JPS63258341A - レテイクル自動交換装置 - Google Patents
レテイクル自動交換装置Info
- Publication number
- JPS63258341A JPS63258341A JP62093062A JP9306287A JPS63258341A JP S63258341 A JPS63258341 A JP S63258341A JP 62093062 A JP62093062 A JP 62093062A JP 9306287 A JP9306287 A JP 9306287A JP S63258341 A JPS63258341 A JP S63258341A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- arm
- exchange
- transport device
- conveyed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Pile Receivers (AREA)
- Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
- Discharge By Other Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レティクル自動交換装置に係り、特に半導体
素子製造用のレティクルを自動で且つ短時間で交換する
に適した装置に関する。
素子製造用のレティクルを自動で且つ短時間で交換する
に適した装置に関する。
従来の装置は、第４図のように、レティクル微動台８上
のレティクル７をレティクル搬送装置Ｂ４にて搬送し、
レティクル収納箱１方向に９０゜旋回する。次にレティ
クル搬送装置Ａ２にてレティクル７を受取り、レティク
ル収納箱１に格納する。次にレティクル収納箱１に収納
されているレティクル３を、レティクル搬送装置Ａ２に
搬送し、レティクル搬送装置Ｂ４にてレティクル３を受
取り、レティクル微動台８方向に９０’旋回して、レテ
ィクル微動台８上にレティクル３を搬送し、交換を完了
する。なお、第５図にて、従来装置の動作順序を示す。
のレティクル７をレティクル搬送装置Ｂ４にて搬送し、
レティクル収納箱１方向に９０゜旋回する。次にレティ
クル搬送装置Ａ２にてレティクル７を受取り、レティク
ル収納箱１に格納する。次にレティクル収納箱１に収納
されているレティクル３を、レティクル搬送装置Ａ２に
搬送し、レティクル搬送装置Ｂ４にてレティクル３を受
取り、レティクル微動台８方向に９０’旋回して、レテ
ィクル微動台８上にレティクル３を搬送し、交換を完了
する。なお、第５図にて、従来装置の動作順序を示す。
このレティクル交換動作中は、縮小投影露光装置の露光
動作は停止しているため、前記装置の不稼働時間に入る
。
動作は停止しているため、前記装置の不稼働時間に入る
。
上記従来技術は、レティクルの搬送経路」―、レティク
ル搬送装置Ａ、前後、上下、Ｂは更に旋回動作機構を有
しており、特に、レティクル搬送装置１１ｉＡにおいて
は、レティクル収納箱の各段のレティクルに相当する範
囲で上下動する。この間、縮小投影露光装置の露光動作
は停止しており、このためレティクル交換動作所要時間
は、半導体素子製造効率に大きく影響していた。
ル搬送装置Ａ、前後、上下、Ｂは更に旋回動作機構を有
しており、特に、レティクル搬送装置１１ｉＡにおいて
は、レティクル収納箱の各段のレティクルに相当する範
囲で上下動する。この間、縮小投影露光装置の露光動作
は停止しており、このためレティクル交換動作所要時間
は、半導体素子製造効率に大きく影響していた。
本発明の目的は、レティクル搬送装置Ｂのアームを複数
化し、露光動作中に次レティクルを待機させる構造を設
けることにより、レティクル交換時間を短縮し、縮小投
影露光装置の半導体素子製造効率向上を図ることにある
。
化し、露光動作中に次レティクルを待機させる構造を設
けることにより、レティクル交換時間を短縮し、縮小投
影露光装置の半導体素子製造効率向上を図ることにある
。
上詰目的は、第４図に示すように、レティクル交換動作
は、１系統で行なわれ、動作所要時間が、大きく費やさ
れていたが、第１図に示すように、レティクル搬送装置
Ｂのアームを複数系統にすることにより、縮小投影露光
装置の露光動作中に未使用レティクルを待機させておく
ことで達成される。
は、１系統で行なわれ、動作所要時間が、大きく費やさ
れていたが、第１図に示すように、レティクル搬送装置
Ｂのアームを複数系統にすることにより、縮小投影露光
装置の露光動作中に未使用レティクルを待機させておく
ことで達成される。
レティクル搬送装置Ｂは、露光動作終了後、レティクル
を交換するため一方のアームがレティクル微動台のレテ
ィクルを搬送する。次に上下方向に移動し、もう一方の
アームがレティクル微動台にレティクルを搬送し、交換
を完了する。又、露光動作中に次レティクルをレティク
ル搬送装置Ａによりレティクル搬送装置Ｂまで搬送、待
機させる。これらの動作は、レティクル搬送装置を複数
の構造とすることによって可能になる。
を交換するため一方のアームがレティクル微動台のレテ
ィクルを搬送する。次に上下方向に移動し、もう一方の
アームがレティクル微動台にレティクルを搬送し、交換
を完了する。又、露光動作中に次レティクルをレティク
ル搬送装置Ａによりレティクル搬送装置Ｂまで搬送、待
機させる。これらの動作は、レティクル搬送装置を複数
の構造とすることによって可能になる。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。縮小
投影露光装置の露光動作中に、レティクル収納箱１から
レティクル搬送装置Ａ２により、レティクル３を搬送し
、レティクル搬送装置Ｂ４のアーム５によりレティクル
３を受取り、レティクル搬送装置Ｂ４は、レティクル微
動台８方向に９０６旋回し待機している。レティクル交
換時の動作は、アーム６によりレティクル微動台より使
用済レティクル７を搬送し、アーム５により待機してい
たレティクル３をレティクル微動台８に搬送する。
投影露光装置の露光動作中に、レティクル収納箱１から
レティクル搬送装置Ａ２により、レティクル３を搬送し
、レティクル搬送装置Ｂ４のアーム５によりレティクル
３を受取り、レティクル搬送装置Ｂ４は、レティクル微
動台８方向に９０６旋回し待機している。レティクル交
換時の動作は、アーム６によりレティクル微動台より使
用済レティクル７を搬送し、アーム５により待機してい
たレティクル３をレティクル微動台８に搬送する。
本実施例によれば、露光動作中にレティクル３をアーム
５、アーム６の構造を有するレティクル搬送装置Ｂ４に
より、レティクル微動台８の前方で待機が可能なため、
縮小投影露光装置の半導体素子製造効率向上の効果があ
る。
５、アーム６の構造を有するレティクル搬送装置Ｂ４に
より、レティクル微動台８の前方で待機が可能なため、
縮小投影露光装置の半導体素子製造効率向上の効果があ
る。
なお、第２図、第３図にレティクル搬送装置Ｂ４の構造
と、動作順序を示す。但し、縮小投影露光装置の露光動
作中に行なわれているレティクル交換準備動作は含まれ
ていない。それは、前記装置の停止時間に含まれないか
らである。
と、動作順序を示す。但し、縮小投影露光装置の露光動
作中に行なわれているレティクル交換準備動作は含まれ
ていない。それは、前記装置の停止時間に含まれないか
らである。
第２図は、縮小投影露光装置の露光動作中にレティクル
交換準備を完了し、待機している状態からの動作を示す
。
交換準備を完了し、待機している状態からの動作を示す
。
本発明によれば、縮小投影露光装置の露光動作中にレテ
ィクル交換準備動作が同時進行できるため、又、レティ
クル微動台の前方にレティクルが待機しているため、レ
ティクル交換動作所要時間を最小限度にすることができ
、縮小投影露光装置の半導体素子製造効率を向上させる
効果がある。
ィクル交換準備動作が同時進行できるため、又、レティ
クル微動台の前方にレティクルが待機しているため、レ
ティクル交換動作所要時間を最小限度にすることができ
、縮小投影露光装置の半導体素子製造効率を向上させる
効果がある。
第１図は本実施例の斜視図、第２図は本実施例のレティ
クル搬送装置Ｂの側面図、第３図はレテイクル微動台上
のレティクル交換動作の順序を示す図、第４図は従来装
置の斜視図、第５図は従来装置のレティクル交換動作順
序を示す図である。 １・・・レティクル収納箱、２・・・レティクル搬送装
置Ａ、３・・・未使用レティクル、４・・・レティクル
搬送装置Ｂ、５・・・第１アーム、６・・・第２アーム
、７・・・使用済レティクル、８・・・レティクル微動
台、９・・・縮小投影露光装置。
クル搬送装置Ｂの側面図、第３図はレテイクル微動台上
のレティクル交換動作の順序を示す図、第４図は従来装
置の斜視図、第５図は従来装置のレティクル交換動作順
序を示す図である。 １・・・レティクル収納箱、２・・・レティクル搬送装
置Ａ、３・・・未使用レティクル、４・・・レティクル
搬送装置Ｂ、５・・・第１アーム、６・・・第２アーム
、７・・・使用済レティクル、８・・・レティクル微動
台、９・・・縮小投影露光装置。
Claims (1)
- １、レテイクルを複数枚収納し、開閉扉を有するレテイ
クル収納箱と、レテイクルを第１の位置から第２の位置
へ自動で搬送するレテイクル搬送装置よりなるレテイク
ル自動交換装置において、前記レテイクル搬送装置に、
レテイクルの搬出入を複数系統で行う構造を設け、レテ
イクル交換を短時間で行うことを特徴とするレテイクル
自動交換装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62093062A JPS63258341A (ja) | 1987-04-17 | 1987-04-17 | レテイクル自動交換装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62093062A JPS63258341A (ja) | 1987-04-17 | 1987-04-17 | レテイクル自動交換装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63258341A true JPS63258341A (ja) | 1988-10-25 |
Family
ID=14072029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62093062A Pending JPS63258341A (ja) | 1987-04-17 | 1987-04-17 | レテイクル自動交換装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63258341A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9983487B2 (en) * | 2008-04-18 | 2018-05-29 | Asml Holding N.V | Rapid exchange device for lithography reticles |
-
1987
- 1987-04-17 JP JP62093062A patent/JPS63258341A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9983487B2 (en) * | 2008-04-18 | 2018-05-29 | Asml Holding N.V | Rapid exchange device for lithography reticles |
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