすることと、
(f)前記(d)において、前記第1のベースプレートがバッファリングされている間に、第2のレチクルに対して前記(a)〜(e)のステップを実施するために、前記第2のベースプレートサポートによって支持される、前記第2のレチクルを保持する前記第2のベースプレートを前記第1の位置に搬送すること、
を含み、
前記第1および第2のベースプレートは、前記回転軸から実質的に等距離に位置付けられ、かつ、前記第1のベースプレートサポートが前記第3の位置に位置する間に前記第2のベースプレートサポートが前記第1の位置に位置するような角度で、ユニゾンで回転するように構成されている、
システム。 - 前記回転式サポートデバイスに接続され、第3のベースプレートを支持する第3のベースプレートサポートをさらに含む、
請求項6に記載のシステム。 - (g)前記第3のベースプレートサポートによって支持される前記第3のベースプレートによって保持される第3のレチクルをプリアライメントすることをさらに含む、
請求項7に記載のシステム。 - 前記(a)における前記第1のベースプレートのローディング、前記(d)における前記第2のベースプレートのバッファリング、および前記(g)における前記第3のベースプレートのプリアライメントが、実質的に同時に行われる、
請求項8のシステム。 - エンコーダを有するモータシステムを、前記モータシステムからのガス放出および粒子汚染が実質的に排除されるように密封する真空チャンバをさらに含み、前記モータシステムは、前記回転式サポートデバイスを回転させるように構成される、請求項6に記載のシステム。
- 前記回転軸に沿って前記回転式サポートデバイスを並進させるアクチュエータをさらに含む、請求項6に記載のシステム。
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